JP2008141286A - 静電容量型デバイス - Google Patents
静電容量型デバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008141286A JP2008141286A JP2006322933A JP2006322933A JP2008141286A JP 2008141286 A JP2008141286 A JP 2008141286A JP 2006322933 A JP2006322933 A JP 2006322933A JP 2006322933 A JP2006322933 A JP 2006322933A JP 2008141286 A JP2008141286 A JP 2008141286A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit board
- conductive pattern
- conductive
- intermediate layer
- input terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)
Abstract
【課題】感度の低下を抑制でき、特に小型化に伴う感度の抑制ができる静電容量型デバイスを提供する。
【解決手段】
コンデンサマイクロホンは中間層23fが、回路基板の厚み方向において電界効果トランジスタの入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iが透設されている。回路基板の中間層23fと入力端子Gを有する導電パターン23a間に浮遊容量が形成されないため感度の低下が抑制される。
【選択図】図3
【解決手段】
コンデンサマイクロホンは中間層23fが、回路基板の厚み方向において電界効果トランジスタの入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iが透設されている。回路基板の中間層23fと入力端子Gを有する導電パターン23a間に浮遊容量が形成されないため感度の低下が抑制される。
【選択図】図3
Description
この発明は、静電容量型デバイスに関するものである。
従来、静電容量型デバイスとしては、例えば、携帯電話、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ等の機器に用いられるコンデンサマイクロホンがある。コンデンサマイクロホンとして、例えばエレクトレットコンデンサマイクロホンは、振動膜と同振動膜に対向配置されてなる極板とからなるコンデンサ部と、回路基板に実装されたインピーダンス変換素子とを備えている(特許文献1)。前記インピーダンス変換素子は、前記コンデンサ部の静電容量の変化を電気インピーダンス変換するためのものである。
前記特許文献1のコンデンサマイクロホンは、回路基板の表面、裏面及び表裏面間にそれぞれ導電パターンが設けられた3層構造となっている。なお、以下では表裏面間の導電パターンを中間層という。
特開2005−341390号公報
前記特許文献1では、中間層と回路基板の表面に設けられた導電パターンである前記インピーダンス変換素子の入力端子と重なるように配置されている。しかし、特許文献1は、インピーダンス変換素子の入力端子と中間層が、相対しているところに浮遊容量が発生し、感度が低下する問題がある。特に、コンデンサマイクロホンが小型化するほど、この感度低下の問題が大きくなる。この理由を説明する。
図4は、コンデンサマイクロホンの回路構造を示したものである。図中、C0は振動膜に対向配置されてなる極板からなるコンデンサ部の容量、Csは中間層と入力端子間の静電容量を含むコンデンサマイクロホンの総合的な浮遊静電容量、RLは負荷抵抗である。又、JFETはインピーダンス変換素子である電界効果トランジスタである。上記の回路からなるコンデンサマイクロホンの感度kは、下記の式で表わすことができる。
k=20log((Δc/C0)・E × C0/(C0+Cs) × Gm・RL) ……(1)
なお、式(1)中、Δcは音圧によるコンデンサ部の容量の変化量、Eはコンデンサ部のチャージ電圧、Gmはインピーダンス変換素子の相互コンダクタンスである。
なお、式(1)中、Δcは音圧によるコンデンサ部の容量の変化量、Eはコンデンサ部のチャージ電圧、Gmはインピーダンス変換素子の相互コンダクタンスである。
なお、コンデンサの容量は下記式で算出できる。
C=ε0 × ε × A/d ……(2)
ここで、式(2)中、Aはコンデンサの電極面積、dは電極間距離、ε0はコンデンサの真空の誘電率、εはコンデンサの材料の比誘電率である。
C=ε0 × ε × A/d ……(2)
ここで、式(2)中、Aはコンデンサの電極面積、dは電極間距離、ε0はコンデンサの真空の誘電率、εはコンデンサの材料の比誘電率である。
コンデンサマイクロホンにおいては、回路基板の中間層と入力端子で形成される浮遊容量は、回路基板23の厚みが厚いほど電極間距離dが大きいため、小さくなる。しかし、近年の小型化要求に従って回路基板の厚みを薄くすると、回路基板の中間層と入力端子間の電極間距離dは短くなるため、回路基板の中間層と入力端子で形成される浮遊容量は大きくなる。この場合、式(1)中において、分母の(C0+Cs)が大きくなるため、上記の回路からなるコンデンサマイクロホンの感度kは、低下することになる。
