JP2008090142A - 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置 - Google Patents

修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008090142A
JP2008090142A JP2006272799A JP2006272799A JP2008090142A JP 2008090142 A JP2008090142 A JP 2008090142A JP 2006272799 A JP2006272799 A JP 2006272799A JP 2006272799 A JP2006272799 A JP 2006272799A JP 2008090142 A JP2008090142 A JP 2008090142A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paste
correction liquid
correction
application mechanism
application
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006272799A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsunori Ueda
勝令 上田
Naoya Takeuchi
直哉 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTN Corp
Original Assignee
NTN Corp
NTN Toyo Bearing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NTN Corp, NTN Toyo Bearing Co Ltd filed Critical NTN Corp
Priority to JP2006272799A priority Critical patent/JP2008090142A/ja
Publication of JP2008090142A publication Critical patent/JP2008090142A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

【課題】修正液容器を容易に交換することができ、塗布針によって修正液容器が引き上げられるのを防止することが可能な修正液塗布機構を提供する。
【解決手段】このペースト塗布機構4では、ペーストタンク27を円筒形に形成し、回転テーブル26の表面にペーストタンク27と略同径の穴40を凹設し、ペーストタンク27の外周面の下部に雄ネジ部41を形成し、穴40の内周面に雌ネジ部42を形成し、ペーストタンク27の下部を穴40に螺合する。したがって、ペーストタンク27を回転テーブル26に迅速かつ容易に固定できる。
【選択図】図3

