JP2008071876A - GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 - Google Patents
GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008071876A JP2008071876A JP2006248215A JP2006248215A JP2008071876A JP 2008071876 A JP2008071876 A JP 2008071876A JP 2006248215 A JP2006248215 A JP 2006248215A JP 2006248215 A JP2006248215 A JP 2006248215A JP 2008071876 A JP2008071876 A JP 2008071876A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gan
- layer
- selective growth
- based semiconductor
- growth mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
【解決手段】サファイア基板1上にGaNバッファ層2、アンドープGaN層3、n+型GaNドレイン層4、n−型GaN層5、p型GaN系チャネル層6が積層されており、p型GaN系チャネル層6の上には、リッジ部Aとリッジ部Bと2つのリッジ部を有するn型GaNソース層8が形成されている。n型GaNソース層8は、選択成長によって形成され、2つのリッジ部の間に設けられていた選択成長用マスクはウエットエッチングによって除去される。
【選択図】 図1
Description
2 GaNバッファ層
3 アンドープGaN層
4 n+型GaNドレイン層
5 n−型GaN層
6 p型GaN系チャネル層
7 選択成長用マスク
8 n型GaNソース層
9 ゲート電極
10 ソース電極
11 絶縁膜
Claims (7)
- GaN系半導体からなるチャネル層と、前記チャネル層を挟んで配置されたソース層及びドレイン層を備えたGaN系半導体素子であって、
前記ソース層は選択成長によって形成されたリッジ部を有し、隣接する2つのリッジ部に挟まれたチャネル層表面から前記2つのリッジ部表面に渡ってソース電極が形成されていることを特徴とするGaN系半導体素子。 - 前記選択成長で用いられた選択成長用マスクが前記チャネル層表面に残されており、前記選択成長用マスク上にゲート電極が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のGaN系半導体素子。
- 請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載のGaN系半導体素子を備えたGaN系半導体装置。
- GaN系半導体からなるチャネル層と、前記チャネル層を挟んで配置されたソース層及びドレイン層を備えたGaN系半導体素子の製造方法であって、
前記チャネル層上に選択成長用マスクを積層する第1工程と、
前記選択成長用マスクの一部を除去して開口部を形成する第2工程と、
前記開口部にソース層を成長させて前記選択成長用マスクを挟んでリッジ部を形成する第3工程と、
前記選択成長用マスクをウエットエッチングにより除去する第4工程と、
前記選択成長用マスク除去後のチャネル層表面にソース電極の一部を形成する第5工程とを有することを特徴とするGaN系半導体素子の製造方法。 - 前記第2工程で形成された選択成長用マスクは、中央の選択成長用マスクの周囲を囲むようにして環状に開口部が形成されていることを特徴とする請求項4記載のGaN系半導体素子の製造方法。
- 前記選択成長用マスクの形状は、円形状又は多角形状となっていることを特徴とする請求項5記載のGaN系半導体素子の製造方法。
- 前記第4工程における選択成長用マスクの除去は、前記リッジ部に挟まれた選択成長用マスクのみを除去することを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれか1項に記載のGaN系半導体素子の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006248215A JP5134797B2 (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 |
US11/854,585 US8421119B2 (en) | 2006-09-13 | 2007-09-13 | GaN related compound semiconductor element and process for producing the same and device having the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006248215A JP5134797B2 (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008071876A true JP2008071876A (ja) | 2008-03-27 |
JP5134797B2 JP5134797B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=39293226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006248215A Expired - Fee Related JP5134797B2 (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5134797B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0492439A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-25 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP2001230410A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Furukawa Electric Co Ltd:The | GaN系電界効果トランジスタとその製造方法 |
US20060220042A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Eudyna Devices Inc. | Semiconductor device and fabrication method of the same |
-
2006
- 2006-09-13 JP JP2006248215A patent/JP5134797B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0492439A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-25 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP2001230410A (ja) * | 2000-02-18 | 2001-08-24 | Furukawa Electric Co Ltd:The | GaN系電界効果トランジスタとその製造方法 |
US20060220042A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Eudyna Devices Inc. | Semiconductor device and fabrication method of the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5134797B2 (ja) | 2013-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8816398B2 (en) | Semiconductor device and method for producing the same | |
WO2012049892A1 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP5495257B2 (ja) | Iii族窒化物系電界効果トランジスタおよびその製造方法 | |
JP2007165431A (ja) | 電界効果型トランジスタおよびその製造方法 | |
JP5003813B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2009032796A (ja) | 窒化物半導体素子および窒化物半導体素子の製造方法 | |
JP2008210936A (ja) | 窒化物半導体素子および窒化物半導体素子の製造方法 | |
US20100301393A1 (en) | Field effect transistor and manufacturing method therefor | |
JP2008227478A (ja) | ガリウムナイトライド系エピタキシャル結晶及びその製造方法 | |
US20130240900A1 (en) | Semiconductor device and method for producing the same | |
JP2008227073A (ja) | 窒化物半導体積層構造の形成方法および窒化物半導体素子の製造方法 | |
US8421119B2 (en) | GaN related compound semiconductor element and process for producing the same and device having the same | |
JP6560117B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20140110758A1 (en) | Semiconductor device and method for producing same | |
JP2016100450A (ja) | ヘテロ接合電界効果型トランジスタおよびその製造方法 | |
CN111933709A (zh) | 一种具有高可靠性的氮化物器件及其制备方法 | |
JP2007103727A (ja) | 炭化珪素半導体装置及びその製造方法 | |
JP2005217361A (ja) | 高電子移動度トランジスタ | |
JP5134798B2 (ja) | GaN系半導体素子 | |
JP5569321B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
CN212182338U (zh) | 半导体结构 | |
TWI760937B (zh) | 半導體結構及其製作方法 | |
JP2010165783A (ja) | 電界効果型トランジスタおよびその製造方法 | |
JP2008205199A (ja) | GaN系半導体素子の製造方法 | |
JP5134797B2 (ja) | GaN系半導体素子及びその製造方法並びにGaN系半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120424 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120426 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |