JP2008053508A - 半導体ウエハーおよび基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウエハーの破損あるいは反りの発生を抑制すると共に、半導体ウエハーと粘着テープとの界面における気泡の発生を抑制する。
【解決手段】半導体ウエハー11において、パターンの形成された下面11aとは反対側の粘着テープ5が貼着される上面11bに、平行線状に溝加工を施し、空気通路あるいは接着剤通路としての複数本の凹溝12を形成する。
【選択図】図1
【解決手段】半導体ウエハー11において、パターンの形成された下面11aとは反対側の粘着テープ5が貼着される上面11bに、平行線状に溝加工を施し、空気通路あるいは接着剤通路としての複数本の凹溝12を形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、パターンが形成され、固定、保護のために粘着テープが貼付される半導体ウエハーおよび基板に関するものである。
従来のウエハーマウンターによる半導体ウエハーの処理工程などを図9(1)〜(4)を参照して説明する。
ウエハーマウンターにおいて、図9(1)に示すように、ウエハーリング1が、図示しない位置決めピンや真空などによって、ウエハー支持台2に位置決め保持されている。
この状態で、回路面(図では下面)を保護するために、ウエハー保護テープ4の貼付された半導体ウエハー3が、図示しないオリフラやVノッチを基準としてウエハーリング1の位置関係に合うように回転され、図9(2)に示すように、ウエハー支持台2におけるウエハーリング1のセンターに回路面を下にしてセットされる。
このとき、半導体ウエハー3は位置ズレを起こさないように、真空吸着によってウエハー支持台2に保持される。
その後、ウエハー支持台2が移動することにより、図9(3)に示すように、テープ貼付工程に移行して粘着テープ5が、粘着テープ台紙7より剥離され、かつ、押圧ローラー6によって半導体ウエハー3の裏面(図では上面)側に押え付けられ、これにより、図9(4)に示すように、半導体ウエハー3はウエハーリング1に粘着テープ5によって固定される。
前記粘着テープ5は半導体ウエハー3との接着面に気泡などが発生することなく完全に貼り付けられることが後加工などのために望ましい(特許文献1参照)。
しかし、現実にはウエハーの反りや粘着テープの貼付時のたるみなどによって半導体ウエハー3と粘着テープ5間に気泡が発生する。さらに、近年のウエハーの大型化に伴い気泡発生の頻度が高くなる傾向にある。
そこで、気泡発生の対策として特許文献2では、粘着テープに空気が通過することが可能な大きさ以上の孔を高密度に設けることによって、気泡の発生原因となる空気を抜く構造を採用し、気泡発生を防止している。
また、特許文献3では、細孔が形成された粘着テープを、その粘着面を上にウエハー支持台に載置して半導体ウエハーを貼り付ける構造にし、半導体ウエハーが、粘着テープに形成された細孔を通じてウエハー支持台の真空吸着によって吸着されることにより、粘着テープに貼り付けられ、発生した気泡を同時に抜くようにしている。
他の方法としては、外力によって半導体ウエハーを太鼓状などに変形させて粘着テープに押し付ける方法、あるいは、逆にシートの貼付ヘッド側を風船などで真ん中より外周部に押し当てる方法、さらには真空チャンバーなどによって半導体ウエハーと粘着テープ間の気泡発生を防止するものなどが提案されている。
特開平1−154712号公報
特開平2−112258号公報
特開平3−217042号公報
しかしながら、粘着テープに細孔を設けることは現実には非常に困難であり、粘着層が軟らかいために細孔が直に塞がれ、空気が抜けなくなるおそれがある。
また、外力を用いて半導体ウエハーを変形させたり、粘着テープの押え方を変えるためには、特殊な構造を必要とするために従来の装置をそのまま使用することができず、新たに装置を購入するか、改造をしなければならなくなり、装置が割高になるという課題がある。
そこで本発明は、従来の課題を解決し、特殊な機構や構造を必要とせず、従来の設備を使用することができ、粘着テープと半導体ウエハーとの間に気泡が発生しても、自然に気泡が抜け、良好な密着が得られる構成の半導体ウエハーおよび基板を提供することを目的とする。
前記目的を解決するため、本発明は、半導体ウエハーの裏面側に格子状あるいは平行線状の溝を加工することにより、粘着テープとウエハーとの間に発生した気泡が前記溝を通じて逃げるようにして、気泡の発生を防止するものである。
また、回路形成部分以外に、貫通孔を設けることによっても同様の効果を期待できる。
また、本発明は、単に半導体ウエハーだけでなく、樹脂基板やセラミック基板を粘着テープに貼り付ける際に発生する気泡についても、前記と同様に、等間隔に格子状あるいは平行線状の溝を加工することにより、気泡の発生を防止することができる。
なお、基板裏面に端子が配置されている場合は、この端子を避けて溝を加工するものとする。
本発明によれば、半導体ウエハーを粘着テープに貼り合せるときに発生した気泡は、ウエハー裏面に施された溝や孔を通じて逃げることにより、気泡の発生を防止することができる。また、完全に気泡が逃げ切らなくても、溝を通じて気泡が分散されるために気泡の発生によるトラブルを軽減することが可能になる。