Description

この発明は修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置に関し、特に、基板の欠陥部に修正液を塗布する塗布針などを備えた修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置に関する。
従来より、プラズマディスプレイのようなフラットパネルディスプレイの電極に発生したオープン欠陥部(断線部)に修正ペースト(修正液)を塗布して修正するためペースト塗布機構が使用されている。このペースト塗布機構では、複数のペーストタンクを回転テーブル上に配列し、回転テーブルを回転させて所望のペーストタンクを塗布針の下に位置させ、塗布針を上下動させて塗布針の先端部に所望の修正ペーストを付着させ、さらに回転テーブルを回転させて切欠部を塗布針の下に位置させ、塗布針を上下動させて塗布針の先端部に付着した修正ペーストを欠陥部に塗布する(たとえば特許文献1,2参照)。
特開平8−292442号公報 特開平9−236933号公報
このようなペースト塗布機構では、ペーストの消費期限がくるたびペーストタンクを交換する必要があるので、容易に交換できるように、ペーストタンクは回転テーブルに特に固定されていない。
しかし、修正ペーストの粘度が高い場合、塗布針をペーストタンク内の修正ペーストに浸けて引き上げる際、修正ペーストが媒体となり、ペーストタンクまでを引き上げてしまうという問題があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、修正液容器を容易に交換することができ、塗布針によって修正液容器が引き上げられるのを防止することが可能な修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置を提供することである。
この発明に係る修正液塗布機構は、基板の欠陥部に修正液を塗布する塗布針と、修正液を収容する修正液容器と、修正液容器を載せて移動するテーブルと、塗布針を上下動させる駆動手段とを備えた修正液塗布機構において、修正液容器の下部を収容するための穴をテーブルの表面に凹設し、修正液容器が穴から抜けるのを防止する保持手段を設けたことを特徴とする。
好ましくは、保持手段は、修正液容器の下部を穴に螺合するためのネジ部を含む。
また好ましくは、保持手段は、修正液容器に設けられた錘を含む。
また好ましくは、保持手段は、修正液容器をテーブルに吸着するための磁石を含む。
また、この発明に係る欠陥修正装置は、上記修正液塗布機構と、塗布針を欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段とを備えたことを特徴とする。
この発明に係る修正液塗布機構では、修正液容器の下部を収容するための穴をテーブルの表面に凹設し、修正液容器が穴から抜けるのを防止する保持手段を設けた。したがって、修正液容器を容易に交換することができ、塗布針によって修正液容器が引き上げられるのを防止することができる。
図1は、この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す図である。図1において、この欠陥修正装置は、大きく分類すると、観察光学系1、CCDカメラ2、レーザ3、ペースト塗布機構4、およびペースト硬化用照明5から構成される欠陥修正ヘッド部と、この欠陥修正ヘッド部を被修正基板6に対して垂直方向(Z軸方向)に移動させるZ軸テーブル7と、Z軸テーブル7を搭載してX軸方向に移動させるためのX軸テーブル8と、被修正基板6を搭載してY軸方向に移動させるためのY軸テーブル9と、装置全体の動作を制御する制御用コンピュータ10と、制御用コンピュータ10に作業者からの指令を入力するための操作パネル11から構成される。
観察光学系1は、被修正基板6の表面状態や、ペースト塗布機構4でペースト塗布した状態を観察するためのものである。観察光学系1によって観察される画像は、CCDカメラ2により電気信号に変換され、制御用コンピュータ10のモニタ画面に表示される。ペースト塗布機構4は、被修正基板6表面の欠陥部にペーストを塗布して修正する。ペースト硬化用照明5は、ペースト塗布機構4で塗布されたペーストを硬化させるための光を照射する。ペーストが紫外線硬化タイプの場合は、紫外線照明がペースト硬化用照明5として選択されて装置に搭載される。ペーストが熱硬化タイプの場合は、ハロゲン照明がペースト硬化用照明5として選択されて装置に搭載される。レーザ3は、欠陥部からはみ出したペーストを除去する。
図2は、ペースト塗布機構4の構成を示す一部省略した斜視図である。図2において、このペースト塗布機構4は、ペースト塗布用の塗布針21と、塗布針21を垂直駆動させるための塗布針駆動シリンダ22とを含む。塗布針21は、塗布針ホルダ24および固定ベース25を介して塗布針駆動シリンダ22の駆動軸23の先端部に設けられる。
また、このペースト塗布機構4は、水平に設けられた回転テーブル26を含み、回転テーブル26上には円周方向に複数のペーストタンク27〜30が順次配置され、さらに、回転テーブル26上には洗浄装置31とエアパージ装置32とが設けられる。回転テーブル26の中心には回転軸33が立設されている。また、回転テーブル26には、ペースト塗布時に塗布針21を通過させるための切欠部34が形成されている。ペーストタンク27〜30には、異なる種類のペーストが適宜注入されている。洗浄装置31は、塗布針21に付着したペーストを除去するためのものであり、エアパージ装置32は塗布針21に付着した洗浄液を吹き飛ばすためのものである。
さらに、このペースト塗布機構4は、回転テーブル26の回転軸33を回転させるためのインデックス用モータ35を含み、さらに回転軸33とともに回転するインデックス板36と、インデックス板36を介して回転テーブル26の回転位置を検出するためのインデックス用センサ37と、インデックス板36を介して回転テーブル26の回転位置が原点に復帰したことを検出するための原点復帰用センサ38とが設けられる。モータ35はセンサ37,38の出力に基づいて制御され、回転テーブル26を回転させて切欠部34、ペーストタンク27〜30、洗浄装置31およびエアパージ装置32のうちいずれかを塗布針21の下方に位置させる。
なお、塗布針駆動シリンダ22とモータ35はZ軸テーブル7に固定され、Z軸テーブル7と被修正基板6とは、X軸テーブル8およびY軸テーブル9によって相対的に位置決めされる。
次に、このペースト塗布機構4の動作について説明する。まず、X軸テーブル8、Y軸テーブル9およびZ軸テーブル7が駆動され、被修正基板6の欠陥部の上方の所定位置に塗布針21の先端が位置決めされる。次いで、モータ35によって回転テーブル26が回転され、所望のペーストタンク(たとえば27)が塗布針21の下に移動される。次に、塗布針駆動シリンダ22によって塗布針21が上下に駆動され、塗布針21の先端部にペーストが付着される。
次いで、モータ35によって回転テーブル26が回転され、切欠部34が塗布針21の下に移動される。次に、塗布針駆動シリンダ22によって塗布針21が上下に駆動され、塗布針21の先端部に付着したペーストが被修正基板6の欠陥部に塗布される。
塗布針21の洗浄時は、モータ35によって回転テーブル26が回転され、洗浄装置31が塗布針21の下に移動される。次に、塗布針駆動シリンダ22によって塗布針21が上下に駆動され、塗布針21に付着したペーストが洗浄される。次いで、モータ35によって回転テーブル26が回転され、エアパージ装置32が塗布針21の下に移動される。次に、塗布針駆動シリンダ22によって塗布針21が上下に駆動され、塗布針21に付着した洗浄液が吹き飛ばされる。
図3は、この欠陥修正装置の特徴となるペーストタンク固定方法を示す図である。図3において、このペーストタンク固定方法では、ペーストタンク27は円筒形に形成され、回転テーブル26の表面にはペーストタンク27と略同径の穴40が凹設されている。ペーストタンク27の下部の外周面には雄ネジ部41が形成され、穴40の内周面には雌ネジ部42が形成されている。ペーストタンク27の底を穴40の開口部に当ててペーストタンク27を回すことにより、ペーストタンク27の下部が穴40に螺合され、ペーストタンク27は回転テーブル26に固定される。他のペーストタンク28〜30もペーストタンク27と同様にして回転テーブル26に固定される。
この実施の形態では、ペーストタンク27を回転テーブル26の穴40に螺合するので、高粘度のペーストを使用した場合でも、塗布針21をペーストタンク27内のペーストに浸けて引き上げる際、ペーストが媒体となってペーストタンク27が引き上げられるのを防止することができる。
また、ペーストタンク27自体にネジ部41を設けたので、ボルトなどの締結部品が不要であり、ペーストタンク27を迅速かつ容易に交換することができる。また、外したボルトなどが装置内に落下して装置が故障することもない。
図4は、この発明の他の実施の形態を示す図であって、図3と対比される図である。図4において、この実施の形態では、ペーストタンク27の下部と同形状の穴43が回転テーブル26の表面に凹設されるとともに、ペーストタンク27の底に錘44が設けられる。ペーストタンク27の下部を穴43に挿入すると、ペーストタンク27は錘44の重さによって穴43内に固定される。この実施の形態でも、図3の実施の形態と同じ効果が得られる。
図5は、この発明のさらに他の実施の形態を示す図であって、図4と対比される図である。図5において、この実施の形態では、ペーストタンク27の下部と同形状の穴43が回転テーブル26の表面に凹設されるとともに、ペーストタンク27の底に磁石45が設けられる。ペーストタンク27のうちの少なくとも穴43の底は鉄のような強磁性体で形成されている。ペーストタンク27の下部を穴43に挿入すると、ペーストタンク27は磁石45の磁気吸引力によって穴43内に固定される。この実施の形態でも、図3の実施の形態と同じ効果が得られる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
この発明の一実施の形態による欠陥修正装置の全体構成を示す図である。 図1に示したペースト塗布機構の構成を示す図である。 図2に示したペーストタンクの固定方法を示す断面図である。 この発明の他の実施の形態による欠陥修正装置におけるペーストタンク固定方法を示す断面図である。 この発明のさらに他の実施の形態による欠陥修正装置におけるペーストタンク固定方法を示す断面図である。
符号の説明
1 観察光学系、2 CCDカメラ、3 レーザ、4 ペースト塗布機構、5 ペースト硬化用照明、6 被修正基板、7 Z軸テーブル、8 X軸テーブル、9 Y軸テーブル、10 制御用コンピュータ、11 操作パネル、21 塗布針、22 塗布針駆動シリンダ、23 駆動軸、24 塗布針ホルダ、25 固定ベース、26 回転テーブル、27〜30 ペーストタンク、31 洗浄装置、32 エアパージ装置、33 回転軸、34 切欠部、35 モータ、36 インデックス板、37 インデックス用センサ、38 原点復帰用センサ、40,43 穴、41 雄ネジ部、42 雌ネジ部、44 錘、45 磁石。

