JP2008134083A - 磁気センサ、及び磁気センサの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 27
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
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- Measuring Magnetic Variables (AREA)
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Abstract
【課題】歩留まりを悪化させることなく、製造時間の短縮化を図ることができる磁気センサ、及び磁気センサの製造方法を提供する。
【解決手段】センサ実装工程において、センサリードフレーム2のセンサアイランド7にセンサチップ8を実装するとともに、該センサチップ8と各リード5とを電気的に接続する。また、マグネット実装工程において、マグネットフレーム3のマグネットアイランド13にバイアスマグネット14を実装する。そして、位置決め工程において、センサリードフレーム2をマグネットフレーム3に重合させることにより主枠体4と副枠体11とを合致させ、マグネットアイランド13をセンサアイランド7に位置決めする。その後、センサチップ8、センサアイランド7、各リード5の一部、バイアスマグネット14、マグネットアイランド13を絶縁モールド材料によって封止するパッケージ工程を行う。
【選択図】図1
【解決手段】センサ実装工程において、センサリードフレーム2のセンサアイランド7にセンサチップ8を実装するとともに、該センサチップ8と各リード5とを電気的に接続する。また、マグネット実装工程において、マグネットフレーム3のマグネットアイランド13にバイアスマグネット14を実装する。そして、位置決め工程において、センサリードフレーム2をマグネットフレーム3に重合させることにより主枠体4と副枠体11とを合致させ、マグネットアイランド13をセンサアイランド7に位置決めする。その後、センサチップ8、センサアイランド7、各リード5の一部、バイアスマグネット14、マグネットアイランド13を絶縁モールド材料によって封止するパッケージ工程を行う。
【選択図】図1
Description
本発明は、バイアスマグネットを有する磁気センサ及び、その磁気センサの製造方法に関するものである。
一般に、磁気抵抗素子を用いた磁気センサとして、例えば図7に示すように、樹脂封止されたセンサパッケージ51の外部にバイアスマグネット52を実装し、さらにそのバイアスマグネット52を樹脂等によって封止して構成された磁気センサ50が知られている。
しかし、こうした磁気センサ50では、センサチップ53とバイアスマグネット52との近接配置が困難であり、センサチップ53の感度を十分に確保することが難しい。また、封止樹脂の公差に起因して、センサパッケージ51に対するバイアスマグネット52の高い実装精度も確保することが難しい。さらには、磁気センサ50の製造工数が多く、コスト高であった。
そこで従来、例えば特許文献1〜3に記載されるように、センサチップが実装されるリードフレームにバイアスマグネットを実装し、その状態で樹脂封止を行うことにより、センサパッケージの内部にバイアスマグネットを一体化した磁気センサが提案されている。そして、こうした磁気センサによれば、上記問題を解消することが期待できる。
特開平5−113472号公報
特開2004−172334号公報
特開2006−3225号公報
しかしながら、この種の磁気センサでは、バイアスマグネットをリードフレームに実装する工程と、センサチップをリードフレームに実装する工程とを同時に行うことができないため、製造時間が長くなる。特に、リードフレームにバイアスマグネットを先に実装した場合には、センサチップとリードとを接続するべくワイヤボンディングを行う際に、バイアスマグネットによって熱伝導が悪くなるため、加熱時間が長く必要となってしまい、製造時間がより長くなってしまう。また、センサチップとリードとのワイヤボンディングを先に行った後に、リードフレームにバイアスマグネットを実装しようとした場合には、バイアスマグネットの実装時にリードフレームを介してワイヤに応力が加わったり、バイアスマグネットの実装工程への搬送時にワイヤに応力が加わったりして、ワイヤが断線するなどして接続不良を生じるおそれがあり、歩留まりが悪化してしまうおそれがある。
本発明はこうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、歩留まりを悪化させることなく、製造時間の短縮化を図ることができる磁気センサ、及び磁気センサの製造方法を提供することにある。
