JP2008087883A - Substrate taking-out device and method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide substrate taking-out device and method for taking out only the substrate put at the uppermost position by preventing two substrates from being simultaneously taken out while reducing labor required in a maintenance work of the device as much as possible. <P>SOLUTION: A suction unit 70 is provided with at least a first suction part 702 for sucking only a part close to an upper face end part of the substrate St put at the uppermost position by its suction face. An elevating mechanism 73 lifts or lowers the suction unit 70 and lowers the suction unit 70 down to the position where the suction face of the first suction part 702 and the part close to the upper face end part of the substrate St at the uppermost position approach mutually. The first suction part 702 makes its suction face sucked onto the part close to the upper face end part of the substrate St at the uppermost position. The elevating mechanism 73 lifts the suction unit 70 while the suction face of the first suction part 702 is sucked onto the part close to the upper face end part of the substrate St at the uppermost position. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板取出装置およびその方法に関し、より特定的には、積載された基板を1枚ずつ取り出す基板取出装置およびその方法に関する。   The present invention relates to a substrate take-out apparatus and a method thereof, and more particularly to a substrate take-out apparatus and a method therefor that take out stacked substrates one by one.

従来、積載されたシート状の部材から、最上位置の部材を1枚ずつ給版する装置では、2枚以上同時に給版することを防止することが必要となる。例えば、図19に示すように、上述したように積載されるシート状の部材として、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板などの基板Sを想定する。基板Sは、スルーホールTH(図中の塗りつぶし領域)やスリットSL(図中の斜線領域)などの表裏を貫通する複数の孔が多数形成されている。このような基板Sが積載された基板供給部から、最上位置に載置された基板Sを例えば全面真空吸着することによってピックアップする場合、2枚目以下の基板Sにも強い吸着力が生じるときがある。   Conventionally, it is necessary to prevent two or more sheets from being fed simultaneously in an apparatus that feeds the uppermost member one by one from the stacked sheet-like members. For example, as shown in FIG. 19, a substrate S such as a printed circuit board for mounting an electronic component such as a semiconductor device is assumed as the sheet-like member stacked as described above. The substrate S is formed with a plurality of holes penetrating the front and back, such as through holes TH (filled regions in the drawing) and slits SL (shaded regions in the drawing). When picking up the substrate S placed at the uppermost position by vacuum suction, for example, from the substrate supply unit loaded with such a substrate S, when a strong suction force is generated on the second and subsequent substrates S as well. There is.

例えば、図20Aおよび図20Bに示すように、基板ケース502内に積載された基板Sが、吸着テーブル501の吸着面に真空吸着されるブロア吸着方式を説明する。なお、図20Aおよび図20Bは、ブロア吸着方式の概略的な装置構造を断面図で示している。吸着テーブル501の吸着面には、複数の吸引孔が形成されている。複数の吸引孔は、ブロア(図示せず)によって吸引されており、吸着テーブル501の吸着面が基板ケース502の開口部付近に配置された場合、基板ケース502の内部に負圧が発生する。そして、最上位置の基板Sは、吸着テーブル501からの吸引力によって吸着面に真空吸着され、基板ケース502からピックアップされる。   For example, as shown in FIGS. 20A and 20B, a blower suction method in which the substrate S loaded in the substrate case 502 is vacuum-sucked to the suction surface of the suction table 501 will be described. 20A and 20B are cross-sectional views showing a schematic device structure of a blower adsorption system. A plurality of suction holes are formed on the suction surface of the suction table 501. The plurality of suction holes are sucked by a blower (not shown), and when the suction surface of the suction table 501 is disposed near the opening of the substrate case 502, a negative pressure is generated inside the substrate case 502. The uppermost substrate S is vacuum-sucked on the suction surface by the suction force from the suction table 501 and picked up from the substrate case 502.

しかしながら、図20Aに示すように、基板SにはスルーホールTHやスリットSLなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されているため、吸着テーブル501からの吸引力が2枚目以降の基板Sにも回り込んで作用する。例えば、最上位置および最上位置から2枚目の基板Sが互いに隙間なく密着しており、3枚目の基板Sに反りが生じている場合、当該2枚目の基板Sに対する吸引力が大きく作用する。これは、最上位置の基板Sと吸着テーブル501との間がブロア吸引によって負圧となり、2枚目と3枚目との基板Sの隙間が正圧(大気圧)となるため、最上位置および2枚目の基板Sが浮き上がりやすくなるためである。また、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとにずれが生じた場合も、最上位置の基板Sに形成されたスルーホールTHやスリットSLが吸着テーブル501の吸引孔と同様に作用するため、2枚目の基板Sが浮き上がりやすくなる。これによって、図20Bに示すように、最上位置および2枚目の基板Sが同時にピックアップされて吸着テーブル501の吸着面に真空吸着されてしまう。   However, as shown in FIG. 20A, since the substrate S has a plurality of holes penetrating the front and back, such as through holes TH and slits SL, the suction force from the suction table 501 is the second and subsequent substrates S. It also works around. For example, when the uppermost position and the second substrate S from the uppermost position are in close contact with each other and the third substrate S is warped, the suction force with respect to the second substrate S is greatly affected. To do. This is because a negative pressure is generated between the uppermost substrate S and the suction table 501 by blower suction, and a gap between the second and third substrates S is a positive pressure (atmospheric pressure). This is because the second substrate S is easily lifted. Further, even when a deviation occurs between the uppermost substrate S and the second substrate S, the through holes TH and slits SL formed in the uppermost substrate S act similarly to the suction holes of the suction table 501. Therefore, the second substrate S is easily lifted. As a result, as shown in FIG. 20B, the uppermost position and the second substrate S are simultaneously picked up and vacuum-sucked onto the suction surface of the suction table 501.

このような最上位置から2枚目以下の部材を分離する方法として、粘着部材を用いる基板取出装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。図21Aおよび図21Bに示すように、上記基板取出装置は、昇降テーブル505上に積載された基板Sに対して、粘着部材504を下方に露出させた状態で粘着部材アーム503を当該基板S上に突出させる。そして、積載された最上位置に配置された基板Sの上面と粘着部材504とを当接させる(図21Aの状態)。そして、昇降テーブル505を下降させることによって、最上位置の基板Sと他の基板Sとの間に隙間が形成される(図21Bの状態)。その後、この隙間に挟入部材等を挿入して上部から基板Sを吸引することによって、最上位置の基板Sのみを吸引する。上記基板取出装置は、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとが一致して重なっている場合のみならず、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとにずれが生じた場合でも、最上位置の基板Sのみ取り出すことが可能である。
特開2005−335843号公報
As a method for separating the second and subsequent members from the uppermost position, a substrate take-out device using an adhesive member is disclosed (for example, see Patent Document 1). As shown in FIGS. 21A and 21B, the substrate take-out device moves the adhesive member arm 503 on the substrate S with the adhesive member 504 exposed downward with respect to the substrate S stacked on the lifting table 505. To protrude. And the upper surface of the board | substrate S arrange | positioned in the uppermost position loaded is contact | abutted with the adhesion member 504 (state of FIG. 21A). And the clearance gap is formed between the board | substrate S of the uppermost position, and the other board | substrate S by dropping the raising / lowering table 505 (state of FIG. 21B). Thereafter, a sandwiching member or the like is inserted into the gap and the substrate S is sucked from above, whereby only the uppermost substrate S is sucked. In the above-described substrate take-out device, not only when the uppermost substrate S and the second substrate S coincide and overlap, but also when the uppermost substrate S and the second substrate S are displaced. However, only the uppermost substrate S can be taken out.
JP 2005-335843 A

しかしながら、上記特許文献1で開示された基板取出装置では、粘着部材504が有する粘着力の低下が問題となる。例えば、基板S自体は、その端部等から繊維くず等の異物が発生するものであり、当該異物が粘着部材504に粘着することによって粘着部材504の粘着力が低下する。このような粘着力の低下が進行すると、最上位置の基板Sのみを粘着して他の基板Sから引き離すことができなくなるため、粘着部材504の連続使用回数が限られてしまう。したがって、上記基板取出装置では、粘着部材504のメンテナンスが必要となり、より具体的には、粘着部材504の粘着力が低下した際にその粘着力をリフレッシュする作業が必要となる。   However, in the substrate take-out device disclosed in Patent Document 1, a decrease in the adhesive strength of the adhesive member 504 becomes a problem. For example, the substrate S itself generates foreign matters such as fiber scraps from the end portions thereof, and the adhesive force of the adhesive member 504 is reduced when the foreign matter adheres to the adhesive member 504. When the decrease in the adhesive force progresses, it becomes impossible to adhere only the uppermost substrate S and separate it from the other substrate S, so that the number of continuous use of the adhesive member 504 is limited. Therefore, in the substrate take-out apparatus, maintenance of the adhesive member 504 is required, and more specifically, when the adhesive force of the adhesive member 504 is reduced, an operation for refreshing the adhesive force is required.

また、吸着面積が小さい吸着パッドなどを用いて、基板Sの一部を真空吸着してピックアップする方式も考えられる。しかしながら、この方式では、スルーホールTHやスリットSLが形成されていない部位と吸着パッドとを当接させる必要があるため、供給する基板Sの形状に合わせて吸着パッドの位置を調整することが必要となる。したがって、この調整に要する作業が基板毎に必要となる。また、基板Sの一部を真空吸着するため、集中的な応力が基板Sに加わることとなり、基板Sに生じる変形や汚損の原因となる。さらに、基板Sの形状によっては、吸着パッドを当接するために適切な貫通孔がない部位がなく、ピックアップできない可能性もある。   Further, a method of picking up a part of the substrate S by vacuum suction using a suction pad having a small suction area is also conceivable. However, in this method, it is necessary to bring the suction pad into contact with a portion where the through hole TH or the slit SL is not formed, so it is necessary to adjust the position of the suction pad according to the shape of the substrate S to be supplied. It becomes. Therefore, the work required for this adjustment is required for each substrate. Further, since a part of the substrate S is vacuum-sucked, intensive stress is applied to the substrate S, which causes deformation and contamination of the substrate S. Furthermore, depending on the shape of the substrate S, there is no portion without an appropriate through-hole for contacting the suction pad, and there is a possibility that pickup cannot be performed.

それ故に、本発明の目的は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、2枚取りを防止して積載された最上位置の基板のみを取り出す基板取出装置およびその方法を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate take-out apparatus and method for taking out only the uppermost substrate loaded while preventing two sheets from being removed while minimizing maintenance work of the apparatus.

上記目的を達成するために、本発明は、以下に述べるような特徴を有している。
第1の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出装置である。基板取出装置は、吸着ユニットおよび昇降機構を備える。吸着ユニットは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第1吸着部を少なくとも備える。昇降機構は、吸着ユニットを昇降する。昇降機構は、第1吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで吸着ユニットを下降させる。第1吸着部は、その吸着面を最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させる。昇降機構は、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを上昇させる。
In order to achieve the above object, the present invention has the following features.
1st invention is the board | substrate extraction apparatus which takes out a board | substrate from the mounted board | substrate. The substrate take-out device includes a suction unit and a lifting mechanism. The adsorption unit includes at least a first adsorption unit that adsorbs only the vicinity of the upper surface end portion of the stacked uppermost substrate with the adsorption surface. The lifting mechanism moves the suction unit up and down. The elevating mechanism lowers the suction unit to a position where the suction surface of the first suction portion and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are close to each other. The first adsorption unit adsorbs the adsorption surface in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate. The elevating mechanism raises the adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.

第2の発明は、上記第1の発明において、第1吸着部の吸着面には、外部の気体を吸引する複数の吸引孔が格子配列または千鳥配列で形成されている。   In a second aspect based on the first aspect, a plurality of suction holes for sucking an external gas are formed in a lattice arrangement or a staggered arrangement on the adsorption surface of the first adsorption section.

第3の発明は、上記第2の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、その吸着面が吸着する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。   In a third aspect based on the second aspect, the substrate has a plurality of through holes. The total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed in the portion where the suction surface is sucked.

第4の発明は、上記第2の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。吸引孔は、第1吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成される。第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。   In a fourth aspect based on the second aspect, the substrate has a plurality of through holes. The suction holes are all formed in a partial region included in the suction surface of the first suction part. The total area of the suction holes formed on the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed at the site where the region where the suction holes are formed contacts.

第5の発明は、上記第2の発明において、吸引孔は、第1吸着部の吸着面を複数に分割した領域に対して、それぞれ異なった孔数密度で形成される。   In a fifth aspect based on the second aspect, the suction holes are formed with different hole number densities with respect to a region obtained by dividing the suction surface of the first suction portion into a plurality of portions.

第6の発明は、上記第1の発明において、吸着ユニットは、最上位置の基板の上面に対して、第1吸着部が吸着する領域とは異なる領域をその吸着面で吸着する第2吸着部を、さらに含む。第2吸着部は、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を最上位置の基板の上面に吸着させる。   In a sixth aspect based on the first aspect, the suction unit is configured such that the suction unit sucks, on the suction surface, an area different from the area on which the first suction part is sucked with respect to the upper surface of the uppermost substrate. Is further included. When a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the raising operation of the lifting mechanism, the second adsorption unit adsorbs the adsorption surface to the upper surface of the uppermost substrate.

第7の発明は、上記第6の発明において、揺動機構を、さらに備える。揺動機構は、第1吸着部の吸着面の長軸方向を中心として、吸着ユニットを揺動する。   In a seventh aspect based on the sixth aspect, a swing mechanism is further provided. The swing mechanism swings the suction unit about the major axis direction of the suction surface of the first suction unit.

第8の発明は、上記第7の発明において、吸着ユニットは、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面前端部近傍に吸着したとき、その基板の後端と当接する後端当接部材を、さらに含む。   In an eighth aspect based on the seventh aspect, the suction unit is configured such that when the suction surface of the first suction portion is sucked in the vicinity of the top front end portion of the uppermost substrate, the rear end abutting against the rear end of the substrate is placed. A contact member is further included.

第9の発明は、上記第6の発明において、吸着圧制御部を、さらに備える。吸着圧制御部は、第1吸着部および第2吸着部に供給する吸引圧を制御する。吸着圧制御部は、第1吸着部が最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第1の吸引圧をその第1吸着部に供給し、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、第1の吸引圧より強い第2の吸引圧を第1の吸着部および第2吸着部に供給する。   In a ninth aspect based on the sixth aspect, an adsorption pressure control unit is further provided. The adsorption pressure control unit controls the suction pressure supplied to the first adsorption unit and the second adsorption unit. The adsorption pressure control unit supplies the first suction pressure to the first adsorption unit when the first adsorption unit adsorbs the vicinity of the upper surface end of the uppermost substrate, and according to the raising operation of the lifting mechanism, When a gap is formed between the substrate at the position and another substrate, a second suction pressure higher than the first suction pressure is supplied to the first suction unit and the second suction unit.

第10の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出方法である。基板取出方法は、下降ステップ、吸着ステップ、および上昇ステップを含む。下降ステップは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第1吸着部を下降させて、その第1吸着部の吸着面とその最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる。吸着ステップは、第1吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる。上昇ステップは、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で第1吸着部を上昇させる。   A tenth aspect of the invention is a substrate take-out method for taking out a substrate from a loaded substrate. The substrate removal method includes a descending step, an adsorption step, and an ascending step. The lowering step lowers the first suction portion that sucks only the vicinity of the upper surface end of the stacked uppermost substrate, and moves the suction surface of the first suction portion and the vicinity of the upper surface end of the uppermost substrate. Make it close. In the adsorption step, the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are adsorbed. The ascending step raises the first adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.

上記第1の発明によれば、積載された基板のうち、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板を引き上げる力は、吸着力を用いているために経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げることによって、最上位置の基板のみを容易に剥離することができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。   According to the first aspect, of the stacked substrates, only the vicinity of the end portion of the uppermost substrate is attracted and pulled up. The force for pulling up the substrate does not change with time because it uses an adsorption force, and the maintenance required when using a conventional adhesive member or the like becomes unnecessary. In addition, by adsorbing and pulling up only the vicinity of the edge of the uppermost substrate, only the uppermost substrate can be easily peeled off, and even a substrate with a plurality of holes penetrating the front and back can be loaded. Of the plurality of substrates, it is possible to remove only the substrate placed at the uppermost position while preventing two substrates from being removed.

