JP2008102550A - 現像方法 - Google Patents

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公利 山口
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Abstract

【課題】キャリアの電気抵抗変動に対し安定なベタ画像現像能力を供給しかつ良好な画質の得られる現像方法を提供する。
【解決手段】感光体2と現像スリーブ1の最近接部における現像剤の充填密度を1.3〜2.0g/cm3とし、感光体2と磁気ブラシが接触する現像ニップ幅を2mm以下とし、且つ該現像剤に含まれるキャリアを磁性を有する芯材粒子と該粒子表面を被覆する樹脂層とから形成し、該キャリアの平均重量粒径を25〜45μmとし、該キャリア中の44μm未満の粒径の粒子を60重量%以上とし、22μm未満の粒径を7重量%以下とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、現像方法に関するものである。
乾式の電子写真方式には現像スリーブ、ブレードなどでトナーに帯電を付与する一成分現像方式と、トナーにキャリアを混合し、キャリアにより帯電を付与する二成分現像方式がある。二成分現像方式は、一成分現像方式に比べ、トナーの帯電特性が安定していることとトナー供給能力が高いことから主に中高速機に使用されている。
キャリアの役割は一般に帯電の付与とトナーを現像部へ搬送することである。しかしながらキャリア自体の特性が画像に大きな影響を与え、高画質化へ重要な役割を果たす。
キャリア特性の中でキャリアの電気抵抗は現像能力に大きな影響を与える。キャリア電気抵抗の低抵抗化は現像電極を近接したことと同等の効果があると言われ、抵抗が高いキャリアに比べ、低抵抗キャリアではベタ画像の現像能力が高い。そのため高いベタ現像能力が要求されるカラーコピー機では文字や細線の再現性が要求されるモノクロ機に比べ比較的低抵抗なキャリアが使用されている。
コートキャリアの電気抵抗はコート層材料及びキャリア芯材の電気抵抗値以外にコート層の膜厚に依存する。コート層を厚くすることによりキャリア電気抵抗は増加し、一定の層厚を超えるとキャリア電気抵抗値は一定になる。
キャリアの電気抵抗を調整したコートキャリアでも実機の使用中に現像機内部での攪拌などによりストレスをうけ、コート層の膜削れにより経時でキャリアの電気抵抗が変化する。このキャリアの電気抵抗の変動により、トナー現像量が経時で変化し、画質の変動が起こる。このような経時の現像能力の変化は画像品質の面で大きな問題となる。
この問題に対し、コート膜の高強度化により、キャリア抵抗の変動を少なくし、経時による現像能力の安定性を向上する方法が知られている。コート膜の高強度化を図る方法としては、例えば特開平6−110255号公報(特許文献1)、特開2001−117287号公報(特許文献2)、特開2001−117288号公報(特許文献3)、特開2002−229273号公報(特許文献4)などが知られている。しかしながら、最近では装置の小型化や複写速度の高速化に伴い、現像剤量の少量化及び現像スリーブ線速の高速化が進み、キャリアにかかるストレスが増大し、コート膜の削れに対し大変厳しいプロセス条件になっており、このような膜の強度を向上したキャリアを使用しても経時に対する現像能力の安定性は十分ではない。キャリアコート膜の強度を向上させて経時の現像能力安定性を確保するのではなく、膜削れによりキャリア抵抗が変動しても、現像能力が安定なプロセスが強く要求されている。
特開平6−110255号公報 特開2001−117287号公報 特開2001−117288号公報 特開2002−229273号公報
本発明者らは、現像ニップ部に現像剤を高密度に充填し、現像ニップ幅を狭めて小径かつ粒径分布幅の狭いキャリアを使用することで、キャリア抵抗による現像能力の差が小さく、異常画像のない良好な画像特性を得ることを見出した。
図1に現像剤を高濃度充填したプロセス、図2に従来プロセスのニップ部磁気ブラシの充填状態を示す。従来プロセスでは高密度充填したプロセスに比べ磁気ブラシの隙間が多く、隙間に面した現像可能なトナーは現像電界の弱い現像スリーブ1側(磁気ブラシの谷側)から先端まで広範囲にわたり、キャリア抵抗による現像能力の寄与が現れやすいと考えられる。一方、ニップ部に現像剤を高密度に充填した場合では磁気ブラシの隙間に面した現像可能なトナーが現像電界強度の強い感光体(潜像)2近傍に集中している。そのためキャリアの電気抵抗の低抵抗化を行わなくても、十分トナーが現像されやすく、キャリア抵抗による現像能力差が現れにくい。