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明では、磁性体からなる被検出対象の近接・離間による磁界の変化を検出するセンサチップと、そのセンサチップに対してバイアス磁界を付与するバイアスマグネットとを備える磁気センサの製造方法であって、
金属板によって構成されたセンサリードフレームの主枠体内に設けられたセンサアイランドに前記センサチップを実装するとともに、該センサチップとセンサリードフレームのリードとを電気的に接続するセンサ実装工程と、板状の磁性体によって構成され、前記センサリードフレームの主枠体と合致する副枠体と、前記バイアスマグネットを実装または形成するべく、該副枠体内における前記センサアイランドと対応する箇所に設けられたマグネットアイランドとを有するマグネットフレームを用い、前記副枠体を前記主枠体に合致させることにより前記マグネットアイランドを前記センサアイランドに位置決めする位置決め工程と、前記センサチップ、前記センサアイランド、前記リードの一部、前記バイアスマグネット、前記マグネットアイランドを絶縁モールド材料によって封止するパッケージ工程を行うことを要旨とする。
金属板によって構成されたセンサリードフレームの主枠体内に設けられたセンサアイランドに前記センサチップを実装するとともに、該センサチップとセンサリードフレームのリードとを電気的に接続するセンサ実装工程と、板状の磁性体によって構成され、前記センサリードフレームの主枠体と合致する副枠体と、前記バイアスマグネットを実装または形成するべく、該副枠体内における前記センサアイランドと対応する箇所に設けられたマグネットアイランドとを有するマグネットフレームを用い、前記副枠体を前記主枠体に合致させることにより前記マグネットアイランドを前記センサアイランドに位置決めする位置決め工程と、前記センサチップ、前記センサアイランド、前記リードの一部、前記バイアスマグネット、前記マグネットアイランドを絶縁モールド材料によって封止するパッケージ工程を行うことを要旨とする。
上記方法によると、バイアスマグネットをマグネットアイランドに実装または形成する工程で必要な部材は、センサ実装工程で必要な部材に干渉しないため、それら工程を並行して行うことができる。よって、磁気センサの製造時間の短縮化を図ることが可能となる。また、位置決め工程においては、センサリードフレームの主枠体とマグネットフレームの副枠体とを合致させることで、センサアイランドに対するマグネットアイランドの位置決めを行うことができる。このため、ワイヤボンディングによってセンサチップとリードとを接続した後に位置決め工程を行う場合においても、ワイヤに対して応力が加わりにくく、該ワイヤが断線するなどに起因したリードとセンサチップとの接続不良も生じにくい。よって、製品の歩留まりの悪化も好適に抑止することができる。
請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の磁気センサの製造方法において、前記位置決め工程の前工程において、前記マグネットアイランドに対して、該マグネットアイランドとは別体で構成された前記バイアスマグネットを実装するマグネット実装工程を行うことを特徴とする。
上記方法によると、マグネットアイランドに対するバイアスマグネットの配置位置調整を容易に行うことが可能となり、センサチップに対して最適な位置にバイアスマグネットを配置することができる。
請求項3に記載の発明では、請求項1に記載の磁気センサの製造方法において、前記マグネットアイランドを着磁することによって前記バイアスマグネットを形成することを要旨とする。
上記方法によると、別体のバイアスマグネットを不要とすることができ、磁気センサの部品点数を低減可能となる。また、センサリードフレームの主枠体とマグネットフレームの副枠体とを合致させることで、センサアイランドに対するマグネットアイランドの位置決めが高精度に行われるため、センサチップに対して最適な位置にバイアスマグネットを配置させることが可能となる。
請求項4に記載の発明では、請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気センサの製造方法において、前記マグネットアイランドを、前記センサアイランドにおける前記センサチップの実装面とは逆側の面に密接した状態で両者を接合することを要旨とする。
上記方法によると、バイアスマグネットをセンサチップに近接配置することができ、センサチップの高い感度を確保することができる。