上記第2の発明によれば、第1吸着部の吸着面に多数の吸引孔が設けられるため、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板を取り出す場合、最上位置から2枚目の基板に作用する吸引力に対して、最上位置の基板に作用する吸引力が大きくなる。   According to the second aspect, since a plurality of suction holes are provided on the suction surface of the first suction part, when taking out a substrate having a plurality of holes penetrating the front and back, the second substrate from the uppermost position The suction force acting on the uppermost substrate is larger than the suction force acting on the substrate.

上記第3の発明によれば、吸着面と相対する基板の貫通孔の総面積より吸引孔の総面積が大きいため、2枚取りを防止する効果が高くなる。   According to the third aspect of the invention, since the total area of the suction holes is larger than the total area of the through holes of the substrate facing the suction surface, the effect of preventing the two-sheet removal is enhanced.

上記第4の発明によれば、吸着面の一部に吸引孔が形成される領域が集中しているため、サイズが小さな基板を吸引するときに当該領域と当該基板とを吸着させることによって、小さなサイズの基板でも安定して基板を取り出すことができる。   According to the fourth aspect of the invention, since the region where the suction holes are formed is concentrated on a part of the suction surface, when sucking the substrate having a small size, by sucking the region and the substrate, Even a small-sized substrate can be taken out stably.

上記第5の発明によれば、取り出す対象となる基板サイズに応じて、当該基板と吸着させる吸着面の領域を調整することによって、様々なサイズの基板を安定して取り出すことができる。   According to the fifth aspect of the present invention, substrates of various sizes can be stably taken out by adjusting the suction surface area to be sucked with the substrate according to the size of the substrate to be taken out.

上記第6の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成された後は、複数の吸着部によって基板が吸着固定されるため、安定して基板を保持することができる。   According to the sixth aspect, after the gap is formed between the uppermost substrate and another substrate, the substrate is sucked and fixed by the plurality of sucking portions, so that the substrate can be stably held. Can do.

上記第7の発明によれば、吸着ユニットが揺動可能であるため、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の一方端を引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が容易に形成される。   According to the seventh aspect, since the suction unit can swing, by swinging the suction unit in a state where the suction surface of the first suction unit is sucked near the upper surface end of the uppermost substrate, Since one end of the uppermost substrate can be pulled up, a gap is easily formed between the uppermost substrate and another substrate.

上記第8の発明によれば、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で、当該基板の後端を後端当接部材と当接させながら吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の他方端を押さえながら一方端のみを引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間がさらに容易に形成される。   According to the eighth aspect of the invention, the suction unit is configured such that the rear end of the substrate is brought into contact with the rear end contact member in a state where the suction surface of the first suction unit is adsorbed near the upper surface end of the uppermost substrate. By swinging, it is possible to pull up only one end while pressing the other end of the uppermost substrate, so that a gap is more easily formed between the uppermost substrate and the other substrate.

上記第9の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されるまで第1吸着部に供給する圧力を低くすることによって、最上位置から2枚目の基板に作用する吸引力の絶対量を低くすることができ、2枚取りを防止する効果が高くなる。   According to the ninth aspect, the pressure supplied to the first suction unit is lowered until a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate, so that the second substrate from the uppermost position is applied. The absolute amount of the acting suction force can be reduced, and the effect of preventing two sheets from being taken is increased.

また、本発明の基板取出方法によれば、上述した基板取出装置と同様の効果が得られる。   Further, according to the substrate extraction method of the present invention, the same effect as the above-described substrate extraction apparatus can be obtained.

図1〜図5を参照して、本発明の一実施形態に係る基板取出装置が搭載された基板検査装置について説明する。なお、図1は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図2は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す上面図である。図3は、エアーシリンダが伸びた状態における基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図4は、当該基板検査装置の空圧機構の概略的に示す図である。図5は、当該基板検査装置における回転部材を回転駆動する機構の構造を示す背面図である。なお、各構成部の位置関係を明確にするために、基板検査装置1の構成の全てが、図1〜図5に示されていないことを注釈しておく。   With reference to FIGS. 1-5, the board | substrate inspection apparatus with which the board | substrate extraction apparatus which concerns on one Embodiment of this invention is mounted is demonstrated. FIG. 1 is a front view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus. FIG. 2 is a top view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus. FIG. 3 is a front view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus in a state where the air cylinder is extended. FIG. 4 is a diagram schematically showing a pneumatic mechanism of the substrate inspection apparatus. FIG. 5 is a rear view showing the structure of a mechanism for rotationally driving the rotating member in the substrate inspection apparatus. In addition, in order to clarify the positional relationship of each component, it is annotated that the entire configuration of the substrate inspection apparatus 1 is not shown in FIGS.

図1および図2において、基板検査装置1は、第1検査ステージ2、第2検査ステージ3、A面検査ヘッド4、B面検査ヘッド5、フレーム6、基板供給部7、基板収納部8、第1基板搬送コンベア10、第2基板搬送コンベア11、および制御部(図示せず)を備えている。なお、基板供給部7が本発明の基板取出装置の一例に相当する。ここで、基板検査装置1の被検査体の一例は、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板等の基板Sであり、背景技術で説明したようにスルーホールTHやスリットSL等の表裏を貫通する複数の孔が形成されている。また、上記基板Sは、例えば、その両面の外観検査が必要な両面基板である。そして、被検査体である基板Sの一方の主面をA面とし、他方の主面をB面とする。   1 and 2, the substrate inspection apparatus 1 includes a first inspection stage 2, a second inspection stage 3, an A-surface inspection head 4, a B-surface inspection head 5, a frame 6, a substrate supply unit 7, a substrate storage unit 8, A first substrate transfer conveyor 10, a second substrate transfer conveyor 11, and a control unit (not shown) are provided. In addition, the board | substrate supply part 7 is equivalent to an example of the board | substrate extraction apparatus of this invention. Here, an example of an object to be inspected of the substrate inspection apparatus 1 is a substrate S such as a printed circuit board for mounting an electronic component such as a semiconductor device, and as described in the background art, such as a through hole TH and a slit SL. A plurality of holes penetrating the front and back are formed. Moreover, the said board | substrate S is a double-sided board which requires the external appearance test | inspection of the both surfaces, for example. And one main surface of the board | substrate S which is a to-be-inspected object is made into A surface, and the other main surface is made into B surface.

第1検査ステージ2は、第1回転部材21、A面検査吸着テーブル22、エアーシリンダ23、および第1回転軸24を有している。第1回転部材21は、略直方体形状を有し、第1回転軸24を中心に図示A方向に回転可能である。第1回転軸24に平行な第1回転部材21の4つの側面には、それぞれエアーシリンダ23a〜23dを介して4つのA面検査吸着テーブル22a〜22dが設けられる。図1では第1回転軸24が紙面に対して垂直に配置され、3つのエアーシリンダ23a(図1では、2つのエアーシリンダ23aのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して直上方向にA面検査吸着テーブル22aが設けられている。3つのエアーシリンダ23b(図1では、2つのエアーシリンダ23bのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して左方向にA面検査吸着テーブル22bが設けられている。3つのエアーシリンダ23c(図1では、2つのエアーシリンダ23cのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して下方向にA面検査吸着テーブル22cが設けられ、A面検査吸着テーブル22aおよび22cが互いに平行に配置される。そして、3つのエアーシリンダ23d(図1では、2つのエアーシリンダ23dのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して右方向にA面検査吸着テーブル22dが設けられ、A面検査吸着テーブル22bおよび22dが互いに平行に配置される。   The first inspection stage 2 includes a first rotating member 21, an A-surface inspection suction table 22, an air cylinder 23, and a first rotating shaft 24. The first rotating member 21 has a substantially rectangular parallelepiped shape, and can rotate in the direction A in the drawing around the first rotating shaft 24. Four A-side inspection suction tables 22a to 22d are provided on four side surfaces of the first rotating member 21 parallel to the first rotating shaft 24 via air cylinders 23a to 23d, respectively. In FIG. 1, the first rotation shaft 24 is arranged perpendicular to the paper surface, and with respect to the first rotation shaft 24 via three air cylinders 23 a (only two air cylinders 23 a are shown in FIG. 1). An A-side inspection suction table 22a is provided in the upward direction. An A-surface inspection suction table 22b is provided in the left direction with respect to the first rotating shaft 24 via three air cylinders 23b (only two air cylinders 23b are shown in FIG. 1). An A-surface inspection suction table 22c is provided in a downward direction with respect to the first rotating shaft 24 via three air cylinders 23c (only two air cylinders 23c are shown in FIG. 1). Tables 22a and 22c are arranged parallel to each other. An A-surface inspection suction table 22d is provided in the right direction with respect to the first rotating shaft 24 via three air cylinders 23d (only two air cylinders 23d are shown in FIG. 1). Inspection suction tables 22b and 22d are arranged in parallel to each other.

第2検査ステージ3は、第1検査ステージ2と並設される。第2検査ステージ3は、第2回転部材31、B面検査吸着テーブル32、エアーシリンダ33、および第2回転軸34を有している。第2回転部材31は、第1回転部材21と同様の略直方体形状を有し、第1回転軸24と平行な第2回転軸34を中心に図示B方向に回転可能である。第2回転軸34に平行な第2回転部材31の4つの側面には、それぞれエアーシリンダ33a〜33dを介して4つのB面検査吸着テーブル32a〜32dが設けられる。図1では第2回転軸34が紙面に対して垂直に配置され、3つのエアーシリンダ33a(図1では、2つのエアーシリンダ33aのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して直上方向にB面検査吸着テーブル32aが設けられている。3つのエアーシリンダ33b(図1では、2つのエアーシリンダ33bのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して左方向にB面検査吸着テーブル32bが設けられ、B面検査吸着テーブル32bとA面検査吸着テーブル22dとが相対するように配置される。3つのエアーシリンダ33c(図1では、2つのエアーシリンダ33cのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して下方向にB面検査吸着テーブル32cが設けられ、B面検査吸着テーブル32aおよび32cが互いに平行に配置される。そして、3つのエアーシリンダ33d(図1では、2つのエアーシリンダ33dのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して右方向にB面検査吸着テーブル32cが設けられ、B面検査吸着テーブル32bおよび32dが互いに平行に配置される。   The second inspection stage 3 is juxtaposed with the first inspection stage 2. The second inspection stage 3 includes a second rotating member 31, a B-surface inspection suction table 32, an air cylinder 33, and a second rotating shaft 34. The second rotating member 31 has a substantially rectangular parallelepiped shape similar to that of the first rotating member 21, and can rotate in the direction B in the drawing around a second rotating shaft 34 parallel to the first rotating shaft 24. Four B-side inspection suction tables 32a to 32d are provided on four side surfaces of the second rotation member 31 parallel to the second rotation shaft 34 via air cylinders 33a to 33d, respectively. In FIG. 1, the second rotation shaft 34 is arranged perpendicular to the paper surface, and the second rotation shaft 34 is connected to the second rotation shaft 34 via three air cylinders 33 a (only two air cylinders 33 a are shown in FIG. 1). A B-side inspection suction table 32a is provided directly above. A B-side inspection suction table 32b is provided in the left direction with respect to the second rotating shaft 34 through three air cylinders 33b (only two air cylinders 33b are shown in FIG. 1). The table 32b and the A-side inspection suction table 22d are arranged so as to face each other. A B-side inspection suction table 32c is provided in a downward direction with respect to the second rotation shaft 34 via three air cylinders 33c (only two air cylinders 33c are shown in FIG. 1). Tables 32a and 32c are arranged parallel to each other. A B-side inspection suction table 32c is provided on the right side with respect to the second rotating shaft 34 via three air cylinders 33d (only two air cylinders 33d are shown in FIG. 1). Inspection suction tables 32b and 32d are arranged in parallel to each other.

図1および図2に示すように、大略的にフレーム6は、検査ヘッド梁61、3つの直動軸受62a〜62c、本体ベース63、当接部材64、およびボールネジ65で構成されている。本体ベース63は、所定の支持柱によって第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の上部に位置する平面に固設されている。直動軸受62a〜62cは、レールとスライドブロック、軸と軸受やスリーブ、ガイドレールとガイドなど様々な組み合わせによって構成可能であるが、一例としてレールとスライドブロックとを用いる。3つの直動軸受62a〜62cは、それぞれレール621a〜621cとスライドブロック622a、622b1、622b2、および622cとを含んでおり、レール621a〜621cが本体ベース63の上面に固設される(なお、図2においては、検査ヘッド梁61下部に設けられたレール621およびスライドブロック622を破線で示している)。レール621a〜621cは、互いに所定の間隔を開けて平行に並設して固設され、レール621bを中心としてその両側にレール621aおよび621cが配置されている。そして、レール621aと621bとの間の下部空間に第1検査ステージ2が配置され、レール621bと621cとの間の下部空間に第2検査ステージ3が配置される。また、本体ベース63には、レール621bの上部空間に、直動モータ651の駆動によって回転するボールネジ65がレール621bと平行に設けられている。ここで、直動モータ651の駆動は、上記制御部によって制御される。なお、図1および図2においては、レール621a〜621cを支持する本体ベース63がそれぞれ分離して記載されているが、これは他の構成部との関係を説明するためであり、それぞれの本体ベース63は、少なくとも第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の上部空間にそれぞれ開口部が形成されて互いに連結して固設されている。そして、複数の当接部材64(例えば、上記開口部に対してそれぞれ3箇所)が、それぞれ同一平面上に配置され、上記開口部へ突出して本体ベース63に固設される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the frame 6 is generally composed of an inspection head beam 61, three linear motion bearings 62 a to 62 c, a main body base 63, a contact member 64, and a ball screw 65. The main body base 63 is fixed to a plane located above the first inspection stage 2 and the second inspection stage 3 by a predetermined support column. The linear motion bearings 62a to 62c can be configured by various combinations such as a rail and a slide block, a shaft and a bearing or a sleeve, a guide rail and a guide, and as an example, a rail and a slide block are used. The three linear motion bearings 62a to 62c include rails 621a to 621c and slide blocks 622a, 622b1, 622b2, and 622c, respectively. In FIG. 2, a rail 621 and a slide block 622 provided below the inspection head beam 61 are indicated by broken lines). The rails 621a to 621c are fixedly arranged in parallel with a predetermined interval therebetween, and rails 621a and 621c are arranged on both sides of the rail 621b as a center. The first inspection stage 2 is disposed in the lower space between the rails 621a and 621b, and the second inspection stage 3 is disposed in the lower space between the rails 621b and 621c. Further, the main body base 63 is provided with a ball screw 65 that rotates in the upper space of the rail 621b by the drive of the linear motor 651 in parallel with the rail 621b. Here, the driving of the linear motor 651 is controlled by the control unit. In FIGS. 1 and 2, the main body base 63 that supports the rails 621a to 621c is shown separately, but this is for explaining the relationship with other components. The base 63 is fixedly connected to each other by forming openings at least in the upper spaces of the first inspection stage 2 and the second inspection stage 3. A plurality of abutting members 64 (for example, three locations with respect to the opening) are arranged on the same plane, and protrude to the opening to be fixed to the main body base 63.

検査ヘッド梁61は、本体ベース63の上面に固設されたレール621a〜621c間に架設される。検査ヘッド梁61の下部には、スライドブロック622a、622b1、622b2、および622cが設けられている。そして、スライドブロック622aがレール621aに沿って移動可能に係合し、スライドブロック622b1および622b2がレール621bに沿って移動可能に係合し、スライドブロック622cがレール621cに沿って移動可能に係合している。また、検査ヘッド梁61は、スライドブロック622b1および622b2の上部でボールネジ65と螺合する。したがって、直動モータ651が駆動するとボールネジ65が回転し、レール621a〜621cが並設された方向(図示C方向)に検査ヘッド梁61が本体ベース63上を移動する。   The inspection head beam 61 is installed between rails 621 a to 621 c fixed on the upper surface of the main body base 63. Under the inspection head beam 61, slide blocks 622a, 622b1, 622b2, and 622c are provided. The slide block 622a is movably engaged along the rail 621a, the slide blocks 622b1 and 622b2 are movably engaged along the rail 621b, and the slide block 622c is movably engaged along the rail 621c. is doing. The inspection head beam 61 is screwed with the ball screw 65 at the upper part of the slide blocks 622b1 and 622b2. Accordingly, when the linear motor 651 is driven, the ball screw 65 rotates, and the inspection head beam 61 moves on the main body base 63 in the direction in which the rails 621a to 621c are arranged in parallel (C direction in the drawing).

また、検査ヘッド梁61には、A面検査ヘッド4およびB面検査ヘッド5が配置される。A面検査ヘッド4およびB面検査ヘッド5は、それぞれCCDカメラなどの撮像装置(図示せず)を備えており、撮像装置が下部に向けて開口したスリット41および51(図2の破線で示す)を介してそれぞれ検査ヘッド梁61の下部空間を撮像する。A面検査ヘッド4は、スライドブロック622aとスライドブロック622b1および622b2との間となる検査ヘッド梁61に配置される。具体的には、後述により明らかとなるが、第1検査ステージ2のA面検査吸着テーブル22が当接部材64と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁61が図示C方向に移動することによってA面検査ヘッド4の撮像装置が当該A面検査吸着テーブル22に吸着した基板Sの撮像が可能となる位置にA面検査ヘッド4が配置される。また、B面検査ヘッド5は、スライドブロック622b1および622b2とスライドブロック622cとの間となる検査ヘッド梁61に配置される。具体的には、第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が当接部材64と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁61が図示C方向に移動することによってB面検査ヘッド5の撮像装置が当該B面検査吸着テーブル32に吸着した基板Sの撮像が可能となる位置にB面検査ヘッド5が配置される。   In addition, the A-side inspection head 4 and the B-side inspection head 5 are arranged on the inspection head beam 61. The A-side inspection head 4 and the B-side inspection head 5 each include an imaging device (not shown) such as a CCD camera, and slits 41 and 51 (indicated by broken lines in FIG. 2) opened toward the lower portion of the imaging device. The lower space of the inspection head beam 61 is imaged via each of these. The A-side inspection head 4 is disposed on the inspection head beam 61 between the slide block 622a and the slide blocks 622b1 and 622b2. Specifically, as will be apparent later, when the A-surface inspection suction table 22 of the first inspection stage 2 is fixed at a position where it comes into contact with the contact member 64, the inspection head beam 61 moves in the direction C shown in the figure. Thus, the A-side inspection head 4 is arranged at a position where the imaging device of the A-side inspection head 4 can image the substrate S adsorbed on the A-side inspection suction table 22. Further, the B-side inspection head 5 is disposed on the inspection head beam 61 between the slide blocks 622b1 and 622b2 and the slide block 622c. Specifically, when the B surface inspection suction table 32 of the second inspection stage 3 is fixed at a position where it comes into contact with the contact member 64, the inspection head beam 61 moves in the direction C shown in the figure to thereby cause the B surface inspection head 5 to move. The B-side inspection head 5 is disposed at a position where the imaging device can image the substrate S sucked on the B-side inspection suction table 32.

基板供給部7は、第1基板搬送コンベア10上に積載された基板Sを第1検査ステージ2へ供給するために、第1検査ステージ2の下部空間に配置される。後述により明らかとなるが、基板供給部7は、吸着ユニット70、揺動機構71、昇降支持部材72、昇降機構73、搬送板74、および搬送板移動機構75を備えている。なお、図1においては、基板供給部7の搬送板74および搬送板移動機構75のみを図示して、他の構成要素の図示を省略している。   The substrate supply unit 7 is disposed in a lower space of the first inspection stage 2 in order to supply the substrate S loaded on the first substrate transport conveyor 10 to the first inspection stage 2. As will be described later, the substrate supply unit 7 includes a suction unit 70, a swing mechanism 71, a lifting support member 72, a lifting mechanism 73, a transport plate 74, and a transport plate moving mechanism 75. In FIG. 1, only the transport plate 74 and the transport plate moving mechanism 75 of the substrate supply unit 7 are illustrated, and other components are not illustrated.

図2に示すように、第1基板搬送コンベア10上には基板検査装置1による検査前の基板Sが種類毎に積載され、吸着ユニット70の直下空間に何れか1つの種類の基板Sが配置される。そして、吸着ユニット70は、上記制御部の制御に基づいて、その下部に積載された基板Sから最上部に載置された基板Stを取り上げて、搬送板74上に基板Stを載置する。また、搬送板74は、上記制御部の制御による搬送板移動機構75の駆動に応じて、図示G方向に移動可能に構成されている。そして、搬送板74は、搬送板移動機構75の駆動に応じて、その上面に載置された基板StをA面検査吸着テーブル22の直下位置まで搬送する。なお、基板供給部7に供給される検査前の基板Sは、それぞれ一方の主面であるA面を下に向けて第1基板搬送コンベア10上に積載される。また、後述により明らかとなるが、第1検査ステージ2のA面検査吸着テーブル22が下方向に降下した場合、当該A面検査吸着テーブル22の吸着面が搬送板74上に載置された基板St近傍に配置される。   As shown in FIG. 2, substrates S before being inspected by the substrate inspection apparatus 1 are stacked for each type on the first substrate transport conveyor 10, and any one type of substrate S is arranged in a space immediately below the suction unit 70. Is done. Then, the suction unit 70 picks up the substrate St placed on the uppermost part from the substrate S loaded on the lower part based on the control of the control unit, and places the substrate St on the transport plate 74. Further, the transport plate 74 is configured to be movable in the G direction in the figure in accordance with the drive of the transport plate moving mechanism 75 under the control of the control unit. The transport plate 74 transports the substrate St placed on the upper surface thereof to a position directly below the A-side inspection suction table 22 in accordance with the drive of the transport plate moving mechanism 75. In addition, the board | substrate S before the test | inspection supplied to the board | substrate supply part 7 is each loaded on the 1st board | substrate conveyance conveyor 10 with the A surface which is one main surface facing down. Further, as will be apparent later, when the A-side inspection suction table 22 of the first inspection stage 2 is lowered downward, the substrate on which the suction surface of the A-side inspection suction table 22 is placed on the transport plate 74. Arranged in the vicinity of St.

基板収納部8は、3つの基板ケース81a〜81c、3つの昇降テーブル82a〜82c、ターンテーブル83、第1搬出コンベア84、および一対の第2搬出コンベア85を備えている。昇降テーブル82a〜82cはそれぞれ基板ケース81a〜81cの内部に設けられ、昇降テーブル82a〜82c上の基板ケース81a〜81c内に基板検査装置1による検査後の基板Sが積載される。そして、昇降テーブル82a〜82cは、それぞれ上記制御部の制御に基づいて上下動を行い、例えば、最上部に載置された基板Sの上下方向の位置が一定となるように制御される。例えば、基板ケース81a〜81c内には、基板検査装置1によるA面および/またはB面の検査が不合格となった基板Sngが順次積み重ねられていく。これらの基板ケース81a〜81cは、ターンテーブル83の回転平面上に配置される。ターンテーブル83は、上記制御部によって図示D方向の回転および停止位置が制御され、基板ケース81a〜81cのいずれか1つを第2検査ステージ3の直下となる空間に配置する。なお、基板収納部8に収納される検査後の基板Sngは、それぞれA面を上に向けて基板ケース81a〜81c内に積載される。例えば、第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が基板Sngを吸着固定して下方向に降下して当該吸着を解除した場合、当該B面検査吸着テーブル32の直下配置された基板ケース81a〜81c内に当該基板Sngが積み重ねられる。   The substrate storage unit 8 includes three substrate cases 81a to 81c, three lift tables 82a to 82c, a turntable 83, a first carry-out conveyor 84, and a pair of second carry-out conveyors 85. The lift tables 82a to 82c are provided inside the substrate cases 81a to 81c, respectively, and the substrate S after the inspection by the substrate inspection apparatus 1 is loaded in the substrate cases 81a to 81c on the lift tables 82a to 82c. And the raising / lowering tables 82a-82c move up and down based on the control of the said control part, respectively, for example, are controlled so that the position of the up-down direction of the board | substrate S mounted in the uppermost part becomes fixed. For example, in the substrate cases 81a to 81c, the substrates Sng that have failed the inspection of the A and / or B surfaces by the substrate inspection apparatus 1 are sequentially stacked. These substrate cases 81 a to 81 c are arranged on the rotation plane of the turntable 83. The turntable 83 is controlled by the control unit to rotate and stop in the direction D in the drawing, and arranges any one of the substrate cases 81 a to 81 c in a space directly below the second inspection stage 3. The inspected substrates Sng stored in the substrate storage unit 8 are stacked in the substrate cases 81a to 81c, respectively, with the A surface facing upward. For example, when the B-side inspection suction table 32 of the second inspection stage 3 sucks and fixes the substrate Sng and descends downward to release the suction, the substrate case 81a disposed immediately below the B-side inspection suction table 32 The substrate Sng is stacked in ˜81c.

第1搬出コンベア84は、上記制御部の制御によって、図示H方向に移動可能に構成されている。一対の第2搬出コンベア85は、第2基板搬送コンベア11の上部に配設され、上記制御部の制御によって、それぞれ図示I方向に移動可能に構成されている。例えば、第1搬出コンベア84および第2搬出コンベア85は、基板検査装置1によるA面およびB面の検査が合格となった基板Sokを第2基板搬送コンベア11へ搬出する。   The first carry-out conveyor 84 is configured to be movable in the H direction in the figure under the control of the control unit. The pair of second carry-out conveyors 85 are arranged on the upper part of the second substrate transfer conveyor 11 and are configured to be movable in the direction I in the figure under the control of the control unit. For example, the first carry-out conveyor 84 and the second carry-out conveyor 85 carry the substrate Sok that has passed the inspection of the A surface and the B surface by the substrate inspection apparatus 1 to the second substrate transfer conveyor 11.

第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が基板Sokを吸着固定して下方向に降下するとき、第1搬出コンベア84は、当該B面検査吸着テーブル32の直下位置(つまり、B面検査吸着テーブル32と基板ケース81a〜81cの何れかとの間)まで図示H方向へ移動する。そして、B面検査吸着テーブル32が基板Sokの吸着を解除した場合、第1搬出コンベア84上に基板Sokが載置される。その後、第1搬出コンベア84は、第2搬出コンベア85と列設状態となる第2基板搬送コンベア11近傍位置まで、基板Sokを載置した状態で移動する。第1搬出コンベア84と第2搬出コンベア85とが列設状態に配置されたとき、基板Sokが第2搬出コンベア85上へ移動する方向へ、第1搬出コンベア84および第2搬出コンベア85のベルトの回転が開始される。そして、基板Sokが完全に第2搬出コンベア85上まで移動すると、一対の第2搬出コンベア85が互いに離れる図示I方向に移動する。これによって、第2搬出コンベア85上の基板Sokが第2基板搬送コンベア11上または第2基板搬送コンベア11上に積載されている他の基板Sok上に落下して積み重ねられる。   When the B-side inspection suction table 32 of the second inspection stage 3 descends downward with the substrate Sok being sucked and fixed, the first carry-out conveyor 84 is positioned directly below the B-side inspection suction table 32 (that is, the B-side inspection suction table 32). The suction table 32 and any of the substrate cases 81a to 81c) are moved in the H direction in the figure. When the B-side inspection suction table 32 releases the suction of the substrate Sok, the substrate Sok is placed on the first carry-out conveyor 84. Then, the 1st carrying-out conveyor 84 moves in the state which mounted the board | substrate Sok to the 2nd board | substrate conveyance conveyor 11 vicinity position used as the 2nd carrying-out conveyor 85 and a line-up state. When the first carry-out conveyor 84 and the second carry-out conveyor 85 are arranged in a line, the belts of the first carry-out conveyor 84 and the second carry-out conveyor 85 are moved in the direction in which the substrate Sok moves onto the second carry-out conveyor 85. Starts rotating. And if the board | substrate Sok moves to the 2nd carrying-out conveyor 85 completely, a pair of 2nd carrying-out conveyor 85 will move to the illustration I direction which leaves | separates from each other. As a result, the substrate Sok on the second carry-out conveyor 85 is dropped and stacked on the second substrate transfer conveyor 11 or another substrate Sok loaded on the second substrate transfer conveyor 11.

次に、図1〜図3を参照して、第1検査ステージ2および第2検査ステージ3にそれぞれ備えられているエアーシリンダ23および33の伸縮動作について説明する。   Next, with reference to FIGS. 1-3, the expansion / contraction operation | movement of the air cylinders 23 and 33 with which the 1st test | inspection stage 2 and the 2nd test | inspection stage 3 are each provided is demonstrated.

上述したように、第1回転部材21には、A面検査吸着テーブル22a〜22dをそれぞれ支持するエアーシリンダ23a〜23dが設けられている。エアーシリンダ23a〜23dは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するA面検査吸着テーブル22a〜22dと第1回転軸24との距離を変化させる。図1は、エアーシリンダ23a〜23dが縮んだ状態であり、A面検査吸着テーブル22a〜22dがそれぞれ第1回転部材21の側面近傍に配置される。また、図3は、エアーシリンダ23a〜23dが伸びた状態であり、A面検査吸着テーブル22a〜22dがそれぞれ第1回転部材21から離れた位置に配置される。   As described above, the first rotating member 21 is provided with the air cylinders 23a to 23d that support the A-side inspection suction tables 22a to 22d, respectively. The air cylinders 23a to 23d are configured to be extendable and contractable under the control of the control unit, and change the distance between the A-side inspection suction tables 22a to 22d and the first rotating shaft 24 that are supported by the extension and contraction operations, respectively. FIG. 1 shows a state in which the air cylinders 23 a to 23 d are contracted, and the A-side inspection suction tables 22 a to 22 d are respectively arranged in the vicinity of the side surfaces of the first rotating member 21. 3 shows a state in which the air cylinders 23a to 23d are extended, and the A-side inspection suction tables 22a to 22d are arranged at positions away from the first rotating member 21, respectively.

図2および図3に示すように、第1回転軸24に対して直上方向に配置されたA面検査吸着テーブル22aは、エアーシリンダ23aが伸びたとき、その外縁部の上面(第1回転軸24に対して外側の面)が当接部材64と当接して位置決めされる。以下、当接部材64と当接して位置決めされたA面検査吸着テーブル22の位置をA面検査位置と記載する。なお、図2に示すように、本実施例では、A面検査吸着テーブル22aをA面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材64が固設される箇所(3箇所)にエアーシリンダ23aがA面検査吸着テーブル22aを支持する箇所(3箇所)が含まれるように設定されている。   As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the A-side inspection suction table 22a arranged in the direction directly above the first rotation shaft 24 has an upper surface (first rotation shaft) when the air cylinder 23a extends. 24), the outer surface is positioned in contact with the contact member 64. Hereinafter, the position of the A-side inspection suction table 22 positioned in contact with the contact member 64 is referred to as an A-side inspection position. In this embodiment, as shown in FIG. 2, in order to stably position the A-surface inspection suction table 22a at the A-surface inspection position, air is provided at the locations (three locations) where the contact members 64 are fixed. The cylinder 23a is set so as to include locations (three locations) where the A-side inspection suction table 22a is supported.

また、図3に示すように、第1回転軸24に対して下方向に配置されたA面検査吸着テーブル22cは、エアーシリンダ23cが伸びたとき、当該A面検査吸着テーブル22cの吸着面が搬送板74上に載置された基板Stの上部近傍に配置される。   Further, as shown in FIG. 3, the A-side inspection suction table 22c arranged downward with respect to the first rotating shaft 24 has a suction surface of the A-side inspection suction table 22c when the air cylinder 23c extends. It is arranged near the upper part of the substrate St placed on the transport plate 74.