なお、前記コンデンサマイクロホン以外において、回路基板に中間層とインピーダンス変換素子の入力端子とを備えた静電容量型デバイスにおいても、小型化に伴って上記のような感度低下の問題が生ずる。
この発明の目的は、感度の低下を抑制でき、特に小型化に伴う感度の抑制ができる静電容量型デバイスを提供することにある。
上記の目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、振動膜と極板とが対向配置されてなるコンデンサ部と、前記コンデンサ部の静電容量の変化を電気インピーダンス変換するインピーダンス変換素子と、前記インピーダンス変換素子を実装する回路基板とを備え、前記回路基板の表裏面にはそれぞれ導体パターンが設けられ、かつ前記回路基板の表裏面間には導電パターンである中間層が設けられ、前記回路基板表面の導電パターンが前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子を含む静電容量センサにおいて、前記中間層が、前記回路基板の厚み方向において前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重ならないように形成されていることを特徴とする静電容量型デバイスを要旨とするものである。
請求項1の発明によれば、回路基板の表裏面間の導電パターンが回路基板の厚み方向において前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重ならないように形成されていることにより回路基板の表裏面間の導電パターンとインピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子間に浮遊容量が形成されないため感度の低下が抑制される。特に、静電容量型デバイスの小型化に伴って、回路基板の厚みが薄くなっても、感度が低下することがない。
請求項2の発明は、請求項1において、前記回路基板の裏面の導電パターンは、前記回路基板の厚み方向において前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重なる領域を有するように形成されていることを特徴とする。
請求項2の発明によれば、回路基板の裏面の導電パターンが、前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重なる領域を有することにより、インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
請求項3の発明は、請求項1又は請求項2において、前記中間層がGNDパターンであることを特徴とする。
請求項3の発明によれば、中間層がGNDパターンであることにより、中間層と重なり合う回路基板表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
請求項3の発明によれば、中間層がGNDパターンであることにより、中間層と重なり合う回路基板表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
請求項4の発明は、請求項3において、前記回路基板の裏面の導電パターンには、前記中間層と導通する導電パターンを含むことを特徴とする。
請求項4の発明によれば、回路基板裏面の導電パターンに中間層と導通する導電パターンを含むことにより中間層と導通する回路基板の導電パターンと重なり合う回路基板表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
請求項4の発明によれば、回路基板裏面の導電パターンに中間層と導通する導電パターンを含むことにより中間層と導通する回路基板の導電パターンと重なり合う回路基板表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
以上のように、この発明によれば感度の低下を抑制でき、特に小型化に伴う感度の抑制ができる。
以下に、この発明の静電容量型デバイスをコンデンサマイクロホンに具体化した一実施形態を、図1〜図3を参照して説明する。
図1及び図2に示すように、この実施形態のコンデンサマイクロホン21の筐体22は、実装基板としての四角平板状の回路基板23と、枠体としての四角枠状の筐体基枠24と、トップカバーとしての四角平板状のトップ基板25とを積層して、接着シート27A,27Bにより一体に固定した構造となっている。前記回路基板23,筐体基枠24及びトップ基板25はエポキシ樹脂等の樹脂製の電気絶縁体により構成されている。本実施形態では、前記各部材はガラス布基材エポキシ樹脂にて構成されているが、エポキシ樹脂に限定されるものではない。図3(a)に示すように回路基板23の上面(なお、表面ともいう)には導電部材としての銅箔よりなる導電パターン23a,23b,23cが形成されている。なお、図3(a)においては、説明の便宜上、導電パターン23a,23b,23cはハッチングで示されている。
図1及び図2に示すように、この実施形態のコンデンサマイクロホン21の筐体22は、実装基板としての四角平板状の回路基板23と、枠体としての四角枠状の筐体基枠24と、トップカバーとしての四角平板状のトップ基板25とを積層して、接着シート27A,27Bにより一体に固定した構造となっている。前記回路基板23,筐体基枠24及びトップ基板25はエポキシ樹脂等の樹脂製の電気絶縁体により構成されている。本実施形態では、前記各部材はガラス布基材エポキシ樹脂にて構成されているが、エポキシ樹脂に限定されるものではない。図3(a)に示すように回路基板23の上面(なお、表面ともいう)には導電部材としての銅箔よりなる導電パターン23a,23b,23cが形成されている。なお、図3(a)においては、説明の便宜上、導電パターン23a,23b,23cはハッチングで示されている。