請求項5に記載の発明では、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されてなる磁気センサであることを要旨とする。
請求項5に記載の発明では、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されてなる磁気センサであることを要旨とする。
上記構成によると、高感度の磁気センサを実現可能となる。
以上詳述したように、本発明によれば、歩留まりを悪化させることなく、製造時間の短縮化を図ることができる。
以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図4に基づき詳細に説明する。
図1に示すように、磁気センサ1は、打ち抜き加工された金属板によって構成されたセンサリードフレーム2と、同じく打ち抜き加工された金属板によって構成されたマグネットフレーム3とを用いて形成される。
図1に示すように、磁気センサ1は、打ち抜き加工された金属板によって構成されたセンサリードフレーム2と、同じく打ち抜き加工された金属板によって構成されたマグネットフレーム3とを用いて形成される。
センサリードフレーム2は、外郭をなす主枠体4と、その主枠体4に連結された複数のリード5と、連結部6を介して主枠体4に連結されたセンサアイランド7とを備えている。各リード5及びセンサアイランド7は主枠体4によって囲われた空間内に形成され、センサアイランド7は、主枠体4によって囲われた空間の略中央箇所に設けられた略長方形の板状をなし、短辺が連結部6を介して主枠体4に連結されている。また、各リード5は同形同大の棒状をなし、その一端が各主枠体4に連結され、他端がセンサアイランド7の長辺に対向した自由端となっている。これらリード5は、センサアイランド7に対して対称に形成され、それぞれ等間隔に並列配置されている。さらに、主枠体4における所定箇所には複数の位置決め孔4aが透設されている。
そして、こうしたセンサリードフレーム2には、センサ実装工程においてセンサチップ8が実装される。詳しくは、センサ実装工程においては、センサアイランド7の表面(図1における上面)に、磁性体からなる被検出対象の近接・離間による磁界の変化を検出するセンサチップ8が実装される。また、センサチップ8の表面に設けられた電極と対応するリード5とが、金等からなる金属細線9によってワイヤボンディングされることによって電気的に接続される。
一方、マグネットフレーム3は、主枠体4と合致する副枠体11と、連結部12を介して副枠体11に連結されたマグネットアイランド13とを備えている。これら連結部12及びマグネットアイランド13は、それぞれセンサリードフレーム2の連結部6及びセンサアイランド7と合致するように形成されている。また、副枠体11には、主枠体4の位置決め孔4aと合致する位置決め孔11aが透設されている。
そして、こうしたマグネットフレーム3には、マグネット実装工程においてバイアスマグネット14が実装される。詳しくは、マグネット実装工程においては、マグネットアイランドの裏面(図1における下面)に、着磁されたバイアスマグネット14が実装される。
これら実装工程を経たセンサリードフレーム2及びマグネットフレーム3は、図2及び図3に示すように、互いに重合された状態で、合成樹脂等の絶縁モールド材料15によって樹脂封止される。詳しくは、各リード5の一部、センサアイランド7、センサチップ8、金属細線9、マグネットアイランド13、及びバイアスマグネット14が、絶縁モールド材料15によって封止される。そして、各リード5と主枠体4との連結箇所、連結部6と主枠体4との連結箇所、及び連結部12と副枠体11との連結箇所が切断されることにより、磁気センサ1が形成される。このため、図3に示すように、磁気センサ1は、外観上、センサリードフレーム2の連結部6の切断面と、マグネットフレーム3の連結部12の切断面とが、露出した状態となる。
次に、このように構成される磁気センサ1の製造工程を、図4に示す工程フローに従って説明する。
まず、センサ側の型抜き工程(S1)において、センサリードフレーム2を形成する。形成されたセンサリードフレーム2は、図示しない搬送機構に設けられた位置決めピンを各位置決め孔4aに挿通させた状態でセンサ実装工程に搬送される。そして、センサ実装工程(S2)において、センサリードフレーム2のセンサアイランド7にセンサチップ8を実装(ダイボンディング)するとともに、金属細線9を用いて該センサチップ8の電極と各リード5との電気的接続(ワイヤボンディング)を行う。
