JP2008120875A - セルロースアシレートフィルム、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】湿度変化による位相差の変動が小さく、延伸によるレターデーション発現性に優れ、熱による膨張の割合が小さく、ヘイズが低い等の光学特性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供し、さらには該フィルムを用いた光学補償シート、偏光板、および少なくともこれらのいずれかを備え、黒表示時のカラーシフト及び視野角コントラストが改善された液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のセルロースアシレートフィルムは、アシル基がアセチル基とプロピオニル基またはブチリル基であり、アセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度の合計をＹとしたとき、下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満たすことを特徴とする。 式（Ａ） ２．３０≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
式（Ｂ） ０．１０≦Ｙ≦０．５０
【選択図】なし

Description

本発明はセルロースアシレートフィルム、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置に関する。

セルロースアシレートフィルムは適度な水蒸気透過性を有し、かつ加工が容易であることから液晶表示装置用偏光板保護フィルムとして広く使用されている。中でも、セルローストリアセテートフィルムは従来から広く用いられており、延伸することでレターデーションを発現させ、光学補償機能を兼ね備えることも可能である。さらに、昨今ではアセチル基の一部をプロピオニル基またはブチリル基に置換したセルロースアセテートプロピオネートフィルムまたはセルロースアセテートブチレートフィルムも同様の目的で用いられている。しかし、総アシル基置換度の低いセルロースアシレートフィルムは、長時間の使用または環境変動による影響で位相差が大きく変動してしまうことがあり、その改良が強く望まれていた。
これに対して、特許文献１ではアセチル基の置換度Ｘとプロピオニル基またはブチリル基の置換度Ｙが下記式（Ｉ）〜（Ｋ）の関係を満たすセルロースアシレートを用いることで、上記問題を解決している。
式（Ｉ） ２．５５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
式（Ｊ） １．７５≦Ｘ≦２．１５
式（Ｋ） ０．６０≦Ｙ≦０．８０
しかし、上式を満たすセルロースアシレートフィルムは、レターデーションの発現性を向上させるために延伸倍率を高めるとヘイズが上昇し、液晶パネルのコントラストの低下が生じるという問題があった。

また、特許文献２ではアセチル基の置換度Ｘとプロピオニル基の置換度Ｙが下記式（Ｌ）〜（Ｍ）の関係を満たすセルロースアシレートを用い、溶融流延法を用いることで、光学特性、機械特性、寸法安定性に優れた光学フィルムを製造する方法を提案している。
式（Ｌ） ２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．８
式（Ｍ） ０．３≦Ｘ≦２．０
しかし、溶融流延法では溶液流延法よりも高温で加熱するため、可塑剤、レターデーション発現剤等の添加剤が分解するという問題があった。

特開2003-279729号公報 特開2006-111796号公報

本発明の目的は、湿度変化による位相差の変動が小さく、延伸によるレターデーション発現性に優れ、熱による膨張の割合が小さく、ヘイズが低い等の光学特性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供することにあり、さらには該フィルムを用いた光学補償シート、偏光板、および少なくともこれらのいずれかを備え、黒表示時のカラーシフト及び視野角コントラストが改善された液晶表示装置を提供することである。

本発明者は鋭意検討した結果、セルロースアシレートのアセチル基とプロピオニル基またはブチリル基の置換度を特定の範囲であるセルロースアシレートを含むセルロースアシレートフィルムが光学特性に優れることを見出した。更に、レターデーション発現剤を添加することでプロピオニル基またはブチリル基の置換度を下げてもレターデーションの湿度依存性を抑えられること、プロピオニル基またはブチリル基の置換度を下げることで延伸による光学特性発現性が上昇することを見出し、本発明をなすに至った。

すなわち、本発明は、以下の通りである。
〔１〕
アシル基がアセチル基とプロピオニル基またはブチリル基であり、アセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度の合計をＹとしたとき、下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアシレートを含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
式（Ａ） ２．３０≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
式（Ｂ） ０．１０≦Ｙ≦０．５０
〔２〕
棒状または円盤状化合物からなるレターデーション発現剤を少なくとも一種含有していることを特徴とする〔１〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔３〕
溶液流延法によって製造したことを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔４〕
下記式（Ｃ）及び（Ｄ）を満たすことを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
式（Ｃ） ３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１００ｎｍ
式（Ｄ） ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ
（式中、Ｒｅは波長５９０ｎｍの光に対する２５℃６０％ＲＨの該フィルムの面内レターデーション値であり、Ｒｔｈは波長５９０ｎｍの光に対する２５℃６０％ＲＨの該フィルムの厚み方向のレターデーション値である。）
〔５〕
〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
〔６〕
偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムまたは〔５〕に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
〔７〕
液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が〔６〕に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、湿度変化による位相差の変動、熱膨張係数、ヘイズが低く光学特性に優れ、延伸によるレターデーション発現性に優れている。更に、該フィルムを用いた光学補償シート、偏光板、および少なくともこれらのいずれかを備えた液晶表示装置は黒表示におけるカラーシフト及び視野角コントストが改善され、極めて高い実用性を有するものである。

以下、本発明のセルロースアシレートフィルム、光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置について詳細に説明する。

[セルロースアシレート]
まず、本発明に用いられるセルロースアシレートについて説明する。
（置換度）
本発明で用いるセルロースアシレートは下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満足する。
式（Ａ）２．３０≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
式（Ｂ）０．１０≦Ｙ≦０．５０

式（Ａ）及び（Ｂ）中、Ｘはセルロースの水酸基に対するアセチル基の置換度を表し、Ｙはセルロースの水酸基に対するプロピオニル基またはブチリル基の置換度の総和を表す。本明細書でいう「置換度」とは、セルロースの２位、３位および６位のぞれぞれの水酸基の水素原子が置換されている割合の合計を意味する。２位、３位および６位の全ての水酸基の水素原子がアシル基で置換された場合は置換度が３となる。

アシル基の総置換度が２．３０未満では温度や湿度等の条件の変化によってレターデーションの値が変動しやすくなる。
アシル基の総置換度が２．８５を超える、またはプロピオニル化度あるいはブチリル化が０．５０を超えると、セルロースアシレートの自由体積が増大し、分子鎖の絡み合いが減少するため、延伸によるセルロースアシレートの分子鎖、レターデーション発現剤の配向が進みにくくなり、位相差の発現性が低下する。また、フィルムの熱による膨張の割合も著しく高くなる。

本発明で用いるセルロースアシレートは、以下の式（Ａ１）及び（Ｂ１）を満足することがより好ましい。
式（Ａ１）２．５０≦Ｘ＋Ｙ≦２．７５
式（Ｂ１）０．２０≦Ｙ≦０．５０

本発明で用いるセルロースアシレートは、以下の式（Ａ２）及び（Ｂ２）を満足することがさらに好ましい。
式（Ａ２）２．６０≦Ｘ＋Ｙ≦２．７０
式（Ｂ２）０．２５≦Ｙ≦０．４０