Claims (5)

  1. 基板の欠陥部に修正液を塗布する塗布針と、前記修正液を収容する修正液容器と、前記修正液容器を載せて移動するテーブルと、前記塗布針を上下動させる駆動手段とを備えた修正液塗布機構において、
    前記修正液容器の下部を収容するための穴を前記テーブルの表面に凹設し、前記修正液容器が前記穴から抜けるのを防止する保持手段を設けたことを特徴とする、修正液塗布機構。
  2. 前記保持手段は、前記修正液容器の下部を前記穴に螺合するためのネジ部を含むことを特徴とする、請求項1に記載の修正液塗布機構。
  3. 前記保持手段は、前記修正液容器に設けられた錘を含むことを特徴とする、請求項1に記載の修正液塗布機構。
  4. 前記保持手段は、前記修正液容器を前記テーブルに吸着するための磁石を含むことを特徴とする、請求項1に記載の修正液塗布機構。
  5. 請求項1から請求項4までのいずれかに記載の修正液塗布機構と、前記塗布針を前記欠陥部の上方に位置決めする位置決め手段とを備えたことを特徴とする、欠陥修正装置。
JP2006272799A 2006-10-04 2006-10-04 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置 Withdrawn JP2008090142A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006272799A JP2008090142A (ja) 2006-10-04 2006-10-04 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006272799A JP2008090142A (ja) 2006-10-04 2006-10-04 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008090142A true JP2008090142A (ja) 2008-04-17

Family

ID=39374327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006272799A Withdrawn JP2008090142A (ja) 2006-10-04 2006-10-04 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008090142A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111266204A (zh) * 2020-03-18 2020-06-12 闽江学院 一种喷漆系统的使用方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111266204A (zh) * 2020-03-18 2020-06-12 闽江学院 一种喷漆系统的使用方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4925644B2 (ja) 塗布機構、欠陥修正装置、塗布方法、および液晶表示パネル用カラーフィルタの欠陥修正方法
JP4719050B2 (ja) パターン修正装置およびその塗布ユニット
JP4802027B2 (ja) パターン修正装置およびその塗布ユニット
KR20060046299A (ko) 미세 패턴 수정 장치 및 미세 패턴의 결함 수정 방법
JP4890024B2 (ja) 塗布針固定方法と、それを用いた液状材料塗布機構および欠陥修正装置
WO2017090381A1 (ja) 塗布ユニット、塗布装置、被塗布対象物の製造方法および基板の製造方法
KR101525621B1 (ko) 액상 재료 도포 장치 및 그것을 이용한 결함 수정 장치
JP2008090142A (ja) 修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置
JP2010036070A (ja) ノズル位置補正機構およびそれを備える塗布装置
TWI392595B (zh) Pattern correction device
JP6560108B2 (ja) 塗布ユニット、塗布装置、被塗布対象物の製造方法および基板の製造方法
JP2007079145A (ja) 修正液塗布ユニット
JP2009014665A (ja) 微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置
JP2008073637A (ja) 塗布針洗浄装置
JP2008288274A (ja) パターン修正装置
JP2000049442A (ja) パターン修正装置
JP2008107625A (ja) パターン修正装置
JP2008042083A (ja) 配線基板修正方法及び配線基板修正装置
JP3742228B2 (ja) パターン修正装置
WO2022014642A1 (ja) 塗布機構及び塗布装置
KR102673659B1 (ko) 마이크로 led 디스플레이 리페어 장치 및 방법
JP2008155180A (ja) 塗布針
JP2009268982A (ja) 塗布針と、それを用いた塗布機構、欠陥修正装置、および塗布方法
JP2008242479A (ja) パターン修正装置
US11852983B2 (en) Coater photoresist arm smart centering jig

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100105