さらに、本発明の溝付ウエハーを使用することにより、個々のチップに裁断した後にチップマウントを行うことにより、チップと接着剤との間に気泡が発生することを防止できて、余剰な接着剤を溝を通じて押し出すようにすることができる。
これにより気泡による熱膨張トラブルを防止し、接着面積が増加することによりチップの接着剤による保持力が向上する。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、図9にて説明した部材に対応する部材には同一符号を付した。
図1(1)は本発明に係る半導体ウエハーの実施形態1の平面図、図1(2)は実施形態1の正面図である。
図1(2)において、半導体ウエハー11は、下面11aがパターンの形成された表面であり、上面11bが後述するように粘着テープの貼着される裏面であって、上面11bには、図1(1)に示すように、平行線状に溝加工を施して、複数本の凹溝12が等間隔に形成されている。
図2(1)〜(4)は実施形態1におけるウエハーマウンターによる半導体ウエハーの処理工程などに関する説明図であって、図9(1)〜(4)にて説明したと同様に、図2(1)に示すように、ウエハーリング1が、図示しない位置決めピンや真空などによって、ウエハー支持台2に位置決め保持されている。
この状態で、下面(回路面)11aを保護するために、ウエハー保護テープ4の貼付された半導体ウエハー11が、図示しないオリフラやVノッチを基準としてウエハーリング1の位置関係に合うように回転され、図2(2)に示すように、ウエハー支持台2におけるウエハーリング1のセンターに下面11aを下にしてセットされる。
このとき、半導体ウエハー11は位置ズレを起こさないように、真空吸着によってウエハー支持台2に保持される。
その後、ウエハー支持台2が移動することにより、図2(3)に示すように、テープ貼付工程に移行して粘着テープ5が、粘着テープ台紙7より剥離され、かつ押圧ローラー6によって半導体ウエハー11の上面11b側に押え付けられ、これにより、図2(4)に示すように、半導体ウエハー11はウエハーリング1に粘着テープ5によって固定保持される。
前記粘着テープ5の半導体ウエハー11の上面11bへの貼り付け時に発生した気泡は、押圧ローラー6により上面11bに形成された凹溝12に沿って押さえ付けられながら、凹溝12の側部開口から外部へ押し出されるようになり、よって、粘着テープ5と半導体ウエハー11の上面11bとの間における気泡の発生をなくすことができる。
図3(1)は本発明に係る半導体ウエハーの実施形態2の平面図、図3(2)は実施形態2の正面図である。
図3(2)において、半導体ウエハー21は、下面21aがパターンの形成された表面であり、上面21bが後述するように粘着テープの貼着される裏面であって、上面21bには、図3(1)に示すように、格子状に溝加工を施して、複数の凹溝22が等間隔に形成されている。
図4(1)〜(4)は実施形態2におけるウエハーマウンターによる半導体ウエハーの処理工程などに関する説明図であって、図2(1)〜(4)にて説明したと同様に、図4(1)に示すように、ウエハーリング1が、図示しない位置決めピンや真空などによって、ウエハー支持台2に位置決め保持されている。
この状態で、下面(回路面)21aを保護するために、ウエハー保護テープ4の貼付された半導体ウエハー21が、図示しないオリフラやVノッチを基準としてウエハーリング1の位置関係に合うように回転され、図4(2)に示すように、ウエハー支持台2におけるウエハーリング1のセンターに下面21aを下にしてセットされる。
このとき、半導体ウエハー21は位置ズレを起こさないように、真空吸着によってウエハー支持台2に保持される。
その後、ウエハー支持台2が移動することにより、図4(3)に示すように、テープ貼付工程に移行して粘着テープ5が、粘着テープ台紙7より剥離され、かつ押圧ローラー6によって半導体ウエハー21の上面21b側に押え付けられ、これにより、図4(4)に示すように、半導体ウエハー21はウエハーリング1に粘着テープ5によって固定保持される。
前記粘着テープ5の半導体ウエハー21の上面21bへの貼り付け時に発生した気泡は、押圧ローラー6により上面21bに形成された凹溝22に沿って押さえ付けられながら、凹溝22の側部開口から外部へ押し出されるようになり、よって、粘着テープ5と半導体ウエハー21の上面21bとの間における気泡の発生をなくすことができる。
図5(1)は本発明に係る半導体ウエハーの実施形態3の平面図、図5(2)は実施形態3の正面図、図5(3)は実施形態3の一部拡大図である。
図5(2)において、半導体ウエハー31は、下面31aがパターンの形成された表面であり、上面31bが後述するように粘着テープの貼着される裏面であって、上面31bには、図5(1)に示すように、ウエハー裏面から表面にかけてパターン形成部以外の部分に、前記粘着テープとの接着面に空気の通路となる貫通孔32が形成され、図5(3)に示すように、貫通孔32間のスペースが回路形成エリア33となる。
