JP2008078095A - 真空プラズマ装置の接続構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】Oリングの成分に起因したパーティクルや金属化合物による真空室の汚染を低減することができ、さらに電磁波をシールドできる真空プラズマ装置の接続構造を提供する。
【解決手段】真空室30の外側に配置されるリング状の電磁シールド材4と、電磁シールド材の外周側に配置されて真空を保持するOリング2とが構成部材10、20の接合部の間tに介装されている。
【選択図】図1
【解決手段】真空室30の外側に配置されるリング状の電磁シールド材4と、電磁シールド材の外周側に配置されて真空を保持するOリング2とが構成部材10、20の接合部の間tに介装されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、真空プラズマ装置の接続構造に関する。
真空プラズマ装置等の真空装置は、金属製の構成部材同士をOリングを介してボルト等で接合し、真空シールを行っている。
しかしながら、真空プラズマ装置内でプラズマを放電させると電磁波が発生し、外部に漏洩するという問題があった。そこで、真空プラズマ装置からの電磁波の漏洩を防止するため、接合部におけるOリングの外周(大気側)に、導電布や金属メッシュをゴム等の弾性芯材に被覆したシールド材を配置する技術(特許文献1、2参照)が開発されている。
しかしながら、真空プラズマ装置内でプラズマを放電させると電磁波が発生し、外部に漏洩するという問題があった。そこで、真空プラズマ装置からの電磁波の漏洩を防止するため、接合部におけるOリングの外周(大気側)に、導電布や金属メッシュをゴム等の弾性芯材に被覆したシールド材を配置する技術(特許文献1、2参照)が開発されている。
しかしながら、従来の真空プラズマ装置の場合、プラズマ処理を行うとOリングが侵食し、真空リークや真空室内の汚染が生じるため、6ヶ月程度でOリングの交換が必要となるという問題があった。
通常、Oリングはカーボンを充填剤とし、さらにゴムの加硫時に金属化合物を用いて製造される。そのため、真空室で発生したプラズマが接合部の隙間からOリングに到達すると、Oリングの成分と反応してパーティクルや金属化合物が生じ、真空室を汚染する。
一方、上記したパーティクルや金属化合物が生じない特殊なOリング(いわゆる、プラズマ対策品)が上市されているが、使用可能期間として2〜3倍の延長が期待できるものの、恒久的な対策にはなっておらず、また、通常のOリングより高価(通常の10倍以上の価格)であることから、あまり普及していない。
通常、Oリングはカーボンを充填剤とし、さらにゴムの加硫時に金属化合物を用いて製造される。そのため、真空室で発生したプラズマが接合部の隙間からOリングに到達すると、Oリングの成分と反応してパーティクルや金属化合物が生じ、真空室を汚染する。
一方、上記したパーティクルや金属化合物が生じない特殊なOリング(いわゆる、プラズマ対策品)が上市されているが、使用可能期間として2〜3倍の延長が期待できるものの、恒久的な対策にはなっておらず、また、通常のOリングより高価(通常の10倍以上の価格)であることから、あまり普及していない。
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、Oリングの成分に起因したパーティクルや金属化合物による真空室の汚染を低減することができ、さらに電磁波をシールドできる真空プラズマ装置の接続構造の提供を目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の真空プラズマ装置の接続構造は、真空室の外側に配置されるリング状の電磁シールド材と、該電磁シールド材の外周側に配置されて真空を保持するOリングとが構成部材の接合部の間に介装されていることを特徴とする。
このような構成とすると、真空室から生じたプラズマが接合部の隙間を通ってOリングに到達する前に電磁シールド材によって吸収され、プラズマによるOリングの劣化、真空リークや真空室内の汚染が防止される。
又、電磁シールド材によって、真空室から生じたプラズマに起因する電磁波が外部へ漏洩することが防止される。
このような構成とすると、真空室から生じたプラズマが接合部の隙間を通ってOリングに到達する前に電磁シールド材によって吸収され、プラズマによるOリングの劣化、真空リークや真空室内の汚染が防止される。
又、電磁シールド材によって、真空室から生じたプラズマに起因する電磁波が外部へ漏洩することが防止される。
前記電磁シールド材としてアルミニウム又はアルミニウム合金を用いることが好ましい。
このような構成とすると、プラズマと電磁シールド材との反応が少なく、電磁シールド材による真空室内の汚染が低減する。
このような構成とすると、プラズマと電磁シールド材との反応が少なく、電磁シールド材による真空室内の汚染が低減する。
本発明によれば、Oリングの成分に起因したパーティクルや金属化合物による真空室の汚染を低減することができ、さらにプラズマによる電磁波をシールドできる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る真空プラズマ装置の接続構造を示す図である。この図において、金属製の構成部材10,20はそれぞれフランジ10a、20aを有し、フランジ10a、20aの貫通孔40にボルトとナットを締結することにより構成部材10,20が接合される。又、構成部材10、20で囲まれる内部空間(図1の右側空間)が真空室30を形成する。
構成部材20の上面の真空室30側にはリング状のシールド材溝24が設けられ、シールド材溝24の外周(大気側、図1においてシールド材溝24の左側)には、シールド材溝24と同心のリング状のOリング溝22が設けられている。そして、シールド材溝24にリング状の電磁シールド材4を嵌め込み、同様にOリング溝22にOリング2を嵌め込み、上記ボルトとナットを用いて構成部材10の下面を構成部材20の上面に押圧することにより、Oリング2が潰れて構成部材10、20の間tを埋めて真空シールが行われる。
又、構成部材10を構成部材20に押圧することにより、電磁シールド材4が潰れ、構成部材10、20にそれぞれ密着し、これらと電気的に接続される。従って、真空プラズマ装置の一部を接地しておくことで、電磁シールド材4も接地電位と同電位になる。
構成部材20の上面の真空室30側にはリング状のシールド材溝24が設けられ、シールド材溝24の外周(大気側、図1においてシールド材溝24の左側)には、シールド材溝24と同心のリング状のOリング溝22が設けられている。そして、シールド材溝24にリング状の電磁シールド材4を嵌め込み、同様にOリング溝22にOリング2を嵌め込み、上記ボルトとナットを用いて構成部材10の下面を構成部材20の上面に押圧することにより、Oリング2が潰れて構成部材10、20の間tを埋めて真空シールが行われる。
又、構成部材10を構成部材20に押圧することにより、電磁シールド材4が潰れ、構成部材10、20にそれぞれ密着し、これらと電気的に接続される。従って、真空プラズマ装置の一部を接地しておくことで、電磁シールド材4も接地電位と同電位になる。
(作用)
接合部の間tの真空室30側に電磁シールド材4が介装され、Oリング2は電磁シールド材4の外周側に介装されるため、真空室30から生じたプラズマはOリング2に到達する前に電磁シールド材4によって吸収される。従って、プラズマによるOリング2の劣化、真空リークや真空室内の汚染が防止される。
又、Oリングの外周に電磁シールド材がある場合と同様、電磁シールド材4によって、真空室から生じたプラズマに起因する電磁波が外部へ漏洩することが防止される。
接合部の間tの真空室30側に電磁シールド材4が介装され、Oリング2は電磁シールド材4の外周側に介装されるため、真空室30から生じたプラズマはOリング2に到達する前に電磁シールド材4によって吸収される。従って、プラズマによるOリング2の劣化、真空リークや真空室内の汚染が防止される。
又、Oリングの外周に電磁シールド材がある場合と同様、電磁シールド材4によって、真空室から生じたプラズマに起因する電磁波が外部へ漏洩することが防止される。
(Oリング)
Oリングとしては特に制限されないが、従来のような高価なプラズマ対策品(例えば、シーエス化成社製の商品名フロロハイパーPの標準プラズマ対策グレードやパーティクル汚染対策グレード)を用いる代わりに、安価な標準品(例えば、デュポン・ダウ・エラストマーズ社製の商品名バイトン(登録商標):フッ素ゴム系)を用いても劣化が生じ難く、長期間のOリングの使用が可能である。
もちろん、上記したようなプラズマ対策品を本発明に用いて、より長期間の使用に供してもよい。
Oリングとしては特に制限されないが、従来のような高価なプラズマ対策品(例えば、シーエス化成社製の商品名フロロハイパーPの標準プラズマ対策グレードやパーティクル汚染対策グレード)を用いる代わりに、安価な標準品(例えば、デュポン・ダウ・エラストマーズ社製の商品名バイトン(登録商標):フッ素ゴム系)を用いても劣化が生じ難く、長期間のOリングの使用が可能である。
もちろん、上記したようなプラズマ対策品を本発明に用いて、より長期間の使用に供してもよい。
(電磁シールド材)