回路基板23は、厚さが0.3mm〜0.7mm程度の三層基板であり、その上面、下面及び中間層に通常10μm〜30μm程度の銅等による導電パターンを有している。なお、本実施形態における導電パターン23a,23b,23c,23d,23e,及び中間層23fの厚みは、15μm程度に、回路基板23の厚みは0.5mm程度に設定されている。
図3(a)に示すように導電パターン23aは、第1端部が回路基板23上面において、長手方向の中央部寄りに、かつ、短手方向の一側端部寄りに位置するとともに、第2端部が回路基板23上面において一端部寄りに延出されている。そして、導電パターン23aの第1端部は、導通部50とされている。又、導電パターン23aの第2端部は電界効果トランジスタ26の入力端子Gとされている。導電パターン23aは高インピーダンス入力端子に相当する。
ここで、回路基板23上面において、回路基板23の厚み方向に貫通する中心軸O(図3(a)参照)に対して互いに直交する短手方向の軸をx軸とし、長手方向の軸をy軸という。
そして、回路基板23上面において、x軸を対称軸とする前記導通部50とは線対称の領域P1及びy軸を対称軸とする導通部50の線対称の領域P2、及び中心軸Oを中心点とした導通部50の点対称の領域P3は、導電パターンが設けられていない領域(以下、無導電パターン領域という)に含まれている。なお、無導電パターン領域とは、回路基板23上面において、前記導電パターン23cに囲まれるとともに、導電パターン23a、23bを除外した領域である。
導電パターン23bは、回路基板23上面の短手方向の略中央部において、長手方向に延出されている。そして、導電パターン23bには、その一端が長手方向の回路基板23の一端部に近接して設けられた端子ta1と、他端が回路基板23の他端部に近接して設けられた端子tb1を有する。又、導電パターン23bの略中央部には、電界効果トランジスタ26のドレイン接続端子Dが設けられている。
前記導電パターン23cは、アース用の導電パターンであって、筐体基枠24の枠形状に相対するように枠状に設けられている。又、導電パターン23cにおいて、端子ta1、tb1,及びドレイン接続端子Dの近傍には、それぞれ端子ta2、tb2及びソース接続端子Sが設けられている。導電パターン23a,23b,23cは、部品接続のための導電パターンであって、電源入力用や信号取り出し用となっている。
又、図3(c)の2点鎖線で示すように、導電パターン23a〜23cの一部の上面及び無導電パターン領域において、領域P1及〜P3を含む面はレジスト52にて覆われている。なお、説明の便宜上、図2では、レジスト52は省略されている。
レジスト52は、絶縁部材として例えばエポキシ樹脂等からなるが、この材質に限定されるものではなく、絶縁性の合成樹脂であればよい。又、レジスト52は、その全体(すなわち領域P1〜P3を含む全体)に亘って同一の膜厚に形成されるとともに導通部50と同じ厚みとされている。すなわち、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分と、導通部50とは回路基板23上面を基準として同じ高さとなるようにされている。
レジスト52において、導通部50に近辺は切り欠き52aが形成されて導通部50を露出するようにされている。又、レジスト52において、導電パターン23aの入力端子G、各導電パターン23b,23cの端子ta1,tb1,ta2,tb2、ドレイン接続端子D、ソース接続端子Sに対応した部分には窓52bが設けられて、当該部分が窓52bを介して露出されている。又、導電パターン23cの枠状の周部は、レジスト52にて覆われていない露出部分とされて筐体基枠24と相対する。
又、図3(d)に示すように回路基板23下面(なお、裏面ともいう)には銅箔よりなる複数の導電パターン23d,23e(図1には、1つの導電パターン23dのみ図示されている。)が形成されている。なお、図3(d)においては、説明の便宜上、導電パターン23d,23eはハッチングで示されている。
そして、回路基板23には、一対のスルーホール23g,23hが設けられている。スルーホール23g,23hの内周には図示しない導電層が形成されている。そして、スルーホール23gの導電層を介して、前記導電パターン23cは、回路基板23下面の導電パターン23dに対して接続されている。導電パターン23dはその一部がアース端子となる。又、回路基板23上面の導電パターン23bはスルーホール23hの導電層を介して、回路基板23下面に設けられた信号出力端子(図示しない)や電源入力端子(図示しない)となる導電パターン23eに対して接続されている。又、回路基板23下面は、図3(d)に2点鎖線で示すように膜状に設けられたレジスト60により覆われるとともにレジスト60の4隅において、導電パターン23e,23dの一部がそれぞれ露出されている。
回路基板23内には、図1、及び図3(b)に示すように導電パターンとしての銅箔よりなる中間層23fが設けられ、導電パターン23cと,導電パターン23d間を電気接続するスルーホール23gの導電層を介して電気的に接続されている。導電パターン23dは使用時においては接地されるため、中間層23fはアース電位となる。導電パターン23dは、GNDパターンに相当する。
中間層23fにおいて、図3(a)〜(c)に示すように回路基板23表面の導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域には孔23iが透設されることにより、中間層23fが、導電パターン23aと回路基板23の厚み方向において相対しないようにされている。一方、回路基板23裏面に設けられた導電パターン23dは図3(d)に示すように孔23iと相対する領域を有するようにされている。
又、中間層23fにおいて、図3(a)〜(c)に示すように領域P1,P3と相対する領域及びその周辺領域には、孔23j,23kが透設されている。一方、回路基板23裏面に設けられた導電パターン23dは図3(d)に示すように孔23j,23kと相対する領域を有するようにされている。
又、回路基板23上面には、筐体22内に設けられた電装部品としてのインピーダンス変換素子を構成する電界効果トランジスタ26やキャパシタンス62等が実装されている。電界効果トランジスタ26は、導電パターン23aの入力端子Gと、ソース接続端子S、ドレイン接続端子Dに電気的に接続されている。又、キャパシタンス62等は、端子ta1,ta2、及び端子tb1,tb2にそれぞれ電気的に接続されている。なお、図2においては、説明の便宜上、電界効果トランジスタ26を除いてキャパシタンス62等の電装品は省略されている。
前記筐体基枠24は、上下両端に開口部を有するとともに、図1に示すようにその上下両端面及び外側面には銅箔よりなる連続した金属層としての導電パターン24a,24b,24cが形成されている。導電パターン24a,24bは、筐体基枠24の上下両開口部周縁に対して環状に設けられている(図2には導電パターン24aのみ図示)。
導電パターン24cは、筐体基枠24の外側面において、同筐体基枠24の4つの角部の外側面を除いた部分に設けられた凹部24iに導電ペーストが塗布されることにより形成され、導電パターン24a,24bを電気的に接続する。又、下面側の導電パターン24bは図1に示すように回路基板23上の前記導電パターン23cを介して回路基板23下面の導電パターン23dに対して接続されている。凹部24i内は、エポキシ樹脂等の絶縁性合成樹脂により充填されて充填部24jが形成されている。
図1、図2に示すように筐体基枠24の下部の開口部周縁は、前記導電パターン23cの外方に配置された四角環状の接着シート27Aにより前記回路基板23に対して一体に接着固定されている。そして、回路基板23上の前記電界効果トランジスタ26及びキャパシタンス62等の電装部品が、この筐体基枠24内に収容配置されている。
図1に示すように前記トップ基板25の上下両面には銅箔等よりなる導電パターン25a,25bが形成されている。トップ基板25には、外部から音を取り込むための音孔28が形成されている。
図1、図2に示すように筐体基枠24の上部の開口部周縁は、前記導電パターン24aの外方に配置された四角環状の接着シート27Bにより前記トップ基板25が一体に接着固定されている。このようにして、筐体基枠24の上部の開口部周縁はトップ基板25に対してスペーサ29、振動膜30を介して一体に連結されている。
図1及び図2に示すように、前記筐体基枠24とトップ基板25との間には、絶縁性フィルムからなる環状のスペーサ29が挟持固定されている。又、スペーサ29は導電パターン24aに対して導電性接着剤により接着されている。スペーサ29の上面にはPPS(ポリフェニレンサルファィド)フィルム等の絶縁性を有する合成樹脂薄膜よりなる振動膜30が接着により張設されており、その振動膜30の上面には金蒸着よりなる導電層30aが形成されている。
振動膜30及びスペーサ29には図示しないスルーホールが設けられ、導電層30aは、同スルーホールに充填された導電ペースト、及びスペーサ29と筐体基枠24(正確にはスペーサ29と導電パターン24a)間の導電性接着剤(図示しない)を介して導電パターン24aと導通可能にされている。
図1に示すように、前記トップ基板25には複数のスルーホール36が形成され、それらのスルーホール36の内周面には前記導電パターン25a,25bと連続する導電パターン25cが設けられている。また、スルーホール36内には導電性接着剤37aが充填され、この導電性接着剤37aと前記導電パターン25cとにより導電部37が形成されている。この導電部37は前記振動膜30上面の導電層30aと電気接続されている。なお、スルーホール36内の導電性接着剤37aは充填されなくても導電パターン25cが形成されていればよく、又、スルーホール36内の導電パターン25cが形成されていない場合は、導電性接着剤37aを充填するのみでもよい。なお、導電パターン25cと導電性接着剤37aとが両方形成されることで導電性やシールド性は向上する。
そして、トップ基板25の導電パターン25a,25bは、導電部37、導電層30a,前述した振動膜30に設けられた図示しないスルーホールの導電ペースト、スペーサ29と導電パターン24a間の導電性接着剤、及び筐体基枠24上の導電パターン24a〜24cを介して回路基板23の前記アース端子に至る導電路が形成されている。
筐体基枠24内において、振動膜30の下面にはスペーサ29を介在させて極板としてのバックプレート31が対向配置されている。このバックプレート31は、ステンレス鋼板からなるバックプレート本体31a上面にPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフィルム31bが貼着されて構成されている。そのフィルム31bにはコロナ放電等による分極処理が施されており、この分極処理によりフィルム31bはエレクトレット層を構成している。本実施形態では、前記バックプレート31は背極を構成しており、この実施形態のコンデンサマイクはバックエレクトレットタイプで構成されている。
さらに、前記バックプレート31は、筐体基枠24の内周形状よりも小さな外周形状となる平面形でほぼ長円状をなすように形成されていて、筐体基枠24の内周面との間には隙間Pが形成されている。バックプレート31の中央部には前記振動膜30の振動による空気移動を許容するための貫通孔32が形成されている。このバックプレート31は、フィルム31bを貼着したステンレス鋼の板材をフィルム31b側から、すなわち、図2の上方側から下方側へ向かって打ち抜き刃(図示しない)により打ち抜いて形成される。
図1、図2に示すように、前記筐体基枠24内において、バックプレート31と回路基板23との間にはバネ材よりなる保持部材33が圧縮状態で介装されている。この保持部材33の弾性力によりバックプレート31が振動膜30の反対側からスペーサ29の下面と当接する方向に加圧されている。これにより、振動膜30とバックプレート31との間に所定の間隔が保持されて、それらの間に所定の容量を確保したコンデンサ部が形成されている。保持部材33は導通部材に相当する。
前記保持部材33は、ステンレス鋼板の表裏両面に金メッキを施してなる板材を打ち抜き成形することにより形成され、ほぼ四角環状の枠部33aと、その枠部33aの四隅から下部両側方に向かって斜めに突出する4つの脚部33bとを備えている。従って、枠部33aの下方における脚部33b間には空間Saが形成されている。そして、この実施形態においては、図1に示すように、回路基板23上面の前記電界効果トランジスタ26が前記空間Sa内に配置されるとともに、前記キャパシタンス62が各一対の脚部33b間に配置される。脚部33bは接触端子に相当する。
前記保持部材33の枠部33aの上面にはバックプレート31の下面に当接する4つの球面状の突部としての接触部34が突出形成されるとともに、各脚部33bの先端下面には4つの球面状の突部としての接触部35が突出形成されている。複数の脚部33bのうち、1つの各脚部33bは導通部50に対し接触部35を介して接触され、残りの各脚部33bは、前記回路基板23上面において、無導電パターン領域に含まれる領域P1〜P3に位置するレジスト52上面に対して接触部35を介して接触されている。この領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分が載置部に相当する。
さて、このコンデンサマイクロホン21において、音源からの音波がトップ基板25の音孔28を介して振動膜30に至ると、その振動膜30は音の周波数、振幅及び波形に応じて振動される。そして、振動膜30の振動に伴って、振動膜30とバックプレート31との間隔が設定値から変化し、コンデンサ部のインピーダンスが変化する。このインピーダンスの変化が、インピーダンス変換素子である電界効果トランジスタ26により電圧信号に変換されて出力される。
本実施形態のコンデンサマイクロホン21は、以下の特徴を有する。
(1) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21は、中間層23fが、回路基板23の厚み方向において電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iが透設されている。この結果、本実施形態によれば、回路基板23の中間層23fと入力端子Gを有する導電パターン23a間に浮遊容量が形成されないため感度の低下が抑制される。特に、コンデンサマイクロホン21が小型化される場合、回路基板23の厚みが薄くなっても、感度が低下することがない。
(1) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21は、中間層23fが、回路基板23の厚み方向において電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iが透設されている。この結果、本実施形態によれば、回路基板23の中間層23fと入力端子Gを有する導電パターン23a間に浮遊容量が形成されないため感度の低下が抑制される。特に、コンデンサマイクロホン21が小型化される場合、回路基板23の厚みが薄くなっても、感度が低下することがない。
(2) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21においては、回路基板23裏面の導電パターン23dは、図3(d)に示すように中間層23fが回路基板23の厚み方向において電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと重なる領域を有するように形成されている。この結果、回路基板23裏面の導電パターン23d(すなわち、アース電位を有する導電パターン)が、電界効果トランジスタ26の入力端子G(高インピーダンス入力端子)と重なる領域を有することにより、入力端子Gに対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。又、導電パターン23aと導電パターン23dとの距離は、導電パターン23aと中間層23fとの距離より略2倍の距離となり、ある程度の距離を隔てることが可能であるため、大きな浮遊容量とはならないものである。
(3) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21においては、回路基板23の中間層23fがアース電位を有するGNDパターンであるようにされている。この結果、中間層23fがGNDパターンであることにより、中間層23fと重なり合う回路基板23表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
(4) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21においては、回路基板23裏面の導電パターン23dは、中間層23fと導通するようにされている。この結果、回路基板裏面の導電パターン23dに中間層23fと導通することにより中間層23fと導通する回路基板23の導電パターン23dと重なり合う回路基板23表面(インピーダンス変換素子の実装面)に対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
(5) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21においては、保持部材33の脚部33bが回路基板23に対しレジスト52を介して接触する部位(領域P1,P3)に対して中間層23fが重ならないように、中間層23fには孔23j,23kが設けられている。この結果、保持部材33の脚部33bが回路基板23に対しレジスト52を介して接触する部位(領域P1,P3)に相対するところが、中間層23fにはないため、同脚部33bと中間層23f間に浮遊容量が形成されず、感度の低下が抑制される。
(6) 又、本実施形態のコンデンサマイクロホン21においては、中間層23fの孔23j,23kに対しては導電パターン23dが重なる領域を有するようにした。この結果、回路基板23裏面の導電パターン23d(すなわち、アース電位を有する導電パターン)が、脚部33bに対する電磁シールド効果を発揮することができ、ノイズ耐性を向上させることができる。
(7) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21では、保持部材33(導通部材)は、回路基板23と接触するための複数の脚部33b(接触端子)を有するようにした。又、回路基板23は、導通部50と、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分(載置部)を有するようにし、各部が前記各脚部33bと接触されるようにした。そして、導通部50は銅箔(導電部材)にて形成されるとともに、前記領域P1〜P3に位置するレジスト52は絶縁部材にて形成されるようにした。
この結果、本実施形態のコンデンサマイクロホン21は、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分は、絶縁部材にて形成されるため、コンデンサマイクロホン21の浮遊容量が減らされ、回路基板23に設けられる回路特性の悪影響を抑制することができる。
(8) 本実施形態のコンデンサマイクロホン21では、導通部50と、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分とは、回路基板23上で同じ高さとなるように形成されている。この結果、本実施形態では、導通部50と、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分に脚部33bにて接触する保持部材33(導通部材)の座りが良くなり、コンデンサ部と回路基板23に設けられる回路との導通が安定して確保できるため、コンデンサマイクロホン21のマイク特性を安定させることができる。
なお、この実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
○ 前記実施形態ではバックプレート本体31aをステンレス鋼板から構成したが、真鍮板で構成したり、チタン板等により構成してもよい。
○ 前記実施形態ではバックプレート本体31aをステンレス鋼板から構成したが、真鍮板で構成したり、チタン板等により構成してもよい。
○ 振動膜30をエレクトレット用の高分子フィルムにより構成したホイルエレクトレットタイプのコンデンサマイクロホンにおいてこの発明を具体化してもよい。
○ 昇圧回路を有するチャージポンプ型のコンデンサマイクにおいてこの発明を具体化してもよい。このように構成した場合には、エレクトレット層に替えて、振動膜30及びバックプレート31に互いに対向する電極が設けられる。
○ 昇圧回路を有するチャージポンプ型のコンデンサマイクにおいてこの発明を具体化してもよい。このように構成した場合には、エレクトレット層に替えて、振動膜30及びバックプレート31に互いに対向する電極が設けられる。
○ 又、前記実施形態では、バックエレクトレット型のエレクトレットコンデンサマイクロホンについて説明を行ったが、フロントエレクトレット型のエレクトレットコンデンサマイクロホンに当該発明を適応しても構わない。
○ 前記実施形態の回路基板23に実装されるインピーダンス変換素子は例示であり、静電容量の変動を検出できる公知のものであれば、アナログ/デジタルの何れの動作方法を採るものであっても適用できる。
○ 前記実施形態では、保持部材33の脚部33bは4個としたが、3個でもよく、又、5個以上であってもよい。この場合、回路基板23表面上には、1つの脚部33bに対して接触されるとともに電界効果トランジスタ26(インピーダンス変換素子)と導通する導通部50を有する導体パターンを形成する。そして、回路基板23表面上には、残りの脚部33bに対応して接触する載置部を設けるようにする。
○ 又、前記実施形態では、電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと中間層23fとが重ならないように構成しているが、電界効果トランジスタ26の入力端子Gを含む導電パターンの一部が中間層23fが重ならないように構成してあれば、浮遊容量を減少させる効果は得られるものである。なお、前記実施形態のように電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと中間層23fとが完全に重ならないように構成することで浮遊容量を最大限減少させることが可能となる。
○ なお、導通部50に接触する脚部33bは1つである必要はなく、脚部33bを3つ以上設けた場合、導通部50を延出して、同導通部50に対して2つの脚部33bが接触するようにしてもよい。又、4つ以上の脚部33bを保持部材33に設けた場合においても、同様に導通部50を延出して、同導通部50に対して2つ、又は3つ等の脚部が同時に接続するようにしてもよい。これらの場合、いずれにしても導通部50を有する導電パターン23aと相対しないように中間層23fには孔や、切り欠き、凹部を設ける構成とする。
○ 又、脚部33bは、例えば、保持部材33の枠部33aの長手方向(図3(a)ではy軸方向)の両端において、それぞれ一対の脚部を設けてもよい。この場合、各脚部33bは、保持部材33が安定するように前記長手方向とは直交する方向において長く延出形成した導通部50と、載置部とにそれぞれ接触するようにする。この場合、導通部50を有する導電パターン23aと相対しないように中間層23fには孔や、切り欠き、凹部を設ける構成とする。
○ 前記実施形態において、領域P1〜P3に位置するレジスト52の部分は、導電パターン23a〜23cを覆う部分のレジスト52と分離して設けても良い。
○ 前記実施形態では、静電容量型デバイスをコンデンサマイクロホンに具体化したが、静電容量型の加速度センサや音圧センサや、液圧センサ等の静電容量型デバイスに具体化することも可能である。
○ 前記実施形態では、静電容量型デバイスをコンデンサマイクロホンに具体化したが、静電容量型の加速度センサや音圧センサや、液圧センサ等の静電容量型デバイスに具体化することも可能である。
○ 本実施形態の構成は、MEMS(Micro Electro Mechanical System)技術により製造されるシリコンマイクロホンに具体化してもよい。
○ 前記実施形態では、電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iを透設したが、孔23iの代わりに、凹部や、切り欠き部としてもよい。
○ 前記実施形態では、電界効果トランジスタ26の入力端子Gを有する導電パターン23aと重ならないように、導電パターン23aと相対する領域及びその周辺領域に孔23iを透設したが、孔23iの代わりに、凹部や、切り欠き部としてもよい。
○ 前記実施形態では、中間層23fは1つとしたが、2以上で形成してもよい。この場合、2以上に形成された中間層はそれぞれ導電パターン23dとスルーホールにより導通可能に形成して、各中間層には、導電パターン23aと重ならないように孔23iを設けるものとする。
21…コンデンサマイクロホン、23…回路基板、
23a,23b,23c…回路基板表面に設けられた導電パターン、
23d,23e…回路基板裏面に設けられた導電パターン、
23f…中間層(回路基板の表裏面間に設けられた導電パターン)、
26…電界効果トランジスタ(インピーダンス変換素子)、30…振動膜、
31…バックプレート(極板:バックプレートと振動膜30とによりコンデンサ部が構成されている。)、
G…入力端子(高インピーダンス入力端子)。
23a,23b,23c…回路基板表面に設けられた導電パターン、
23d,23e…回路基板裏面に設けられた導電パターン、
23f…中間層(回路基板の表裏面間に設けられた導電パターン)、
26…電界効果トランジスタ(インピーダンス変換素子)、30…振動膜、
31…バックプレート(極板:バックプレートと振動膜30とによりコンデンサ部が構成されている。)、
G…入力端子(高インピーダンス入力端子)。
Claims (4)
- 振動膜と極板とが対向配置されてなるコンデンサ部と、前記コンデンサ部の静電容量の変化を電気インピーダンス変換するインピーダンス変換素子と、前記インピーダンス変換素子を実装する回路基板とを備え、
前記回路基板の表裏面にはそれぞれ導体パターンが設けられ、かつ前記回路基板の表裏面間には導電パターンである中間層が設けられ、前記回路基板表面の導電パターンが前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子を含む静電容量型デバイスにおいて、
前記中間層が、前記回路基板の厚み方向において前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重ならないように形成されていることを特徴とする静電容量型デバイス。 - 前記回路基板の裏面の導電パターンは、前記回路基板の厚み方向において前記インピーダンス変換素子の高インピーダンス入力端子と重なる領域を有するように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の静電容量型デバイス。
- 前記回路基板の中間層がGNDパターンであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の静電容量型デバイス。
- 前記回路基板の裏面の導電パターンには、前記中間層と導通する導電パターンを含むことを特徴とする請求項3に記載の静電容量型デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006322933A JP2008141286A (ja) | 2006-11-30 | 2006-11-30 | 静電容量型デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006322933A JP2008141286A (ja) | 2006-11-30 | 2006-11-30 | 静電容量型デバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008141286A true JP2008141286A (ja) | 2008-06-19 |
Family
ID=39602349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006322933A Withdrawn JP2008141286A (ja) | 2006-11-30 | 2006-11-30 | 静電容量型デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008141286A (ja) |
-
2006
- 2006-11-30 JP JP2006322933A patent/JP2008141286A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9820058B2 (en) | Capacitive MEMS microphone with insulating support between diaphragm and back plate | |
KR101059364B1 (ko) | 일렉트릿 및 일렉트릿 컨덴서 | |
JP2007043327A (ja) | コンデンサマイクロホン | |
US20150110309A1 (en) | Acoustic transducer and package module including the same | |
EP2560408A2 (en) | Dual backplate microphone | |
JP2009071813A (ja) | 振動トランスデューサ | |
KR20110065322A (ko) | 마이크로폰 | |
JP2010041715A (ja) | 電子装置及び電気音響変換器 | |
CN108702576B (zh) | 电容式mems麦克风及电子装置 | |
JP2008141409A (ja) | コンデンサマイクロホンの製造方法及びコンデンサマイクロホン | |
WO2020000649A1 (zh) | Mems电容式麦克风 | |
KR20080014622A (ko) | 마이크로폰의 케이싱 및 마이크로폰 | |
JP2008047953A (ja) | マイクロホンの筐体及びマイクロホン | |
US20150139467A1 (en) | Acoustic device and microphone package including the same | |
KR20080017257A (ko) | 콘덴서 마이크로폰 | |
JP5097603B2 (ja) | マイクロホンユニット | |
JP2008048329A (ja) | コンデンサマイクロホン及びコンデンサマイクロホンの積層構造体の製造方法 | |
KR20080010293A (ko) | 콘덴서 마이크로폰 | |
JP2008141286A (ja) | 静電容量型デバイス | |
WO2007123038A1 (ja) | エレクトレットコンデンサマイクロホン | |
JP2008131192A (ja) | コンデンサマイクロホン | |
JP4698320B2 (ja) | コンデンサーマイクロホンユニットおよびコンデンサーマイクロホン | |
JP5049571B2 (ja) | コンデンサマイクロホンの製造方法及びコンデンサマイクロホン | |
JP2008035347A (ja) | コンデンサマイクロホン | |
JP2012070120A (ja) | センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090717 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20110318 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |