JP2008124497A - プラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マッチングボックス20には、接触器23の差込口である接触器差込部22が設けられている。マッチングボックス20を真空容器2の側面外壁に固定すると、給電棒19との間の空間的な余裕を持たせた状態で位置決めされる。この後、接触器23を接触器差込部22に差し込むことで、外部の回路と給電棒19との電気的接触が確立される。
【選択図】図3
Description
こうしたプラズマ処理装置には、基板の表面処理が行われる真空容器内に、高周波電力を供給して原料ガス等をプラズマ化するための電極が設けられている。
プラズマ化したガスを用いて基板を処理するための真空容器と、
前記真空容器内に配置されるプラズマ生成用電極と、
前記プラズマ生成用電極に供給される高周波電力を生成する高周波電源と、
前記高周波電源にて生成された高周波電力を前記プラズマ生成用電極に伝送する給電棒と、
前記プラズマ生成用電極側への入力インピーダンスと前記高周波電源の出力インピーダンスとを整合させるための整合回路を有するマッチングボックスと、
前記整合回路における高周波電力の出力端と、前記給電棒における高周波電力の入力端との電気的接触を確立する接触器とを備えるプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法であって、
前記整合回路と前記給電棒との電気的接触が確立しない状態で、前記給電棒と前記マッチングボックスとの位置決めを行う位置決め工程と、
前記位置決め工程にて前記給電棒と前記マッチングボックスとの位置決めが完了した後に、前記接触器により前記整合回路と前記給電棒との電気的接触を確立する接触確立工程とを備える、ことを特徴とする。
前記接触確立工程は、前記位置決め工程にて前記マッチングボックスが前記真空容器の外壁に取り付けられた後に、前記差込口に前記接触器を差し込むことにより、前記整合回路と前記給電棒との電気的接触を確立する。
前記接触確立工程は、前記接触器により、商用電源から供給される電力を前記ヒータに提供するための電気的接触を確立する。
このプラズマ処理装置1は、上下平行に対向する電極を有する、いわゆる平行平板型プラズマ処理装置として構成され、半導体ウェハ(以下、ウェハWと称する)の表面に例えばSiO2膜等を成膜する機能を有する。
このプラズマ処理装置1によりウェハWを処理するため、真空容器2の上方にシールドボックス33及びインピーダンス整合器34を載置する。この際、拡散板7bに繋がる給電棒32は、インピーダンス整合器34の出力部分に設けられたソケット40の嵌込孔41に、被膜層42が介在した状態で嵌め込まれる。
また、この発明は、プラズマCVD処理を行うプラズマ処理装置に限定されるものではなく、シャワーヘッドやサセプタに高周波電力を供給し、半導体ウェハやLCD基板、太陽電池基板のような被処理体をプラズマ処理する装置であれば、エッチング装置、アッシング装置等にも適用することができる。
2 真空容器
3 排気管
4 ポンプ
5 シャワーヘッド
8 サセプタ
10 静電チャック
11 ヒータ
19、32、71 給電棒
20、70 マッチングボックス
21 整合回路部
22 接触器差込部
23 接触器
34 インピーダンス整合器
40 ソケット
41 嵌込孔
42 被膜層
50、51 高周波電源
52 直流電源
53 商用電源
C1、C2 容量
Claims (4)
- プラズマ化したガスを用いて基板を処理するための真空容器と、
前記真空容器内に配置されるプラズマ生成用電極と、
前記プラズマ生成用電極に供給される高周波電力を生成する高周波電源と、
前記高周波電源にて生成された高周波電力を前記プラズマ生成用電極に伝送する給電棒と、
前記プラズマ生成用電極側への入力インピーダンスと前記高周波電源の出力インピーダンスとを整合させるための整合回路を有するマッチングボックスと、
前記整合回路における高周波電力の出力端と、前記給電棒における高周波電力の入力端との電気的接触を確立する接触器とを備えるプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法であって、
前記整合回路と前記給電棒との電気的接触が確立しない状態で、前記給電棒と前記マッチングボックスとの位置決めを行う位置決め工程と、
前記位置決め工程にて前記給電棒と前記マッチングボックスとの位置決めが完了した後に、前記接触器により前記整合回路と前記給電棒との電気的接触を確立する接触確立工程とを備える、
ことを特徴とするプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法。 - 前記位置決め工程は、前記マッチングボックスを前記真空容器の外壁に取り付けることにより、前記給電棒と前記マッチングボックスの位置決めを完了する、
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法。 - 前記マッチングボックスは、前記接触器を差し込み可能な差込口を備え、
前記接触確立工程は、前記位置決め工程にて前記マッチングボックスが前記真空容器の外壁に取り付けられた後に、前記差込口に前記接触器を差し込むことにより、前記整合回路と前記給電棒との電気的接触を確立する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法。 - 前記プラズマ処理装置は、前記真空容器内で処理される基板を加熱するヒータを備え、
前記接触確立工程は、前記接触器により、商用電源から供給される電力を前記ヒータに提供するための電気的接触を確立する、
ことを特徴とする請求項1、2又は3に記載のプラズマ処理装置におけるマッチングボックスの取り付け方法。
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CN115053014A (zh) * | 2019-12-19 | 2022-09-13 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 | 在基片表面加工期间对可磁化基片进行保持的保持装置 |
CN115053014B (zh) * | 2019-12-19 | 2024-06-04 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 | 在基片表面加工期间对可磁化的基片进行保持的保持装置 |
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