構成部材間の接合部に密着するよう、電磁シールド材としては弾性芯材に導電布や金属メッシュを被覆したり混入したものを用いることが好ましい。
弾性芯材としては、例えばシリコーンゴムやネオプレンゴム等を用いることができ、これらをスポンジ状としたりソリッドとすることができる。
シールド材料としては、TW(鉄・銅・錫合金)、TC(銅・錫合金)、モネル(ニッケル・銅合金)、アルミニウム、またはアルミニウム合金が挙げられ、これらの金属または合金をメッシュ状にして上記芯材を被覆することができる。又、これらの金属または合金の線材やメッシュ等を上記芯材に埋め込んでもよい。
特に、シールド材料としてアルミニウム又はアルミニウム合金を用いると、プラズマとシールド材料との反応が少なく、シールド材料による真空室内の汚染が低減するので好ましい。
電磁シールド材としては、例えば太陽金網株式会社製の商品名シールドラバー1、シールドライン2を用いることができる。
構成部材間の接合部に密着するよう、電磁シールド材としては弾性芯材に導電布や金属メッシュを被覆したり混入したものを用いることが好ましい。
弾性芯材としては、例えばシリコーンゴムやネオプレンゴム等を用いることができ、これらをスポンジ状としたりソリッドとすることができる。
シールド材料としては、TW(鉄・銅・錫合金)、TC(銅・錫合金)、モネル(ニッケル・銅合金)、アルミニウム、またはアルミニウム合金が挙げられ、これらの金属または合金をメッシュ状にして上記芯材を被覆することができる。又、これらの金属または合金の線材やメッシュ等を上記芯材に埋め込んでもよい。
特に、シールド材料としてアルミニウム又はアルミニウム合金を用いると、プラズマとシールド材料との反応が少なく、シールド材料による真空室内の汚染が低減するので好ましい。
電磁シールド材としては、例えば太陽金網株式会社製の商品名シールドラバー1、シールドライン2を用いることができる。
Oリング及び電磁シールド材はリング状であればよく、円形、楕円、矩形等の形状とすることができる。
2 Oリング
4 電磁シールド材
10、20 構成部材
30 真空室
t 接合部の間
4 電磁シールド材
10、20 構成部材
30 真空室
t 接合部の間
Claims (2)
- 真空室の外側に配置されるリング状の電磁シールド材と、該電磁シールド材の外周側に配置されて真空を保持するOリングとが構成部材の接合部の間に介装されていることを特徴とする真空プラズマ装置の接続構造。
- 前記電磁シールド材としてアルミニウム又はアルミニウム合金を用いることを特徴とする請求項1記載の真空プラズマ装置の接続構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006259221A JP2008078095A (ja) | 2006-09-25 | 2006-09-25 | 真空プラズマ装置の接続構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006259221A JP2008078095A (ja) | 2006-09-25 | 2006-09-25 | 真空プラズマ装置の接続構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008078095A true JP2008078095A (ja) | 2008-04-03 |
Family
ID=39349930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006259221A Withdrawn JP2008078095A (ja) | 2006-09-25 | 2006-09-25 | 真空プラズマ装置の接続構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2008078095A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011137228A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-07-14 | Orbotech Lt Solar Llc | 真空処理装置用シャワーヘッド・アセンブリ |
-
2006
- 2006-09-25 JP JP2006259221A patent/JP2008078095A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
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