さらに、図3に示すように、第1回転軸24に対して右方向に配置されたA面検査吸着テーブル22dの吸着面は、エアーシリンダ23dが伸びたとき、同じくエアーシリンダ33bが伸びたB面検査吸着テーブル32bの吸着面と当接する。以下、A面検査吸着テーブル22の吸着面とB面検査吸着テーブル32の吸着面とが当接する位置を基板受渡位置と記載する。   Further, as shown in FIG. 3, the suction surface of the A-side inspection suction table 22d arranged in the right direction with respect to the first rotating shaft 24 is the same as the B in which the air cylinder 33b is extended when the air cylinder 23d is extended. It contacts the suction surface of the surface inspection suction table 32b. Hereinafter, a position where the suction surface of the A-side inspection suction table 22 and the suction surface of the B-side inspection suction table 32 abut will be referred to as a substrate delivery position.

また、第2回転部材31には、B面検査吸着テーブル32a〜32dをそれぞれ支持するエアーシリンダ33a〜33dが設けられている。エアーシリンダ33a〜33dは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するB面検査吸着テーブル32a〜32dと第2回転軸34との距離を変化させる。図1は、エアーシリンダ33a〜33dが縮んだ状態であり、B面検査吸着テーブル32a〜32dがそれぞれ第2回転部材31の側面近傍に配置される。また、図3は、エアーシリンダ33a〜33dが伸びた状態であり、B面検査吸着テーブル32a〜32dがそれぞれ第2回転部材31から離れた位置に配置される。   The second rotating member 31 is provided with air cylinders 33a to 33d that support the B-side inspection suction tables 32a to 32d, respectively. The air cylinders 33a to 33d are configured to be extendable / contractible under the control of the control unit, and change the distance between the B-side inspection suction tables 32a to 32d and the second rotating shaft 34 that are supported by the extension / contraction operation. FIG. 1 shows a state in which the air cylinders 33 a to 33 d are contracted, and the B-side inspection suction tables 32 a to 32 d are respectively arranged in the vicinity of the side surfaces of the second rotating member 31. 3 shows a state in which the air cylinders 33a to 33d are extended, and the B-side inspection suction tables 32a to 32d are arranged at positions away from the second rotating member 31, respectively.

図2および図3に示すように、第2回転軸34に対して直上方向に配置されたB面検査吸着テーブル32aは、エアーシリンダ33aが伸びたとき、その外縁部の上面(第2回転軸34に対して外側の面)が当接部材64と当接して位置決めされる。以下、当接部材64と当接して位置決めされたB面検査吸着テーブル32の位置をB面検査位置と記載する。なお、図2に示すように、本実施例では、B面検査吸着テーブル32aをB面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材64が固設される箇所(3箇所)にエアーシリンダ33aがB面検査吸着テーブル32aを支持する箇所(3箇所)が含まれるように設定されている。   As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the B-side inspection suction table 32a arranged in the direction directly above the second rotation shaft 34 has an upper surface (second rotation shaft) when the air cylinder 33a extends. 34, the outer surface) is in contact with the contact member 64 and positioned. Hereinafter, the position of the B surface inspection suction table 32 that is positioned in contact with the contact member 64 is referred to as a B surface inspection position. In this embodiment, as shown in FIG. 2, in order to stably position the B-side inspection suction table 32a at the B-side inspection position, air is provided at the places (three places) where the contact members 64 are fixed. The cylinder 33a is set so as to include places (three places) where the B-side inspection suction table 32a is supported.

また、図3に示すように、第2回転軸34に対して下方向に配置されたB面検査吸着テーブル32cは、エアーシリンダ33cが伸びたとき、当該B面検査吸着テーブル32cの吸着面が第1搬出コンベア84の上部近傍または基板ケース81の開口部の上方位置に配置される。以下、このB面検査吸着テーブル32の位置を基板排出位置と記載する。   Further, as shown in FIG. 3, the B-side inspection suction table 32c disposed downward with respect to the second rotating shaft 34 has a suction surface of the B-side inspection suction table 32c when the air cylinder 33c extends. It is arranged near the upper part of the first carry-out conveyor 84 or above the opening of the substrate case 81. Hereinafter, the position of the B surface inspection suction table 32 is referred to as a substrate discharge position.

さらに、図3に示すように、第2回転軸34に対して左方向に配置されたB面検査吸着テーブル32bの吸着面は、エアーシリンダ33bが伸びたとき、同じくエアーシリンダ23dが伸びたA面検査吸着テーブル22dの吸着面と当接する。   Further, as shown in FIG. 3, the suction surface of the B-side inspection suction table 32b arranged in the left direction with respect to the second rotation shaft 34 is similar to the A in which the air cylinder 23d is extended when the air cylinder 33b is extended. It contacts the suction surface of the surface inspection suction table 22d.

次に、図4を参照して、基板検査装置1の空圧機構について説明する。なお、図4は、基板供給部7および第1検査ステージ2側の空圧機構のみを示しているが、第2検査ステージ3側も第1検査ステージ2側と同様に構成され、以下、基板供給部7および第1検査ステージ2側の空圧機構を代表的に説明する。また、図4は、第1検査ステージ2側の空圧機構を説明するために、第1検査ステージ2の構成の一部を省略し、A面検査吸着テーブル22を断面で示していることを注釈しておく。また、図4では、基板供給部7について、それら構成要素のうち、空圧機構に関わる構成要素のみブロック図で示している。   Next, the pneumatic mechanism of the substrate inspection apparatus 1 will be described with reference to FIG. 4 shows only the substrate supply unit 7 and the pneumatic mechanism on the first inspection stage 2 side, the second inspection stage 3 side is also configured in the same manner as the first inspection stage 2 side. The pneumatic mechanism on the supply unit 7 and the first inspection stage 2 side will be described representatively. Further, FIG. 4 shows that the A-side inspection suction table 22 is shown in a cross section, omitting a part of the configuration of the first inspection stage 2 in order to explain the pneumatic mechanism on the first inspection stage 2 side. Annotate. In FIG. 4, only the components related to the pneumatic mechanism among the components of the substrate supply unit 7 are shown in a block diagram.

図4において、基板検査装置1の第1検査ステージ2に関する空圧機構は、ブロア90、コンプレッサ95、主配管91a、主配管91b、空圧切替部92、吸着配管93、シリンダ配管94を備えている。第1回転軸24は、第1回転部材21の内部で空圧切替部92を支持している。空圧切替部92は上記制御部によって開閉が制御される複数の切替弁を有しており、第1回転軸24にはその一方端部からそれぞれの切替弁まで貫通する中空経路(図4の破線で示す)が形成されている。また、第1回転軸24の他方端部には、タイミングプーリ25が固設されている。主配管91aは、第1回転軸24の中空経路を通ってブロア90と空圧切替部92とを接続し、空圧切替部92を介してブロア90が生成する空圧をA面検査吸着テーブル22a〜22dに供給する。同様に、主配管91bは、第1回転軸24の中空経路を通ってコンプレッサ95と空圧切替部92とを接続し、空圧切替部92を介してコンプレッサ95が生成する空圧をエアーシリンダ23a〜23dに供給する。   4, the pneumatic mechanism relating to the first inspection stage 2 of the substrate inspection apparatus 1 includes a blower 90, a compressor 95, a main pipe 91a, a main pipe 91b, an air pressure switching unit 92, an adsorption pipe 93, and a cylinder pipe 94. Yes. The first rotating shaft 24 supports an air pressure switching unit 92 inside the first rotating member 21. The air pressure switching unit 92 has a plurality of switching valves whose opening and closing are controlled by the control unit, and the first rotary shaft 24 has a hollow path (from FIG. (Shown by a broken line). A timing pulley 25 is fixed to the other end of the first rotating shaft 24. The main pipe 91a connects the blower 90 and the air pressure switching unit 92 through the hollow path of the first rotating shaft 24, and the air pressure generated by the blower 90 via the air pressure switching unit 92 is transferred to the A surface inspection suction table. It supplies to 22a-22d. Similarly, the main pipe 91b connects the compressor 95 and the air pressure switching unit 92 through the hollow path of the first rotating shaft 24, and the air pressure generated by the compressor 95 via the air pressure switching unit 92 is supplied to the air cylinder. It supplies to 23a-23d.

A面検査吸着テーブル22a〜22dの吸着面AFには、それぞれ複数の吸着穴が形成されている(図4では、A面検査吸着テーブル22aおよび22cのみを示している)。また、A面検査吸着テーブル22a〜22dと空圧切替部92の切替弁との間には、それぞれエアーシリンダ23a〜23dの伸縮動作に応じて伸縮可能な吸着配管93a〜93d(図4では、吸着配管93aおよび93cのみを示している)が接続されている。ここで、吸着配管93a〜93dは、それぞれ別の切替弁と接続される。また、吸着配管93a〜93dからA面検査吸着テーブル22a〜22dに供給される空圧(負圧)は、それぞれA面検査吸着テーブル22a〜22dに形成された吸着穴から外部に開放されている。つまり、上記制御部の制御に基づいて、吸着配管93a〜93dを介してA面検査吸着テーブル22a〜22dに負圧が供給された場合、それぞれの吸着穴に負圧が発生して吸着面AFを用いた真空吸着が可能となる。   A plurality of suction holes are formed in the suction surfaces AF of the A-side inspection suction tables 22a to 22d (only the A-side inspection suction tables 22a and 22c are shown in FIG. 4). Further, between the A-side inspection suction tables 22a to 22d and the switching valve of the air pressure switching unit 92, suction pipes 93a to 93d (in FIG. 4) that can be expanded and contracted according to the expansion and contraction operations of the air cylinders 23a to 23d, respectively. Only adsorption pipes 93a and 93c are shown). Here, the suction pipes 93a to 93d are connected to different switching valves, respectively. The pneumatic pressure (negative pressure) supplied from the suction pipes 93a to 93d to the A-side inspection suction tables 22a to 22d is opened to the outside from the suction holes formed in the A-side inspection suction tables 22a to 22d, respectively. . That is, when negative pressure is supplied to the A-side inspection suction tables 22a to 22d via the suction pipes 93a to 93d based on the control of the control unit, a negative pressure is generated in each suction hole and the suction surface AF. Vacuum adsorption using can be performed.

また、エアーシリンダ23a〜23dと空圧切替部92の切替弁との間には、それぞれシリンダ配管94a〜94d(図4では、シリンダ配管94aおよび94cのみを示している)が接続されている。そして、上記制御部の制御に基づいてシリンダ配管94a〜94dへ上記コンプレッサ95から空圧(正圧)が供給され、エアーシリンダ23a〜23dの伸縮動作が可能となる。なお、第2検査ステージ3側の空圧機構も第1検査ステージ2側と同様であるため、詳細な説明を省略する。なお、第2検査ステージ3の第2回転軸34の他方端部には、タイミングプーリ35(図5参照)が固設されている。なお、上記実施の形態では、空圧切替部92がブロア90およびコンプレッサ95の2系統の空圧を切り替えるようにしているが、各々個別の切替部を備えていてもよい。   Further, cylinder pipes 94a to 94d (only cylinder pipes 94a and 94c are shown in FIG. 4) are connected between the air cylinders 23a to 23d and the switching valve of the air pressure switching unit 92, respectively. Then, based on the control of the control unit, pneumatic pressure (positive pressure) is supplied from the compressor 95 to the cylinder pipes 94a to 94d, and the air cylinders 23a to 23d can be expanded and contracted. Since the pneumatic mechanism on the second inspection stage 3 side is the same as that on the first inspection stage 2 side, detailed description is omitted. A timing pulley 35 (see FIG. 5) is fixed to the other end of the second rotating shaft 34 of the second inspection stage 3. In the above-described embodiment, the air pressure switching unit 92 switches between the two systems of the air pressure, that is, the blower 90 and the compressor 95, but each may include an individual switching unit.

また、基板供給部7の吸着ユニット70は、第1吸着部702、第2吸着部703、第3吸着部704、および第4吸着部705を含んでいる。そして、基板供給部7に関する空圧機構は、ブロア90および吸着圧制御部707を備えている。吸着圧制御部707は、上記制御部の制御に基づいて、ブロア90が生成する空圧(負圧)を吸着ユニット70に供給する。例えば、吸着圧制御部707は、上記制御部の制御に基づいて動作制御される複数のソレノイドバルブ等で構成され、第1吸着部702、第2吸着部703、第3吸着部704、および第4吸着部705にそれぞれ供給する負圧の有無およびそれらの圧力を制御する。   The adsorption unit 70 of the substrate supply unit 7 includes a first adsorption unit 702, a second adsorption unit 703, a third adsorption unit 704, and a fourth adsorption unit 705. The pneumatic mechanism related to the substrate supply unit 7 includes a blower 90 and an adsorption pressure control unit 707. The adsorption pressure control unit 707 supplies air pressure (negative pressure) generated by the blower 90 to the adsorption unit 70 based on the control of the control unit. For example, the adsorption pressure control unit 707 includes a plurality of solenoid valves and the like that are operation-controlled based on the control of the control unit, and includes a first adsorption unit 702, a second adsorption unit 703, a third adsorption unit 704, and a first adsorption unit. The presence or absence of the negative pressure supplied to each of the four adsorption portions 705 and their pressure are controlled.

次に、図5を参照して、基板検査装置1における第1回転部材21および第2回転部材31を回転駆動する機構について説明する。なお、図5は、基板検査装置1の一部を示す背面図であり、図1および図3で示す第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の位置関係や回転方向が左右逆になっていることを注釈しておく。   Next, with reference to FIG. 5, a mechanism for rotationally driving the first rotating member 21 and the second rotating member 31 in the substrate inspection apparatus 1 will be described. FIG. 5 is a rear view showing a part of the substrate inspection apparatus 1, and the positional relationship and the rotation direction of the first inspection stage 2 and the second inspection stage 3 shown in FIGS. It is noted that.

図5において、第1回転部材21および第2回転部材31を回転駆動する機構は、回転駆動モータ101と、タイミングベルト103と、テンションプーリ104および105とを有している。回転駆動モータ101の回転軸にはプーリ102が固設されており、回転駆動モータ101は、上記制御部の制御に基づいて所定の回転角度だけプーリ102を駆動する。タイミングベルト103は、テンションプーリ104および105を介して、プーリ102とタイミングプーリ25および35とによって回動可能に掛け渡される。テンションプーリ104および105は、掛け渡されたタイミングベルト103の張力を制御する。回転駆動モータ101の駆動力は、タイミングベルト103を介してタイミングプーリ25および35を同期して同じ回転角度で回転させる。そして、タイミングプーリ25および35がそれぞれ固設された第1回転軸24および第2回転軸34も回転し、第1回転軸24および第2回転軸34の回転に応じて、それぞれ第1回転部材21および第2回転部材31も図示A方向およびB方向に回転する。なお、本実施例では、上記制御部による回転指示に応じて、第1回転部材21および第2回転部材31がそれぞれ図示A方向およびB方向に90°毎に回転する。   In FIG. 5, the mechanism that rotationally drives the first rotating member 21 and the second rotating member 31 includes a rotation driving motor 101, a timing belt 103, and tension pulleys 104 and 105. A pulley 102 is fixed to the rotation shaft of the rotation drive motor 101, and the rotation drive motor 101 drives the pulley 102 by a predetermined rotation angle based on the control of the control unit. The timing belt 103 is wound around a pulley 102 and timing pulleys 25 and 35 via tension pulleys 104 and 105 so as to be rotatable. The tension pulleys 104 and 105 control the tension of the timing belt 103 that has been stretched. The driving force of the rotary drive motor 101 rotates the timing pulleys 25 and 35 through the timing belt 103 in synchronism with each other at the same rotation angle. And the 1st rotating shaft 24 and the 2nd rotating shaft 34 to which the timing pulleys 25 and 35 were respectively fixed also rotated, and according to rotation of the 1st rotating shaft 24 and the 2nd rotating shaft 34, respectively, it is the 1st rotating member. 21 and the second rotating member 31 also rotate in the A direction and B direction in the figure. In the present embodiment, the first rotating member 21 and the second rotating member 31 are rotated every 90 ° in the A direction and B direction in the figure, respectively, according to the rotation instruction from the control unit.