しかしながら現像剤の高密度化をはかると穂跡によるハーフトーン部の濃度ムラがひどくなる。これは高密度化により磁気ブラシが感光体2に強く接触してしまい、感光体2に現像したトナーの一部をかきとることが原因である。
本発明者らは現像ニップ幅を2mm以下にしてかきとりが起こる領域を狭め、キャリア粒径を小径化することによりきめの細かい磁気ブラシを形成し、粒径分布幅を狭くして、均一な穂立ちにすることでニップ部に現像剤を高密度に充填した場合でもハーフトーン部の濃度ムラがない良好な画像が得られることを確認した。すなわち、キャリア抵抗変動に対し安定な現像能力かつ良好な画質が得られる現像方法、及び電子写真用キャリアが得られた。
そこで本発明の目的は、キャリアの電気抵抗変動に対し安定なベタ画像現像能力を供給しかつ良好な画質の得られる現像方法を提供することにある。
請求項1記載の発明では、感光体と現像スリーブの最近接部における現像剤の充填密度が1.3〜2.0g/cm3であり、感光体と磁気ブラシが接触する現像ニップ幅が2mm以下であり、且つ該現像剤に含まれるキャリアが磁性を有する芯材粒子と該粒子表面を被覆する樹脂層とからなり、該キャリアの重量平均粒径が25〜45μmであり、該キャリア中の44μm未満の粒径の粒子が60重量%以上であり、22μm未満の粒径の粒子が7重量%以下である現像方法を最も主要な特徴とする。
請求項2記載の発明では、請求項1記載の現像方法において、感光体と現像スリーブの最近接部の距離としての現像ギャップが0.4mm以下である現像方法を主要な特徴とする。
請求項3記載の発明では、請求項1または2記載の現像方法において、現像バイアス電圧として交流電圧を印加する現像方法を主要な特徴とする。
請求項4記載の発明では、請求項1〜3いずれかに記載の現像方法において、感光体と現像スリーブの最近接部における現像剤の充填密度が1.3〜1.7g/cmである現像方法を主要な特徴とする。
請求項5記載の発明では、請求項1〜4いずれかに記載の現像方法において、感光体速度(Vp)と現像スリーブ速度(Vr)の線速の比が1.2<(Vr/Vp)<2.2である現像方法を主要な特徴とする。
請求項6記載の発明では、請求項1〜5いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の44μm未満の粒径の粒子が75重量%以上である現像方法を主要な特徴とする。
請求項7記載の発明では、請求項1〜6いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の22μm未満の粒径の粒子が3重量%以下である現像方法を主要な特徴とする。
請求項8記載の発明では、請求項1〜7いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の22μm未満の粒径の粒子が1重量%以下である現像方法を主要な特徴とする。
請求項9記載の発明では、請求項1〜8いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア芯材の1000Oeの磁気モーメントが76〜100emu/gである現像方法を主要な特徴とする。
請求項10記載の発明では、請求項1〜9いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリアの嵩密度が2.2g/cm3以上である現像方法を主要な特徴とする。
以上、説明したように本発明によれば、現像ニップ部の現像剤の密度を1.3〜2.0g/cm3の範囲に規定することでキャリア抵抗による現像能力差が少なく、経時による現像能力の変動が少ない安定した現像プロセスが提供され、また現像ニップ幅を2mm以下にしてキャリア平均重量径を25〜44μmで、44μm未満の粒子を60重量%以上含有し、22μm未満の粒子を7重量%以下にすることで、上記のようなニップ部の現像剤充填密度を高めても、穂跡などの異常画像のない良好な画像特性を得ることができる現像方法を提供することができた。
本発明の現像方法では、現像ニップ部の現像剤の充填密度が1.3〜2.0g/cm3である。ここで言う現像剤ニップ部の現像剤充填密度とは、汲み上げ量を現像ギャップ(感光体2と現像スリーブ1の最近接部の距離)で割った値である。ここで汲み上げ量とは使用されるプロセススピードで感光体2、現像スリーブ1を60秒攪拌させた後、マシンを強制的に停止させドクターブレードを通過し、現像領域に入る前の1cm2あたりの、現像剤のグラム数とする。
現像ニップ部の現像剤充填密度としては1.3〜2.0g/cmが望ましく、より好ましくは1.3〜1.7g/cmである。1.3g/cm未満では経時による現像能力の変化が大きく、1.3g/cm以上にすることで経時による現像能力の変化が小さくなる。また2.0g/cmを超えると現像能力が低下しかつハーフトーン部にひどい濃度むらが生じる。
また1.3g/cm未満の場合は磁気ブラシの隙間が多いことが確認され、増加し、図2に示す磁気ブラシのように現像可能なトナーは現像電界の強い最先端だけでなく、現像電界の弱いスリーブ寄りにも存在し、キャリア抵抗による現像能力差があらわれやすいと考えられる。
しかしながら、現像剤充填密度を1.3g/cm3以上にすると図1のように磁気ブラシの隙間が埋まり現像可能なトナーが現像電界の強い感光体2近傍に集中し、現像されやすくなると考えられる。そのため抵抗の高いキャリアを使用してもトナーは十分現像されやすく、低抵抗キャリアとの現像能力の差が少なくなったと考えられる。しかし、現像剤を2.0g/cm3を超えて密に充填すると、現像剤が密につまり過ぎて磁気ブラシの隙間がほとんどなくなり、現像能力が低下し、ハーフトーン部の濃度むらがひどくなると考えられる。
さらに、現像ギャップは0.4mm以下であることが好ましい。ニップ部に現像剤を高密度に充填するにはドクターギャップを調整し、磁気ブラシの汲み上げ量を上げる方法と現像ギャップを狭くする方法がある。
図3に汲み上げ量を上げることにより高密度化を図った磁気ブラシの充填状態を示しており、図1と同じ現像剤充填密度の模式図である。現像ギャップの狭い図1の方が現像電界が強いため、汲み上げ量を上げて高密度化を行った図3の場合に比べキャリア抵抗による現像能力差が小さい。
さらに現像バイアス電圧として交流電圧を印加することが望ましい。交流を印加することによりキャリア表面からのトナーの脱離が促進され、印加しない場合に比べトナーの現像能力が向上し、キャリア抵抗による現像能力差が少なくなる。
上記のように現像ニップ部の現像剤充填密度を高くすることでキャリア抵抗の変動に対して現像能力差が小さくなる。しかしながら高密度化したことによりハーフトーン部の濃度むらが顕著に発生し、異常画像がでる。本発明の充填密度である1.3〜2.0g/cmでも濃度むらが出る。このような濃度むらは現像ニップ部に現像剤を高密度に充填したことにより感光体2に磁気ブラシが強く接触し、感光体2上に現像されたトナーの一部をかきとることが原因であると考えられる。
そこでかきとりが起きている領域を狭めるため現像ニップ幅の狭幅化を検討した。その結果、ニップ幅を2mm以下にすることでハーフトーン部の濃度ムラが大きく改善がはかられたものの、以前として濃度むらが大きい部分が一部にみられた。
そこで、キャリアを小径化し、キャリア粒径分布幅を狭くすることできめが細かく、均一な磁気ブラシの検討を行った。磁気ブラシを細かくしたことにより、かきとりが起きた場合でもその穂跡が目立たなくなり、また均一な磁気ブラシにしたことにより、かきとりが均一に行われ、濃度むらが目立たなくなったと考えられる。
本発明のキャリアにおいてその重量平均粒径は25〜45μmである。この範囲より大きいと磁気ブラシが粗くなり、穂跡による濃度むらが目立つようになる。さらに44μmより小さな粒径を有する粒子の含有割合は60重量%以上で、好ましくは75重量%以上である。60重量%未満だと磁気ブラシが粗くなり、穂跡が目立ち、また粒径分布が広いことから磁気ブラシが不均一になり濃度むらが目立つ。しかし、60重量%以上にすることによりそのような穂跡や濃度むらが改善され、特に75重量%以上にすることによりさらに改善される。
さらに22μmより小さい粒径を有する割合が7重量%以下である。22μmより小さい粒径を有する割合が7重量%より大きいと磁気ブラシの穂が不均一になりハーフトーン部の濃度むらが目立つ。
上記のような小径のキャリアを使用するとキャリア1個あたりの磁気モーメントが小さいためキャリア付着が問題になる。キャリア付着は感光体2上の画像部又は地肌部にキャリアが付着してしまう現象で、ドラムや定着ローラーの傷の原因になり異常画像を引き起こす。特にキャリア付着を起こしやすいのはキャリア粒径22μm以下のキャリア粒子であることを確認した。その22μmより小さな粒子の割合が上記の7重量%以下の場合ではキャリア付着のレベルは問題にならない程度であるが、3重量%以下にすることによりキャリア付着はさらに改善され、さらに好ましくは1重量%以下である。
さらに芯材の磁気モーメントが1000Oe(≒79×1000A/m)において76emu/g以上である時にキャリア付着が大幅に改善された。しかしながら100emu/gより大きくなると磁気ブラシが粗くなり、やはり穂跡が目立つようなるので芯材は1000Oeの磁気モーメントとしては76〜100emu/gであることが望ましい。
上記の磁化の測定は以下のようにして測定した。B−Hトレーサー(BHU−60/理研電子(株)製)を使用し、円筒のセルにキャリア芯材粒子1.0gを詰めて装置にセットする。磁場を徐々に大きくし3000Oe(≒79×3000A/m)まで変化させ、次に徐々に小さくして零にした後、反対向きの磁場を徐々に大きくし3000Oeとする。更に徐々に磁場を小さくして零にした後、最初と同じ方向に磁場をかける。このようにしてB−Hカーブを図示し、その図より1000Oeの磁気モーメントを算出する。
さらにキャリアの嵩密度は2.2g/cm以上であることが望ましい。嵩密度が小さい芯材は多孔性で表面の凹凸が大きい。多孔性の場合は1000Oeの磁気モーメントが大きくても1粒子当たりの実質的な磁気モーメントが小さくなるためキャリア付着に対して不利であり、凹凸が大きい場合には場所によりコート樹脂の厚みが違い、帯電量及び抵抗に不均一が生じやすく耐久性、キャリア付着に影響を与える。
キャリア素材としては特に制限されないが、従来公知の磁性粒子が使用できる。例えばマグネタイト、ヘマタイト、Li系フェライト、Cu−Zn系フェライト、Mn−Zn系フェライト、Ni−Zn系フェライト、Baフェライト、鉄、コバルト、ニッケルなどが挙げられる。
本発明においてより好ましく用いられる1000Oeの磁場を印加した時の磁気モーメントが76emu/g〜100emu/gの範囲内の芯材粒子としてはマグネタイト系、Mn−Mg−Sr系、Mn系フェライトなどである。
本発明においてさらに好ましくは感光体と現像ローラーの線速比(Vr/Vp)が1.2〜2.2である。線速比が2.2を超えると、潜像を通過する磁気ブラシが多いためかきとりも多く、問題ない程度ではあるがやはり穂跡が目立ってくる。逆に線速比が1.2未満の場合は、かきとりによる穂跡は目立たないが、問題ない程度ではあるが画像濃度が出にくい。
本発明において、さらに好ましくはトナーの帯電量が30μC/g以下である。30μC/gを超えると、カウンターチャージが大きくなり、問題ない程度ではあるがキャリア付着が悪化する。また帯電量の下限については帯電量が低いと弱帯電のトナーが非画像部へ現像されるいわゆる地肌カブリなどの異常画像を引き起こすことから5μC/g程度は必要である。なお、帯電量の測定はブローオフ法により行った。
キャリアコート層としても特に制限はされず従来公知のものが使用できる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂;ポリスチレン、アクリル(例えばポリメチルメタクリレート)、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテル、ポリビリケトン等のポリビニル及びポリビニリデン系樹脂;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;オルガノシロキサン結合からなるシリコーン樹脂又はその変成品(例えばアルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン等による変成品);ペルヒドロポリシラザン又はその変性品(部分酸化品を含む);ポリテトラフルオロエチレン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン等の弗素樹脂;ポリアミド;ポリエステル;ポリウレタン;ポリカーボネート;ユリア樹脂;メラミン樹脂;ベンゾグアナミン樹脂;エポキシ樹脂等が挙げられる。中でも本発明の構成要件を満たすために好ましいコート層材料としては、シリコーン樹脂又はその変成品、弗素樹脂、特にシリコーン樹脂又はその変成品がより好ましい。
シリコーン樹脂としては、従来から知られているいずれのシリコーン樹脂であってもよく、下記式(化1)で示されるオルガノシロキサン結合のみからなるストレートシリコーン及びアルキド、ポリエステル、エポキシ、ウレタンなどで変成したシリコーン樹脂が挙げられる。
上記式中、R1は水素原子、炭素原子1〜4のアルキル基又はフェニル基、R2及びR3は水素基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、炭素原子数2〜4のアリケニル基、炭素原子数2〜4のアルケニルオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エチレンオキシド基、グリシジル基又は下記式(化2)で示される基である。
上記式中R4、R5はヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、炭素原子数2〜4のアルケニル基、炭素原子数2〜4のアルケニルオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、k、l、m、n、o、pは1以上の整数を示す。
上記各置換基は未置換のもののほか、例えばアミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、メルカプト基、アルキル基、フェニル基、エチレンオキサイド基、グリシジル基、ハロゲン原子のような置換基を有してもよい。
またコート液には抵抗調整のために添加物を加えても良い。例えば抵抗調整の添加物としては、従来公知のカーボン、Al等の金属紛、各種の方法で作られたSnO2及び種々の元素をドープしたSnO2、ホウ化物例えばTiB2、ZnB2、MoB2、炭化ケイ素、及び導電性高分子などが挙げられる。
また、キャリアコア材粒子及び/又はコート層中には、これらの抵抗制御剤の分散性や密着性を向上する目的でシランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤を助剤として添加しても良い。
本発明で用いられるシランカップリング剤の例としては、下記(化3)式で示される化合物が挙げられる。
但し、Xはけい素原子に結合している加水分解基でクロル基、アルコキシ基、アセトキシ基、アルキルアミノ基、プロペノキシ基などがある。Yは有機マトリックスと反応する有機官能基でビニル基、メタクリル基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカプト基などがある。Rは炭素数1〜20のアルキル基又はアルキレン基である。
このシランカップリング剤の中でも、特に負帯電性を有する現像剤を得るにはYにアミノ基を有するアミノシランカップリング剤が好ましく、正帯電性を有する現像剤を得るにはYにエポキシ基を有するエポキシシランカップリング剤が好ましい。
以下、本発明を製造例、実施例、比較例を用いて説明する。以下において「部」は重量部を表す。
表1にキャリア製造例の特性をまとめたものを示す。
「キャリア製造例1」
使用コート液:ストレートシリコーン樹脂(固形分:20%相当) 630部
トルエン 630部
アミノシラン 6部
カーボン 3部
上記に示すシリコーン樹脂溶液を流動床型コーティング装置を使用して、芯材粒子1(Cu−Zn系フェライト、重量平均粒径35μm、44μm未満の粒子:60重量%以上、22μm未満の粒子:7重量%以下)5kgの各粒子上に、100℃の雰囲気下で30g/minの割合で塗布し、塗布後は電気炉で250℃、120分の焼成を行い、膜厚0.5μmのコートキャリアAを得た。
「キャリア製造例2」芯材粒子2(22μm未満の粒子の割合が3重量%以下を除いては芯材粒子1と同じ)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアBを得た。
「キャリア製造例3」芯材粒子3(22μm未満の粒子の割合が1重量%以下を除いては芯材粒子1と同じ)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアCを得た。
「キャリア製造例4」芯材粒子4(44μm未満の粒子の割合が75重量%以上を除いては芯材粒子1と同じ)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアDを得た。
「キャリア製造例5」芯材粒子5(44μm未満の粒子の割合が50重量%以上、且つ22μm未満の粒子の割合が10重量%以上の点以外は芯材粒子1と同じ)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアEを得た。
「キャリア製造例6」芯材粒子6(Mnフェライト、1000Oeの磁気モーメント82emu/g、嵩密度2.33、重量平均粒径35μm、44μm未満の粒子:60重量%以上、22μm未満の粒子:7重量%以下)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアFを得た。
「キャリア製造例7」芯材粒子7(マグネタイト、1000Oeの磁気モーメントが80emu/g、嵩密度2.36、重量平均粒径35μm、44μm未満の粒子:60重量%以上、22μm未満の粒子:7重量%以下)を使用する以外は製造例1と全く同様にキャリアGを得た。
「キャリア製造例8」コート液のアミノシアラン量を6部から4.5部に変えた以外はキャリア製造例1と全く同様にキャリアHを得た。
(評価方法)上記コートキャリアとimagio4000用黒トナーを重量比で93対7にして、総重量が700gになるように混合攪拌し現像剤を作製する。上記作製現像剤はimagio4000カラー複写機現像ユニットに充填し、imagio4000カラー改造複写機を使用し、評価条件により現像ギャップ、現像ニップ幅、汲み上げ量の調整を行った。
現像ニップ幅の調整方法としては現像スリーブ1の感光体2に最近接した磁極(主極と呼ぶ)の半値幅を狭くすることで行った。ここで、半値幅とは、法線方向の磁力分布曲線の最高法線磁力(頂点)或いはピーク磁束の半分の値を示す部分の角度幅のことである。それぞれ半値幅が38度と16度の現像スリーブ1を使用した(16度の方がニップ幅が狭くなる)。ニップの幅は以下に示す方法で測定した。現像ユニットを画像形成装置に搭載し、現像剤の攪拌を実機内で行い、再び現像ユニットをとりだす。感光体と接触した部分は接触により磁気ブラシが倒され、磁気ブラシに感光体と接触した痕跡が残る。この部分の長さをニップ幅として測定した。
汲み上げ量の調整はドクターギャップを調整することにより行った。
(i)経時によるキャリア抵抗の変化
初期及びランニング後のキャリア抵抗を測定した。電極間距離2mm、表面積2×4cmの2枚の電極を収容したフッ素樹脂製容器からなるセルにキャリアを充填し、両極間に500Vの直流電圧を印加し、ハイレジスタンスメーター4329A(4329A+LJK 5HVLVWDQFH 0HWHU;横川ヒューレットパッカード株式会社製)にて直流抵抗を測定し、電気抵抗率LogR(Ωcm)を算出した。
(ii)経時による画像濃度の変化
現像剤の経時の現像能力の変動を調べるためにベタ画像の画像濃度の測定を行った。コダック製グレースケールの複写を行い、もっとも明度の低いベタ画像部の中心をX−Rite938分光側色濃度計で5箇所測定し平均値を算出した。画像濃度は初期と100Kランニング後で画像出しを行い測定した。
(iii)ハーフトーン部の濃度むら評価
コダック製グレースケールの複写を行い、明度の高い方から5段目のハーフトーン画像部の濃度ムラを初期画像で評価した。評価方法はランク見本を作製し、目視により行った。ランク5は濃度ムラが見られず特に良好な画像で、ランク1は濃度むらがひどい画像であり、ランク3が実用上問題にはならいが濃度むらが若干見られる画像である。
ランク5:濃度ムラが見られず特に良好な画像
ランク4:濃度ムラがほとんど見られず良好な画像
ランク3:濃度ムラが若干みられるが実用上問題のない画像
ランク2:濃度ムラが目立つ所が部分的に見られる画像
ランク1:濃度ムラがひどい画像
(iv)キャリア付着評価方法
転写前のドラム上に付着したキャリアを観察することで評価した現像バイアス(Vb)をDC=−500Vに固定し、帯電電位(Vd)を−650V、−800V、−950Vと変化させ、地肌部の現像を行った。紙に転写が完了する前に電源を落とし、感光体2をとりだして付着したキャリアの量を観測した。ここで、Vb−Vdは地肌ポテンシャルのことである。この値が大きいほどキャリア付着が起きやすい。今回の評価では様々な条件を想定し、かなり強い地肌ポテンシャルまで印加した。各地肌ポテンシャルに対するキャリア付着の様子から以下のようなランク付けを行った。なお、キャリア付着の評価は全て初期の現像剤で行った。
ランク5:強い地肌ポテンシャルを印加してもキャリア付着が起きにくく、キャリア付着の余裕度が極めて高い
ランク4:強い地肌ポテンシャルを印加すると若干キャリア付着は見られるが、キャリア付着に対して余裕度が高い
ランク3:強い地肌ポテンシャルをかけるとキャリア付着はやや見られるが、通常の使用では十分耐えうるキャリア付着余裕度
ランク2:通常の使用の地肌ポテンシャルではキャリア付着は少ないが強い地肌ポテンシャルを印加した場合に急激に増加し、キャリア付着余裕度が劣る
ランク1:弱い地肌ポテンシャルでもキャリア付着が起きやすく、通常の使用で問題となり、キャリア付着余裕度が劣悪
実施例、比較例をまとめたものを表2に示す。
「実施例1」
キャリアAを使用し、現像剤ニップ部の現像剤充填密度が1.5g/cm3、現像剤汲み上げ量0.06g/cm2、現像ギャップが0.4mm、線速比(Vr/Vp)が2.4のプロセスで、主極の半値幅が16度の現像スリーブ1を使用した。この実験条件で現像ニップ幅を測定したところ2mmであった。また、現像スリーブ上の現像剤を採取し、ブローオフ法により帯電量の測定を行ったところ32μC/gであった。
「比較例1」
主極の半値幅が38度の現像スリーブ1を使用した以外は、実施例1と同じ条件で評価を行った。現像ニップ幅が4mmに広がったが、それ以外は実施例1と全く同じである。実施例1と比較するとハーフトーン部の濃度ムラとキャリア付着が大変悪いことがわかる。
「比較例2」
実施例1と同じキャリアAを使用し、汲み上げ量は0.06g/cm2と同一で、現像ギャップを0.6mmに広げて現像剤充填密度を1.00g/cm3に下げて評価実験を行った。実施例1とベタ画像の画像濃度の変化を比較すると、実施例1では100Kランニングによる画像濃度の変化量が0.09であるのに対し、比較例2では変化量が0.34と比較例2の方が経時による現像能力の変化が大きいことがわかる。
「比較例3」
実施例1と同じキャリアAを使用し、ドクターギャップを調整することにより汲み上げ量を0.068g/cm2に上げ、現像ギャップ幅を0.3mm狭めて現像剤充填密度を2.2g/cm3に上げた。実施例1とべた画像の画像濃度変化を比較すると比較例3の方が経時による画像濃度の変化が若干少ない。しかしながら、べた画像濃度自体は下がり、ハーフトーン部の濃度むらが非常に悪い。
「実施例2」
実施例1と同じキャリアAを使用し、現像ギャップを0.55mmに広げ、汲み上げ量を0.083g/cmにすることで、実施例1とほぼ同じ現像剤充填密度1.51g/cmにしたプロセスで評価実験を行った。実施例1と比較すると、現像剤充填密度は同一であるが現像ギャップの狭い実施例1の方がべた画像濃度の変動が小さいことがわかる。
「実施例3」
実施例1と同一のキャリアAを使用し、現像バイアス電圧として交流電圧を印加しないことだけが異なるプロセスにおいて評価実験を行った。実施例1と比較すると、比較例の方がべた画像の画像濃度が薄く、経時による画像濃度の変動も大きいことがわかる。
「実施例4」
実施例1で使用されているキャリアAと22μm未満の粒子の割合を3重量%以下に少なくしたことだけが違うキャリアBを使用して、実施例1と同様の現像プロセス条件で評価実験を行った。実施例1と比較すると、実施例4の方がハーフトーン部の濃度ムラがより改善されキャリア付着の余裕度も改善されている。
「実施例5」
実施例1で使用されているキャリアAと22μm未満の粒子の割合を1重量%以下に少なくしたことだけが違うキャリアCを使用して、実施例1と同様の現像プロセス条件で評価実験を行った。濃度ムラ、キャリア付着の余裕度に対して大変良好な結果が得られ、実施例1、4と比べより改善されていることがわかる。
「実施例6」
実施例1で使用されているキャリアAと比較して44μm未満の粒子の割合が75重量%以上に増やしたことだけが違うキャリアDを使用して、実施例1と同一の現像プロセス条件で評価実験を行った。実施例1と比較するとハーフトーン部の濃度ムラがさらに改善され、経時によるべた画像の画像濃度変化も若干小さいことがわかる。
「比較例4」
実施例1で使用されているキャリアAと比較して平均重量径は35μmで同一であるが44μm未満の粒子の割合が50重量%以上、且つ22μm未満の粒子の割合が10重量%以上という点が違い、キャリアAに比べ粒径分布の広いキャリアEを使用して、実施例1と同じ現像プロセス条件で評価実験を行った。実施例1と比較すると、ハーフトーン部の濃度ムラ、キャリア付着ともに非常に悪く、経時によるべた画像濃度の変化が大きいことがわかる。
「実施例7」
実施例1で使用されたCu−Zn系フェライトではなく、Mn系フェライトの芯材のキャリアFを使用して実施例1と同様の現像プロセスで評価実験を行った。キャリアFはキャリアAに比べ1000Oeの磁気モーメントが高く、嵩密度も高い。実施例1と比較するとキャリア付着ランクが向上し、キャリア付着の余裕度が上がっている。
「実施例8」
実施例1で使用されたCu−Zn系フェライトではなく、マグネタイト芯材のキャリアGを使用して実施例1と同様の現像プロセスにおいて評価実験を行った。キャリアGの方が1000Oeの磁気モーメントが大きく、嵩密度も高い。キャリア付着ランクが5と非常に良く、実施例1に比べキャリア付着の余裕度が上がっている。
「実施例9」
実施例1と同一のキャリアAを使用し、感光体と現像スリーブの線速比を1.1に下げた以外は実施例1と全く同様のプロセスにおいて評価実験を行った。初期の画像濃度が1.46であり、実施例1と比較すると画像濃度が低下している。
「実施例10」
実施例1と同一のキャリアAを使用し、線速比(Vr/Vp)を1.8に下げた以外は実施例1と全く同様のプロセスにおいて評価実験を行った。実施例1ではハーフトーン部の濃度ムラのランク付けが3.0であったのに対し、実施例10では3.5に上昇している。
「実施例11」
実施例1で使用されたキャリアAに比べコート層のアミノシラン量が少ないキャリアHを使用した以外は、実施例1と全く同様のプロセスで評価実験を行った。帯電量は実施例1では32μC/gであったのに対し、実施例11では27.5μC/gであった。実施例1と比較するとキャリア付着の余裕度が向上している。
現像ニップ部に現像剤を高密度に充填した状態を示す図である。 従来プロセスのニップ部磁気ブラシの充填状態を示す図である。 汲み上げ量を上げることにより高密度化を図った磁気ブラシの充填状態を示す図である。 本発明の実施に有用な画像形成装置の一例を示す図である。
符号の説明
(図1、図2、図3において)
1 現像スリーブ
2 感光体(潜像)
(図4において)
1 書きこみ部
2 感光体
3 中間転写ベルト
4 紙転写ローラ
5 帯電器
6 現像ユニット
7 定着ユニット

Claims (10)

  1. 感光体と現像スリーブの最近接部における現像剤の充填密度が1.3〜2.0g/cm3であり、感光体と磁気ブラシが接触する現像ニップ幅が2mm以下であり、且つ該現像剤に含まれるキャリアが磁性を有する芯材粒子と該粒子表面を被覆する樹脂層とからなり、該キャリアの重量平均粒径が25〜45μmであり、該キャリア中の44μm未満の粒径の粒子が60重量%以上であり、22μm未満の粒径の粒子が7重量%以下であることを特徴とする現像方法。
  2. 請求項1記載の現像方法において、感光体と現像スリーブの最近接部の距離としての現像ギャップが0.4mm以下であることを特徴とする現像方法。
  3. 請求項1または2記載の現像方法において、現像バイアス電圧として交流電圧を印加することを特徴とする現像方法。
  4. 請求項1〜3いずれかに記載の現像方法において、感光体と現像スリーブの最近接部における現像剤の充填密度が1.3〜1.7g/cm3であることを特徴とする現像方法。
  5. 請求項1〜4いずれかに記載の現像方法において、感光体速度(Vp)と現像スリーブ速度(Vr)の線速の比が1.2<(Vr/Vp)<2.2であることを特徴とする現像方法。
  6. 請求項1〜5いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の44μm未満の粒径の粒子が75重量%以上であることを特徴とする現像方法。
  7. 請求項1〜6いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の22μm未満の粒径の粒子が3重量%以下であることを特徴とする現像方法。
  8. 請求項1〜7いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア中の22μm未満の粒径の粒子が1重量%以下であることを特徴とする現像方法。
  9. 請求項1〜8いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリア芯材の1000Oeの磁気モーメントが76〜100emu/gであることを特徴とする現像方法。
  10. 請求項1〜9いずれかに記載の現像方法で使用される、キャリアの嵩密度が2.2g/cm3以上であることを特徴とする現像方法。
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