本発明のセルロースアシレートはアシル基の疎水性と水酸基の親水性を適度にバランスさせることにより、レターデーションの発現性と湿度依存性を両立させるものである。

（原料）
セルロースアシレートを合成する際のセルロース原料としては、広葉樹パルプ、針葉樹パルプ、綿花リンター由来のものが好ましく用いられる。

（活性化）
セルロース原料はアシル化に先立って、活性化剤と接触させる処理（活性化）を行っておくことが好ましい。活性化剤として好ましくは、酢酸、プロピオン酸、または酪酸であり、特に好ましくは酢酸である。活性化剤の添加量は好ましくは５％〜１００００％であり、より好ましくは１０％〜２０００％、さらに好ましくは３０％〜１０００％である。添加方法は噴霧、滴下、浸漬などの方法から選択できる。活性化時間は２０分〜７２時間以下が好ましく、特に好ましくは２０分〜１２時間である。活性化温度は０℃〜９０℃が好ましく、２０℃〜６０℃が特に好ましい。さらに活性化剤に硫酸などのアシル化の触媒を０．１質量％〜１０質量％加えることもできる。

（アシル化）
セルロースとカルボン酸の酸無水物とをブレンステッド酸またはルイス酸（「理化学辞典」第五版（２０００年）参照）を触媒として反応させることで、セルロースの水酸基をアシル化することが好ましい。

セルロース混合アシレートを得る方法は、アシル化剤として２種のカルボン酸無水物を混合または逐次添加により反応させる方法、２種のカルボン酸の混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を用いる方法、カルボン酸と別のカルボン酸の酸無水物（例えば、酢酸とプロピオン酸無水物）を原料として反応系内で混合酸無水物（例えば、酢酸・プロピオン酸混合酸無水物）を形成させてセルロースと反応させる方法、置換度が３に満たないセルロースアシレートを一旦合成し、酸無水物や酸ハライドを用いて、残存する水酸基をさらにアシル化する方法などを用いることができる。

６位置換度の大きいセルロースアシレートの合成については、特開平１１−５８５１号、特開２００２−２１２３３８号、特開２００２−３３８６０１号などの各公報に記載がある。

（１）酸無水物
カルボン酸の酸無水物として、好ましくはカルボン酸としての炭素数が２〜２２のものを用いることができる。特に好ましくは、無水酢酸、プロピオン酸無水物、酪酸無水物である。酸無水物はセルロースの水酸基に対して１．１〜５０当量添加することが好ましく、１．２〜３０当量添加することがより好ましく、１．５〜１０当量添加することが特に好ましい。

（２）触媒
アシル化触媒には、ブレンステッド酸またはルイス酸を使用することが好ましく、硫酸または過塩素酸がより好ましく、硫酸が特に好ましい。好ましい添加量は原料セルロースに対して０．１〜３０質量％であり、より好ましくは１〜１５質量％であり、特に好ましくは３〜１２質量％である。

（３）溶媒
アシル化溶媒としてカルボン酸が好ましく、さらに好ましくは、炭素数２〜７のカルボン酸であり、特に好ましくは、酢酸、プロピオン酸、酪酸である。これらの溶媒は混合して用いてもよい。

（４）アシル化条件
アシル化剤は、セルロースに対して一度に添加してもよいし、分割して添加してもよい。また、アシル化剤に対してセルロースを一度に添加してもよいし、分割して添加してもよい。アシル化の反応熱による温度上昇の制御と分子量の調整のために、アシル化剤は予め冷却しておくことが好ましい。アシル化剤の温度は−５０℃〜５０℃が好ましく、より好ましくは−３０℃〜４０℃、特に好ましくは−２０℃〜３５℃である。反応の最低温度は−５０℃以上が好ましく、−３０℃以上がより好ましく、−２０℃以上が特に好ましい。反応の最高温度は５０℃以下が好ましく、４０℃以下がより好ましく、３５℃以下が特に好ましい。アシル化の反応時間は０．５時間〜２４時間が好ましく、１時間〜１２時間がより好ましく、１．５時間〜８時間が特に好ましい。

（５）反応停止剤
アシル化反応の後に、反応停止剤を加えることが好ましい。反応停止剤は酸無水物を分解するものであればよく、水、アルコール（炭素数１〜３のもの）などが挙げられ、中でも水とカルボン酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸など）との混合物がさらに好ましい。水とカルボン酸との組成は、水が好ましくは５質量％〜８０質量％、さらに好ましくは１０質量％〜６０質量％、特に好ましくは１５質量％〜５０質量％である。

（６）中和剤
アシル化反応の停止時あるいは停止後に中和剤を添加して、酸触媒を部分的あるいは完全に中和してもよい。中和剤の好ましい例としては、アンモニウム、有機４級アンモニウム、アルカリ金属、２族の金属、３〜１２族金属、または１３〜１５族元素の、炭酸塩、炭酸水素塩、有機酸塩、水酸化物または酸化物などを挙げることができる。特に好ましくは、ナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウムの、炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩または水酸化物である。中和剤は、粉末で加えても、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に溶解して添加しても良い。

（部分加水分解）
このようにして得られたセルロースアシレートは、全置換度がほぼ３に近いものであるが、所望の置換度のものを得る目的で、少量の触媒（一般には、残存する硫酸などのアシル化触媒）と水との存在下で、２０〜９０℃に数分〜数日間保つことによりエステル結合を部分的に加水分解し、セルロースアシレートのアシル置換度を所望の程度まで減少させることが好ましい。この後、残存する酸触媒を前記の中和剤を用いて完全に中和し、部分加水分解を停止させることが好ましい。

（ろ過）
セルロースアシレート中の未反応物、難溶解性塩、その他の異物などを除去または削減する目的として、アシル化工程から再沈殿工程の間のいずれかにおいて、セルロースアシレートを含む反応溶液をろ過することが好ましい。ろ過に用いるフィルターの保留粒子径は、好ましくは０．１μｍ以上５０μｍ以下であり、更に好ましくは、０．５μｍ以上４０μｍ以下であり、特に好ましくは、１μｍ以上３０μｍ以下である。フィルターの保留粒子径が０．１μｍより小さいと、ろ過圧の上昇が著しく、実質的に工業的な生産が困難である。また、保留粒子径が４０μｍより大きいと、異物の除去が十分にできない場合がある。また、濾過は２回以上繰り返してもよい。

（再沈殿）
セルロースアシレート溶液を、水もしくはカルボン酸（例えば、酢酸、プロピオン酸など）水溶液と混合し再沈殿させる。再沈殿は連続式、バッチ式のいずれでもよい。

（洗浄）
再沈殿後、洗浄処理することが好ましい。洗浄は水または温水を用い、ｐＨ、イオン濃度、電気伝導度、元素分析等で洗浄終了を確認することができる。

（安定化）
洗浄後のセルロースアシレートは、安定性の向上のために、弱アルカリ（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ等の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物、酸化物）の水溶液で処理することが好ましい。