次に、図6および図7を参照して、基板供給部7の詳細な構造について説明する。なお、図6は、吸着ユニット70および揺動機構71を断面で示して、基板供給部7の概略構造を示す側面図である。図7は、吸着ユニット70の下面図である。   Next, the detailed structure of the substrate supply unit 7 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a side view showing a schematic structure of the substrate supply unit 7 by showing the suction unit 70 and the swing mechanism 71 in cross section. FIG. 7 is a bottom view of the suction unit 70.

図6において、基板供給部7は、吸着ユニット70、揺動機構71、昇降支持部材72、昇降機構73、搬送板74、および搬送板移動機構75を備えている。   In FIG. 6, the substrate supply unit 7 includes a suction unit 70, a swing mechanism 71, a lifting support member 72, a lifting mechanism 73, a transport plate 74, and a transport plate moving mechanism 75.

図6および図7において、吸着ユニット70は、一対の支持部材701aおよび701bと、第1吸着部702と、第2吸着部703と、第3吸着部704と、第4吸着部705と、後端当接部材706とを含んでいる。第1〜第4吸着部702〜705は、それぞれ棒状の中空角柱で形成され、それぞれ一対の支持部材701aおよび701bの間に架設される。そして、吸着ユニット70は、昇降支持部材72に支持されて、第1基板搬送コンベア10上に積載された検査前の基板Sの上を第1〜第4吸着部702〜705がそれぞれ同一方向に横断するように配置される。   6 and 7, the adsorption unit 70 includes a pair of support members 701a and 701b, a first adsorption unit 702, a second adsorption unit 703, a third adsorption unit 704, a fourth adsorption unit 705, and a rear An end abutting member 706. The first to fourth suction portions 702 to 705 are each formed of a rod-shaped hollow rectangular column, and are respectively constructed between a pair of support members 701a and 701b. The suction unit 70 is supported by the elevating support member 72, and the first to fourth suction units 702 to 705 are arranged in the same direction on the uninspected substrate S stacked on the first substrate transport conveyor 10. It is arranged to cross.

第1吸着部702は、積載された基板Sと対向する下面(長軸方向に平行な中空角柱の側面;以下、吸着面と記載する)に、複数の吸引孔haが形成されている。例えば、吸引孔haは、第1吸着部702の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約140mm)に対して直径0.5mmの孔が中心間ピッチ1.5mmでマトリックス状に形成される。これは、吸引孔haが形成される態様の一例であり、吸引孔haが形成される領域や他の態様については後述する。そして、第1吸着部702の中空内部には、吸着圧制御部707(図4参照)によって制御された負圧が供給され、第1吸着部702の下方の外部気体が吸引孔haから吸引される。また、第1吸着部702は、支持部材701aおよび701bの一方端付近(以下、吸着ユニット70の前端側と記載する)にその両端が支持され、その長軸(図示O軸)を中心に図示I方向へ回転可能である。より詳細には、第1吸着部702は、後述する吸着ユニット70の揺動とは独立して、かつ、4つの吸着部の中で第1吸着部702のみ単独でO軸を中心に回転可能に支持される。これによって、第1吸着部702は、基板吸着を柔軟に行うことができ、さらに一旦吸着した基板が剥離しにくい。   The first suction unit 702 has a plurality of suction holes ha formed on a lower surface (a side surface of a hollow rectangular column parallel to the major axis direction; hereinafter referred to as an adsorption surface) facing the stacked substrate S. For example, the suction hole ha is a hole having a diameter of 0.5 mm between the center of a predetermined region (for example, width of about 10 mm × length of about 140 mm) set on the lower surface of the first suction portion 702 on the support member 701a side. It is formed in a matrix with a pitch of 1.5 mm. This is an example of an aspect in which the suction hole ha is formed, and a region in which the suction hole ha is formed and other aspects will be described later. And the negative pressure controlled by the adsorption pressure control part 707 (refer FIG. 4) is supplied to the hollow inside of the 1st adsorption | suction part 702, and the external gas below the 1st adsorption | suction part 702 is attracted | sucked from the suction hole ha. The The first suction portion 702 is supported at both ends near one end of the support members 701a and 701b (hereinafter referred to as the front end side of the suction unit 70), and is illustrated with its long axis (O-axis shown) as the center. It can rotate in the I direction. More specifically, the first suction portion 702 can rotate around the O axis independently of the swinging of the suction unit 70 described later, and only the first suction portion 702 among the four suction portions. Supported by As a result, the first suction unit 702 can flexibly perform the substrate suction, and the substrate once sucked is difficult to peel off.

第2吸着部703は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、複数の吸引孔hbが形成されている。例えば、吸引孔hbは、第2吸着部703の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約50mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ2.0mmでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材701b側で隣接する別の所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約80mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ8.0mmでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔hbは、基板Sと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第2吸着部703の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第2吸着部703の下方の外部気体が吸引孔hbから吸引される。また、第2吸着部703は、第1吸着部702に対して支持部材701aおよび701bの他方端側(以下、吸着ユニット70の後端側と記載する)に、その両端が固設される。   The second suction unit 703 has a plurality of suction holes hb on the lower surface (suction surface) facing the stacked substrate S. For example, the suction hole hb has a center of 1.0 mm in diameter with respect to a predetermined area (for example, width of about 10 mm × length of about 50 mm) set on the support member 701a side on the lower surface of the second suction portion 703. A hole having a diameter of 1.0 mm is formed between the center of another predetermined region (for example, width of about 10 mm × length of about 80 mm) that is formed in a matrix with a pitch of 2.0 mm and is adjacent to the predetermined region on the support member 701b side It is formed in a matrix with a pitch of 8.0 mm. As long as a plurality of the suction holes hb are formed at positions facing the substrate S, they may be formed in other modes. Then, the negative pressure controlled by the adsorption pressure control unit 707 is supplied into the hollow inside of the second adsorption unit 703, and the external gas below the second adsorption unit 703 is sucked from the suction hole hb. The second suction portion 703 is fixed at both ends thereof to the other end side of the support members 701a and 701b (hereinafter referred to as the rear end side of the suction unit 70) with respect to the first suction portion 702.

第3吸着部704は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、第2吸着部703と同様の複数の吸引孔hbが形成されている。そして、第3吸着部704の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第3吸着部704の下方の外部気体が吸引孔hbから吸引される。また、第3吸着部704は、第2吸着部703に対して支持部材701aおよび701bのさらに吸着ユニット70の後端側に、その両端が固設される。   The third suction unit 704 has a plurality of suction holes hb similar to those of the second suction unit 703 formed on the lower surface (suction surface) facing the stacked substrate S. And the negative pressure controlled by the adsorption pressure control part 707 is supplied to the hollow inside of the 3rd adsorption | suction part 704, and the external gas below the 3rd adsorption part 704 is attracted | sucked from the suction hole hb. Further, the third suction portion 704 is fixed at both ends of the support members 701a and 701b on the rear end side of the suction unit 70 with respect to the second suction portion 703.

第4吸着部705は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、複数の吸引孔hcが形成されている。例えば、吸引孔hcは、第4吸着部705の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約80mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ8.0mmでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材701b側で隣接する別の所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約50mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ2.0mmでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔hcは、基板Sと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第4吸着部705の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第4吸着部705の下方の外部気体が吸引孔hcから吸引される。また、第4吸着部705は、第3吸着部704に対して支持部材701aおよび701bのさらに吸着ユニット70の後端側となる他方端付近に、その両端が固設される。   The fourth suction unit 705 has a plurality of suction holes hc formed on the lower surface (suction surface) facing the stacked substrate S. For example, the suction hole hc is a hole having a diameter of 1.0 mm between the center of a predetermined region (for example, width of about 10 mm × length of about 80 mm) set on the lower surface of the fourth suction portion 705 on the support member 701a side. A hole having a diameter of 1.0 mm is formed between the center of another predetermined region (for example, width of about 10 mm × length of about 50 mm) that is formed in a matrix at a pitch of 8.0 mm and is adjacent to the predetermined region on the support member 701b side. It is formed in a matrix with a pitch of 2.0 mm. As long as a plurality of the suction holes hc are formed at positions facing the substrate S, they may be formed in other modes. And the negative pressure controlled by the adsorption pressure control part 707 is supplied to the hollow inside of the 4th adsorption part 705, and the external gas under the 4th adsorption part 705 is attracted | sucked from the suction hole hc. The fourth suction portion 705 has both ends fixed to the third suction portion 704 in the vicinity of the other end of the support members 701a and 701b on the rear end side of the suction unit 70.

後端当接部材706は、吸着ユニット70の最も後端側に配設され、例えば、第4吸着部705の上記後端側に固設される。   The rear end abutting member 706 is disposed on the most rear end side of the suction unit 70, and is fixed to the rear end side of the fourth suction portion 705, for example.

吸着ユニット70は、その前端側に設けられた回転軸を中心に揺動可能に昇降支持部材72に支持される。上記回転軸は、第1〜第4吸着部702〜705が架設される方向に平行であり、例えば、図示O軸である。また、吸着ユニット70の後端側(例えば、第3吸着部704および第4吸着部705付近)には、揺動機構71が設けられている。揺動機構71は、吸着ユニット70の後端側と昇降支持部材72とを連結している。また、揺動機構71の内部には、上記制御部によってその回転角度が制御される揺動カムが設けられている。そして、上記制御部の制御に応じて揺動カムが回動することによって、吸着ユニット70の後端側と昇降支持部材72との距離が増減し、上記回転軸を中心に吸着ユニット70が図示E方向に揺動する。なお、吸着ユニット70を揺動させる機構は、他の態様でもかまわない。例えば、エアーシリンダ等の上下駆動を実現する機構を設けてもかまわない。また、上記回転軸を中心に直接吸着ユニット70を回転させるモータ等の回転機構を設けてもかまわない。   The suction unit 70 is supported by an elevating support member 72 so as to be swingable about a rotation shaft provided on the front end side thereof. The rotation axis is parallel to the direction in which the first to fourth suction portions 702 to 705 are installed, and is, for example, the O axis shown in the figure. A swing mechanism 71 is provided on the rear end side of the suction unit 70 (for example, in the vicinity of the third suction unit 704 and the fourth suction unit 705). The swing mechanism 71 connects the rear end side of the suction unit 70 and the lifting support member 72. Further, inside the swing mechanism 71, a swing cam whose rotation angle is controlled by the control unit is provided. Then, as the swing cam rotates in accordance with the control of the control unit, the distance between the rear end side of the suction unit 70 and the lifting support member 72 is increased or decreased, and the suction unit 70 is illustrated with the rotation shaft as the center. Swings in the E direction. Note that the mechanism for swinging the suction unit 70 may be in another form. For example, a mechanism for realizing vertical driving such as an air cylinder may be provided. Further, a rotation mechanism such as a motor for directly rotating the suction unit 70 around the rotation shaft may be provided.

昇降機構73は、上記制御部の制御に応じて、昇降支持部材72を図示F方向に昇降させる。また、基板供給部7は、供給対象となっている基板Sの積載高さ(基板Sの残量)を検知し、その高さ情報を上記制御部へ出力する高さセンサ(図示せず)を備えている。これによって、吸着ユニット70は、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面がそれぞれ第1基板搬送コンベア10上に積載された最上位置に載置された基板Stの一方主面と相対して近接する位置(基板吸着開始位置)と、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面で吸着した基板Stを搬送板74に受け渡す位置(基板吸引解除位置;図6に示す位置)との間を昇降動作することが可能となる。   The elevating mechanism 73 elevates and lowers the elevating support member 72 in the direction F in the figure in accordance with the control of the control unit. The substrate supply unit 7 detects a stacking height of the substrates S to be supplied (remaining amount of the substrates S), and outputs a height sensor (not shown) that outputs the height information to the control unit. It has. As a result, the suction unit 70 has the suction surfaces of the first to fourth suction portions 702 to 705 opposed to the one main surface of the substrate St placed on the uppermost position loaded on the first substrate transport conveyor 10. Position (substrate suction start position) and a position where the substrate St sucked by the suction surfaces of the first to fourth suction portions 702 to 705 is transferred to the transport plate 74 (substrate suction release position; position shown in FIG. 6). It is possible to move up and down.

なお、後述するフローチャートによる動作を開始する前に、供給対象となる基板Sが第1基板搬送コンベア10上に積載されて吸着ユニット70の下部空間となる所定位置に配置される。ここで、所定位置とは、吸着ユニット70が積載された基板Sに向かって下降したとき、第1吸着部702の吸着面が基板Sの長軸方向の上面前端部近傍と近接し、少なくとも第2吸着部703の吸着面が当該基板Sの他の上面領域と近接する位置であり、基板Sの短軸方向と第1〜第4吸着部702〜705の架設方向とが平行になる位置である。   In addition, before the operation | movement by the flowchart mentioned later is started, the board | substrate S used as supply object is loaded on the 1st board | substrate conveyance conveyor 10, and is arrange | positioned in the predetermined position used as the lower space of the adsorption | suction unit 70. FIG. Here, the predetermined position means that when the suction unit 70 is lowered toward the substrate S on which the suction unit 70 is loaded, the suction surface of the first suction unit 702 is close to the vicinity of the front end of the upper surface in the major axis direction of the substrate S, and In the position where the suction surface of the second suction part 703 is close to the other upper surface region of the substrate S, the short axis direction of the substrate S and the installation direction of the first to fourth suction parts 702 to 705 are parallel. is there.

図8を参照して、供給対象となる最大サイズの基板Smaxと最小サイズの基板Sminを一例として、第1吸着部702が近接して吸引孔haで吸引する範囲について説明する。なお、図8は、上記所定位置に配置された基板SmaxおよびSminの上面に対する第1吸着部702の吸引範囲の一例を示す図である。   With reference to FIG. 8, a description will be given of a range in which the first suction unit 702 approaches and sucks through the suction hole ha, taking the maximum size substrate Smax and the minimum size substrate Smin to be supplied as an example. FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a suction range of the first suction unit 702 with respect to the upper surfaces of the substrates Smax and Smin disposed at the predetermined positions.

図8において、上記所定位置に積載された基板Smaxに向かって吸着ユニット70が下降したとき、第1吸着部702の吸着面が基板Smaxの長軸方向の上面端部近傍と近接する。そして、第1吸着部702の複数の吸引孔haから吸引することによって、基板Smaxの上面端部近傍において、幅Wおよび長さLの領域が吸引されることになる。例えば、上述した吸引孔haの一例では、W=約10mm、L=約140mmとなる。一方、上述したように第1吸着部702の支持部材701a側に片寄った所定領域に複数の吸引孔haが形成されているために、最大サイズの基板Smaxでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域が第1吸着部702の吸引範囲となり、好ましくは当該一方側から基板Smaxの短軸方向の幅の約2/3まで範囲に当該吸引範囲が設定される。これは、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮した場合、第1吸着部702の吸引範囲が基板Sminの短軸方向の幅を超えることが考えられる。具体的には、基板Smaxの短軸方向の全幅を第1吸着部702の吸引範囲とした場合、基板Sminに対して吸引漏れが多くなるために吸引圧力を上げなければならなくなる。このような吸引圧力の調整を極力減らすために、最大サイズの基板Smaxでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域を第1吸着部702の吸引範囲に設定することが望ましい。なお、第1吸着部702の吸着面は、基板SmaxおよびSminの上面前端部近傍において、それぞれ短軸方向の全幅と当該吸着面とが当接するように配置される。   In FIG. 8, when the suction unit 70 is lowered toward the substrate Smax stacked at the predetermined position, the suction surface of the first suction unit 702 comes close to the vicinity of the upper end of the substrate Smax in the major axis direction. Then, by sucking from the plurality of suction holes ha of the first suction portion 702, the region having the width W and the length L is sucked in the vicinity of the upper end portion of the substrate Smax. For example, in the example of the suction hole ha described above, W = about 10 mm and L = about 140 mm. On the other hand, as described above, since the plurality of suction holes ha are formed in the predetermined region offset toward the support member 701a side of the first suction portion 702, in the maximum size substrate Smax, either one of the left and right sides in the vicinity of the front end portion of the upper surface. A region that is shifted to the side becomes the suction range of the first suction unit 702, and the suction range is preferably set in a range from the one side to about 2/3 of the width in the minor axis direction of the substrate Smax. In consideration of sucking the substrate Smin having the minimum size by the same first suction unit 702, the suction range of the first suction unit 702 may exceed the width of the substrate Smin in the minor axis direction. Specifically, when the entire width in the minor axis direction of the substrate Smax is set as the suction range of the first suction unit 702, the suction pressure must be increased because suction leakage increases with respect to the substrate Smin. In order to reduce the adjustment of the suction pressure as much as possible, it is desirable to set a region shifted to either the left or right side in the vicinity of the front end portion of the upper surface as the suction range of the first suction unit 702 in the maximum size substrate Smax. Note that the suction surface of the first suction unit 702 is disposed in the vicinity of the front end portions of the upper surfaces of the substrates Smax and Smin so that the full width in the minor axis direction and the suction surface are in contact with each other.