まず、センサ側の型抜き工程(S1)において、センサリードフレーム2を形成する。形成されたセンサリードフレーム2は、図示しない搬送機構に設けられた位置決めピンを各位置決め孔4aに挿通させた状態でセンサ実装工程に搬送される。そして、センサ実装工程(S2)において、センサリードフレーム2のセンサアイランド7にセンサチップ8を実装(ダイボンディング)するとともに、金属細線9を用いて該センサチップ8の電極と各リード5との電気的接続(ワイヤボンディング)を行う。
一方、マグネット側の型抜き工程(S3)において、マグネットフレーム3を形成する。形成されたマグネットフレーム3は、図示しない搬送機構に設けられた位置決めピンを各位置決め孔11aに挿通させた状態でセンサ実装工程に搬送される。そして、マグネット実装工程(S4)において、マグネットフレーム3のマグネットアイランド13にバイアスマグネット14を実装する。
こうしたセンサ側の型抜き工程及びセンサ実装工程と、マグネット側の型抜き工程及びマグネット実装工程とは、それぞれ独立して行われ、本実施形態においては並行して行われる。
そして、続く位置決め工程(S5)において、センサリードフレーム2とマグネットフレーム3との位置決めを行う。詳しくは、センサリードフレーム2の主枠体4とマグネットフレーム3の副枠体11とを合致させることによって各位置決め孔4a,11aを合致させ、それら位置決め孔4a,11aに搬送機構の位置決めピンを挿通させる。このとき、マグネットフレーム3が、センサアイランド7におけるセンサチップ8の実装面とは逆側の面に密接するように配置する。これにより、センサアイランド7とマグネットアイランド13とが対応する位置に配置された状態となる。
このように位置決めしたセンサリードフレーム2及びマグネットフレーム3を、続くモールド工程(S6)において、絶縁モールド材料15によってモールドし、図2に示すように、各リード5の一部、センサアイランド7、センサチップ8、金属細線9、マグネットアイランド13、及びバイアスマグネット14を封止する。センサリードフレーム2の主枠体4とマグネットフレーム3の副枠体11とが合致することによってセンサアイランド7とマグネットアイランド13とが位置決めされるため、両アイランド7,13は、高い精度で位置決めされた状態で絶縁モールド材料15によって封止される。
そして、続く仕上げ工程において、主枠体4及び副枠体11を切断することにより、磁気センサ1の製造を完了する。
したがって、本実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
したがって、本実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
(1)センサ実装工程(S2)で必要な部材は、センサリードフレーム2、センサチップ8及び金属細線9であり、マグネット実装工程(S4)で必要な部材は、マグネットフレーム3とバイアスマグネット14である。このため、センサ実装工程(S2)で必要な部材とマグネット実装工程(S4)で必要な部材とは互いに干渉しない。よって、センサ実装工程(S2)とマグネット実装工程(S4)とを並行して行うことができる。よって、磁気センサ1の製造時間の短縮化を図ることができる。
また、位置決め工程(S5)においては、センサリードフレーム2の主枠体4とマグネットフレーム3の副枠体11とを合致させることで、センサアイランド7に対するマグネットアイランド13の位置決めを行うことができる。このため、金属細線9によってセンサチップ8と各リード5とを接続した後に位置決め工程(S5)を行う場合においても、金属細線9に対して応力が加わりにくく、該金属細線9が断線するなどに起因したリード5とセンサチップ8との接続不良も生じにくい。よって、製品の歩留まりの悪化も好適に抑止することができる。
(2)マグネットフレーム3に設けられたマグネットアイランド13に、別体のバイアスマグネット14が実装され、そのマグネットアイランド13がセンサアイランド7に重合されることにより、センサチップ8とバイアスマグネット14との位置決めが行われる。このため、マグネットアイランド13に対するバイアスマグネット14の配置位置を調整することにより、センサチップ8に対して最適な位置にバイアスマグネット14を配置することができる。
なお、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。
・ 例えば図5に示すように、マグネットアイランド13におけるセンサチップ8と対応する箇所を部分着磁することにより、該マグネットアイランド13の一部にバイアスマグネットを形成してもよい。このようにすれば、別体のバイアスマグネット14を不要とすることができ、磁気センサ1の部品点数を低減可能となる。また、センサリードフレーム2の主枠体4とマグネットフレーム3の副枠体11とを合致させることで、センサアイランド7に対するマグネットアイランド13の位置決めが高精度に行われるため、センサチップ8に対して最適な位置にバイアスマグネットを配置させることができる。
・ 例えば図5に示すように、マグネットアイランド13におけるセンサチップ8と対応する箇所を部分着磁することにより、該マグネットアイランド13の一部にバイアスマグネットを形成してもよい。このようにすれば、別体のバイアスマグネット14を不要とすることができ、磁気センサ1の部品点数を低減可能となる。また、センサリードフレーム2の主枠体4とマグネットフレーム3の副枠体11とを合致させることで、センサアイランド7に対するマグネットアイランド13の位置決めが高精度に行われるため、センサチップ8に対して最適な位置にバイアスマグネットを配置させることができる。
なお、この場合、マグネット実装工程(S4)においてマグネットアイランド13の部分着磁を行ってもよいし、モールド工程(S6)や仕上げ工程(S7)などで該部分着磁を行ってもよい。
・ マグネットフレーム3及びバイアスマグネット14は、必ずしもセンサアイランド7の裏面側に配置されることに限定されない。マグネットフレーム3及びバイアスマグネット14を、センサチップ8の上方に配置してもよい。詳しくは、例えば図6(a),(b)に示すように、マグネットフレーム3の連結部12を屈曲形成することにより、該連結部12とセンサリードフレーム2の連結部6とを合致させた際に、マグネットアイランド13がセンサアイランド7の上方に位置させるようにする。そして、マグネットアイランド13におけるセンサチップ8と対向する側の面にバイアスマグネット14を実装する。このようにすれば、バイアスマグネット14をセンサチップ8の検出面に対して、より近接配置することができるため、センサチップ8の高い感度を確保することができる。
・ マグネットアイランド13は、マグネットフレーム3の副枠体11をセンサリードフレーム2の主枠体4に合致させた際に、必ずしもセンサアイランド7と合致する位置に配置されるように形成されている必要はない。すなわち、マグネットアイランド13は、センサアイランド7とずれた位置に配置されるように形成されていてもよい。このようにすれば、センサチップ8に対するバイアスマグネット14の配置位置を容易に変更することができる。また、マグネットフレーム3を裏返したり前後逆方向にしたりすることにより、センサアイランド7に対するマグネットアイランド13の位置を容易に変更することができる。
・ センサ側の型抜き工程(S1)及びセンサ実装工程(S2)と、マグネット側の型抜き工程(S3)及びマグネット実装工程(S4)とを、必ずしも並行して行う必要はない。
・ 例えばマグネット側の型抜き工程(S3)において、マグネットアイランド13におけるバイアスマグネット14の配置位置に、該バイアスマグネット14の外形と一致する凹部を設け、その凹部にバイアスマグネット14を配置するようにしてもよい。このようにすれば、バイアスマグネット14の位置決めが容易となる。なお、センサアイランド7におけるセンサチップ8の配置位置に、該センサチップ8の外形と一致する凹部を設けてもよい。
次に、特許請求の範囲に記載された技術的思想のほかに、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。
(1) 請求項2に記載の磁気センサの製造方法において、前記マグネットアイランドにおける前記バイアスマグネットの配置位置に、該バイアスマグネットの外形と一致する凹部を設け、その凹部に該バイアスマグネットを実装すること。この(1)に記載の技術的思想によれば、マグネットアイランドに対してバイアスマグネットを容易に位置決めすることができる。
(1) 請求項2に記載の磁気センサの製造方法において、前記マグネットアイランドにおける前記バイアスマグネットの配置位置に、該バイアスマグネットの外形と一致する凹部を設け、その凹部に該バイアスマグネットを実装すること。この(1)に記載の技術的思想によれば、マグネットアイランドに対してバイアスマグネットを容易に位置決めすることができる。
(2) 磁性体からなる被検出対象の近接・離間による磁界の変化を検出するセンサチップと、そのセンサチップに対してバイアス磁界を付与するバイアスマグネットとを備える磁気センサであって、前記センサチップは、金属板によって構成されたセンサリードフレームの主枠体内に設けられたセンサアイランドに配置され、前記バイアスマグネットは、前記センサチップにおける検出面と対向配置された板状の磁性体によって構成されたマグネットアイランドに実装または形成されていることを特徴とする磁気センサ。この(2)に記載の技術的思想によれば、バイアスマグネットをセンサチップの検出面に対して近接配置することができるため、センサチップの高い感度を確保することができる。
1…磁気センサ、2…センサリードフレーム、3…マグネットフレーム、4…主枠体、4a…位置決め孔、5…リード、6…連結部、7…センサアイランド、8…センサチップ、9…金属細線、11…副枠体、11a…位置決め孔、12…連結部、13…マグネットアイランド、14…バイアスマグネット、15…絶縁モールド材料。
Claims (5)
- 磁性体からなる被検出対象の近接・離間による磁界の変化を検出するセンサチップと、そのセンサチップに対してバイアス磁界を付与するバイアスマグネットとを備える磁気センサの製造方法であって、
金属板によって構成されたセンサリードフレームの主枠体内に設けられたセンサアイランドに前記センサチップを実装するとともに、該センサチップとセンサリードフレームのリードとを電気的に接続するセンサ実装工程と、
板状の磁性体によって構成され、前記センサリードフレームの主枠体と合致する副枠体と、前記バイアスマグネットを実装または形成するべく、該副枠体内における前記センサアイランドと対応する箇所に設けられたマグネットアイランドとを有するマグネットフレームを用い、前記副枠体を前記主枠体に合致させることにより前記マグネットアイランドを前記センサアイランドに位置決めする位置決め工程と、
前記センサチップ、前記センサアイランド、前記リードの一部、前記バイアスマグネット、前記マグネットアイランドを絶縁モールド材料によって封止するパッケージ工程を行うことを特徴とする磁気センサの製造方法。 - 前記位置決め工程の前工程において、前記マグネットアイランドに対して、該マグネットアイランドとは別体で構成された前記バイアスマグネットを実装するマグネット実装工程を行うことを特徴とする請求項1に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記マグネットアイランドを着磁することによって前記バイアスマグネットを形成することを特徴とする請求項1に記載の磁気センサの製造方法。
- 前記マグネットアイランドを、前記センサアイランドにおける前記センサチップの実装面とは逆側の面に密接した状態で両者を接合することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気センサの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって製造されてなる磁気センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|
JP2008134083A true JP2008134083A (ja) | 2008-06-12 |
Family
ID=39559038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006318642A Withdrawn JP2008134083A (ja) | 2006-11-27 | 2006-11-27 | 磁気センサ、及び磁気センサの製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
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JP2010145285A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Alps Electric Co Ltd | 磁気検出装置及びその製造方法 |
JP2011044601A (ja) | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Tokai Rika Co Ltd | リードフレーム、パッケージ型電子部品及び電子機器 |
JP2021135196A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | エイブリック株式会社 | 磁気センサ及び磁気検出方法 |
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2006
- 2006-11-27 JP JP2006318642A patent/JP2008134083A/ja not_active Withdrawn
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