（乾燥）
５０〜１６０℃でセルロースアシレートの含水率を２質量％以下にまで乾燥することが好ましい。

本発明のセルロースアシレートの合成方法としては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７〜１２頁の記載も適用できる。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの質量平均重合度は１５０〜７００であり、好ましくは２００〜６００、さらに好ましくは２００〜５００である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に記載されるように、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量分布測定などの方法により測定できる。さらに、平均重合度の測定方法については、特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。

本発明で用いられるセルロースアシレートは、質量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、更に好ましくは１．５〜５．０であり、特に好ましくは２．０〜４．５である。

［レターデーション発現剤］
以下に本発明に用いられるレターデーション発現剤について説明する。
本発明に用いられるレターデーション発現剤は、セルロースアシレートフィルムに添加した際に下記数式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
数式（１）（Ｒe（Ａ）−Ｒe（０））／Ａ≧１．０
数式（２） ０．０１≦Ａ≦３０
ここで、数式（１）は原料セルロースアシレートを１００質量部、トリフェニルホスフェートを１２質量部及びレターデーション発現剤を数式（２）で表されるＡ質量部のみを含有するセルロースアシレートフィルムを用いて１５％の固定一軸延伸を後述するガラス転移温度で施した場合に得られる波長５９０ｎｍにおけるＲeを表し、
Ｒe（Ａ）：レターデーション発現剤をＡ％含有したフィルムのＲe（ｎｍ）
Ｒe（０）：レターデーション発現剤含有しないフィルムのＲe（ｎｍ）
Ａ：フィルム原料セルロースアシレートを１００質量部としたときのレターデーション発現剤の質量（％）、である。

数式（１）の値は、５．０以上であることが好ましく、１０．０以上であることがより好ましく、２０．０以上２００以下がさらに好ましい。

本発明のレターデーション発現剤は、２５０乃至４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

本発明のレターデーション発現剤は、少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物または少なくとも３つの置換基を有する環状化合物であることが好ましい。より好ましくは少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物である。

レターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１乃至３０質量部であることが好ましく、０．０５乃至２０質量部であることがより好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．２乃至５質量部の範囲で使用することが最も好ましい。

二種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。

以下に少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物について説明する。
少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物は一様配向した場合に正の光学的に正の１軸性を発現することが好ましい。
少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００ないし１２００であることが好ましく、４００ないし１０００であることがより好ましい。

少なくとも二つの芳香族環を有する化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）：Ａｒ¹−Ｌ¹−Ａｒ²
上記一般式（Ｉ）において、Ａｒ¹およびＡｒ²は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基である。
本明細書において、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。

アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）および非芳香族性複素環基（例、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。
アルキル置換アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。

一般式（Ｉ）のレターデーション発現剤は下記一般式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し
、Ｌ¹、Ｌ²は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表す。複数のＡｒ²及びＬ²は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。

前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物はさらに好ましい。

式中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁴は水素原子または置換基を表す。Ａｒ²は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基（アリー
ル基または芳香族ヘテロ環）を表し、Ｌ²、Ｌ³は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、それぞれＡｒ²、Ｌ²は同一であっても異なっていても良い。

以下に、本発明一般式（ＩＩ）で表される化合物に関して詳細に説明する。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基（アリール基または芳香族ヘテロ環）を表し、Ｌ¹、Ｌ²は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、複数のＡｒ²及びＬ²は、それぞれ同一であっても異なっていても良い。

Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基（アリール基または芳香族ヘテロ環）を表し、Ａｒ¹及びＡｒ³は一価の基であり、Ａｒ²は二価の基である。

Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³で表される基が有する芳香環として好ましくは炭素数６〜３０の芳香環であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
Ａｒ¹及びＡｒ³としての一価の芳香環基は、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³で表される芳香環は、環骨格にヘテロ原子を有する芳香環基（芳香族ヘテロ環）であってよく、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であればいずれのヘテロ環でもよいが、好ましくは５ないし６員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Tが適用できる。

芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。

一般式（ＩＩ）中、Ｌ¹及びＬ²は単なる結合、または２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ⁴⁷−（Ｒ⁴⁷は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２ＮＲ⁴⁷−、−ＮＲ⁴⁷ＳＯ_２−、−ＣＯＮＲ⁴⁷−、−ＮＲ⁴⁷ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基であり、最も好ましくは−ＣＯＮＲ⁴⁷−、−ＮＲ⁴⁷ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基である。

本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ａｒ²はＬ¹およびＬ²と結合するがＡｒ²がフェニレン基である場合、Ｌ¹−Ａｒ²−Ｌ²、およびＬ²−Ａｒ²−Ｌ²は互いにパラ位（１,４−位）の関係にあることが最も好ましい。

ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３ないし７であり、より好ましくは３ないし５である。

一般式（ＩＩ）のうち好ましくは一般式（ＩＩＩ）であり、ここで一般式（ＩＩＩ）について詳しく説明する。

Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ａｒ²は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基
を表し、Ｌ²、Ｌ³は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、複数のＡｒ²及びＬ²は、それぞれ同一であっても異なっていても良い。

Ａｒ²、Ｌ²、およびｎは一般式（ＩＩ）の例と同一であり、Ｌ³は単なる結合、または
２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ⁴⁷−（Ｒ⁴⁷は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、アルキレン基、置換アルキレン基、−Ｏ−、およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ⁴⁷−、−ＮＲ⁴⁷ＳＯ_２−、および−ＮＲ⁴⁷ＣＯ−である。

Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ⁴⁵およびＲ⁴⁶はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基など）、炭素数６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。

Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³およびＲ⁵⁴はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基）である。

以下に、置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２-エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、

アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル）、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、

シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイルベンゾイル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
以下に一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば特開２００６−１６９３０３号公報に記載の方法等、公知の合成法で合成することができる。

少なくとも３つの置換基を有する環状化合物について説明する。少なくとも３つの置換基を有する環状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有してもよい。
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物は一様配向した場合に光学的負の１軸性を発現することが好ましい。
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００ないし１０００であることが好ましく、３５０ないし８００であることがより好ましい。

本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として好ましく用いられる。

前記少なくとも３つの置換基を有する環状化合物が有する芳香族環の数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがより好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。

（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基および２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および１−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基および１−ヘキシニル基が含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。

少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として下記一般式（ＩＶ）で表されるトリアジン化合物を用いることがより好ましい。

一般式（ＩＶ）

上記一般式（ＩＶ）中：
Ｒ^１２は、各々独立に、オルト位、メタ位およびパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環または複素環を表す。
Ｘ^１１は、各々独立に、単結合または−ＮＲ^１３−を表す。ここで、Ｒ^１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。

Ｒ^１２が表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ^１２が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。

Ｒ^１２が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Ｘ^１１が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。

一般式（ＩＶ）中、Ｘ^１１は単結合または−ＮＲ^１３−を表す。Ｒ^１３は独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
Ｒ^１３が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）およびアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。

Ｒ^１３が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
Ｒ^１３が表す芳香族環基および複素環基は、Ｒ^１２が表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ^１２の芳香族環および複素環の置換基と同様である。

以下に本発明で使用される一般式（Ｉ）で表されるレターデーション発現剤の具体例を示す。各例に示す複数のＲは、同一の基を意味する。Ｒの定義は具体例番号と共に式の後に示す。

（１）フェニル
（２）３−エトキシカルボニルフェニル
（３）３−ブトキシフェニル
（４）ｍ−ビフェニリル
（５）３−フェニルチオフェニル
（６）３−クロロフェニル
（７）３−ベンゾイルフェニル
（８）３−アセトキシフェニル
（９）３−ベンゾイルオキシフェニル
（１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
（１１）３−メトキシフェニル
（１２）３−アニリノフェニル
（１３）３−イソブチリルアミノフェニル
（１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１７）３−メチルフェニル
（１８）３−フェノキシフェニル
（１９）３−ヒドロキシフェニル

（２０）４−エトキシカルボニルフェニル
（２１）４−ブトキシフェニル
（２２）ｐ−ビフェニリル
（２３）４−フェニルチオフェニル
（２４）４−クロロフェニル
（２５）４−ベンゾイルフェニル
（２６）４−アセトキシフェニル
（２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２９）４−メトキシフェニル
（３０）４−アニリノフェニル
（３１）４−イソブチリルアミノフェニル
（３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３５）４−メチルフェニル
（３６）４−フェノキシフェニル
（３７）４−ヒドロキシフェニル

（３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３９）３，４−ジブトキシフェニル
（４０）３，４−ジフェニルフェニル
（４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
（４２）３，４−ジクロロフェニル
（４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（４４）３，４−ジアセトキシフェニル
（４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（４７）３，４−ジメトキシフェニル
（４８）３，４−ジアニリノフェニル
（４９）３，４−ジメチルフェニル
（５０）３，４−ジフェノキシフェニル
（５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
（５２）２−ナフチル

（５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
（５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
（５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（５７）３，４，５−トリクロロフェニル
（５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
（６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
（６４）３，４，５−トリメチルフェニル
（６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

（６７）フェニル
（６８）３−エトキシカルボニルフェニル
（６９）３−ブトキシフェニル
（７０）ｍ−ビフェニリル
（７１）３−フェニルチオフェニル
（７２）３−クロロフェニル
（７３）３−ベンゾイルフェニル
（７４）３−アセトキシフェニル
（７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（７７）３−メトキシフェニル
（７８）３−アニリノフェニル
（７９）３−イソブチリルアミノフェニル
（８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（８３）３−メチルフェニル
（８４）３−フェノキシフェニル
（８５）３−ヒドロキシフェニル

（８６）４−エトキシカルボニルフェニル
（８７）４−ブトキシフェニル
（８８）ｐ−ビフェニリル
（８９）４−フェニルチオフェニル
（９０）４−クロロフェニル
（９１）４−ベンゾイルフェニル
（９２）４−アセトキシフェニル
（９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（９５）４−メトキシフェニル
（９６）４−アニリノフェニル
（９７）４−イソブチリルアミノフェニル
（９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１０１）４−メチルフェニル
（１０２）４−フェノキシフェニル
（１０３）４−ヒドロキシフェニル

（１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（１０５）３，４−ジブトキシフェニル
（１０６）３，４−ジフェニルフェニル
（１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
（１０８）３，４−ジクロロフェニル
（１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
（１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
（１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（１１３）３，４−ジメトキシフェニル
（１１４）３，４−ジアニリノフェニル
（１１５）３，４−ジメチルフェニル
（１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
（１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
（１１８）２−ナフチル

（１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
（１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
（１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
（１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
（１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
（１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
（１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

（１３３）フェニル
（１３４）４−ブチルフェニル
（１３５）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１３６）４−（５−ノネニル）フェニル
（１３７）ｐ−ビフェニリル
（１３８）４−エトキシカルボニルフェニル
（１３９）４−ブトキシフェニル
（１４０）４−メチルフェニル
（１４１）４−クロロフェニル
（１４２）４−フェニルチオフェニル
（１４３）４−ベンゾイルフェニル
（１４４）４−アセトキシフェニル
（１４５）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１４６）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１４７）４−メトキシフェニル
（１４８）４−アニリノフェニル
（１４９）４−イソブチリルアミノフェニル
（１５０）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１５１）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１５２）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１５３）４−フェノキシフェニル
（１５４）４−ヒドロキシフェニル

（１５５）３−ブチルフェニル
（１５６）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１５７）３−（５−ノネニル）フェニル
（１５８）ｍ−ビフェニリル
（１５９）３−エトキシカルボニルフェニル
（１６０）３−ブトキシフェニル
（１６１）３−メチルフェニル
（１６２）３−クロロフェニル
（１６３）３−フェニルチオフェニル
（１６４）３−ベンゾイルフェニル
（１６５）３−アセトキシフェニル
（１６６）３−ベンゾイルオキシフェニル
（１６７）３−フェノキシカルボニルフェニル
（１６８）３−メトキシフェニル
（１６９）３−アニリノフェニル
（１７０）３−イソブチリルアミノフェニル
（１７１）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１７２）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（１７３）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１７４）３−フェノキシフェニル
（１７５）３−ヒドロキシフェニル

（１７６）２−ブチルフェニル
（１７７）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１７８）２−（５−ノネニル）フェニル
（１７９）ｏ−ビフェニリル
（１８０）２−エトキシカルボニルフェニル
（１８１）２−ブトキシフェニル
（１８２）２−メチルフェニル
（１８３）２−クロロフェニル
（１８４）２−フェニルチオフェニル
（１８５）２−ベンゾイルフェニル
（１８６）２−アセトキシフェニル
（１８７）２−ベンゾイルオキシフェニル
（１８８）２−フェノキシカルボニルフェニル
（１８９）２−メトキシフェニル
（１９０）２−アニリノフェニル
（１９１）２−イソブチリルアミノフェニル
（１９２）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１９３）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（１９４）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１９５）２−フェノキシフェニル
（１９６）２−ヒドロキシフェニル

（１９７）３，４−ジブチルフェニル
（１９８）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１９９）３，４−ジフェニルフェニル
（２００）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２０１）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２０２）３，４−ジメチルフェニル
（２０３）３，４−ジクロロフェニル
（２０４）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２０５）３，４−ジアセトキシフェニル
（２０６）３，４−ジメトキシフェニル
（２０７）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２０８）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２０９）３，４−ジフェノキシフェニル
（２１０）３，４−ジヒドロキシフェニル

（２１１）３，５−ジブチルフェニル
（２１２）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２１３）３，５−ジフェニルフェニル
（２１４）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（２１５）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（２１６）３，５−ジメチルフェニル
（２１７）３，５−ジクロロフェニル
（２１８）３，５−ジベンゾイルフェニル
（２１９）３，５−ジアセトキシフェニル
（２２０）３，５−ジメトキシフェニル
（２２１）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２２２）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（２２３）３，５−ジフェノキシフェニル
（２２４）３，５−ジヒドロキシフェニル

（２２５）２，４−ジブチルフェニル
（２２６）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２２７）２，４−ジフェニルフェニル
（２２８）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２２９）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（２３０）２，４−ジメチルフェニル
（２３１）２，４−ジクロロフェニル
（２３２）２，４−ジベンゾイルフェニル
（２３３）２，４−ジアセトキシフェニル
（２３４）２，４−ジメトキシフェニル
（２３５）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２３６）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２３７）２，４−ジフェノキシフェニル
（２３８）２，４−ジヒドロキシフェニル

（２３９）２，３−ジブチルフェニル
（２４０）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２４１）２，３−ジフェニルフェニル
（２４２）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（２４３）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（２４４）２，３−ジメチルフェニル
（２４５）２，３−ジクロロフェニル
（２４６）２，３−ジベンゾイルフェニル
（２４７）２，３−ジアセトキシフェニル
（２４８）２，３−ジメトキシフェニル
（２４９）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２５０）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（２５１）２，３−ジフェノキシフェニル
（２５２）２，３−ジヒドロキシフェニル

（２５３）２，６−ジブチルフェニル
（２５４）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２５５）２，６−ジフェニルフェニル
（２５６）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（２５７）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（２５８）２，６−ジメチルフェニル
（２５９）２，６−ジクロロフェニル
（２６０）２，６−ジベンゾイルフェニル
（２６１）２，６−ジアセトキシフェニル
（２６２）２，６−ジメトキシフェニル
（２６３）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２６４）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（２６５）２，６−ジフェノキシフェニル
（２６６）２，６−ジヒドロキシフェニル

（２６７）３，４，５−トリブチルフェニル
（２６８）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２６９）３，４，５−トリフェニルフェニル
（２７０）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（２７１）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（２７２）３，４，５−トリメチルフェニル
（２７３）３，４，５−トリクロロフェニル
（２７４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（２７５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（２７６）３，４，５−トリメトキシフェニル
（２７７）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２７８）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（２７９）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（２８０）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

（２８１）２，４，６−トリブチルフェニル
（２８２）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２８３）２，４，６−トリフェニルフェニル
（２８４）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（２８５）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（２８６）２，４，６−トリメチルフェニル
（２８７）２，４，６−トリクロロフェニル
（２８８）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（２８９）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（２９０）２，４，６−トリメトキシフェニル
（２９１）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２９２）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（２９３）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（２９４）２，４，６−トリヒドロキシフェニル

（２９５）ペンタフルオロフェニル
（２９６）ペンタクロロフェニル
（２９７）ペンタメトキシフェニル
（２９８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２９９）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３００）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３０１）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３０２）３−メトキシ−２−ナフチル
（３０３）１−エトキシ−２−ナフチル
（３０４）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３０５）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３０６）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（３０７）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３０８）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３０９）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３１０）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル

（３１１）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（３１２）２−メトキシ−１−ナフチル
（３１３）４−フェノキシ−１−ナフチル
（３１４）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（３１５）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（３１６）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（３１７）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（３１８）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（３１９）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（３２０）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（３２１）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（３２２）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル

（３２３）メチル
（３２４）エチル
（３２５）ブチル
（３２６）オクチル
（３２７）ドデシル
（３２８）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
（３２９）ベンジル
（３３０）４−メトキシベンジル

（３３１）メチル
（３３２）フェニル
（３３３）ブチル

少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として下記一般式（Ｖ）で表されるトリフェニレン化合物を好ましく用いることもできる。
一般式（Ｖ）

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
以下に一般式（Ｖ）で表される化合物について説明する。
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹が各々表す置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、

アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹各々表される置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。

以下に一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。

少なくとも３つの置換基を有する環状化合物は、一般式（IV）で表される化合物は、例えば特開２００３―３４４６５５号公報に記載の方法、一般式（Ｖ）で表される化合物は、例えば特開２００５―１３４８８４号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。

また、本発明のレターデーション発現剤と共にＵＶ吸収剤を併用してもよい。ＵＶ吸収剤の使用量はレターデーション発現剤に対して質量比で１０％以下が好ましく、３％以下がさらに好ましい。

［セルロースアシレートフィルムの製造］
前記セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレートフィルムを通常作製する方法であればいずれの方法においても製造することができる。しかし、溶融流延法では高温が必要とされるため、可塑剤、レターデーション発現剤等の添加剤が分解するという問題がある。このため本発明のフィルムはソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造することができる。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

一般的な方法でセルロースアシレート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。

冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアシレート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアシレートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することができる。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。

ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶媒を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。

可塑剤の添加量は、セルロースアシレートの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

（マット剤微粒子）
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１-１５８４１４号、特開平１-１２２４１９号、および、特開平１１-１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することもできる。例えば、特公昭６０-２７５６２号、特開昭６１-９４７２４号、特開昭６１-９４７２４５号、特開昭６１-１０４８１３号、特開昭６１-１５８４１３号、および、特開平６-１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６-１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。

また、二個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフイルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フイルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４-２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることができる。

セルロースアシレートフィルムの好ましい延伸倍率は、一方向の延伸倍率が１．０５〜１．５倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が０．９〜１．５倍に延伸されたものが好ましく、一方向の延伸倍率が１．０５〜１．４倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が１．０〜１．４倍に延伸されたものが更に好ましく、一方向の延伸倍率が１．０５〜１．３倍に延伸され、もう一方の延伸倍率が１．０〜１．３倍に延伸されたものが特に好ましい。延伸は縦延伸、横延伸を同時に行っても、別々に行ってもよく、ウェブを流延支持体から剥離する時から乾燥終了の間までに延伸することができる。縦横を同時に延伸する工程を有することが好ましい。これにより、光学的等方性に優れると共に、平面性の良好なセルロースアシレートフィルムを得ることが出来る。製膜工程のこれらの幅規制或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよく、２軸延伸テンターが特に好ましく用いられる。
延伸時の雰囲気温度は１１０℃以上１５０℃以下が好ましく、１１５℃以上１４０℃以下がさらに好ましく、１２０℃以上１３５℃以下が最も好ましい。
フィルムの幅手方向への延伸速度は、５０％／ｍｉｎ〜３００％／ｍｉｎが好ましく、１００％／ｍｉｎ〜４００％／ｍｉｎがさらに好ましく、１００％／ｍｉｎ〜３００％／ｍｉｎが最も好ましい。

本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。

［セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度］
セルロースアシレートフィルムのガラス転移温度の測定はＪＩＳ規格Ｋ７１２１記載の方法によりおこなうことができる。
本発明のセルロースアシレ-トフィルムのガラス転移温度は８０℃以上２００℃以下が好ましく、１００℃以上１７０℃以下がさらに好ましい。ガラス転移温度は可塑剤、溶剤等の低分子化合物を含有させることにより低下させることが可能である。

[フィルムの厚み]
また、セルロースアシレートフィルムの厚み（乾燥膜厚）は、１２０μｍ以下であり、２０〜１００μｍが好ましく、３０〜９０μｍがより好ましい。

［フィルムのレターデーション］

本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはWRが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（２１）及び数式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。
数式（２１）：

上記のＲｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
数式（２１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
数式（２２）：

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ〔λ〕は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ,ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ=〔ｎｘ−ｎｚ〕/〔ｎｘ−ｎｙ〕が更に算出される。

本発明のセルロースアシレートフィルムは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム及び光学補償シートとして好ましく使用することができる。セルロースアシレートフィルムの波長５９０nmの光に対する２５℃６０％ＲＨのＲｅは２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜９０ｎｍがさらに好ましく、４０〜８０ｎｍが最も好ましい。また、波長５９０nmの光に対する２５℃６０％ＲＨのＲthは７０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、８０ｎｍ〜２７０ｎｍがさらに好ましく、９０ｎｍ〜２５０ｎｍが最も好ましい。
Ｒｅ及びＲｔｈが上記範囲であると、ＶＡモード液晶表示装置の光学補償シートとして用いた場合に、色味、視野角、コントラストに優れ、好ましい。

[フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性]
本発明のセルロースアシレートフィルムの面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。
２５℃１０％ＲＨにおけるＲｅ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｅ値の差ΔＲｅ（Ｒｅ１０％ＲＨ−Ｒｅ８０％ＲＨ）が０〜２０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜１５ｎｍであり、さらに好ましくは０〜１０ｎｍである。
また、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈ（Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜２５ｎｍである。

［セルロースアシレートフィルムの含水率］
セルロースアシレートフィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は一定温湿度に２４時間放置した後、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（g）を試料重量（g）で除して算出したものである。
本発明のセルロースアシレートフィルムの２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率は６重量％以下が好ましく、４重量％以下がさらに好ましく、３．５重量％以下が最も好ましい。

[透湿度]
透湿度はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により、各試料の透湿度を測定し、面積１ｍ²あたり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）として算出する。
セルロースアシレートフィルムの透湿度は様々な方法により調節可能である。
セルロースアシレートフィルムに疎水性化合物を添加し、セルロースアシレートフィルムの含水率を低下させることにより透湿度を低下させることができる。また、透湿度は製膜時に搬送方向及び／あるいは幅方向に延伸し、セルロースアシレートの分子鎖の配向を密にすることによっても低下させることが可能である。
ＪＩＳ Ｚ ０２０８、条件Ａの方法で測定した本発明のセルロースアシレートフィルムの透湿度は、２０ｇ／ｍ^２以上２５０ｇ／ｍ²以下が好ましく、４０ｇ／ｍ²以上２２５ｇ／ｍ²以下がさらに好ましく、１００ｇ／ｍ²以上２００ｇ／ｍ²以下が最も好ましい。

[吸湿膨張係数]
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。額縁状の透過率上昇を防止するために、セルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが更に好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが最も好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したセルロースアシレートフィルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃、２０％ＲＨ（Ｒ0）の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ0 ）を測定した。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ1 ）にして、長さ（Ｌ1 ）を測定した。吸湿膨張係数は下式により算出した。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用した。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ1 -Ｌ0 ）／Ｌ0 ｝／（Ｒ1 -Ｒ0 ）

上記吸湿による寸度変化を小さくするには、製膜時の残留溶剤量を低くしセルロースアシレートフィルム中の自由体積を小さくすることが好ましい。残留溶剤を減らすための一般的手法は、高温かつ長時間で乾燥することであるが、あまり長時間であると、当然のことながら生産性が落ちる。従ってセルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤の量は、０．０１〜１質量％の範囲にあることが好ましく、０．０２〜０．０７質量％の範囲にあることがさらに好ましく、０．０３〜０．０５質量％の範囲にあることが最も好ましい。
上記残留溶剤量を制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することができる。
残留溶剤量は、一定量の試料をクロロフォルムに溶解し、ガスクロマトグラフ（ＧＣ１８Ａ、島津製作所（株）製）を用いて測定した。

また、上記吸湿による寸度変化を小さくする別な方法として、疎水基を有する化合物を添加することが好ましい。疎水基を有する素材としては、分子中にアルキル基やフェニル基のような疎水基を有する素材であれば特に制限はないが、前記のセルロースアシレートフイルムに添加する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これら好ましい素材の例としては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）などを挙げることができる。
これらの疎水基を有する化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１〜３０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜２０質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

[寸度変化率]
セルロースアシレートフィルムの寸度変化率はピンゲージにより一定温度での経時前後の寸度変化を測定し、下記式により算出することができる。Ｌ１を経時前の寸度、Ｌ２を経時後の寸度とし、
寸度変化率（％）＝[(Ｌ２−Ｌ１)/Ｌ１]×１００
本発明のセルロースアシレートフィルムの９０℃２４ｈｒ経時での寸度変化率は、−０．５％以上０．５％以下が好ましく、−０．３％以上０．３％以下がさらに好ましく、−０．２％以上０．２％以下が最も好ましい。

［セルロースアシレートフイルムの弾性率］
セルロースアシレートフィルムの弾性率は引っ張り試験により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムは幅方向あるいは流延方向の少なくとも１つの方向が１．０ＧＰａ以上６．０ＧＰａ以下が好ましく、２．０Ｇｐａ以上５．５ＧＰａ以下がさらに好ましく２．５Ｇｐａ以上５．０ＧＰａ以下が最も好ましい。

[光弾性]
本発明のセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は６０×１０^-８ｃｍ²／Ｎ以下が好ましく、２０×１０^-8ｃｍ²／Ｎがさらに好ましい。光弾性係数はエリプソメーターにより求めることができる。

[線熱膨張係数（ＣＴＥ）]
サンプルフィルムの流延方向（ＭＤ）および横方向（ＴＤ）に、５ｍｍ幅×２０ｍｍ長さのサンプル片を採取した。線熱膨張係数はＴＭＡ（Thermomechanical Analysis）（理学電械（株）製、ＴＭＡ８３１０）を用いて、１００ｍｌ／ｍｉｎ窒素雰囲気中に、フィルムの厚みに応じて２０ｍＮ〜２００ｍＮの範囲内で定引張荷重法にて測定を行った。測定温度は２０℃〜１４０℃の温度範囲、昇温速度は３℃／minとした。線熱膨張係数（ＣＴＥ）は下式に示すように２５℃〜８０℃の間の平均膨張係数として求めた。
ＣＴＥ＝（Ｌ ₈₀ −Ｌ ₂₅ ）／（Ｌ ₂₅ ×（Ｔ ₈₀ −Ｔ ₂₅ ）） （ｐｐｍ／℃）
（式中、Ｌ ₈₀ は８０℃におけるサンプル片の長さ、Ｌ ₂₅ は２５℃におけるサンプル片の長さ、Ｔ ₈₀ は８０℃の測定温度、Ｔ ₂₅ が２５℃の測定温度を表す。）
線熱膨張係数は、４０ｐｐｍ/℃以上７０ｐｐｍ/℃以下が好ましく、４０ｐｐｍ/℃以上６５ｐｐｍ/℃以下がさらに好ましく、４０ｐｐｍ/℃以上６０ｐｐｍ/℃以下が最も好ましい。

[フィルムのヘイズ]
本発明のセルロースアシレートフィルムのヘイズは０．０１〜０．８０％であることが好ましい。より好ましくは０．０１〜０．６０％であり、０．０１〜０．３０％であることがさらに好ましい。ヘイズが０．８０％以上になるとパネルに貼り合わせたときに明るさが低下するため好ましくない。
ヘイズの測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定した。

［セルロースアシレートフィルムの表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７-３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。
偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光子との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。

以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

（偏光板）
偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを少なくとも一方に用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

本発明のセルロスアシレートフィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板の評価を行なったところ、本発明のセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１°より大きいと、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して光抜けが生じることがわかった。この場合、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られないことになる。したがって、本発明のセルロースアシレートフィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１°以内、好ましくは０．５°以内であることが好ましい。

偏光板の単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴはＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用いた。測定では、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、単板、平行、直交透過率ともに、１０回測定の平均値を用いた。偏光板耐久性試験は（１）偏光板のみと（２）偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、２種類の形態で次のように行った。偏光板のみの測定は、２つの偏光子の間に光学補償膜が挟まれるように組み合わせて直交、同じものを２つ用意し測定した。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を光学補償膜がガラス側にくるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とする。偏光性能の好ましい範囲としては単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴの順でそれぞれ、４０．０≦ＴＴ≦４５、０、３０．０≦ＰＴ≦４０．０、ＣＴ≦２．０であり、より好ましい範囲としては４１．０≦ＴＴ≦４４．５、３４≦ＰＴ≦３９．０、ＣＴ≦１．３（単位はいずれも％）である。また偏光板耐久性試験ではその変化量はより小さいほうが好ましい。
また、本発明の偏光板は、６０℃９５％ＲＨに５００時間静置させたときの直交単板透過率の変化量ΔＣＴ（％）、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つ以上を満たしている。

（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
ここで、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値である。
この要件を満たすことによって偏光板の使用中あるいは保管中の安定性が確保される。

本発明のセルロースアシレートフィルム、該フィルムからなる光学補償シート、該フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（シャープ技報第８０号１１頁）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（月刊ディスプレイ５月号１４頁（１９９９年））が含まれる。
ＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。本発明の透過型液晶表示装置の一つの態様では、本発明の光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。

本発明の透過型液晶表示装置の別の態様では、液晶セルと偏光子との間に配置される偏光板の透明保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムからなる光学補償シートが用いられる。一方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）透明保護膜のみに上記の光学補償シートを用いてもよいし、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと偏光子との間の）二枚の透明保護膜に、上記の光学補償シートを用いてもよい。一方の偏光板のみに上記光学補償シートを使用する場合は、液晶セルのバックライト側偏光板の液晶セル側保護膜として使用するのが特に好ましい。液晶セルへの張り合わせは、本発明のセルロースアシレートフィルムはＶＡセル側にすることが好ましい。保護膜は通常のセルロースアシレートフィルムでも良く、本発明のセルロースアシレートフィルムより薄いことが好ましい。たとえば、４０〜８０μｍが好ましく、市販のＫＣ４ＵＸ２Ｍ（コニカオプト株式会社製４０μｍ）、ＫＣ５ＵＸ（コニカオプト株式会社製６０μｍ）、ＴＤ８０（富士写真フイルム製８０μｍ）等が挙げられるが、これらに限定されない。

以下に、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔実施例１〕

〔合成例１〕（セルロースアセテートプロピオネートの合成）
セルロース（綿花リンター）２００質量部に酢酸２００質量部を噴霧した後、２時間室温で保存した。別途、酢酸５１８質量部、無水酢酸７８３質量部、プロピオン酸６１１質量部、プロピオン酸無水物６８８質量部、硫酸１０質量部の混合物を調整し、−１０℃に冷却後に、前記前処理を行ったセルロースと反応容器内で混合した。
反応混合物の濃度を１０℃以下に１時間保持した後、反応温度を２７℃まで上昇させ、４．５時間反応させた。反応容器に５０％酢酸水溶液７３３質量部を添加し、内温を６０℃に上昇させて、３時間攪拌した。酢酸マグネシウム４水和物と酢酸と水とを等重量ずつ混合した溶液を１３１質量部添加し、３０分間攪拌した（中和工程）。２５％酢酸水溶液を激しく攪拌しながら反応液を混合してセルロース アセテートプロピオネートを沈殿させた後、７０℃の温水にて、洗浄液のｐHが６−７になるまで十分に洗浄を行った。更に、０．００２％水酸化カルシウム水溶液中で０．５時間攪拌する処理を行った後に脱液した。得られたセルロースアセテートプロピオネートは、７０℃で乾燥させた。１H−NMRおよびGPCの測定から、得られたセルロースアセテートプロピオネートはアセチル化度２．００、プロピオニル化度０．６０、全アシル置換度２．６０、数平均分子量１１２０００、重量平均分子量２９２０００であった。

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
＜セルロースアシレート溶液Ａの調製＞
上記で合成したセルロースアセテートプロピオネートおよび下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
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セルロースアシレート溶液Ａの組成
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アセチル化度２．０、プロピオニル化度０．６の
セルロースアセテートプロピオネート
１００．０質量部
トリフェニルフォスフェート（可塑剤） ６．０質量部
ビフェニルフォスフェート（可塑剤） ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
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＜マット剤溶液Ａの調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液Ａを調製した。
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マット剤溶液Ａの組成
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平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製） ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒） １２．７質量部
セルロースアシレート溶液Ａ ０．３質量部
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上記マット剤溶液Ａの１．３質量部を濾過後にセルロースアシレート溶液Ａを９２．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥し、フィルムを剥ぎ取った。１３０℃の雰囲気温度で残留溶媒含量１５％のフィルムをテンターを用いて延伸倍率１１５％、延伸速度１５０％/分で横延伸したのち、１３０℃で３０秒間保持した。延伸開始時の残留溶媒含量は１０％であった。その後、クリップを外して１２０℃で４０分間乾燥させ、光学補償フィルム１を製造した。作製されたセルロースアシレートフィルム１の残留溶媒量は０．１％であり、膜厚は８０μｍであった。

（セルロースアシレートフィルム２〜１０の作製）
アシル化剤の組成および部分加水分解の条件を変更することにより、合成例１と同様にして表１に記載のセルロースアシレートを合成した。更に、延伸倍率を表１の内容に変更した以外はセルロースアシレートフィルム１と同様にしてセルロースアシレートフィルム２〜１１を作製した。
表１

〔実施例２〕

実施例１で作製したセルロースアシレートフィルムの２５℃６０％RHでの５９０nmにおけるＲｅ、Ｒｔｈを“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて前述の方法により測定した。また、２５℃１０％RH、２５℃８０％RHでの５９０nmにおけるＲｅ、Ｒｔｈを“ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて測定し、ΔＲｅ（＝Ｒｅ１０％ＲＨ−Ｒｅ８０％ＲＨ）、ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）を求めた。また、セルロースアシレートフィルムのヘイズは２５℃６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いて測定した。熱膨張係数はＴＭＡを用いて測定した。結果を表２に示す。
表２

表２より、アシル基置換度を変化させ、延伸することで製造したセルロースアシレートフィルム１〜１０を比較すると、セルロースアシレートのアセチル基の置換度（以下Ｘ）とプロピオニル基またはブチリル基の置換度（以下Ｙ）の合計が２．８５を超えると面内レターデーションの発現性が低く、ＸとＹの合計が２．３０未満またはＹが０．１０未満ではレターデーションの湿度依存性が良好でなく、Ｙが０．５０を超えると線熱膨張係数を良好な範囲に保てないことがわかる。ＸとＹの合計が２．８５を超えたセルロースアシレートフィルム９、１０を比較すると、延伸倍率の上昇に伴い高いレターデーションを有するフィルムを作製できるが、ヘイズが大きくなるという問題が生じるため好ましくない。

〔実施例３〕

（セルロースアシレートフィルム１１の作製）

＜レターデーション発現剤Ａ溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション発現剤溶液Ａを調製した。
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レターデーション発現剤溶液Ａの組成
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レターデーション発現剤Ａ １４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ６７．２質量部
メタノール（第２溶媒） １０．０質量部
セルロースアシレート溶液Ａ １２．８質量部
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レターデーション発現剤Ａ（Ｅ−（３３４））：

実施例１のマット剤溶液Ａの１．３質量部と上記レターデーション発現剤溶液Ａの６．０質量部をそれぞれ濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらに実施例１のセルロースアシレート溶液Ａを９２．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥し、フィルムを剥ぎ取った。１３０℃の雰囲気温度で残留溶媒含量１５％のフィルムをテンターを用いて延伸倍率１５％、延伸速度１５０％/分で横延伸したのち、１３０℃で３０秒間保持した。延伸開始時の残留溶媒含量は１０％であった。その後、クリップを外して１２０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム１１を製造しこれを光学補償フィルム１とした。作製されたセルロースアシレートフィルム１１の残留溶媒量は０．１％であり、膜厚は８０μｍであった。

（セルロースアシレートフィルム１２〜１９の作製）
セルロースアシレートのアシル基置換度を変更した以外はセルロースアシレートフィルム１１と同様にしてセルロースアシレートフィルム１２〜１９を作製した。
表３

〔実施例４〕
(鹸化処理)

作製したセルロースアシレートフィルム１１を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルム１１の表面をケン化した。

（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。次に、作製したセルロースアシレートフィルム１１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片側に貼り付けた。セルロースアシレートフィルム１１の遅相軸および偏光膜の透過軸が平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を実施例４と同様にケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして、偏光板１を作製した。

〔実施例５〕
セルロースアシレートフィルム１１のかわりにセルロースアシレートフィルム１２〜１５を用いた以外は実施例４と同様にして偏光板２〜５を作製した。

〔実施例６〕
（液晶表示装置の作製）
市販のＶＡモード液晶テレビLC-37GE2（シャープ(株)製）の液晶セルのバックライト側の偏光板を剥がし、粘着剤を介して、上記で作製した偏光板１をセルロースアシレートフィルム１が液晶セル側となるように貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向であったため、バックライト側の偏光板の透過軸は左右方向とし、クロスニコル配置とした。このようにして液晶表示装置１を作製した。

〔実施例７〕
偏光板１のかわりに偏光板２〜５を用いた以外は実施例６と同様にして液晶表示装置２〜５を作製した。

（液晶表示装置の評価）
測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、暗室内で黒表示および白表示の輝度および色度を測定し、黒表示におけるカラーシフトおよびコントラスト比を算出した。その結果を表３に示した。黒表示におけるカラーシフトおよび視野角について下記に説明する。

［極角方向の黒カラーシフト］
黒表示において、液晶セルの法線方向から一対の偏光板の透過軸の中心線方向（方位角４５度）に視角を倒した場合の色度の変化Δｘ_θ、Δｙ_θは、極角０から６０度の間で常に下記数式（a）および（b）を満たすことが好ましい。

数式（a）： ０≦Δｘ_θ≦０．１
数式（b）： ０≦Δｙ_θ≦０．１
［式中、Δｘ_θ＝ｘ_θ−ｘ_θ０、Δｙ_θ＝ｙ_θ−ｙ_θ０であり、（ｘ_θ０、ｙ_θ０）は黒表示における液晶セル法線方向で測定した色度、（ｘ_θ、ｙ_θ）は黒表示における液晶セル法線方向から一対の偏光板の透過軸の中心線方向に極角θ度まで視角を倒した方向で測定した色度］

［方位角方向の黒カラーシフト］
また、液晶セルの法線方向から視認側偏光板の吸収軸方向に６０度まで視角を倒し、さらに前記方向を基点とし該法線を中心として３６０度回転させて色度を測定した場合における色度変化Δｘ_φ、Δｙ_φは方位角０から３６０度の間で常に下記数式（c）および（d）を満たすことが好ましい。

数式（c）： −０．０２≦Δｘ_φ≦０．１
数式（d）： −０．０２≦Δｙ_φ≦０．１
［式中、Δｘ_φ＝ｘ_φ−ｘ_φ０、Δｙ_φ＝ｙ_φ−ｙ_φ０であり、（ｘ_φ０、ｙ_φ０）は黒表示における液晶セルの法線方向から視認側偏光板の吸収軸方向に６０度まで視角を倒して測定した色度、（ｘ_φ、ｙ_φ）は黒表示における液晶セルの法線方向から視認側偏光板の吸収軸方向に６０度まで視角を倒し、該法線方向を中心として方位角φの方向から測定した色度］

［視野角］
方位角４５度・極角６０度におけるコントラスト比（ＣＲ＠φ＝４５／Θ＝６０）が大きいほど視野角が広いことを意味する。
黒表示におけるカラーシフトおよびコントラスト比測定結果を表４に示す。比較例として、偏光板を剥がす前のLC-37GE2の測定結果も示す。
表４

表４より、本発明の液晶表示装置はいずれも色味、視野角、コントラストに優れていることがわかる。

Claims (7)

1. アシル基がアセチル基とプロピオニル基またはブチリル基であり、アセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度の合計をＹとしたとき、下記式（Ａ）及び（Ｂ）を満たすセルロースアシレートを含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
   式（Ａ） ２．３０≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
   式（Ｂ） ０．１０≦Ｙ≦０．５０
2. 棒状または円盤状化合物からなるレターデーション発現剤を少なくとも一種含有していることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
3. 溶液流延法によって製造したことを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
4. 下記式（Ｃ）及び（Ｄ）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
   式（Ｃ） ３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１００ｎｍ
   式（Ｄ） ７０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ
   （式中、Ｒｅは波長５９０ｎｍの光に対する２５℃６０％ＲＨの該フィルムの面内レターデーション値であり、Ｒｔｈは波長５９０ｎｍの光に対する２５℃６０％ＲＨの該フィルムの厚み方向のレターデーション値である。）
5. 請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムを含むことを特徴とする光学補償シート。
6. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルムまたは請求項５に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
7. 液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも１枚の偏光板が請求項６に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。