図6(1)〜(4)は実施形態3におけるウエハーマウンターによる半導体ウエハーの処理工程などに関する説明図であって、図2(1)〜(4)にて説明したと同様に、図6(1)に示すように、ウエハーリング1が、図示しない位置決めピンや真空などによって、ウエハー支持台2に位置決め保持されている。
この状態で、下面(回路面)31aを保護するために、ウエハー保護テープ4の貼付された半導体ウエハー31が、図示しないオリフラやVノッチを基準としてウエハーリング1の位置関係に合うように回転され、図6(2)に示すように、ウエハー支持台2におけるウエハーリング1のセンターに下面31aを下にしてセットされる。
このとき、半導体ウエハー31は位置ズレを起こさないように、真空吸着によってウエハー支持台2に保持される。
その後、ウエハー支持台2が移動することにより、図6(3)に示すように、テープ貼付工程に移行して粘着テープ5が、粘着テープ台紙7より剥離され、かつ押圧ローラー6によって半導体ウエハー31の上面31b側に押え付けられ、これにより、図6(4)に示すように、半導体ウエハー31はウエハーリング1に粘着テープ5によって固定保持される。
前記粘着テープ5の半導体ウエハー31の上面31bへの貼り付け時に発生した気泡は、押圧ローラー6により上面31bに形成された貫通孔32内で押さえ付けられながら、貫通孔32によって形成された空間部分にわずかに圧縮された空気として存在するようになり、よって、粘着テープ5と半導体ウエハー31の上面31bとの間における気泡の発生をなくすことができる。
貫通孔32内に蓄えられた空気は、保護シート4を剥すことで大気中に開放されるために後工程への影響は回避される。
図7(1)は本発明に係る基板の実施形態4の平面図、図7(2)は実施形態4の正面図である。
図7(2)において、基板41は、下面41aがパターンの形成された表面であり、上面41bが後述するように粘着テープの貼着される裏面であって、上面41bには、図7(1)に示すように、格子状に溝加工を施して、複数の凹溝42が等間隔に形成されている。
また平行線状に溝加工を施すことについても同様なので省略する。
図8(1)〜(4)は実施形態4におけるウエハーマウンターによる基板の処理工程などに関する説明図であって、図2(1)〜(4)にて説明したと同様に、図8(1)に示すように、ウエハーリング1が、図示しない位置決めピンや真空などによって、ウエハー支持台2に位置決め保持されている。
この状態で、下面(回路面)41aには封止樹脂層43が形成された基板41が、図示しないオリフラやVノッチを基準としてウエハーリング1の位置関係に合うように回転され、図8(2)に示すように、ウエハー支持台2におけるウエハーリング1のセンターに下面41aを下にしてセットされる。
このとき、基板41は位置ズレを起こさないように、真空吸着によってウエハー支持台2に保持される。
その後、ウエハー支持台2が移動することにより、図8(3)に示すように、テープ貼付工程に移行して粘着テープ5が、粘着テープ台紙7より剥離され、かつ押圧ローラー6によって基板41の上面41b側に押え付けられ、これにより、図8(4)に示すように、基板41はウエハーリング1に粘着テープ5によって固定保持される。
前記粘着テープ5の基板41の上面41bへの貼り付け時に発生した気泡は、押圧ローラー6により上面41bに形成された凹溝42に沿って押さえ付けられながら、凹溝42の側部開口から外部へ押し出されるようになり、よって、粘着テープ5と基板41の上面41bとの間における気泡の発生をなくすことができる。
上述したように、実施形態1,2,3,4は、図9にて説明した既存のウエハーマウント工程とは、使用する半導体ウエハー11,21,31及び基板41が凹溝12,22,42または貫通孔32を具備している以外、プロセスに何ら変わるところがない。
さらに、個々のチップに裁断された後、チップマウントされる訳であるが、チップの裏面の凹溝12,22は、接着剤とチップの間に発生する気泡に対しても同様に凹溝12,22を通じて、その気泡が抜けることになるため、気泡発生を防止する機能を果たす。
また、余剰な接着についても凹溝12,22を通じて排出することができるため、チップマウントのあおり補正を行いやすくなる。
このような溝加工によって、チップの接着面積が増加し、濡れ性が向上することからチップの保持力向上にも効果が期待できる。
また、本実施形態において、特殊な粘着テープや装置を使用することなく、既存の設備にて容易に気泡の発生防止を実現するために設備側に負担を掛けることなく導入することができる方法を提案することが可能になる。
半導体ウエハーに対して、一般的に、目的とするウエハー厚とするために裏面が研磨されるが、このとき、回路面側を保護するために保護テープが回路面側に貼られる。裏面に対する前記のような凹溝の加工例としては、この保護テープが貼られた状態でダイシングソーにて裏面に所定の溝加工を施し、その後に裏面研磨を行う。
この方法の利点としては、溝加工によって生じた裏面側の研削返り、あるいはチッピングが裏面研磨によって取り除かれ、裏面の平面度が保証される。また、裏面の溝加工により裏面研磨の研磨面積が減ることによって、研磨効率が向上することが考えられる。
このことは、裏面に施された凹溝が、単に研磨面積を減らすだけでなく、研磨時に発生した研磨屑が切削水と共に流れ出す排水溝の役目を果たすことにより、砥石の温度上昇を抑えるものと考えられる。
また、本実施形態の変形例として、ウエハー裏面から表面にかけてパターン形成部以外の部分に、シリコン貫通技術などを用いて、粘着テープとの接着面に空気の通路となる貫通孔を形成することも考えられる。
さらに、本発明の実施形態として、パターンが形成された樹脂基板、あるいはセラミック基板において、前記のように裏面に等間隔に格子状あるいは平行線状の溝を切り込むことによって、粘着テープとの固定面である接着面に凹溝を形成することで、前記実施形態1,2にて説明したのと同様な作用効果を得ることができる。
ただし、当該基板において、裏面に端子が配置されている場合には、この端子を避けて凹溝を形成する必要がある。
本発明は、半導体集積回路の半導体ウエハーあるいは基板を粘着テープに貼り付ける工程において有用なものであって、大口径のウエハーや大判の基板に適用でき、特に、半導体パッケージの製造工程中におけるウエハーの固定および保護に用いられる粘着テープおよび貼付装置(ウエハーマウンター)において、ウエハーと粘着テープ間の気泡による密着不良を防止することが要求される半導体製造装置および製品に実施して有効である。
1 ウエハーリング
2 ウエハー支持台
3 半導体ウエハー
4 ウエハー保護テープ
5 粘着テープ
6 押圧ローラー
7 粘着テープ台紙
11 半導体ウエハー
12 平行線状の凹溝
21 半導体ウエハー
22 格子状の凹溝
31 半導体ウエハー
32 貫通孔
33 裏面から見た回路形成エリア
41 基板
42 格子状の凹溝
43 封止樹脂層
2 ウエハー支持台
3 半導体ウエハー
4 ウエハー保護テープ
5 粘着テープ
6 押圧ローラー
7 粘着テープ台紙
11 半導体ウエハー
12 平行線状の凹溝
21 半導体ウエハー
22 格子状の凹溝
31 半導体ウエハー
32 貫通孔
33 裏面から見た回路形成エリア
41 基板
42 格子状の凹溝
43 封止樹脂層
Claims (5)
- 表面にパターンが形成され、裏面に粘着テープが貼着される半導体ウエハーにおいて、ウエハー裏面に、前記粘着テープとの接着面に空気の通路となる格子状あるいは平行線状の溝を形成したことを特徴とする半導体ウエハー。
- 表面にパターンが形成され、裏面に粘着テープが貼着される半導体ウエハーにおいて、ウエハー裏面から表面にかけてパターン形成部以外の部分に、前記粘着テープとの接着面に空気の通路となる貫通孔を形成したことを特徴とする半導体ウエハー。
- 表面にパターンが形成され、裏面に粘着テープが貼着される基板において、基板裏面に、前記粘着テープとの接着面に空気の通路となる格子状あるいは平行線状の溝を形成したことを特徴とする基板。
- 基板材料が樹脂あるいはセラミックであることを特徴とする請求項3記載の基板。
- 裏面に配置されている端子部分を避けて前記溝を形成したことを特徴とする請求項3または4記載の基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006228932A JP2008053508A (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 半導体ウエハーおよび基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006228932A JP2008053508A (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 半導体ウエハーおよび基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008053508A true JP2008053508A (ja) | 2008-03-06 |
Family
ID=39237260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006228932A Pending JP2008053508A (ja) | 2006-08-25 | 2006-08-25 | 半導体ウエハーおよび基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008053508A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014175541A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハ貼着方法 |
-
2006
- 2006-08-25 JP JP2006228932A patent/JP2008053508A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014175541A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-09-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハ貼着方法 |
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