JP2008087883A - Substrate taking-out device and method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板取出装置およびその方法に関し、より特定的には、積載された基板を1枚ずつ取り出す基板取出装置およびその方法に関する。 The present invention relates to a substrate take-out apparatus and a method thereof, and more particularly to a substrate take-out apparatus and a method therefor that take out stacked substrates one by one.
従来、積載されたシート状の部材から、最上位置の部材を1枚ずつ給版する装置では、2枚以上同時に給版することを防止することが必要となる。例えば、図19に示すように、上述したように積載されるシート状の部材として、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板などの基板Sを想定する。基板Sは、スルーホールTH(図中の塗りつぶし領域)やスリットSL(図中の斜線領域)などの表裏を貫通する複数の孔が多数形成されている。このような基板Sが積載された基板供給部から、最上位置に載置された基板Sを例えば全面真空吸着することによってピックアップする場合、2枚目以下の基板Sにも強い吸着力が生じるときがある。 Conventionally, it is necessary to prevent two or more sheets from being fed simultaneously in an apparatus that feeds the uppermost member one by one from the stacked sheet-like members. For example, as shown in FIG. 19, a substrate S such as a printed circuit board for mounting an electronic component such as a semiconductor device is assumed as the sheet-like member stacked as described above. The substrate S is formed with a plurality of holes penetrating the front and back, such as through holes TH (filled regions in the drawing) and slits SL (shaded regions in the drawing). When picking up the substrate S placed at the uppermost position by vacuum suction, for example, from the substrate supply unit loaded with such a substrate S, when a strong suction force is generated on the second and subsequent substrates S as well. There is.
例えば、図20Aおよび図20Bに示すように、基板ケース502内に積載された基板Sが、吸着テーブル501の吸着面に真空吸着されるブロア吸着方式を説明する。なお、図20Aおよび図20Bは、ブロア吸着方式の概略的な装置構造を断面図で示している。吸着テーブル501の吸着面には、複数の吸引孔が形成されている。複数の吸引孔は、ブロア(図示せず)によって吸引されており、吸着テーブル501の吸着面が基板ケース502の開口部付近に配置された場合、基板ケース502の内部に負圧が発生する。そして、最上位置の基板Sは、吸着テーブル501からの吸引力によって吸着面に真空吸着され、基板ケース502からピックアップされる。
For example, as shown in FIGS. 20A and 20B, a blower suction method in which the substrate S loaded in the
しかしながら、図20Aに示すように、基板SにはスルーホールTHやスリットSLなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されているため、吸着テーブル501からの吸引力が2枚目以降の基板Sにも回り込んで作用する。例えば、最上位置および最上位置から2枚目の基板Sが互いに隙間なく密着しており、3枚目の基板Sに反りが生じている場合、当該2枚目の基板Sに対する吸引力が大きく作用する。これは、最上位置の基板Sと吸着テーブル501との間がブロア吸引によって負圧となり、2枚目と3枚目との基板Sの隙間が正圧(大気圧)となるため、最上位置および2枚目の基板Sが浮き上がりやすくなるためである。また、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとにずれが生じた場合も、最上位置の基板Sに形成されたスルーホールTHやスリットSLが吸着テーブル501の吸引孔と同様に作用するため、2枚目の基板Sが浮き上がりやすくなる。これによって、図20Bに示すように、最上位置および2枚目の基板Sが同時にピックアップされて吸着テーブル501の吸着面に真空吸着されてしまう。 However, as shown in FIG. 20A, since the substrate S has a plurality of holes penetrating the front and back, such as through holes TH and slits SL, the suction force from the suction table 501 is the second and subsequent substrates S. It also works around. For example, when the uppermost position and the second substrate S from the uppermost position are in close contact with each other and the third substrate S is warped, the suction force with respect to the second substrate S is greatly affected. To do. This is because a negative pressure is generated between the uppermost substrate S and the suction table 501 by blower suction, and a gap between the second and third substrates S is a positive pressure (atmospheric pressure). This is because the second substrate S is easily lifted. Further, even when a deviation occurs between the uppermost substrate S and the second substrate S, the through holes TH and slits SL formed in the uppermost substrate S act similarly to the suction holes of the suction table 501. Therefore, the second substrate S is easily lifted. As a result, as shown in FIG. 20B, the uppermost position and the second substrate S are simultaneously picked up and vacuum-sucked onto the suction surface of the suction table 501.
このような最上位置から2枚目以下の部材を分離する方法として、粘着部材を用いる基板取出装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。図21Aおよび図21Bに示すように、上記基板取出装置は、昇降テーブル505上に積載された基板Sに対して、粘着部材504を下方に露出させた状態で粘着部材アーム503を当該基板S上に突出させる。そして、積載された最上位置に配置された基板Sの上面と粘着部材504とを当接させる(図21Aの状態)。そして、昇降テーブル505を下降させることによって、最上位置の基板Sと他の基板Sとの間に隙間が形成される(図21Bの状態)。その後、この隙間に挟入部材等を挿入して上部から基板Sを吸引することによって、最上位置の基板Sのみを吸引する。上記基板取出装置は、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとが一致して重なっている場合のみならず、最上位置の基板Sと2枚目の基板Sとにずれが生じた場合でも、最上位置の基板Sのみ取り出すことが可能である。
しかしながら、上記特許文献1で開示された基板取出装置では、粘着部材504が有する粘着力の低下が問題となる。例えば、基板S自体は、その端部等から繊維くず等の異物が発生するものであり、当該異物が粘着部材504に粘着することによって粘着部材504の粘着力が低下する。このような粘着力の低下が進行すると、最上位置の基板Sのみを粘着して他の基板Sから引き離すことができなくなるため、粘着部材504の連続使用回数が限られてしまう。したがって、上記基板取出装置では、粘着部材504のメンテナンスが必要となり、より具体的には、粘着部材504の粘着力が低下した際にその粘着力をリフレッシュする作業が必要となる。
However, in the substrate take-out device disclosed in
また、吸着面積が小さい吸着パッドなどを用いて、基板Sの一部を真空吸着してピックアップする方式も考えられる。しかしながら、この方式では、スルーホールTHやスリットSLが形成されていない部位と吸着パッドとを当接させる必要があるため、供給する基板Sの形状に合わせて吸着パッドの位置を調整することが必要となる。したがって、この調整に要する作業が基板毎に必要となる。また、基板Sの一部を真空吸着するため、集中的な応力が基板Sに加わることとなり、基板Sに生じる変形や汚損の原因となる。さらに、基板Sの形状によっては、吸着パッドを当接するために適切な貫通孔がない部位がなく、ピックアップできない可能性もある。 Further, a method of picking up a part of the substrate S by vacuum suction using a suction pad having a small suction area is also conceivable. However, in this method, it is necessary to bring the suction pad into contact with a portion where the through hole TH or the slit SL is not formed, so it is necessary to adjust the position of the suction pad according to the shape of the substrate S to be supplied. It becomes. Therefore, the work required for this adjustment is required for each substrate. Further, since a part of the substrate S is vacuum-sucked, intensive stress is applied to the substrate S, which causes deformation and contamination of the substrate S. Furthermore, depending on the shape of the substrate S, there is no portion without an appropriate through-hole for contacting the suction pad, and there is a possibility that pickup cannot be performed.
それ故に、本発明の目的は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、2枚取りを防止して積載された最上位置の基板のみを取り出す基板取出装置およびその方法を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate take-out apparatus and method for taking out only the uppermost substrate loaded while preventing two sheets from being removed while minimizing maintenance work of the apparatus.
上記目的を達成するために、本発明は、以下に述べるような特徴を有している。
第1の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出装置である。基板取出装置は、吸着ユニットおよび昇降機構を備える。吸着ユニットは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第1吸着部を少なくとも備える。昇降機構は、吸着ユニットを昇降する。昇降機構は、第1吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで吸着ユニットを下降させる。第1吸着部は、その吸着面を最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させる。昇降機構は、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを上昇させる。
In order to achieve the above object, the present invention has the following features.
1st invention is the board | substrate extraction apparatus which takes out a board | substrate from the mounted board | substrate. The substrate take-out device includes a suction unit and a lifting mechanism. The adsorption unit includes at least a first adsorption unit that adsorbs only the vicinity of the upper surface end portion of the stacked uppermost substrate with the adsorption surface. The lifting mechanism moves the suction unit up and down. The elevating mechanism lowers the suction unit to a position where the suction surface of the first suction portion and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are close to each other. The first adsorption unit adsorbs the adsorption surface in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate. The elevating mechanism raises the adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.
第2の発明は、上記第1の発明において、第1吸着部の吸着面には、外部の気体を吸引する複数の吸引孔が格子配列または千鳥配列で形成されている。 In a second aspect based on the first aspect, a plurality of suction holes for sucking an external gas are formed in a lattice arrangement or a staggered arrangement on the adsorption surface of the first adsorption section.
第3の発明は、上記第2の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、その吸着面が吸着する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。 In a third aspect based on the second aspect, the substrate has a plurality of through holes. The total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed in the portion where the suction surface is sucked.
第4の発明は、上記第2の発明において、基板は、複数の貫通孔を有している。吸引孔は、第1吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成される。第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている基板の貫通孔の総面積より広い。 In a fourth aspect based on the second aspect, the substrate has a plurality of through holes. The suction holes are all formed in a partial region included in the suction surface of the first suction part. The total area of the suction holes formed on the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed at the site where the region where the suction holes are formed contacts.
第5の発明は、上記第2の発明において、吸引孔は、第1吸着部の吸着面を複数に分割した領域に対して、それぞれ異なった孔数密度で形成される。 In a fifth aspect based on the second aspect, the suction holes are formed with different hole number densities with respect to a region obtained by dividing the suction surface of the first suction portion into a plurality of portions.
第6の発明は、上記第1の発明において、吸着ユニットは、最上位置の基板の上面に対して、第1吸着部が吸着する領域とは異なる領域をその吸着面で吸着する第2吸着部を、さらに含む。第2吸着部は、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を最上位置の基板の上面に吸着させる。 In a sixth aspect based on the first aspect, the suction unit is configured such that the suction unit sucks, on the suction surface, an area different from the area on which the first suction part is sucked with respect to the upper surface of the uppermost substrate. Is further included. When a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the raising operation of the lifting mechanism, the second adsorption unit adsorbs the adsorption surface to the upper surface of the uppermost substrate.
第7の発明は、上記第6の発明において、揺動機構を、さらに備える。揺動機構は、第1吸着部の吸着面の長軸方向を中心として、吸着ユニットを揺動する。 In a seventh aspect based on the sixth aspect, a swing mechanism is further provided. The swing mechanism swings the suction unit about the major axis direction of the suction surface of the first suction unit.
第8の発明は、上記第7の発明において、吸着ユニットは、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面前端部近傍に吸着したとき、その基板の後端と当接する後端当接部材を、さらに含む。 In an eighth aspect based on the seventh aspect, the suction unit is configured such that when the suction surface of the first suction portion is sucked in the vicinity of the top front end portion of the uppermost substrate, the rear end abutting against the rear end of the substrate is placed. A contact member is further included.
第9の発明は、上記第6の発明において、吸着圧制御部を、さらに備える。吸着圧制御部は、第1吸着部および第2吸着部に供給する吸引圧を制御する。吸着圧制御部は、第1吸着部が最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第1の吸引圧をその第1吸着部に供給し、昇降機構の上昇動作に応じて、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、第1の吸引圧より強い第2の吸引圧を第1の吸着部および第2吸着部に供給する。 In a ninth aspect based on the sixth aspect, an adsorption pressure control unit is further provided. The adsorption pressure control unit controls the suction pressure supplied to the first adsorption unit and the second adsorption unit. The adsorption pressure control unit supplies the first suction pressure to the first adsorption unit when the first adsorption unit adsorbs the vicinity of the upper surface end of the uppermost substrate, and according to the raising operation of the lifting mechanism, When a gap is formed between the substrate at the position and another substrate, a second suction pressure higher than the first suction pressure is supplied to the first suction unit and the second suction unit.
第10の発明は、積載された基板から基板を取り出す基板取出方法である。基板取出方法は、下降ステップ、吸着ステップ、および上昇ステップを含む。下降ステップは、積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第1吸着部を下降させて、その第1吸着部の吸着面とその最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる。吸着ステップは、第1吸着部の吸着面と最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる。上昇ステップは、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で第1吸着部を上昇させる。 A tenth aspect of the invention is a substrate take-out method for taking out a substrate from a loaded substrate. The substrate removal method includes a descending step, an adsorption step, and an ascending step. The lowering step lowers the first suction portion that sucks only the vicinity of the upper surface end of the stacked uppermost substrate, and moves the suction surface of the first suction portion and the vicinity of the upper surface end of the uppermost substrate. Make it close. In the adsorption step, the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are adsorbed. The ascending step raises the first adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.
上記第1の発明によれば、積載された基板のうち、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板を引き上げる力は、吸着力を用いているために経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板の端部近傍のみ吸着して引き上げることによって、最上位置の基板のみを容易に剥離することができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。 According to the first aspect, of the stacked substrates, only the vicinity of the end portion of the uppermost substrate is attracted and pulled up. The force for pulling up the substrate does not change with time because it uses an adsorption force, and the maintenance required when using a conventional adhesive member or the like becomes unnecessary. In addition, by adsorbing and pulling up only the vicinity of the edge of the uppermost substrate, only the uppermost substrate can be easily peeled off, and even a substrate with a plurality of holes penetrating the front and back can be loaded. Of the plurality of substrates, it is possible to remove only the substrate placed at the uppermost position while preventing two substrates from being removed.
上記第2の発明によれば、第1吸着部の吸着面に多数の吸引孔が設けられるため、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板を取り出す場合、最上位置から2枚目の基板に作用する吸引力に対して、最上位置の基板に作用する吸引力が大きくなる。 According to the second aspect, since a plurality of suction holes are provided on the suction surface of the first suction part, when taking out a substrate having a plurality of holes penetrating the front and back, the second substrate from the uppermost position The suction force acting on the uppermost substrate is larger than the suction force acting on the substrate.
上記第3の発明によれば、吸着面と相対する基板の貫通孔の総面積より吸引孔の総面積が大きいため、2枚取りを防止する効果が高くなる。 According to the third aspect of the invention, since the total area of the suction holes is larger than the total area of the through holes of the substrate facing the suction surface, the effect of preventing the two-sheet removal is enhanced.
上記第4の発明によれば、吸着面の一部に吸引孔が形成される領域が集中しているため、サイズが小さな基板を吸引するときに当該領域と当該基板とを吸着させることによって、小さなサイズの基板でも安定して基板を取り出すことができる。 According to the fourth aspect of the invention, since the region where the suction holes are formed is concentrated on a part of the suction surface, when sucking the substrate having a small size, by sucking the region and the substrate, Even a small-sized substrate can be taken out stably.
上記第5の発明によれば、取り出す対象となる基板サイズに応じて、当該基板と吸着させる吸着面の領域を調整することによって、様々なサイズの基板を安定して取り出すことができる。 According to the fifth aspect of the present invention, substrates of various sizes can be stably taken out by adjusting the suction surface area to be sucked with the substrate according to the size of the substrate to be taken out.
上記第6の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成された後は、複数の吸着部によって基板が吸着固定されるため、安定して基板を保持することができる。 According to the sixth aspect, after the gap is formed between the uppermost substrate and another substrate, the substrate is sucked and fixed by the plurality of sucking portions, so that the substrate can be stably held. Can do.
上記第7の発明によれば、吸着ユニットが揺動可能であるため、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の一方端を引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が容易に形成される。 According to the seventh aspect, since the suction unit can swing, by swinging the suction unit in a state where the suction surface of the first suction unit is sucked near the upper surface end of the uppermost substrate, Since one end of the uppermost substrate can be pulled up, a gap is easily formed between the uppermost substrate and another substrate.
上記第8の発明によれば、第1吸着部の吸着面が最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で、当該基板の後端を後端当接部材と当接させながら吸着ユニットを揺動させることによって、最上位置の基板の他方端を押さえながら一方端のみを引き上げることができるため、最上位置の基板と他の基板との間に隙間がさらに容易に形成される。 According to the eighth aspect of the invention, the suction unit is configured such that the rear end of the substrate is brought into contact with the rear end contact member in a state where the suction surface of the first suction unit is adsorbed near the upper surface end of the uppermost substrate. By swinging, it is possible to pull up only one end while pressing the other end of the uppermost substrate, so that a gap is more easily formed between the uppermost substrate and the other substrate.
上記第9の発明によれば、最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されるまで第1吸着部に供給する圧力を低くすることによって、最上位置から2枚目の基板に作用する吸引力の絶対量を低くすることができ、2枚取りを防止する効果が高くなる。 According to the ninth aspect, the pressure supplied to the first suction unit is lowered until a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate, so that the second substrate from the uppermost position is applied. The absolute amount of the acting suction force can be reduced, and the effect of preventing two sheets from being taken is increased.
また、本発明の基板取出方法によれば、上述した基板取出装置と同様の効果が得られる。 Further, according to the substrate extraction method of the present invention, the same effect as the above-described substrate extraction apparatus can be obtained.
図1〜図5を参照して、本発明の一実施形態に係る基板取出装置が搭載された基板検査装置について説明する。なお、図1は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図2は、当該基板検査装置の概略的な構造を示す上面図である。図3は、エアーシリンダが伸びた状態における基板検査装置の概略的な構造を示す正面図である。図4は、当該基板検査装置の空圧機構の概略的に示す図である。図5は、当該基板検査装置における回転部材を回転駆動する機構の構造を示す背面図である。なお、各構成部の位置関係を明確にするために、基板検査装置1の構成の全てが、図1〜図5に示されていないことを注釈しておく。
With reference to FIGS. 1-5, the board | substrate inspection apparatus with which the board | substrate extraction apparatus which concerns on one Embodiment of this invention is mounted is demonstrated. FIG. 1 is a front view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus. FIG. 2 is a top view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus. FIG. 3 is a front view showing a schematic structure of the substrate inspection apparatus in a state where the air cylinder is extended. FIG. 4 is a diagram schematically showing a pneumatic mechanism of the substrate inspection apparatus. FIG. 5 is a rear view showing the structure of a mechanism for rotationally driving the rotating member in the substrate inspection apparatus. In addition, in order to clarify the positional relationship of each component, it is annotated that the entire configuration of the
図1および図2において、基板検査装置1は、第1検査ステージ2、第2検査ステージ3、A面検査ヘッド4、B面検査ヘッド5、フレーム6、基板供給部7、基板収納部8、第1基板搬送コンベア10、第2基板搬送コンベア11、および制御部(図示せず)を備えている。なお、基板供給部7が本発明の基板取出装置の一例に相当する。ここで、基板検査装置1の被検査体の一例は、半導体装置などの電子部品を実装するためのプリント基板等の基板Sであり、背景技術で説明したようにスルーホールTHやスリットSL等の表裏を貫通する複数の孔が形成されている。また、上記基板Sは、例えば、その両面の外観検査が必要な両面基板である。そして、被検査体である基板Sの一方の主面をA面とし、他方の主面をB面とする。
1 and 2, the
第1検査ステージ2は、第1回転部材21、A面検査吸着テーブル22、エアーシリンダ23、および第1回転軸24を有している。第1回転部材21は、略直方体形状を有し、第1回転軸24を中心に図示A方向に回転可能である。第1回転軸24に平行な第1回転部材21の4つの側面には、それぞれエアーシリンダ23a〜23dを介して4つのA面検査吸着テーブル22a〜22dが設けられる。図1では第1回転軸24が紙面に対して垂直に配置され、3つのエアーシリンダ23a(図1では、2つのエアーシリンダ23aのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して直上方向にA面検査吸着テーブル22aが設けられている。3つのエアーシリンダ23b(図1では、2つのエアーシリンダ23bのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して左方向にA面検査吸着テーブル22bが設けられている。3つのエアーシリンダ23c(図1では、2つのエアーシリンダ23cのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して下方向にA面検査吸着テーブル22cが設けられ、A面検査吸着テーブル22aおよび22cが互いに平行に配置される。そして、3つのエアーシリンダ23d(図1では、2つのエアーシリンダ23dのみ図示されている)を介して、第1回転軸24に対して右方向にA面検査吸着テーブル22dが設けられ、A面検査吸着テーブル22bおよび22dが互いに平行に配置される。
The
第2検査ステージ3は、第1検査ステージ2と並設される。第2検査ステージ3は、第2回転部材31、B面検査吸着テーブル32、エアーシリンダ33、および第2回転軸34を有している。第2回転部材31は、第1回転部材21と同様の略直方体形状を有し、第1回転軸24と平行な第2回転軸34を中心に図示B方向に回転可能である。第2回転軸34に平行な第2回転部材31の4つの側面には、それぞれエアーシリンダ33a〜33dを介して4つのB面検査吸着テーブル32a〜32dが設けられる。図1では第2回転軸34が紙面に対して垂直に配置され、3つのエアーシリンダ33a(図1では、2つのエアーシリンダ33aのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して直上方向にB面検査吸着テーブル32aが設けられている。3つのエアーシリンダ33b(図1では、2つのエアーシリンダ33bのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して左方向にB面検査吸着テーブル32bが設けられ、B面検査吸着テーブル32bとA面検査吸着テーブル22dとが相対するように配置される。3つのエアーシリンダ33c(図1では、2つのエアーシリンダ33cのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して下方向にB面検査吸着テーブル32cが設けられ、B面検査吸着テーブル32aおよび32cが互いに平行に配置される。そして、3つのエアーシリンダ33d(図1では、2つのエアーシリンダ33dのみ図示されている)を介して、第2回転軸34に対して右方向にB面検査吸着テーブル32cが設けられ、B面検査吸着テーブル32bおよび32dが互いに平行に配置される。
The
図1および図2に示すように、大略的にフレーム6は、検査ヘッド梁61、3つの直動軸受62a〜62c、本体ベース63、当接部材64、およびボールネジ65で構成されている。本体ベース63は、所定の支持柱によって第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の上部に位置する平面に固設されている。直動軸受62a〜62cは、レールとスライドブロック、軸と軸受やスリーブ、ガイドレールとガイドなど様々な組み合わせによって構成可能であるが、一例としてレールとスライドブロックとを用いる。3つの直動軸受62a〜62cは、それぞれレール621a〜621cとスライドブロック622a、622b1、622b2、および622cとを含んでおり、レール621a〜621cが本体ベース63の上面に固設される(なお、図2においては、検査ヘッド梁61下部に設けられたレール621およびスライドブロック622を破線で示している)。レール621a〜621cは、互いに所定の間隔を開けて平行に並設して固設され、レール621bを中心としてその両側にレール621aおよび621cが配置されている。そして、レール621aと621bとの間の下部空間に第1検査ステージ2が配置され、レール621bと621cとの間の下部空間に第2検査ステージ3が配置される。また、本体ベース63には、レール621bの上部空間に、直動モータ651の駆動によって回転するボールネジ65がレール621bと平行に設けられている。ここで、直動モータ651の駆動は、上記制御部によって制御される。なお、図1および図2においては、レール621a〜621cを支持する本体ベース63がそれぞれ分離して記載されているが、これは他の構成部との関係を説明するためであり、それぞれの本体ベース63は、少なくとも第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の上部空間にそれぞれ開口部が形成されて互いに連結して固設されている。そして、複数の当接部材64(例えば、上記開口部に対してそれぞれ3箇所)が、それぞれ同一平面上に配置され、上記開口部へ突出して本体ベース63に固設される。
As shown in FIGS. 1 and 2, the frame 6 is generally composed of an
検査ヘッド梁61は、本体ベース63の上面に固設されたレール621a〜621c間に架設される。検査ヘッド梁61の下部には、スライドブロック622a、622b1、622b2、および622cが設けられている。そして、スライドブロック622aがレール621aに沿って移動可能に係合し、スライドブロック622b1および622b2がレール621bに沿って移動可能に係合し、スライドブロック622cがレール621cに沿って移動可能に係合している。また、検査ヘッド梁61は、スライドブロック622b1および622b2の上部でボールネジ65と螺合する。したがって、直動モータ651が駆動するとボールネジ65が回転し、レール621a〜621cが並設された方向(図示C方向)に検査ヘッド梁61が本体ベース63上を移動する。
The
また、検査ヘッド梁61には、A面検査ヘッド4およびB面検査ヘッド5が配置される。A面検査ヘッド4およびB面検査ヘッド5は、それぞれCCDカメラなどの撮像装置(図示せず)を備えており、撮像装置が下部に向けて開口したスリット41および51(図2の破線で示す)を介してそれぞれ検査ヘッド梁61の下部空間を撮像する。A面検査ヘッド4は、スライドブロック622aとスライドブロック622b1および622b2との間となる検査ヘッド梁61に配置される。具体的には、後述により明らかとなるが、第1検査ステージ2のA面検査吸着テーブル22が当接部材64と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁61が図示C方向に移動することによってA面検査ヘッド4の撮像装置が当該A面検査吸着テーブル22に吸着した基板Sの撮像が可能となる位置にA面検査ヘッド4が配置される。また、B面検査ヘッド5は、スライドブロック622b1および622b2とスライドブロック622cとの間となる検査ヘッド梁61に配置される。具体的には、第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が当接部材64と当接する位置に固定された場合、検査ヘッド梁61が図示C方向に移動することによってB面検査ヘッド5の撮像装置が当該B面検査吸着テーブル32に吸着した基板Sの撮像が可能となる位置にB面検査ヘッド5が配置される。
In addition, the A-side inspection head 4 and the B-side inspection head 5 are arranged on the
基板供給部7は、第1基板搬送コンベア10上に積載された基板Sを第1検査ステージ2へ供給するために、第1検査ステージ2の下部空間に配置される。後述により明らかとなるが、基板供給部7は、吸着ユニット70、揺動機構71、昇降支持部材72、昇降機構73、搬送板74、および搬送板移動機構75を備えている。なお、図1においては、基板供給部7の搬送板74および搬送板移動機構75のみを図示して、他の構成要素の図示を省略している。
The
図2に示すように、第1基板搬送コンベア10上には基板検査装置1による検査前の基板Sが種類毎に積載され、吸着ユニット70の直下空間に何れか1つの種類の基板Sが配置される。そして、吸着ユニット70は、上記制御部の制御に基づいて、その下部に積載された基板Sから最上部に載置された基板Stを取り上げて、搬送板74上に基板Stを載置する。また、搬送板74は、上記制御部の制御による搬送板移動機構75の駆動に応じて、図示G方向に移動可能に構成されている。そして、搬送板74は、搬送板移動機構75の駆動に応じて、その上面に載置された基板StをA面検査吸着テーブル22の直下位置まで搬送する。なお、基板供給部7に供給される検査前の基板Sは、それぞれ一方の主面であるA面を下に向けて第1基板搬送コンベア10上に積載される。また、後述により明らかとなるが、第1検査ステージ2のA面検査吸着テーブル22が下方向に降下した場合、当該A面検査吸着テーブル22の吸着面が搬送板74上に載置された基板St近傍に配置される。
As shown in FIG. 2, substrates S before being inspected by the
基板収納部8は、3つの基板ケース81a〜81c、3つの昇降テーブル82a〜82c、ターンテーブル83、第1搬出コンベア84、および一対の第2搬出コンベア85を備えている。昇降テーブル82a〜82cはそれぞれ基板ケース81a〜81cの内部に設けられ、昇降テーブル82a〜82c上の基板ケース81a〜81c内に基板検査装置1による検査後の基板Sが積載される。そして、昇降テーブル82a〜82cは、それぞれ上記制御部の制御に基づいて上下動を行い、例えば、最上部に載置された基板Sの上下方向の位置が一定となるように制御される。例えば、基板ケース81a〜81c内には、基板検査装置1によるA面および/またはB面の検査が不合格となった基板Sngが順次積み重ねられていく。これらの基板ケース81a〜81cは、ターンテーブル83の回転平面上に配置される。ターンテーブル83は、上記制御部によって図示D方向の回転および停止位置が制御され、基板ケース81a〜81cのいずれか1つを第2検査ステージ3の直下となる空間に配置する。なお、基板収納部8に収納される検査後の基板Sngは、それぞれA面を上に向けて基板ケース81a〜81c内に積載される。例えば、第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が基板Sngを吸着固定して下方向に降下して当該吸着を解除した場合、当該B面検査吸着テーブル32の直下配置された基板ケース81a〜81c内に当該基板Sngが積み重ねられる。
The substrate storage unit 8 includes three
第1搬出コンベア84は、上記制御部の制御によって、図示H方向に移動可能に構成されている。一対の第2搬出コンベア85は、第2基板搬送コンベア11の上部に配設され、上記制御部の制御によって、それぞれ図示I方向に移動可能に構成されている。例えば、第1搬出コンベア84および第2搬出コンベア85は、基板検査装置1によるA面およびB面の検査が合格となった基板Sokを第2基板搬送コンベア11へ搬出する。
The first carry-out
第2検査ステージ3のB面検査吸着テーブル32が基板Sokを吸着固定して下方向に降下するとき、第1搬出コンベア84は、当該B面検査吸着テーブル32の直下位置(つまり、B面検査吸着テーブル32と基板ケース81a〜81cの何れかとの間)まで図示H方向へ移動する。そして、B面検査吸着テーブル32が基板Sokの吸着を解除した場合、第1搬出コンベア84上に基板Sokが載置される。その後、第1搬出コンベア84は、第2搬出コンベア85と列設状態となる第2基板搬送コンベア11近傍位置まで、基板Sokを載置した状態で移動する。第1搬出コンベア84と第2搬出コンベア85とが列設状態に配置されたとき、基板Sokが第2搬出コンベア85上へ移動する方向へ、第1搬出コンベア84および第2搬出コンベア85のベルトの回転が開始される。そして、基板Sokが完全に第2搬出コンベア85上まで移動すると、一対の第2搬出コンベア85が互いに離れる図示I方向に移動する。これによって、第2搬出コンベア85上の基板Sokが第2基板搬送コンベア11上または第2基板搬送コンベア11上に積載されている他の基板Sok上に落下して積み重ねられる。
When the B-side inspection suction table 32 of the
次に、図1〜図3を参照して、第1検査ステージ2および第2検査ステージ3にそれぞれ備えられているエアーシリンダ23および33の伸縮動作について説明する。
Next, with reference to FIGS. 1-3, the expansion / contraction operation | movement of the
上述したように、第1回転部材21には、A面検査吸着テーブル22a〜22dをそれぞれ支持するエアーシリンダ23a〜23dが設けられている。エアーシリンダ23a〜23dは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するA面検査吸着テーブル22a〜22dと第1回転軸24との距離を変化させる。図1は、エアーシリンダ23a〜23dが縮んだ状態であり、A面検査吸着テーブル22a〜22dがそれぞれ第1回転部材21の側面近傍に配置される。また、図3は、エアーシリンダ23a〜23dが伸びた状態であり、A面検査吸着テーブル22a〜22dがそれぞれ第1回転部材21から離れた位置に配置される。
As described above, the first rotating
図2および図3に示すように、第1回転軸24に対して直上方向に配置されたA面検査吸着テーブル22aは、エアーシリンダ23aが伸びたとき、その外縁部の上面(第1回転軸24に対して外側の面)が当接部材64と当接して位置決めされる。以下、当接部材64と当接して位置決めされたA面検査吸着テーブル22の位置をA面検査位置と記載する。なお、図2に示すように、本実施例では、A面検査吸着テーブル22aをA面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材64が固設される箇所(3箇所)にエアーシリンダ23aがA面検査吸着テーブル22aを支持する箇所(3箇所)が含まれるように設定されている。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the A-side inspection suction table 22a arranged in the direction directly above the
また、図3に示すように、第1回転軸24に対して下方向に配置されたA面検査吸着テーブル22cは、エアーシリンダ23cが伸びたとき、当該A面検査吸着テーブル22cの吸着面が搬送板74上に載置された基板Stの上部近傍に配置される。
Further, as shown in FIG. 3, the A-side inspection suction table 22c arranged downward with respect to the first
さらに、図3に示すように、第1回転軸24に対して右方向に配置されたA面検査吸着テーブル22dの吸着面は、エアーシリンダ23dが伸びたとき、同じくエアーシリンダ33bが伸びたB面検査吸着テーブル32bの吸着面と当接する。以下、A面検査吸着テーブル22の吸着面とB面検査吸着テーブル32の吸着面とが当接する位置を基板受渡位置と記載する。
Further, as shown in FIG. 3, the suction surface of the A-side inspection suction table 22d arranged in the right direction with respect to the first
また、第2回転部材31には、B面検査吸着テーブル32a〜32dをそれぞれ支持するエアーシリンダ33a〜33dが設けられている。エアーシリンダ33a〜33dは上記制御部の制御によって伸縮可能に構成され、伸縮動作によってそれぞれ支持するB面検査吸着テーブル32a〜32dと第2回転軸34との距離を変化させる。図1は、エアーシリンダ33a〜33dが縮んだ状態であり、B面検査吸着テーブル32a〜32dがそれぞれ第2回転部材31の側面近傍に配置される。また、図3は、エアーシリンダ33a〜33dが伸びた状態であり、B面検査吸着テーブル32a〜32dがそれぞれ第2回転部材31から離れた位置に配置される。
The second rotating
図2および図3に示すように、第2回転軸34に対して直上方向に配置されたB面検査吸着テーブル32aは、エアーシリンダ33aが伸びたとき、その外縁部の上面(第2回転軸34に対して外側の面)が当接部材64と当接して位置決めされる。以下、当接部材64と当接して位置決めされたB面検査吸着テーブル32の位置をB面検査位置と記載する。なお、図2に示すように、本実施例では、B面検査吸着テーブル32aをB面検査位置で安定して位置決めするために、当接部材64が固設される箇所(3箇所)にエアーシリンダ33aがB面検査吸着テーブル32aを支持する箇所(3箇所)が含まれるように設定されている。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the B-side inspection suction table 32a arranged in the direction directly above the second rotation shaft 34 has an upper surface (second rotation shaft) when the
また、図3に示すように、第2回転軸34に対して下方向に配置されたB面検査吸着テーブル32cは、エアーシリンダ33cが伸びたとき、当該B面検査吸着テーブル32cの吸着面が第1搬出コンベア84の上部近傍または基板ケース81の開口部の上方位置に配置される。以下、このB面検査吸着テーブル32の位置を基板排出位置と記載する。
Further, as shown in FIG. 3, the B-side inspection suction table 32c disposed downward with respect to the second rotating shaft 34 has a suction surface of the B-side inspection suction table 32c when the
さらに、図3に示すように、第2回転軸34に対して左方向に配置されたB面検査吸着テーブル32bの吸着面は、エアーシリンダ33bが伸びたとき、同じくエアーシリンダ23dが伸びたA面検査吸着テーブル22dの吸着面と当接する。
Further, as shown in FIG. 3, the suction surface of the B-side inspection suction table 32b arranged in the left direction with respect to the second rotation shaft 34 is similar to the A in which the
次に、図4を参照して、基板検査装置1の空圧機構について説明する。なお、図4は、基板供給部7および第1検査ステージ2側の空圧機構のみを示しているが、第2検査ステージ3側も第1検査ステージ2側と同様に構成され、以下、基板供給部7および第1検査ステージ2側の空圧機構を代表的に説明する。また、図4は、第1検査ステージ2側の空圧機構を説明するために、第1検査ステージ2の構成の一部を省略し、A面検査吸着テーブル22を断面で示していることを注釈しておく。また、図4では、基板供給部7について、それら構成要素のうち、空圧機構に関わる構成要素のみブロック図で示している。
Next, the pneumatic mechanism of the
図4において、基板検査装置1の第1検査ステージ2に関する空圧機構は、ブロア90、コンプレッサ95、主配管91a、主配管91b、空圧切替部92、吸着配管93、シリンダ配管94を備えている。第1回転軸24は、第1回転部材21の内部で空圧切替部92を支持している。空圧切替部92は上記制御部によって開閉が制御される複数の切替弁を有しており、第1回転軸24にはその一方端部からそれぞれの切替弁まで貫通する中空経路(図4の破線で示す)が形成されている。また、第1回転軸24の他方端部には、タイミングプーリ25が固設されている。主配管91aは、第1回転軸24の中空経路を通ってブロア90と空圧切替部92とを接続し、空圧切替部92を介してブロア90が生成する空圧をA面検査吸着テーブル22a〜22dに供給する。同様に、主配管91bは、第1回転軸24の中空経路を通ってコンプレッサ95と空圧切替部92とを接続し、空圧切替部92を介してコンプレッサ95が生成する空圧をエアーシリンダ23a〜23dに供給する。
4, the pneumatic mechanism relating to the
A面検査吸着テーブル22a〜22dの吸着面AFには、それぞれ複数の吸着穴が形成されている(図4では、A面検査吸着テーブル22aおよび22cのみを示している)。また、A面検査吸着テーブル22a〜22dと空圧切替部92の切替弁との間には、それぞれエアーシリンダ23a〜23dの伸縮動作に応じて伸縮可能な吸着配管93a〜93d(図4では、吸着配管93aおよび93cのみを示している)が接続されている。ここで、吸着配管93a〜93dは、それぞれ別の切替弁と接続される。また、吸着配管93a〜93dからA面検査吸着テーブル22a〜22dに供給される空圧(負圧)は、それぞれA面検査吸着テーブル22a〜22dに形成された吸着穴から外部に開放されている。つまり、上記制御部の制御に基づいて、吸着配管93a〜93dを介してA面検査吸着テーブル22a〜22dに負圧が供給された場合、それぞれの吸着穴に負圧が発生して吸着面AFを用いた真空吸着が可能となる。
A plurality of suction holes are formed in the suction surfaces AF of the A-side inspection suction tables 22a to 22d (only the A-side inspection suction tables 22a and 22c are shown in FIG. 4). Further, between the A-side inspection suction tables 22a to 22d and the switching valve of the air
また、エアーシリンダ23a〜23dと空圧切替部92の切替弁との間には、それぞれシリンダ配管94a〜94d(図4では、シリンダ配管94aおよび94cのみを示している)が接続されている。そして、上記制御部の制御に基づいてシリンダ配管94a〜94dへ上記コンプレッサ95から空圧(正圧)が供給され、エアーシリンダ23a〜23dの伸縮動作が可能となる。なお、第2検査ステージ3側の空圧機構も第1検査ステージ2側と同様であるため、詳細な説明を省略する。なお、第2検査ステージ3の第2回転軸34の他方端部には、タイミングプーリ35(図5参照)が固設されている。なお、上記実施の形態では、空圧切替部92がブロア90およびコンプレッサ95の2系統の空圧を切り替えるようにしているが、各々個別の切替部を備えていてもよい。
Further,
また、基板供給部7の吸着ユニット70は、第1吸着部702、第2吸着部703、第3吸着部704、および第4吸着部705を含んでいる。そして、基板供給部7に関する空圧機構は、ブロア90および吸着圧制御部707を備えている。吸着圧制御部707は、上記制御部の制御に基づいて、ブロア90が生成する空圧(負圧)を吸着ユニット70に供給する。例えば、吸着圧制御部707は、上記制御部の制御に基づいて動作制御される複数のソレノイドバルブ等で構成され、第1吸着部702、第2吸着部703、第3吸着部704、および第4吸着部705にそれぞれ供給する負圧の有無およびそれらの圧力を制御する。
The
次に、図5を参照して、基板検査装置1における第1回転部材21および第2回転部材31を回転駆動する機構について説明する。なお、図5は、基板検査装置1の一部を示す背面図であり、図1および図3で示す第1検査ステージ2および第2検査ステージ3の位置関係や回転方向が左右逆になっていることを注釈しておく。
Next, with reference to FIG. 5, a mechanism for rotationally driving the first rotating
図5において、第1回転部材21および第2回転部材31を回転駆動する機構は、回転駆動モータ101と、タイミングベルト103と、テンションプーリ104および105とを有している。回転駆動モータ101の回転軸にはプーリ102が固設されており、回転駆動モータ101は、上記制御部の制御に基づいて所定の回転角度だけプーリ102を駆動する。タイミングベルト103は、テンションプーリ104および105を介して、プーリ102とタイミングプーリ25および35とによって回動可能に掛け渡される。テンションプーリ104および105は、掛け渡されたタイミングベルト103の張力を制御する。回転駆動モータ101の駆動力は、タイミングベルト103を介してタイミングプーリ25および35を同期して同じ回転角度で回転させる。そして、タイミングプーリ25および35がそれぞれ固設された第1回転軸24および第2回転軸34も回転し、第1回転軸24および第2回転軸34の回転に応じて、それぞれ第1回転部材21および第2回転部材31も図示A方向およびB方向に回転する。なお、本実施例では、上記制御部による回転指示に応じて、第1回転部材21および第2回転部材31がそれぞれ図示A方向およびB方向に90°毎に回転する。
In FIG. 5, the mechanism that rotationally drives the first rotating
次に、図6および図7を参照して、基板供給部7の詳細な構造について説明する。なお、図6は、吸着ユニット70および揺動機構71を断面で示して、基板供給部7の概略構造を示す側面図である。図7は、吸着ユニット70の下面図である。
Next, the detailed structure of the
図6において、基板供給部7は、吸着ユニット70、揺動機構71、昇降支持部材72、昇降機構73、搬送板74、および搬送板移動機構75を備えている。
In FIG. 6, the
図6および図7において、吸着ユニット70は、一対の支持部材701aおよび701bと、第1吸着部702と、第2吸着部703と、第3吸着部704と、第4吸着部705と、後端当接部材706とを含んでいる。第1〜第4吸着部702〜705は、それぞれ棒状の中空角柱で形成され、それぞれ一対の支持部材701aおよび701bの間に架設される。そして、吸着ユニット70は、昇降支持部材72に支持されて、第1基板搬送コンベア10上に積載された検査前の基板Sの上を第1〜第4吸着部702〜705がそれぞれ同一方向に横断するように配置される。
6 and 7, the
第1吸着部702は、積載された基板Sと対向する下面(長軸方向に平行な中空角柱の側面;以下、吸着面と記載する)に、複数の吸引孔haが形成されている。例えば、吸引孔haは、第1吸着部702の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約140mm)に対して直径0.5mmの孔が中心間ピッチ1.5mmでマトリックス状に形成される。これは、吸引孔haが形成される態様の一例であり、吸引孔haが形成される領域や他の態様については後述する。そして、第1吸着部702の中空内部には、吸着圧制御部707(図4参照)によって制御された負圧が供給され、第1吸着部702の下方の外部気体が吸引孔haから吸引される。また、第1吸着部702は、支持部材701aおよび701bの一方端付近(以下、吸着ユニット70の前端側と記載する)にその両端が支持され、その長軸(図示O軸)を中心に図示I方向へ回転可能である。より詳細には、第1吸着部702は、後述する吸着ユニット70の揺動とは独立して、かつ、4つの吸着部の中で第1吸着部702のみ単独でO軸を中心に回転可能に支持される。これによって、第1吸着部702は、基板吸着を柔軟に行うことができ、さらに一旦吸着した基板が剥離しにくい。
The
第2吸着部703は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、複数の吸引孔hbが形成されている。例えば、吸引孔hbは、第2吸着部703の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約50mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ2.0mmでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材701b側で隣接する別の所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約80mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ8.0mmでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔hbは、基板Sと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第2吸着部703の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第2吸着部703の下方の外部気体が吸引孔hbから吸引される。また、第2吸着部703は、第1吸着部702に対して支持部材701aおよび701bの他方端側(以下、吸着ユニット70の後端側と記載する)に、その両端が固設される。
The
第3吸着部704は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、第2吸着部703と同様の複数の吸引孔hbが形成されている。そして、第3吸着部704の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第3吸着部704の下方の外部気体が吸引孔hbから吸引される。また、第3吸着部704は、第2吸着部703に対して支持部材701aおよび701bのさらに吸着ユニット70の後端側に、その両端が固設される。
The
第4吸着部705は、積載された基板Sと対向する下面(吸着面)に、複数の吸引孔hcが形成されている。例えば、吸引孔hcは、第4吸着部705の下面において、支持部材701a側に設定された所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約80mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ8.0mmでマトリックス状に形成され、当該所定領域に支持部材701b側で隣接する別の所定領域(例えば、幅約10mm×長さ約50mm)に対して直径1.0mmの孔が中心間ピッチ2.0mmでマトリックス状に形成される。なお、この吸引孔hcは、基板Sと対向する位置に複数形成されていれば、他の態様で形成されてもかまわない。そして、第4吸着部705の中空内部には、吸着圧制御部707によって制御された負圧が供給され、第4吸着部705の下方の外部気体が吸引孔hcから吸引される。また、第4吸着部705は、第3吸着部704に対して支持部材701aおよび701bのさらに吸着ユニット70の後端側となる他方端付近に、その両端が固設される。
The
後端当接部材706は、吸着ユニット70の最も後端側に配設され、例えば、第4吸着部705の上記後端側に固設される。
The rear
吸着ユニット70は、その前端側に設けられた回転軸を中心に揺動可能に昇降支持部材72に支持される。上記回転軸は、第1〜第4吸着部702〜705が架設される方向に平行であり、例えば、図示O軸である。また、吸着ユニット70の後端側(例えば、第3吸着部704および第4吸着部705付近)には、揺動機構71が設けられている。揺動機構71は、吸着ユニット70の後端側と昇降支持部材72とを連結している。また、揺動機構71の内部には、上記制御部によってその回転角度が制御される揺動カムが設けられている。そして、上記制御部の制御に応じて揺動カムが回動することによって、吸着ユニット70の後端側と昇降支持部材72との距離が増減し、上記回転軸を中心に吸着ユニット70が図示E方向に揺動する。なお、吸着ユニット70を揺動させる機構は、他の態様でもかまわない。例えば、エアーシリンダ等の上下駆動を実現する機構を設けてもかまわない。また、上記回転軸を中心に直接吸着ユニット70を回転させるモータ等の回転機構を設けてもかまわない。
The
昇降機構73は、上記制御部の制御に応じて、昇降支持部材72を図示F方向に昇降させる。また、基板供給部7は、供給対象となっている基板Sの積載高さ(基板Sの残量)を検知し、その高さ情報を上記制御部へ出力する高さセンサ(図示せず)を備えている。これによって、吸着ユニット70は、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面がそれぞれ第1基板搬送コンベア10上に積載された最上位置に載置された基板Stの一方主面と相対して近接する位置(基板吸着開始位置)と、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面で吸着した基板Stを搬送板74に受け渡す位置(基板吸引解除位置;図6に示す位置)との間を昇降動作することが可能となる。
The elevating
なお、後述するフローチャートによる動作を開始する前に、供給対象となる基板Sが第1基板搬送コンベア10上に積載されて吸着ユニット70の下部空間となる所定位置に配置される。ここで、所定位置とは、吸着ユニット70が積載された基板Sに向かって下降したとき、第1吸着部702の吸着面が基板Sの長軸方向の上面前端部近傍と近接し、少なくとも第2吸着部703の吸着面が当該基板Sの他の上面領域と近接する位置であり、基板Sの短軸方向と第1〜第4吸着部702〜705の架設方向とが平行になる位置である。
In addition, before the operation | movement by the flowchart mentioned later is started, the board | substrate S used as supply object is loaded on the 1st board |
図8を参照して、供給対象となる最大サイズの基板Smaxと最小サイズの基板Sminを一例として、第1吸着部702が近接して吸引孔haで吸引する範囲について説明する。なお、図8は、上記所定位置に配置された基板SmaxおよびSminの上面に対する第1吸着部702の吸引範囲の一例を示す図である。
With reference to FIG. 8, a description will be given of a range in which the
図8において、上記所定位置に積載された基板Smaxに向かって吸着ユニット70が下降したとき、第1吸着部702の吸着面が基板Smaxの長軸方向の上面端部近傍と近接する。そして、第1吸着部702の複数の吸引孔haから吸引することによって、基板Smaxの上面端部近傍において、幅Wおよび長さLの領域が吸引されることになる。例えば、上述した吸引孔haの一例では、W=約10mm、L=約140mmとなる。一方、上述したように第1吸着部702の支持部材701a側に片寄った所定領域に複数の吸引孔haが形成されているために、最大サイズの基板Smaxでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域が第1吸着部702の吸引範囲となり、好ましくは当該一方側から基板Smaxの短軸方向の幅の約2/3まで範囲に当該吸引範囲が設定される。これは、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮した場合、第1吸着部702の吸引範囲が基板Sminの短軸方向の幅を超えることが考えられる。具体的には、基板Smaxの短軸方向の全幅を第1吸着部702の吸引範囲とした場合、基板Sminに対して吸引漏れが多くなるために吸引圧力を上げなければならなくなる。このような吸引圧力の調整を極力減らすために、最大サイズの基板Smaxでは上面前端部近傍において左右何れか一方側に片寄った領域を第1吸着部702の吸引範囲に設定することが望ましい。なお、第1吸着部702の吸着面は、基板SmaxおよびSminの上面前端部近傍において、それぞれ短軸方向の全幅と当該吸着面とが当接するように配置される。
In FIG. 8, when the
図6に戻り、搬送板移動機構75は、上記制御部の制御に応じて、搬送板74を図示G方向に水平移動させる。これによって、搬送板74は、吸着ユニット70が基板Stを吸着支持して上記基板吸引解除位置に配置されたとき、当該基板Stの下方位置(図6の破線で示す位置)に配置される。そして、吸着ユニット70による基板Stの吸着支持が解除されたとき、搬送板74の上面に基板Stが載置される。そして、搬送板74は、その上面に基板Stを載置した状態でA面検査吸着テーブル22の直下位置まで移動する。
Returning to FIG. 6, the transport
次に、図9〜図15を参照して、基板供給部7の動作について説明する。なお、図9は、基板供給部7からA面検査吸着テーブル22a〜22dの何れかに基板Sを供給する動作を示すフローチャートである。図10〜図15は、それぞれ図9で示すフローチャートの動作に基づいて、基板供給部7が動作する状態を段階的に示した模式図である。
Next, the operation of the
図9において、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、第1基板搬送コンベア10上に積載されて供給対象となっている基板Sに対して、その最上位置に載置された基板Stと吸着ユニット70の吸着面とを近接させる位置(基板吸着開始位置)に昇降支持部材72を下降させる(ステップS50)。例えば、基板検査装置1の制御部は、上記高さセンサから出力される高さ情報を用いて、現在供給対象となっている基板Sの積載高さ(基板Sの残量)を算出し、当該積載高さに応じて吸着ユニット70を下降させる基板吸着開始位置を決定する。そして、図10に示すように、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、吸着ユニット70が基板吸着開始位置に配置されるように図示E1方向に昇降支持部材72を下降させる。これによって、第1吸着部702の吸着面が、最上位置に積載された基板Stの長軸方向の端部近傍と近接する。このとき、後述するステップによる動作で明らかとなるが、揺動機構71は、吸着ユニット70の吸着面が水平になるように動作しているため、当該吸着面と最上位置の基板Stの主面とが平行な状態で近接する。
In FIG. 9, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、ブロア90の駆動および吸着圧制御部707の動作を制御して、第1吸着部702に負圧を供給する。これによって、第1吸着部702の吸着面に形成された複数の吸引孔ha(図7参照)へ最上位置の基板Stの端部が吸引され、第1吸着部702の吸着面と基板Stの上面前端部とが当接する(ステップS51;図8参照)。これによって、第2〜第4吸着部703〜705の吸着面および後端当接部材706と基板Stの上面とも接する状態となる。このとき、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707を制御して、第1吸着圧の負圧を第1吸着部702に供給する。第1吸着圧は、1枚の基板Stの端部を持ち上げることができる程度の負圧であり、後述する第2吸着圧より弱い負圧である。例えば、第1吸着圧は、厚さ1.6mm、サイズ95mm×130mm、重量45gの基板Stに対して、90mmの幅で吸着してその端部を持ち上げる場合、3〜5mmHgである。なお、図10では、第1吸着圧が発生している状態を第1吸着部702内部の実線矢印で示している。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、揺動機構71の揺動カムを回転させて、吸着ユニット70が下方向(図10において反時計回り方向)に所定の角度まで揺動可能な状態にする(ステップS52)。このとき、第1〜第4吸着部702〜705の吸着面および後端当接部材706と最上位置に積載された基板Stの上面とが接した状態であるため、吸着ユニット70は、基板Stと同様の水平状態が維持される(図10の状態)。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、昇降支持部材72を上昇させる(ステップS53)。例えば、図11に示すように、基板検査装置1の制御部は、昇降機構73を駆動して、図示E2方向に昇降支持部材72を上昇させる。この昇降支持部材72を上昇に応じて、最上位置に積載された基板Stの前端部が第1吸着部702に吸着された状態で持ち上がる。一方、吸着ユニット70等の自重によって、上記所定の角度となるまで当該吸着ユニット70が上記下方向(図示F1方向)に揺動するため、基板Stの後端は、積載された他の基板Sと接した状態となる。つまり、基板Stは、他の基板Sから前端のみが引き上げられ、当該基板Stと他の基板Sとの間に隙間が形成される(図11の状態)。
Next, the control part of the board |
次に、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第2〜第4吸着部703〜705に負圧を供給する(ステップS54)。これによって、第2〜第4吸着部703〜705の吸着面に形成された複数の吸引孔hbまたはhc(図7参照)へ最上位置の基板Stの端部が吸引され、基板Stが第1〜第4吸着部702〜705によって確実に吸着固定される(図12の状態)。このとき、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707を制御して、第2吸着圧の負圧を第2〜第4吸着部703〜705に供給する。第2吸着圧は、基板Stを確実に吸着固定して全体を持ち上げることができる負圧であり、上記第1吸着圧より強い負圧である。例えば、第2吸着圧は、厚さ1.6mm、サイズ95mm×130mm、重量45gの基板Stに対して、90mmの幅で吸着して全体を持ち上げる場合、10mmHg以上である。なお、図12では、第2吸着圧が発生している状態を第2〜第4吸着部703〜705内部の白抜き矢印で示している。
Next, the control part of the board |
ここで、基板Stには、背景技術で説明したようにスルーホールTHやスリットSLなどの表裏を貫通する複数の孔が形成されている。しかしながら、最上位置の基板Stと最上位置から2枚目の基板Sとの間に隙間が形成されているため、基板Stと2枚目の基板Sとが互いに密着することはなく、当該最上位置の基板Stに対してのみ吸引力が大きく作用する。 Here, as described in the background art, the substrate St is formed with a plurality of holes penetrating the front and back, such as the through holes TH and the slits SL. However, since a gap is formed between the uppermost substrate St and the second substrate S from the uppermost position, the substrate St and the second substrate S are not in close contact with each other. A large suction force acts only on the substrate St.
次に、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第1吸着部702への供給圧を第1吸着圧から第2吸着圧に変更する(ステップS55)。そして、基板検査装置1の制御部は、揺動機構71の揺動カムを回転させて吸着ユニット70を水平状態まで揺動させ(ステップS56)、昇降機構73をさらに駆動して吸着ユニット70を上記基板吸引解除位置に配置する(ステップS57;図13の状態)。例えば、図13に示すように、上記制御部が揺動カムを回転させることによって、吸着ユニット70が図示F2方向に揺動して水平状態となる。そして、上記制御部が昇降機構73をさらに駆動して図示E3方向に昇降支持部材72をさらに上昇させ、吸着ユニット70を上記基板吸引解除位置に配置する。これによって、吸着ユニット70に吸着固定された基板Stは、水平状態で基板吸引解除位置に配置されることになる。なお、図13では、第2吸着圧に変更された第1吸着部702の状態を内部の白抜き矢印で示している。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、搬送板移動機構75を制御して、搬送板74を吸着ユニット70の下方位置まで移動させる(ステップS58)。そして、基板検査装置1の制御部は、吸着圧制御部707の動作を制御して、第1〜第4吸着部702〜705に供給している負圧を停止する(ステップS59;図14の状態)。これによって、吸着ユニット70に吸着固定されていた基板Stが、搬送板74上に載置される。例えば、図14に示すように、上記制御部が搬送板74を図示G1方向に移動させて、基板Stを吸着固定した吸着ユニット70の下方位置に当該搬送板74を配置する。そして、第1〜第4吸着部702〜705に供給している負圧を停止することによって、吸着固定されていた基板Stが搬送板74の上面に載置される。なお、図14において、第1〜第4吸着部702〜705内部の無印は、負圧が供給されていない状態を示している。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、搬送板移動機構75を制御して、搬送板74をA面検査吸着テーブル22の直下位置となる基板供給位置まで移動させる(ステップS60;図15の状態)。例えば、図15に示すように、上記制御部が搬送板74を図示G2方向に移動させて、上記基板供給位置まで当該搬送板74を移動させる。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、全てのエアーシリンダ23a〜23dおよび33a〜33dを伸ばす方向に動作させる(図3参照)ことによって、A面検査吸着テーブル22a〜22dのいずれか1つの吸着面が基板Stを載置した搬送板74の上方近傍に配置される。そして、A面検査吸着テーブル22が搬送板74上に載置された基板Stを吸引し、当該基板Stの一方主面(具体的にはB面)が当該A面検査吸着テーブル22の吸着面に真空吸着固定される(ステップS61)。
Next, the control unit of the
次に、基板検査装置1の制御部は、全てのエアーシリンダ23a〜23dおよび33a〜33dを縮める方向に動作させる(図1参照)。この動作によって、A面検査吸着テーブル22a〜22dおよびB面検査吸着テーブル32a〜32dが全て第1回転部材21および第2回転部材31の側面近傍に配置され、上記ステップS61においてA面検査吸着テーブル22の吸着面に真空吸着固定された基板Sが、基板供給部7からピックアップされる(ステップS62)。
Next, the control part of the board |
次に、基板検査装置1の制御部は、基板Sの供給を継続するか否かを判断する(ステップS63)。そして、制御部は、基板Sの供給を継続する場合、上記ステップS50に戻って処理を繰り返し、基板Sの供給を終了する場合、当該フローチャートによる処理を終了する。
Next, the control unit of the
このように、基板供給部7では、積載された基板Sのうち、最上位置の基板Stの端部近傍のみ吸着して引き上げる。この基板Stを引き上げる力は、負圧による気体吸引を用いているために吸引力の経時変化がなく、従来の粘着部材等を用いるときに必要なメンテナンスが不要となる。また、最上位置の基板Stの端部近傍のみ吸着することによって、最上位置の基板Stのみを容易に剥離することができ、最上位置の基板Stと2枚目の基板S間が密着することなく隙間が形成された後、最上位置の基板Stのみが他の吸着部によって確実に吸着固定される。したがって、本発明の基板取出装置は、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板であっても、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができる。
In this way, the
本発明において、最上位置の基板Stのみを他の基板Sから剥離できる本質的な要素は、上述したようにピックアップする基板Stの長手方向の端部のみを吸着するところにある。例えば、ピックアップする基板Stの中央部を吸着した場合、基板Stと他の基板Sとの密着力が強いために2枚の基板をピックアップしやすいが、長手方向端部のみを吸着することによって、基板Stと他の基板Sとの間に隙間が容易に形成される。 In the present invention, the essential element that allows only the uppermost substrate St to be peeled from the other substrate S is to adsorb only the longitudinal end of the substrate St to be picked up as described above. For example, when the central portion of the substrate St to be picked up is attracted, the adhesion between the substrate St and the other substrate S is strong, so it is easy to pick up two substrates, but by adsorbing only the end in the longitudinal direction, A gap is easily formed between the substrate St and another substrate S.
また、ピックアップされる基板Stの第1吸着部702の吸引範囲(図8参照)に対して、当該吸引範囲に含まれる基板Stの孔を総計した孔面積より、当該吸引範囲に含まれる第1吸着部702の吸引孔haの総面積が大きい程、2枚取りを防止する効果が高くなる。例えば、図16に示すように、最上位置の基板Stと他の基板Sとがずれて積載されている場合を考える。このとき、第1吸着部702の吸引孔haと基板Stの孔とが不一致の箇所については、当該吸引孔haの吸引力が基板Stのみに作用する(図示実線矢印)。一方、第1吸着部702の吸引孔haと基板Stの孔とが一致している箇所については、当該吸引孔haの吸引力が2枚目の基板S2に作用する(図示破線矢印)。つまり、2枚取りを防止する効果を高くして、最上位置の基板Stのみを確実にピックアップするためには、2枚目の基板S2に作用する吸引力を小さくしながら、吸引孔haと基板Stの孔とが不一致の箇所を多くすることが必要となる。例えば、第1吸着部702の吸引範囲に形成される吸引孔haの孔数をできるだけ多くすることによって基板Stに作用する吸引力を大きくして、第1吸着部702に供給する負圧を低く(例えば、上述した第1吸着圧)制御することによって基板Sに作用する吸引力を小さくすれば、2枚取りを防止しながら最上位置の基板Stのみを確実にピックアップする効果が高くなる。つまり、第1吸着部702の吸引範囲に形成される吸引孔haの孔数を多く(吸引孔haの総面積を大きく)することによって、2枚目の基板S2に作用する吸引力に対して基板Stに作用する吸引力の割合が増加する。また、第1吸着部702に供給する負圧を低く制御することによって、2枚目の基板S2に作用する吸引力の絶対量が低くなる。
Further, with respect to the suction range (see FIG. 8) of the
例えば、図17に示すように、複数の吸引孔haが形成された第1吸着部702と複数の貫通孔が形成された基板Stとを重ね合わせて考える。ここで、図17の下図においては、複数の吸引孔haが形成された第1吸着部702を実線で示し、複数の貫通孔が形成された基板Stを破線で示し、吸引孔haと貫通孔とが重複する領域を塗りつぶし領域で示している。図17から明らかなように、吸引孔haの面積に対して吸引孔haと貫通孔とが重複する面積の割合が相対的に低いため、基板Stに作用する吸引力に対して2枚目の基板S2に作用する吸引力が極めて低くなることがわかる。また、さらに吸引孔haの孔数を多くすることによって、基板Stに作用する吸引力に対して2枚目の基板S2に作用する吸引力の割合がさらに低くなることは明らかである。
For example, as shown in FIG. 17, a
上述した第1吸着部702の一例では、直径0.5mmの吸引孔haを中心間ピッチ1.5mmでマトリックス状に形成したが、他の態様でもかまわない。例えば、通常ブロア吸着に用いられる直径1.5mmの吸引孔であっても、上記支持部材701a側に設定された所定領域において孔加工可能な範囲で可能な限り吸引孔をマトリックス状に形成することによって、本発明を実現することができる。また、図18Aに示すように、吸引孔haを千鳥配置してもかまわない。吸引孔haを千鳥配置して形成することによって、さらに効率的に吸引孔haを配置できるため、上記所定領域内における孔数や孔総面積をさらに大きくすることができる。また、吸引孔haを千鳥配置して直径を0.5〜0.8mm程度に形成すれば、さらに効率的に吸引孔haを配置できることは言うまでもない。さらに、第1吸着部702の吸着面を多孔質結晶合金等で構成してもかまわない。
In the example of the
また、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮して、当該基板Sminには当接しない吸着面に対しては、第1吸着部702における吸引孔haの数を少なくしてもかまわない。例えば、図18Bに示すように、最小サイズの基板Sminでも当接する第1吸着部702の吸着面に対しては、上述したように多数の吸引孔haを形成する。一方、そのサイズに応じて当接しない基板Sがあり得る第1吸着部702の吸着面に対しては、相対的に少数の吸引孔hbを形成する。さらに、基板Smin等サイズの小さな基板Sに対して吸引漏れが多い場合、吸着圧制御部707によって基板Sのサイズ別に吸引圧を制御してもかまわない。
In consideration of sucking the substrate Smin of the minimum size by the same
さらに、最小サイズの基板Sminを同じ第1吸着部702で吸引することを考慮して、第1吸着部702における吸引孔haを複数のグループに分割して吸引圧を制御してもかまわない。例えば、図18Cに示すように、吸引孔haが形成されている第1吸着部702の吸着面を3つの領域Ar1〜Ar3に区分して、各領域Ar1〜Ar3に対して供給する負圧をそれぞれ独立して吸着圧制御部707が制御する。そして、供給対象となっている基板Sのサイズに応じて、各領域Ar1〜Ar3に供給する吸引圧を制御すれば、基板サイズに応じた適切な吸引圧を供給することができる。
Further, in consideration of sucking the substrate Smin of the minimum size by the same
なお、上述した説明では、搬送板74上に載置された基板Stが吸着ユニット70の後端側(つまり、後端当接部材706側)へ搬送される例を示したが、他の方向へ搬送されてもかまわない。例えば、搬送板74上に載置された基板Stが吸着ユニット70の前端側(つまり、第1吸着部702側)へ搬送されてもいいし、吸着ユニット70の左右方向へ搬送されてもかまわない。
In the above description, the substrate St placed on the
また、上述した説明では、図8等に示したように、基板Stの前端に対して右側に片寄った端部が第1吸着部702の吸引範囲に設定される例を用いたが、他の位置に吸引範囲が設定されてもかまわない。第1吸着部702の吸引範囲は、各サイズの基板Stが共通して存在する前端部近傍であればよく、例えば、基板Stの前端に対して左側に片寄った端部や基板Stの前端の中央であってもかまわない。
In the above description, as shown in FIG. 8 and the like, an example is used in which the end that is offset to the right with respect to the front end of the substrate St is set as the suction range of the
また、上述した説明では、第1吸着部702の他に3つの吸着部(第2〜第4吸着部703〜705)を設けたが、第1吸着部702による基板Stの吸着固定をサポートする機構は、他の態様でもかまわない。上述したように、第2〜第4吸着部703〜705は、第1吸着部702による吸着固定だけでは基板St全体を持ち上げる吸引力が不足する、または基板Stを吸着固定して引き上げる体勢が安定しないために設けられている。例えば、基板Stを吸着固定して安定して引き上げることができれば、第1吸着部702をサポートする他の吸着部は少なくとも1つあればよく、4つ以上の吸着部であってもかまわない。また、第1吸着部702をサポートする他の吸着部は、供給対象となる基板Stのほぼ全面を吸着するような大型の吸着面を有する吸着部であってもかまわない。
In the above description, three suction units (second to
また、上述した説明では、吸着ユニット70を昇降させることによって、最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との隙間を形成し当該基板Stをピックアップしたが、最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との高さ方向の位置関係がそれぞれ相対的に拡大/縮小すれば、他の態様でもかまわない。例えば、積載された基板S自体を昇降させて最上位置の基板Stと2枚目の基板S2との高さ方向の位置関係を拡大/縮小してもかまわない。
In the above description, the
また、上述した説明では、本発明の基板取出装置を複数の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用したが、他の装置に適用してもかまわない。例えば、単独の検査吸着テーブルを有する基板検査装置に適用してもいいし、描画装置や他の処理を行う装置に適用してもかまわない。また、基板取出装置によって取り出す基板は、その両面の外観検査が必要な両面基板でなくてもかまわない。 In the above description, the substrate take-out device of the present invention is applied to a substrate inspection device having a plurality of inspection suction tables, but may be applied to other devices. For example, the present invention may be applied to a substrate inspection apparatus having a single inspection suction table, or may be applied to a drawing apparatus or other processing apparatus. Further, the substrate taken out by the substrate take-out device may not be a double-sided substrate that requires an appearance inspection on both sides.
本発明に係る基板取出装置およびその方法は、装置のメンテナンス作業を極力少なくしながら、積載された複数の基板のうち、2枚取りを防止して最上位置に載置された基板のみを取り出すことができ、表裏を貫通する複数の孔が形成された基板に対して処理する装置などの用途に適用することができる。 The substrate take-out apparatus and method according to the present invention take out only the substrate placed at the uppermost position while preventing two substrates from being stacked while minimizing the maintenance work of the apparatus. And can be applied to uses such as an apparatus for processing a substrate on which a plurality of holes penetrating the front and back are formed.
1…基板検査装置
2…第1検査ステージ
21…第1回転部材
22…A面検査吸着テーブル
23、33…エアーシリンダ
24…第1回転軸
25、35…タイミングプーリ
3…第2検査ステージ
31…第2回転部材
32…B面検査吸着テーブル
34…第2回転軸
4…A面検査ヘッド
41、51…スリット
5…B面検査ヘッド
6…フレーム
61…検査ヘッド梁
62…直動軸受
621…レール
622…スライドブロック
63…本体ベース
64…当接部材
65…ボールネジ
651…直動モータ
7…基板供給部
70…吸着ユニット
701…支持部材
702…第1吸着部
703…第2吸着部
704…第3吸着部
705…第4吸着部
706…後端当接部材
707…吸着圧制御部
71…揺動機構
72…昇降支持部材
73…昇降機構
74…搬送板
75…搬送板移動機構
8…基板収納部
81…基板ケース
82…昇降テーブル
83…ターンテーブル
84…第1搬出コンベア
85…第2搬出コンベア
90…ブロア
91…主配管
92…空圧切替部
93…吸着配管
94…シリンダ配管
95…コンプレッサ
101…回転駆動モータ
102…プーリ
103…タイミングベルト
104、105…テンションプーリ
10…第1基板搬送コンベア
11…第2基板搬送コンベア
DESCRIPTION OF
Claims (10)
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみをその吸着面で吸着する第1吸着部を少なくとも備える吸着ユニットと、
前記吸着ユニットを昇降する昇降機構とを備え、
前記昇降機構は、前記第1吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とが近接する位置まで前記吸着ユニットを下降させ、
前記第1吸着部は、その吸着面を前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着させ、
前記昇降機構は、前記第1吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記吸着ユニットを上昇させる、基板取出装置。 A substrate take-out device that removes a substrate from a loaded substrate,
A suction unit including at least a first suction unit that sucks only the vicinity of the upper surface end portion of the uppermost substrate mounted on the suction surface;
An elevating mechanism for elevating the adsorption unit,
The elevating mechanism lowers the adsorption unit to a position where the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate are close to each other,
The first adsorption unit adsorbs the adsorption surface in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate,
The lifting mechanism raises the suction unit in a state where the suction surface of the first suction part is sucked near the upper surface end of the uppermost substrate.
前記第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、当該吸着面が吸着する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項2に記載の基板取出装置。 The substrate has a plurality of through holes,
The substrate extraction according to claim 2, wherein a total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction unit is wider than a total area of the through holes of the substrate formed in a portion where the suction surface is suctioned. apparatus.
前記吸引孔は、前記第1吸着部の吸着面に含まれる一部の領域内に全て形成され、
前記第1吸着部の吸着面に形成された吸引孔の総面積は、前記吸引孔が形成される領域が当接する部位に形成されている前記基板の貫通孔の総面積より広い、請求項2に記載の基板取出装置。 The substrate has a plurality of through holes,
The suction holes are all formed in a partial region included in the suction surface of the first suction part,
The total area of the suction holes formed in the suction surface of the first suction part is wider than the total area of the through holes of the substrate formed in a portion where the region where the suction holes are formed contacts. The board take-out device described in 1.
前記第2吸着部は、前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、その吸着面を前記最上位置の基板の上面に吸着させる、請求項1に記載の基板取出装置。 The adsorption unit further includes a second adsorption unit that adsorbs, on the adsorption surface, an area different from an area adsorbed by the first adsorption unit with respect to the upper surface of the uppermost substrate.
The second adsorbing unit adsorbs the adsorbing surface to the upper surface of the uppermost substrate when a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the raising operation of the elevating mechanism. The substrate take-out device according to claim 1.
前記吸着圧制御部は、
前記第1吸着部が前記最上位置の基板の上面端部近傍を吸着するとき、第1の吸引圧を当該第1吸着部に供給し、
前記昇降機構の上昇動作に応じて、前記最上位置の基板と他の基板との間に隙間が形成されたとき、前記第1の吸引圧より強い第2の吸引圧を前記第1の吸着部および前記第2吸着部に供給する、請求項6に記載の基板取出装置。 An adsorption pressure control unit that controls the suction pressure supplied to the first adsorption unit and the second adsorption unit;
The adsorption pressure control unit
When the first suction part sucks the vicinity of the upper end of the uppermost substrate, the first suction pressure is supplied to the first suction part,
When a gap is formed between the uppermost substrate and another substrate in accordance with the lifting operation of the lifting mechanism, a second suction pressure that is stronger than the first suction pressure is applied to the first suction unit. The substrate take-out apparatus according to claim 6, wherein the substrate take-out device is supplied to the second suction unit.
積載された最上位置の基板の上面端部近傍のみを吸着する第1吸着部を下降させて、当該第1吸着部の吸着面と当該最上位置の基板の上面端部近傍とを近接させる下降ステップと、
前記第1吸着部の吸着面と前記最上位置の基板の上面端部近傍とを吸着させる吸着ステップと、
前記第1吸着部の吸着面が前記最上位置の基板の上面端部近傍に吸着した状態で前記第1吸着部を上昇させる上昇ステップとを含む、基板取出方法。 A substrate removal method for removing a substrate from a loaded substrate,
A lowering step of lowering the first suction part that sucks only the vicinity of the upper surface end of the stacked uppermost substrate and bringing the suction surface of the first suction part close to the upper surface end of the uppermost substrate. When,
An adsorption step for adsorbing the adsorption surface of the first adsorption unit and the vicinity of the upper end of the uppermost substrate;
And a raising step of raising the first adsorption unit in a state where the adsorption surface of the first adsorption unit is adsorbed in the vicinity of the upper end of the uppermost substrate.
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