図6に戻り、搬送板移動機構75は、上記制御部の制御に応じて、搬送板74を図示G方向に水平移動させる。これによって、搬送板74は、吸着ユニット70が基板Stを吸着支持して上記基板吸引解除位置に配置されたとき、当該基板Stの下方位置(図6の破線で示す位置)に配置される。そして、吸着ユニット70による基板Stの吸着支持が解除されたとき、搬送板74の上面に基板Stが載置される。そして、搬送板74は、その上面に基板Stを載置した状態でA面検査吸着テーブル22の直下位置まで移動する。   Returning to FIG. 6, the transport plate moving mechanism 75 horizontally moves the transport plate 74 in the G direction in the drawing in accordance with the control of the control unit. Thereby, when the suction unit 70 sucks and supports the substrate St and is disposed at the substrate suction release position, the transport plate 74 is disposed at a position below the substrate St (a position indicated by a broken line in FIG. 6). When the suction support of the substrate St by the suction unit 70 is released, the substrate St is placed on the upper surface of the transport plate 74. Then, the transport plate 74 moves to a position directly below the A-side inspection suction table 22 with the substrate St placed on the upper surface thereof.

次に、図9〜図15を参照して、基板供給部7の動作について説明する。なお、図9は、基板供給部7からA面検査吸着テーブル22a〜22dの何れかに基板Sを供給する動作を示すフローチャートである。図10〜図15は、それぞれ図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態を段階的に示した模式図である。   Next, the operation of the substrate supply unit 7 will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a flowchart showing an operation of supplying the substrate S from the substrate supply unit 7 to any of the A-surface inspection suction tables 22a to 22d. 10 to 15 are schematic views showing in stages the state in which the substrate supply unit 7 operates based on the operation of the flowchart shown in FIG.

図9において、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、第1基板搬送コンベア10上に積載されて供給対象となっている基板Sに対して、その最上位置に載置された基板Stと吸着ユニット70の吸着面とを近接させる位置(基板吸着開始位置)に昇降支持部材72を下降させる(ステップS50)。例えば、基板検査装置1の制御部は、上記高さセンサから出力される高さ情報を用いて、現在供給対象となっている基板Sの積載高さ(基板Sの残量)を算出し、当該積載高さに応じて吸着ユニット70を下降させる基板吸着開始位置を決定する。そして、図10に示すように、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、吸着ユニット70が基板吸着開始位置に配置されるように図示E1方向に昇降支持部材72を下降させる。これによって、第1吸着部702の吸着面が、最上位置に積載された基板Stの長軸方向の端部近傍と近接する。このとき、後述するステップによる動作で明らかとなるが、揺動機構71は、吸着ユニット70の吸着面が水平になるように動作しているため、当該吸着面と最上位置の基板Stの主面とが平行な状態で近接する。   In FIG. 9, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 drives the lifting mechanism 73 to place the substrate S loaded on the first substrate transport conveyor 10 and to be supplied at the uppermost position. The elevating support member 72 is lowered to a position (substrate adsorption start position) where the substrate St and the adsorption surface of the adsorption unit 70 are brought close to each other (step S50). For example, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 calculates the stacking height of the substrate S currently being supplied (the remaining amount of the substrate S) using the height information output from the height sensor, A substrate suction start position for lowering the suction unit 70 is determined according to the loading height. Then, as shown in FIG. 10, the controller of the substrate inspection apparatus 1 drives the elevating mechanism 73 to lower the elevating support member 72 in the E1 direction so that the adsorption unit 70 is disposed at the substrate adsorption start position. Let As a result, the suction surface of the first suction unit 702 comes close to the vicinity of the end in the long axis direction of the substrate St stacked at the uppermost position. At this time, as will be apparent from the operation in the steps described later, the swing mechanism 71 operates so that the suction surface of the suction unit 70 is horizontal, and therefore, the suction surface and the main surface of the uppermost substrate St. Are close to each other in parallel.

次に、基板検査装置1の制御部は、ブロア90の駆動および吸着圧制御部707の動作を制御して、第1吸着部702に負圧を供給する。これによって、第1吸着部702の吸着面に形成された複数の吸引孔ha(図7参照)へ最上位置の基板Stの端部が吸引され、第1吸着部702の吸着面と基板Stの上面前端部とが当接する(ステップS51;図8参照)。これによって、第2〜第4吸着部703〜705の吸着面および後端当接部材706と基板Stの上面とも接する状態となる。このとき、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707を制御して、第1吸着圧の負圧を第1吸着部702に供給する。第1吸着圧は、1枚の基板Stの端部を持ち上げることができる程度の負圧であり、後述する第2吸着圧より弱い負圧である。例えば、第1吸着圧は、厚さ1.6mm、サイズ95mm×130mm、重量45gの基板Stに対して、90mmの幅で吸着してその端部を持ち上げる場合、3〜5mmHgである。なお、図10では、第1吸着圧が発生している状態を第1吸着部702内部の実線矢印で示している。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the drive of the blower 90 and the operation of the adsorption pressure control unit 707 to supply negative pressure to the first adsorption unit 702. As a result, the ends of the uppermost substrate St are sucked into a plurality of suction holes ha (see FIG. 7) formed in the suction surface of the first suction unit 702, and the suction surface of the first suction unit 702 and the substrate St The front end of the upper surface comes into contact (step S51; see FIG. 8). Accordingly, the suction surfaces of the second to fourth suction portions 703 to 705 and the rear end contact member 706 are brought into contact with the upper surface of the substrate St. At this time, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the adsorption pressure control unit 707 to supply a negative pressure of the first adsorption pressure to the first adsorption unit 702. The first adsorption pressure is a negative pressure that can lift the end of one substrate St, and is a negative pressure that is weaker than a second adsorption pressure described later. For example, the first adsorption pressure is 3 to 5 mmHg when the substrate St having a thickness of 1.6 mm, a size of 95 mm × 130 mm, and a weight of 45 g is adsorbed with a width of 90 mm and its end is lifted. In FIG. 10, a state where the first adsorption pressure is generated is indicated by a solid line arrow inside the first adsorption unit 702.

次に、基板検査装置1の制御部は、揺動機構71の揺動カムを回転させて、吸着ユニット70が下方向(図10において反時計回り方向)に所定の角度まで揺動可能な状態にする(ステップS52)。このとき、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面および後端当接部材706と最上位置に積載された基板Stの上面とが接した状態であるため、吸着ユニット70は、基板Stと同様の水平状態が維持される(図10の状態)。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 rotates the swing cam of the swing mechanism 71 so that the suction unit 70 can swing downward (counterclockwise in FIG. 10) to a predetermined angle. (Step S52). At this time, since the suction surfaces of the first to fourth suction portions 702 to 705 and the rear end abutting member 706 are in contact with the upper surface of the substrate St stacked at the uppermost position, the suction unit 70 is connected to the substrate St. The horizontal state is maintained (the state of FIG. 10).

次に、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、昇降支持部材72を上昇させる(ステップS53)。例えば、図11に示すように、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、図示E2方向に昇降支持部材72を上昇させる。この昇降支持部材72を上昇に応じて、最上位置に積載された基板Stの前端部が第1吸着部702に吸着された状態で持ち上がる。一方、吸着ユニット70等の自重によって、上記所定の角度となるまで当該吸着ユニット70が上記下方向(図示F1方向)に揺動するため、基板Stの後端は、積載された他の基板Sと接した状態となる。つまり、基板Stは、他の基板Sから前端のみが引き上げられ、当該基板Stと他の基板Sとの間に隙間が形成される(図11の状態)。   Next, the control part of the board | substrate inspection apparatus 1 drives the raising / lowering mechanism 73, and raises the raising / lowering support member 72 (step S53). For example, as shown in FIG. 11, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 drives the lifting mechanism 73 to lift the lifting support member 72 in the direction E2 in the drawing. As the elevating support member 72 is raised, the front end portion of the substrate St stacked at the uppermost position is lifted while being adsorbed by the first adsorption portion 702. On the other hand, the suction unit 70 swings downward (in the direction F1 in the drawing) until the predetermined angle is reached due to the weight of the suction unit 70 and the like, so that the rear end of the substrate St is placed on another stacked substrate S. It will be in contact with. That is, only the front end of the substrate St is pulled up from the other substrate S, and a gap is formed between the substrate St and the other substrate S (state of FIG. 11).

次に、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第2〜第4吸着部703〜705に負圧を供給する(ステップS54)。これによって、第2〜第4吸着部703〜705の吸着面に形成された複数の吸引孔hbまたはhc(図7参照)へ最上位置の基板Stの端部が吸引され、基板Stが第1〜第4吸着部702〜705によって確実に吸着固定される(図12の状態)。このとき、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707を制御して、第2吸着圧の負圧を第2〜第4吸着部703〜705に供給する。第2吸着圧は、基板Stを確実に吸着固定して全体を持ち上げることができる負圧であり、上記第1吸着圧より強い負圧である。例えば、第2吸着圧は、厚さ1.6mm、サイズ95mm×130mm、重量45gの基板Stに対して、90mmの幅で吸着して全体を持ち上げる場合、10mmHg以上である。なお、図12では、第2吸着圧が発生している状態を第2〜第4吸着部703〜705内部の白抜き矢印で示している。   Next, the control part of the board | substrate inspection apparatus 1 controls the operation | movement of the adsorption pressure control part 707, and supplies a negative pressure to the 2nd-4th adsorption parts 703-705 (step S54). As a result, the end of the uppermost substrate St is sucked into the plurality of suction holes hb or hc (see FIG. 7) formed on the suction surfaces of the second to fourth suction portions 703 to 705, and the substrate St is the first. To be securely fixed by the fourth suction portions 702 to 705 (state shown in FIG. 12). At this time, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the adsorption pressure control unit 707 to supply the negative pressure of the second adsorption pressure to the second to fourth adsorption units 703 to 705. The second adsorption pressure is a negative pressure that can reliably adsorb and fix the substrate St and lift the whole, and is a negative pressure stronger than the first adsorption pressure. For example, the second adsorption pressure is 10 mmHg or more when the substrate St having a thickness of 1.6 mm, a size of 95 mm × 130 mm, and a weight of 45 g is adsorbed with a width of 90 mm to lift the whole. In addition, in FIG. 12, the state in which the 2nd adsorption pressure has generate | occur | produced is shown with the white arrow inside the 2nd-4th adsorption | suction part 703-705.

ここで、基板Stには、背景技術で説明したようにスルーホールTHやスリットSLなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されている。しかしながら、最上位置の基板Stと最上位置から2枚目の基板Sとの間に隙間が形成されているため、基板Stと2枚目の基板Sとが互いに密着することはなく、当該最上位置の基板Stに対してのみ吸引力が大きく作用する。   Here, as described in the background art, the substrate St is formed with a plurality of holes penetrating the front and back, such as the through holes TH and the slits SL. However, since a gap is formed between the uppermost substrate St and the second substrate S from the uppermost position, the substrate St and the second substrate S are not in close contact with each other. A large suction force acts only on the substrate St.

次に、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第1吸着部702への供給圧を第1吸着圧から第2吸着圧に変更する(ステップS55)。そして、基板検査装置1の制御部は、揺動機構71の揺動カムを回転させて吸着ユニット70を水平状態まで揺動させ(ステップS56)、昇降機構73をさらに駆動して吸着ユニット70を上記基板吸引解除位置に配置する(ステップS57;図13の状態)。例えば、図13に示すように、上記制御部が揺動カムを回転させることによって、吸着ユニット70が図示F2方向に揺動して水平状態となる。そして、上記制御部が昇降機構73をさらに駆動して図示E3方向に昇降支持部材72をさらに上昇させ、吸着ユニット70を上記基板吸引解除位置に配置する。これによって、吸着ユニット70に吸着固定された基板Stは、水平状態で基板吸引解除位置に配置されることになる。なお、図13では、第2吸着圧に変更された第1吸着部702の状態を内部の白抜き矢印で示している。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the operation of the adsorption pressure control unit 707 to change the supply pressure to the first adsorption unit 702 from the first adsorption pressure to the second adsorption pressure (step S55). . Then, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 rotates the swing cam of the swing mechanism 71 to swing the suction unit 70 to the horizontal state (step S56), and further drives the lifting mechanism 73 to move the suction unit 70. It arrange | positions in the said board | substrate suction cancellation | release position (step S57; state of FIG. 13). For example, as shown in FIG. 13, when the control unit rotates the swing cam, the suction unit 70 swings in the direction F2 in the drawing and becomes horizontal. Then, the controller further drives the lifting mechanism 73 to further lift the lifting support member 72 in the direction E3 in the drawing, and the suction unit 70 is disposed at the substrate suction release position. As a result, the substrate St sucked and fixed to the suction unit 70 is placed in the substrate suction release position in a horizontal state. In FIG. 13, the state of the first suction portion 702 that has been changed to the second suction pressure is indicated by an internal white arrow.

次に、基板検査装置1の制御部は、搬送板移動機構75を制御して、搬送板74を吸着ユニット70の下方位置まで移動させる(ステップS58)。そして、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第1〜第4吸着部702〜705に供給している負圧を停止する(ステップS59;図14の状態)。これによって、吸着ユニット70に吸着固定されていた基板Stが、搬送板74上に載置される。例えば、図14に示すように、上記制御部が搬送板74を図示G1方向に移動させて、基板Stを吸着固定した吸着ユニット70の下方位置に当該搬送板74を配置する。そして、第1〜第4吸着部702〜705に供給している負圧を停止することによって、吸着固定されていた基板Stが搬送板74の上面に載置される。なお、図14において、第1〜第4吸着部702〜705内部の無印は、負圧が供給されていない状態を示している。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the transport plate moving mechanism 75 to move the transport plate 74 to a position below the suction unit 70 (step S58). And the control part of the board | substrate inspection apparatus 1 controls the operation | movement of the adsorption pressure control part 707, and stops the negative pressure currently supplied to the 1st-4th adsorption parts 702-705 (step S59; FIG. 14) Status). As a result, the substrate St that has been suction-fixed to the suction unit 70 is placed on the transport plate 74. For example, as shown in FIG. 14, the control unit moves the transport plate 74 in the G1 direction in the figure, and places the transport plate 74 at a position below the suction unit 70 to which the substrate St is sucked and fixed. Then, by stopping the negative pressure supplied to the first to fourth suction units 702 to 705, the suction-fixed substrate St is placed on the upper surface of the transport plate 74. In addition, in FIG. 14, the inside of the 1st-4th adsorption | suction part 702-705 has shown the state by which the negative pressure is not supplied.

次に、基板検査装置1の制御部は、搬送板移動機構75を制御して、搬送板74をA面検査吸着テーブル22の直下位置となる基板供給位置まで移動させる(ステップS60;図15の状態)。例えば、図15に示すように、上記制御部が搬送板74を図示G2方向に移動させて、上記基板供給位置まで当該搬送板74を移動させる。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 controls the transport plate moving mechanism 75 to move the transport plate 74 to a substrate supply position that is directly below the A-surface inspection suction table 22 (step S60; FIG. 15). Status). For example, as shown in FIG. 15, the control unit moves the transport plate 74 in the direction G <b> 2 in the drawing to move the transport plate 74 to the substrate supply position.

次に、基板検査装置1の制御部は、全てのエアーシリンダ23a〜23dおよび33a〜33dを伸ばす方向に動作させる(図3参照)ことによって、A面検査吸着テーブル22a〜22dのいずれか1つの吸着面が基板Stを載置した搬送板74の上方近傍に配置される。そして、A面検査吸着テーブル22が搬送板74上に載置された基板Stを吸引し、当該基板Stの一方主面(具体的にはB面)が当該A面検査吸着テーブル22の吸着面に真空吸着固定される(ステップS61)。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 operates any one of the A-side inspection suction tables 22a to 22d by operating all the air cylinders 23a to 23d and 33a to 33d in the extending direction (see FIG. 3). The suction surface is disposed in the vicinity of the upper portion of the transport plate 74 on which the substrate St is placed. Then, the A surface inspection suction table 22 sucks the substrate St placed on the transport plate 74, and one main surface (specifically, the B surface) of the substrate St is the suction surface of the A surface inspection suction table 22. (Step S61).

次に、基板検査装置1の制御部は、全てのエアーシリンダ23a〜23dおよび33a〜33dを縮める方向に動作させる(図1参照)。この動作によって、A面検査吸着テーブル22a〜22dおよびB面検査吸着テーブル32a〜32dが全て第1回転部材21および第2回転部材31の側面近傍に配置され、上記ステップS61においてA面検査吸着テーブル22の吸着面に真空吸着固定された基板Sが、基板供給部7からピックアップされる(ステップS62)。   Next, the control part of the board | substrate inspection apparatus 1 is operated in the direction which shrinks all the air cylinders 23a-23d and 33a-33d (refer FIG. 1). By this operation, the A-side inspection suction tables 22a to 22d and the B-side inspection suction tables 32a to 32d are all arranged in the vicinity of the side surfaces of the first rotating member 21 and the second rotating member 31, and the A-side inspection suction table in step S61. The substrate S fixed to the suction surface 22 by vacuum suction is picked up from the substrate supply unit 7 (step S62).

次に、基板検査装置1の制御部は、基板Sの供給を継続するか否かを判断する(ステップS63)。そして、制御部は、基板Sの供給を継続する場合、上記ステップS50に戻って処理を繰り返し、基板Sの供給を終了する場合、当該フローチャートによる処理を終了する。   Next, the control unit of the substrate inspection apparatus 1 determines whether or not to continue supplying the substrate S (step S63). When the supply of the substrate S is continued, the control unit returns to step S50 and repeats the process. When the supply of the substrate S is finished, the control unit ends the process according to the flowchart.

このように、基板供給部7では、積載された基板Sのうち、最上位置の基板Stの端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板Stを引き上げる力は、負圧による気体吸引を用いているために吸引力の経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板Stの端部近傍のみ吸着することによって、最上位置の基板Stのみを容易に剥離することができ、最上位置の基板Stと2枚目の基板S間が密着することなく隙間が形成された後、最上位置の基板Stのみが他の吸着部によって確実に吸着固定される。したがって、本発明の基板取出装置は、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。   In this way, the substrate supply unit 7 sucks and lifts only the vicinity of the end of the uppermost substrate St among the stacked substrates S. Since the force for pulling up the substrate St uses gas suction by negative pressure, the suction force does not change with time, and the maintenance required when using a conventional adhesive member or the like becomes unnecessary. Further, by adsorbing only the vicinity of the end portion of the uppermost substrate St, only the uppermost substrate St can be easily peeled off, and the uppermost substrate St and the second substrate S are not in close contact with each other. After the gap is formed, only the uppermost substrate St is reliably sucked and fixed by the other sucking portions. Therefore, the substrate take-out device of the present invention is placed on the uppermost position while preventing two substrates from being stacked, even if the substrate has a plurality of holes penetrating the front and back. Only the substrate can be taken out.

本発明において、最上位置の基板Stのみを他の基板Sから剥離できる本質的な要素は、上述したようにピックアップする基板Stの長手方向の端部のみを吸着するところにある。例えば、ピックアップする基板Stの中央部を吸着した場合、基板Stと他の基板Sとの密着力が強いために2枚の基板をピックアップしやすいが、長手方向端部のみを吸着することによって、基板Stと他の基板Sとの間に隙間が容易に形成される。   In the present invention, the essential element that allows only the uppermost substrate St to be peeled from the other substrate S is to adsorb only the longitudinal end of the substrate St to be picked up as described above. For example, when the central portion of the substrate St to be picked up is attracted, the adhesion between the substrate St and the other substrate S is strong, so it is easy to pick up two substrates, but by adsorbing only the end in the longitudinal direction, A gap is easily formed between the substrate St and another substrate S.

また、ピックアップされる基板Stの第1吸着部702の吸引範囲(図8参照)に対して、当該吸引範囲に含まれる基板Stの孔を総計した孔面積より、当該吸引範囲に含まれる第1吸着部702の吸引孔haの総面積が大きい程、2枚取りを防止する効果が高くなる。例えば、図16に示すように、最上位置の基板Stと他の基板Sとがずれて積載されている場合を考える。このとき、第1吸着部702の吸引孔haと基板Stの孔とが不一致の箇所については、当該吸引孔haの吸引力が基板Stのみに作用する(図示実線矢印)。一方、第1吸着部702の吸引孔haと基板Stの孔とが一致している箇所については、当該吸引孔haの吸引力が2枚目の基板S2に作用する(図示破線矢印)。つまり、2枚取りを防止する効果を高くして、最上位置の基板Stのみを確実にピックアップするためには、2枚目の基板S2に作用する吸引力を小さくしながら、吸引孔haと基板Stの孔とが不一致の箇所を多くすることが必要となる。例えば、第1吸着部702の吸引範囲に形成される吸引孔haの孔数をできるだけ多くすることによって基板Stに作用する吸引力を大きくして、第1吸着部702に供給する負圧を低く(例えば、上述した第1吸着圧)制御することによって基板Sに作用する吸引力を小さくすれば、2枚取りを防止しながら最上位置の基板Stのみを確実にピックアップする効果が高くなる。つまり、第1吸着部702の吸引範囲に形成される吸引孔haの孔数を多く(吸引孔haの総面積を大きく)することによって、2枚目の基板S2に作用する吸引力に対して基板Stに作用する吸引力の割合が増加する。また、第1吸着部702に供給する負圧を低く制御することによって、2枚目の基板S2に作用する吸引力の絶対量が低くなる。   Further, with respect to the suction range (see FIG. 8) of the first suction portion 702 of the substrate St to be picked up, the first area included in the suction range is based on the total hole area of the holes in the substrate St included in the suction range. The larger the total area of the suction holes ha of the suction part 702, the higher the effect of preventing the two-sheet removal. For example, as shown in FIG. 16, a case is considered in which the uppermost substrate St and another substrate S are stacked with being shifted. At this time, the suction force of the suction hole ha acts only on the substrate St at a location where the suction hole ha of the first suction portion 702 and the hole of the substrate St do not match (solid arrow in the figure). On the other hand, at the place where the suction hole ha of the first suction portion 702 and the hole of the substrate St coincide, the suction force of the suction hole ha acts on the second substrate S2 (broken arrow in the drawing). In other words, in order to increase the effect of preventing the two-sheet removal and reliably pick up only the uppermost substrate St, the suction hole ha and the substrate are reduced while reducing the suction force acting on the second substrate S2. It is necessary to increase the number of places where the St holes do not match. For example, the suction force acting on the substrate St is increased by increasing the number of suction holes ha formed in the suction range of the first suction unit 702 as much as possible, and the negative pressure supplied to the first suction unit 702 is reduced. If the suction force acting on the substrate S is reduced by controlling (for example, the above-described first adsorption pressure), the effect of reliably picking up only the uppermost substrate St is increased while preventing two substrates from being taken. That is, by increasing the number of suction holes ha formed in the suction range of the first suction portion 702 (increasing the total area of the suction holes ha), the suction force acting on the second substrate S2 is reduced. The ratio of the suction force acting on the substrate St increases. Further, by controlling the negative pressure supplied to the first suction unit 702 to be low, the absolute amount of the suction force acting on the second substrate S2 is reduced.

例えば、図17に示すように、複数の吸引孔haが形成された第1吸着部702と複数の貫通孔が形成された基板Stとを重ね合わせて考える。ここで、図17の下図においては、複数の吸引孔haが形成された第1吸着部702を実線で示し、複数の貫通孔が形成された基板Stを破線で示し、吸引孔haと貫通孔とが重複する領域を塗りつぶし領域で示している。図17から明らかなように、吸引孔haの面積に対して吸引孔haと貫通孔とが重複する面積の割合が相対的に低いため、基板Stに作用する吸引力に対して2枚目の基板S2に作用する吸引力が極めて低くなることがわかる。また、さらに吸引孔haの孔数を多くすることによって、基板Stに作用する吸引力に対して2枚目の基板S2に作用する吸引力の割合がさらに低くなることは明らかである。   For example, as shown in FIG. 17, a first suction portion 702 having a plurality of suction holes ha and a substrate St having a plurality of through holes are considered to overlap each other. Here, in the lower part of FIG. 17, the first suction part 702 in which a plurality of suction holes ha are formed is indicated by a solid line, the substrate St in which a plurality of through holes are formed is indicated by a broken line, and the suction holes ha and the through holes are illustrated. The area where and overlap is shown as a filled area. As apparent from FIG. 17, the ratio of the area where the suction hole ha and the through hole overlap with respect to the area of the suction hole ha is relatively low. It can be seen that the suction force acting on the substrate S2 is extremely low. Further, it is apparent that the ratio of the suction force acting on the second substrate S2 to the suction force acting on the substrate St is further reduced by increasing the number of suction holes ha.

上述した第1吸着部702の一例では、直径0.5mmの吸引孔haを中心間ピッチ1.5mmでマトリックス状に形成したが、他の態様でもかまわない。例えば、通常ブロア吸着に用いられる直径1.5mmの吸引孔であっても、上記支持部材701a側に設定された所定領域において孔加工可能な範囲で可能な限り吸引孔をマトリックス状に形成することによって、本発明を実現することができる。また、図18Aに示すように、吸引孔haを千鳥配置してもかまわない。吸引孔haを千鳥配置して形成することによって、さらに効率的に吸引孔haを配置できるため、上記所定領域内における孔数や孔総面積をさらに大きくすることができる。また、吸引孔haを千鳥配置して直径を0.5〜0.8mm程度に形成すれば、さらに効率的に吸引孔haを配置できることは言うまでもない。さらに、第1吸着部702の吸着面を多孔質結晶合金等で構成してもかまわない。   In the example of the first suction portion 702 described above, the suction holes ha having a diameter of 0.5 mm are formed in a matrix shape with a center-to-center pitch of 1.5 mm, but other modes may be used. For example, even in the case of a suction hole having a diameter of 1.5 mm that is normally used for suction of a blower, the suction holes are formed in a matrix shape as much as possible in a predetermined range set on the support member 701a side as long as the hole can be processed. Thus, the present invention can be realized. Further, as shown in FIG. 18A, the suction holes ha may be staggered. By forming the suction holes ha in a staggered arrangement, the suction holes ha can be more efficiently arranged, and therefore the number of holes and the total area of the holes in the predetermined region can be further increased. Needless to say, if the suction holes ha are staggered to have a diameter of about 0.5 to 0.8 mm, the suction holes ha can be arranged more efficiently. Furthermore, the adsorption surface of the first adsorption unit 702 may be made of a porous crystal alloy or the like.

また、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮して、当該基板Sminには当接しない吸着面に対しては、第1吸着部702における吸引孔haの数を少なくしてもかまわない。例えば、図18Bに示すように、最小サイズの基板Sminでも当接する第1吸着部702の吸着面に対しては、上述したように多数の吸引孔haを形成する。一方、そのサイズに応じて当接しない基板Sがあり得る第1吸着部702の吸着面に対しては、相対的に少数の吸引孔hbを形成する。さらに、基板Smin等サイズの小さな基板Sに対して吸引漏れが多い場合、吸着圧制御部707によって基板Sのサイズ別に吸引圧を制御してもかまわない。   In consideration of sucking the substrate Smin of the minimum size by the same first suction part 702, the number of suction holes ha in the first suction part 702 is set to the suction surface that does not contact the substrate Smin. You can reduce it. For example, as shown in FIG. 18B, as described above, a large number of suction holes ha are formed on the suction surface of the first suction unit 702 that abuts even on the smallest-sized substrate Smin. On the other hand, a relatively small number of suction holes hb are formed on the suction surface of the first suction portion 702 where there can be a substrate S that does not come into contact according to its size. Furthermore, when there are many suction leaks with respect to the small-sized substrate S such as the substrate Smin, the suction pressure control unit 707 may control the suction pressure for each size of the substrate S.

さらに、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮して、第1吸着部702における吸引孔haを複数のグループに分割して吸引圧を制御してもかまわない。例えば、図18Cに示すように、吸引孔haが形成されている第1吸着部702の吸着面を3つの領域Ar1〜Ar3に区分して、各領域Ar1〜Ar3に対して供給する負圧をそれぞれ独立して吸着圧制御部707が制御する。そして、供給対象となっている基板Sのサイズに応じて、各領域Ar1〜Ar3に供給する吸引圧を制御すれば、基板サイズに応じた適切な吸引圧を供給することができる。   Further, in consideration of sucking the substrate Smin of the minimum size by the same first suction part 702, the suction holes ha in the first suction part 702 may be divided into a plurality of groups to control the suction pressure. For example, as shown in FIG. 18C, the suction surface of the first suction portion 702 in which the suction hole ha is formed is divided into three regions Ar1 to Ar3, and the negative pressure supplied to each region Ar1 to Ar3 is set. The adsorption pressure control unit 707 controls each independently. And if the suction pressure supplied to each area | region Ar1-Ar3 is controlled according to the size of the board | substrate S used as supply object, the appropriate suction pressure according to a board | substrate size can be supplied.

なお、上述した説明では、搬送板74上に載置された基板Stが吸着ユニット70の後端側(つまり、後端当接部材706側)へ搬送される例を示したが、他の方向へ搬送されてもかまわない。例えば、搬送板74上に載置された基板Stが吸着ユニット70の前端側(つまり、第1吸着部702側)へ搬送されてもいいし、吸着ユニット70の左右方向へ搬送されてもかまわない。   In the above description, the substrate St placed on the transport plate 74 is transported to the rear end side of the suction unit 70 (that is, the rear end contact member 706 side). It may be transported to. For example, the substrate St placed on the transport plate 74 may be transported to the front end side (that is, the first suction unit 702 side) of the suction unit 70, or may be transported in the left-right direction of the suction unit 70. Absent.

また、上述した説明では、図8等に示したように、基板Stの前端に対して右側に片寄った端部が第1吸着部702の吸引範囲に設定される例を用いたが、他の位置に吸引範囲が設定されてもかまわない。第1吸着部702の吸引範囲は、各サイズの基板Stが共通して存在する前端部近傍であればよく、例えば、基板Stの前端に対して左側に片寄った端部や基板Stの前端の中央であってもかまわない。   In the above description, as shown in FIG. 8 and the like, an example is used in which the end that is offset to the right with respect to the front end of the substrate St is set as the suction range of the first suction unit 702. A suction range may be set for the position. The suction range of the first suction unit 702 may be in the vicinity of the front end where the substrates St of each size exist in common. For example, the end of the front end of the substrate St or the front end of the substrate St is offset. It does not matter even if it is in the center.

また、上述した説明では、第1吸着部702の他に3つの吸着部(第2〜第4吸着部703〜705)を設けたが、第1吸着部702による基板Stの吸着固定をサポートする機構は、他の態様でもかまわない。上述したように、第2〜第4吸着部703〜705は、第1吸着部702による吸着固定だけでは基板St全体を持ち上げる吸引力が不足する、または基板Stを吸着固定して引き上げる体勢が安定しないために設けられている。例えば、基板Stを吸着固定して安定して引き上げることができれば、第1吸着部702をサポートする他の吸着部は少なくとも1つあればよく、4つ以上の吸着部であってもかまわない。また、第1吸着部702をサポートする他の吸着部は、供給対象となる基板Stのほぼ全面を吸着するような大型の吸着面を有する吸着部であってもかまわない。   In the above description, three suction units (second to fourth suction units 703 to 705) are provided in addition to the first suction unit 702. However, the first suction unit 702 supports the suction and fixation of the substrate St. The mechanism may be in other modes. As described above, in the second to fourth suction units 703 to 705, the suction force for lifting the entire substrate St is insufficient only by the suction fixing by the first suction unit 702, or the posture to lift the substrate St by suction fixing is stable. It is provided to not. For example, as long as the substrate St can be sucked and fixed and can be stably pulled up, at least one other sucking portion that supports the first sucking portion 702 is sufficient, and four or more sucking portions may be used. Further, the other suction unit that supports the first suction unit 702 may be a suction unit having a large suction surface that sucks almost the entire surface of the substrate St to be supplied.

また、上述した説明では、吸着ユニット70を昇降させることによって、最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との隙間を形成し当該基板Stをピックアップしたが、最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との高さ方向の位置関係がそれぞれ相対的に拡大/縮小すれば、他の態様でもかまわない。例えば、積載された基板S自体を昇降させて最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との高さ方向の位置関係を拡大/縮小してもかまわない。   In the above description, the suction unit 70 is moved up and down to form a gap between the uppermost substrate St and the second substrate S2, and the substrate St is picked up. However, the uppermost substrate St and the second substrate St2 are picked up. Other modes may be used as long as the positional relationship in the height direction with the eye substrate S2 is relatively enlarged / reduced. For example, the stacked substrate S itself may be moved up and down to enlarge / reduce the positional relationship in the height direction between the uppermost substrate St and the second substrate S2.

また、上述した説明では、本発明の基板取出装置を複数の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用したが、他の装置に適用してもかまわない。例えば、単独の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用してもいいし、描画装置や他の処理を行う装置に適用してもかまわない。また、基板取出装置によって取り出す基板は、その両面の外観検査が必要な両面基板でなくてもかまわない。   In the above description, the substrate take-out device of the present invention is applied to a substrate inspection device having a plurality of inspection suction tables, but may be applied to other devices. For example, the present invention may be applied to a substrate inspection apparatus having a single inspection suction table, or may be applied to a drawing apparatus or other processing apparatus. Further, the substrate taken out by the substrate take-out device may not be a double-sided substrate that requires an appearance inspection on both sides.

本発明に係る基板取出装置およびその方法は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板に対して処理する装置などの用途に適用することができる。   The substrate take-out apparatus and method according to the present invention take out only the substrate placed at the uppermost position while preventing two substrates from being stacked while minimizing the maintenance work of the apparatus. And can be applied to uses such as an apparatus for processing a substrate on which a plurality of holes penetrating the front and back are formed.

本発明の一実施形態に係る基板検査装置1の概略的な構造を示す正面図1 is a front view showing a schematic structure of a substrate inspection apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. 図1の基板検査装置1の概略的な構造を示す上面図1 is a top view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus 1 of FIG. 図1のエアーシリンダ23および33が伸びた状態における基板検査装置1の概略的な構造を示す正面図1 is a front view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus 1 in a state where the air cylinders 23 and 33 of FIG. 1 are extended. 図1の基板検査装置1における空圧機構の概略的な構造を示す内部側面図1 is an internal side view showing a schematic structure of a pneumatic mechanism in the substrate inspection apparatus 1 of FIG. 図1の基板検査装置1における回転部材を回転駆動する機構の構造を示す背面図The rear view which shows the structure of the mechanism which rotationally drives the rotation member in the board | substrate inspection apparatus 1 of FIG. 図1の基板供給部7の概略構造を示す側面図1 is a side view showing a schematic structure of the substrate supply unit 7 of FIG. 図6の吸着ユニット70の下面図6 is a bottom view of the suction unit 70 of FIG. 所定位置に配置された基板SmaxおよびSminの上面に対する第1吸着部702の吸引範囲の一例を示す図The figure which shows an example of the suction range of the 1st adsorption | suction part 702 with respect to the upper surface of the board | substrates Smax and Smin arrange | positioned in a predetermined position. 基板供給部7からA面検査吸着テーブル22a〜22dの何れかに基板Sを供給する動作を示すフローチャートThe flowchart which shows the operation | movement which supplies the board | substrate S from the board | substrate supply part 7 to either A surface test | inspection adsorption | suction table 22a-22d. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第1段階を示した模式図The schematic diagram which showed the 1st step of the state which the board | substrate supply part 7 operate | moves based on the operation | movement of the flowchart shown in FIG. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第2段階を示した模式図FIG. 9 is a schematic diagram showing a second stage in a state where the substrate supply unit 7 operates based on the operation of the flowchart shown in FIG. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第3段階を示した模式図FIG. 9 is a schematic diagram showing a third stage of a state in which the substrate supply unit 7 operates based on the operation of the flowchart shown in FIG. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第4段階を示した模式図FIG. 9 is a schematic diagram showing a fourth stage in a state where the substrate supply unit 7 operates based on the operation of the flowchart shown in FIG. 9. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第5段階を示した模式図FIG. 9 is a schematic diagram showing a fifth stage in which the substrate supply unit 7 operates based on the operation of the flowchart shown in FIG. 図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態の第6段階を示した模式図The schematic diagram which showed the 6th step of the state which the board | substrate supply part 7 operate | moves based on operation | movement of the flowchart shown in FIG. 最上位置の基板Stと他の基板Sとがずれて積載されている場合に、それぞれの基板StおよびSに作用する吸引力を説明するための図FIG. 6 is a diagram for explaining the suction force acting on each of the substrates St and S when the uppermost substrate St and another substrate S are stacked with being shifted. 複数の吸引孔haが形成された第1吸着部702と複数の貫通孔が形成された基板Stとを重ね合わせた状態を示す図The figure which shows the state which accumulated the 1st adsorption | suction part 702 in which the several suction hole ha was formed, and the board | substrate St in which the several through-hole was formed. 第1吸着部702に形成される吸引孔haの第1の変形例を示す図The figure which shows the 1st modification of the suction hole ha formed in the 1st adsorption | suction part 702. 第1吸着部702に形成される吸引孔haの第2の変形例を示す図The figure which shows the 2nd modification of the suction hole ha formed in the 1st adsorption | suction part 702. 第1吸着部702に形成される吸引孔haの第3の変形例を示す図The figure which shows the 3rd modification of the suction hole ha formed in the 1st adsorption | suction part 702. 基板Sの一例を示す図The figure which shows an example of the board | substrate S 従来のブロア吸着方式の概略的な装置構造を示す断面図Sectional drawing which shows the schematic apparatus structure of the conventional blower adsorption system 従来のブロア吸着方式の概略的な装置構造を示す断面図Sectional drawing which shows the schematic apparatus structure of the conventional blower adsorption system 従来の粘着部材を用いた方式を概略的に示す断面図Sectional drawing which shows the system using the conventional adhesive member roughly 従来の粘着部材を用いた方式を概略的に示す断面図Sectional drawing which shows the system using the conventional adhesive member roughly

符号の説明Explanation of symbols

1…基板検査装置
2…第1検査ステージ
21…第1回転部材
22…A面検査吸着テーブル
23、33…エアーシリンダ
24…第1回転軸
25、35…タイミングプーリ
3…第2検査ステージ
31…第2回転部材
32…B面検査吸着テーブル
34…第2回転軸
4…A面検査ヘッド
41、51…スリット
5…B面検査ヘッド
6…フレーム
61…検査ヘッド梁
62…直動軸受
621…レール
622…スライドブロック
63…本体ベース
64…当接部材
65…ボールネジ
651…直動モータ
7…基板供給部
70…吸着ユニット
701…支持部材
702…第1吸着部
703…第2吸着部
704…第3吸着部
705…第4吸着部
706…後端当接部材
707…吸着圧制御部
71…揺動機構
72…昇降支持部材
73…昇降機構
74…搬送板
75…搬送板移動機構
8…基板収納部
81…基板ケース
82…昇降テーブル
83…ターンテーブル
84…第1搬出コンベア
85…第2搬出コンベア
90…ブロア
91…主配管
92…空圧切替部
93…吸着配管
94…シリンダ配管
95…コンプレッサ
101…回転駆動モータ
102…プーリ
103…タイミングベルト
104、105…テンションプーリ
10…第1基板搬送コンベア
11…第2基板搬送コンベア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate inspection apparatus 2 ... 1st test | inspection stage 21 ... 1st rotation member 22 ... A surface test | inspection adsorption | suction table 23, 33 ... Air cylinder 24 ... 1st rotating shaft 25, 35 ... Timing pulley 3 ... 2nd test | inspection stage 31 ... Second rotating member 32 ... B surface inspection suction table 34 ... Second rotating shaft 4 ... A surface inspection head 41, 51 ... Slit 5 ... B surface inspection head 6 ... Frame 61 ... Inspection head beam 62 ... Linear motion bearing 621 ... Rail 622 ... Slide block 63 ... Main body base 64 ... Abutting member 65 ... Ball screw 651 ... Linear motor 7 ... Substrate supply unit 70 ... Adsorption unit 701 ... Support member 702 ... First adsorption unit 703 ... Second adsorption unit 704 ... Third Suction part 705 ... fourth suction part 706 ... rear end contact member 707 ... suction pressure control part 71 ... swing mechanism 72 ... elevating support member 73 ... elevating mechanism 74 ... transport plate 75 ... transport plate movement Structure 8 ... Substrate storage part 81 ... Substrate case 82 ... Elevating table 83 ... Turntable 84 ... First carry-out conveyor 85 ... Second carry-out conveyor 90 ... Blower 91 ... Main pipe 92 ... Air pressure switching part 93 ... Adsorption pipe 94 ... Cylinder Pipe 95 ... Compressor 101 ... Rotation drive motor 102 ... Pulley 103 ... Timing belt 104, 105 ... Tension pulley 10 ... First substrate transport conveyor 11 ... Second substrate transport conveyor

Claims (10)

積載された基板から基板を取り出す基板取出装置であって、
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第1吸着部を少なくとも備える吸着ユニットと、
前記吸着ユニットを昇降する昇降機構とを備え、
前記昇降機構は、前記第1吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで前記吸着ユニットを下降させ、
前記第1吸着部は、その吸着面を前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させ、
前記昇降機構は、前記第1吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記吸着ユニットを上昇させる、基板取出装置。
A substrate take-out device that removes a substrate from a loaded substrate,
A suction unit including at least a first suction unit that sucks only the vicinity of the upper surface end portion of the uppermost substrate mounted on the suction surface;
An elevating mechanism for elevating the adsorption unit,
The elevating mechanism lowers the adsorption unit to a position where the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are close to each other,
The first adsorption unit adsorbs the adsorption surface in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate,
The lifting mechanism raises the suction unit in a state where the suction surface of the first suction part is sucked near the upper surface end of the uppermost substrate.
前記第1吸着部の吸着面には、外部の気体を吸引する複数の吸引孔が格子配列または千鳥配列で形成されている、請求項1に記載の基板取出装置。   The substrate take-out apparatus according to claim 1, wherein a plurality of suction holes for sucking an external gas are formed in a lattice arrangement or a staggered arrangement on the adsorption surface of the first adsorption unit. 前記基板は、複数の貫通孔を有しており、
前記第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、当該吸着面が吸着する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項2に記載の基板取出装置。
The substrate has a plurality of through holes,
The substrate extraction according to claim 2, wherein a total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction unit is wider than a total area of the through holes of the substrate formed in a portion where the suction surface is suctioned. apparatus.
前記基板は、複数の貫通孔を有しており、
前記吸引孔は、前記第1吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成され、
前記第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、前記吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項2に記載の基板取出装置。
The substrate has a plurality of through holes,
The suction holes are all formed in a partial region included in the suction surface of the first suction part,
The total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed in a portion where the region where the suction holes are formed contacts. The board take-out device described in 1.
前記吸引孔は、前記第1吸着部の吸着面を複数に分割した領域に対して、それぞれ異なった孔数密度で形成される、請求項2に記載の基板取出装置。   The substrate extraction apparatus according to claim 2, wherein the suction holes are formed with different hole number densities in a region obtained by dividing the suction surface of the first suction part into a plurality of parts. 前記吸着ユニットは、前記最上位置の基板の上面に対して、前記第1吸着部が吸着する領域とは異なる領域をその吸着面で吸着する第2吸着部を、さらに含み、
前記第2吸着部は、前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を前記最上位置の基板の上面に吸着させる、請求項1に記載の基板取出装置。
The adsorption unit further includes a second adsorption unit that adsorbs, on the adsorption surface, an area different from an area adsorbed by the first adsorption unit with respect to the upper surface of the uppermost substrate.
The second adsorbing unit adsorbs the adsorbing surface to the upper surface of the uppermost substrate when a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the raising operation of the elevating mechanism. The substrate take-out device according to claim 1.
前記第1吸着部の吸着面の長軸方向を中心として、前記吸着ユニットを揺動する揺動機構を、さらに備える、請求項6に記載の基板取出装置。   The substrate take-out apparatus according to claim 6, further comprising a swinging mechanism that swings the suction unit around a major axis direction of the suction surface of the first suction unit. 前記吸着ユニットは、前記第1吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面前端部近傍に吸着したとき、当該基板の後端と当接する後端当接部材を、さらに含む、請求項7に記載の基板取出装置。   The suction unit further includes a rear end abutting member that comes into contact with a rear end of the substrate when the suction surface of the first suction portion is sucked near the upper surface front end of the uppermost substrate. The board take-out device described in 1. 前記第1吸着部および前記第2吸着部に供給する吸引圧を制御する吸着圧制御部を、さらに備え、
前記吸着圧制御部は、
前記第1吸着部が前記最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第1の吸引圧を当該第1吸着部に供給し、
前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、前記第1の吸引圧より強い第2の吸引圧を前記第1の吸着部および前記第2吸着部に供給する、請求項6に記載の基板取出装置。
An adsorption pressure control unit that controls the suction pressure supplied to the first adsorption unit and the second adsorption unit;
The adsorption pressure control unit
When the first suction part sucks the vicinity of the upper end of the uppermost substrate, the first suction pressure is supplied to the first suction part,
When a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the lifting operation of the lifting mechanism, a second suction pressure that is stronger than the first suction pressure is applied to the first suction unit. The substrate take-out apparatus according to claim 6, wherein the substrate take-out device is supplied to the second suction unit.
積載された基板から基板を取り出す基板取出方法であって、
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第1吸着部を下降させて、当該第1吸着部の吸着面と当該最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる下降ステップと、
前記第1吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる吸着ステップと、
前記第1吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記第1吸着部を上昇させる上昇ステップとを含む、基板取出方法。
A substrate removal method for removing a substrate from a loaded substrate,
A lowering step of lowering the first suction part that sucks only the vicinity of the upper surface end of the stacked uppermost substrate and bringing the suction surface of the first suction part close to the upper surface end of the uppermost substrate. When,
An adsorption step for adsorbing the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate;
And a raising step of raising the first adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.
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