JP2008049304A - 晶析装置および方法 - Google Patents
晶析装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008049304A JP2008049304A JP2006229954A JP2006229954A JP2008049304A JP 2008049304 A JP2008049304 A JP 2008049304A JP 2006229954 A JP2006229954 A JP 2006229954A JP 2006229954 A JP2006229954 A JP 2006229954A JP 2008049304 A JP2008049304 A JP 2008049304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- crystallization tank
- material liquid
- crystallization
- crystallizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【課題】 短い処理時間で、粒径分布が狭く、結晶の形状が小さく、しかも目詰まりを起こしにくい晶析装置および晶析方法を提供する。
【解決手段】 本発明の晶析装置は、晶析槽と、前記晶析槽内に内接して設けられた超高速攪拌装置と、前記晶析槽に第1の原料液体を供給する第1の原料液体供給口と、前記晶析槽に第2の原料液体を供給する第2の原料液体供給口と、前記晶析槽内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する排出口とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の晶析装置は、晶析槽と、前記晶析槽内に内接して設けられた超高速攪拌装置と、前記晶析槽に第1の原料液体を供給する第1の原料液体供給口と、前記晶析槽に第2の原料液体を供給する第2の原料液体供給口と、前記晶析槽内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する排出口とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、粒径の制御が容易で、処理能力に優れる晶析装置および方法に関する。
科学技術の進展に伴い、製品には、高品質が要求されるようになってきている。晶析の分野においても、純度、結晶粒子の形態、粒子群の平均径・粒度分布などを制御した晶析装置や製造方法が要求される。工業レベルで使用できる晶析装置としては、連続式(例えば、特許文献1参照)や回分式(例えば、特許文献2参照)のものが知られている。
しかし、連続式の晶析装置は、晶析装置内では結晶成長させたい物質を溶解した液(良溶媒)と貧溶媒との混合が容易でなく、スラリーの均一性が低く、粒径分布が広くなるので、均一な結晶を得ることが難しい。また、回分式の晶析装置では、良溶媒中に貧溶媒を滴下していく。このため貧溶媒を滴下した部分において一時的に生成した結晶が再度溶解するという状態が、槽全体が結晶を生成する濃度になるまで続く。このため、処理時間が長くなるという問題がある。また、大型の晶析装置では、結晶の形状が大きくなり、使用に際し粉砕して用いなければならないという問題がある。
一方、粒経分布が制御された晶析装置としては、マイクロスケールの晶析装置が知られている(例えば、特許文献3参照)。この装置を用いると微細な結晶を得ることができる。
特開2004−168750号公報
特開2005−13781号公報
特開2005−199238号公報
しかし、マイクロスケールの晶析装置では、生成した結晶が流路を塞ぎ、目詰まりを起こすという問題がある。すなわち、本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、その目的は、短い処理時間で、粒径分布が狭く、結晶の形状が小さく、しかも目詰まりを起こしにくい晶析装置および晶析方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を鋭意検討した結果、ミリリットルスケールの晶析槽に超高速攪拌機構を設け、供給された第1の原料液体と第2の原料液体とを急速に攪拌し、晶析を起こさせることにより、粒経分布が小さく、粒経が小さい結晶を得られることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下のとおりである。
本発明の晶析装置は、晶析槽と、前記晶析槽内壁にほぼ近接して設けられた超高速攪拌装置と、前記晶析槽に第1の原料液体を供給する第1の原料液体供給口と、前記晶析槽に第2の原料液体を供給する第2の原料液体供給口と、前記晶析槽内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する排出口とを備える。
本発明の晶析方法は、第1の原料液体と、第2の原料液体とをそれぞれ連続してまたは断続して晶析槽内に供給し、前記供給された原料液体を、超高速で攪拌混合し、成長結晶を含む結晶スラリーを、随時排出する。
本発明の晶析装置は、晶析槽と、前記晶析槽内壁に内接して設けられた超高速攪拌装置と、前記晶析槽に第1の原料液体を供給する第1の原料液体供給口と、前記晶析槽に第2の原料液体を供給する第2の原料液体供給口と、前記晶析槽内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する排出口とを備える。この結果、粒径分布が狭く、目詰まりを起こしにくい晶析装置を提供することができる。
以下に、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しながら説明する。なお、本発明は、これらによって限定されるものではない。
(実施の形態)
図1は、本発明の晶析装置を説明するための模式図である。
図1は、本発明の晶析装置を説明するための模式図である。
[装置構成]
本発明の晶析装置は、図1に示すように、晶析槽1と、この晶析槽上部1aを貫通して晶析槽内に設けられた超高速攪拌装置2と、晶析槽下部1b底部に設けられた第1の原料液体供給口3と第2の原料液体供給口4と、晶析槽1側面上部に設けられた排出口5とを備える。
本発明の晶析装置は、図1に示すように、晶析槽1と、この晶析槽上部1aを貫通して晶析槽内に設けられた超高速攪拌装置2と、晶析槽下部1b底部に設けられた第1の原料液体供給口3と第2の原料液体供給口4と、晶析槽1側面上部に設けられた排出口5とを備える。
晶析槽1は、上部1aと下部1bとの二つの部材から構成され、両者は固定されている。晶析槽上部1aには、開口部が設けられている。この開口部を介して、超高速攪拌装置が設けられている。晶析槽上部1aと下部1bと、超高速攪拌装置2との間には、パッキン6が設けられている。これにより、晶析槽内を気密に保つことができる。
本発明においてこの晶析槽の容積1は、0.1〜50ml、好ましくは0.5〜10ml、さらに好ましくは、0.7〜2mlである。このように容積の小さい晶析槽を用いるので、晶析槽の素材に熱伝導度の大きいものを用いれば、装置の温度管理が容易である。この結果、温度制御装置などを設けなくてもよいので、あるいは設けても簡易な装置ですむので、装置構成が簡易となる。
超高速攪拌装置2は、晶析槽1の内壁にほぼ近接するように設けられている。このような超高速攪拌装置2としては、公知のホモジナイザーなどを用いることができる。ホモジナイザーとしては、シャフトタイプのホモジナイザイーを用いるのが好ましい。
晶析槽下部1bの底部に設けられている第1の原料液体供給口3と第2の原料液体供給口4とを用いて、結晶化させたい物質を溶解させた溶液と、この物質の貧溶媒とを、それぞれ別個に晶析槽1内に導入する。第1の原料液体と第2の原料液体は、それぞれ図示しない第1の原料液体供給部と第2の原料液体供給部とから供給される。供給部と供給口との間には、バルブ、ポンプ等が設けられており、晶析槽内における滞留時間や、結晶化させたい物質を溶解させた溶液とこの物質の貧溶媒の供給比を制御することができる。
晶析槽1側面上部に設けられた排出口5から、晶析槽1内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する。排出口5は、図示しない固液分離装置に連結されている。固液分離装置としては、公知の固液分離装置を使用することができる。成長結晶は、固液分離装置により、分離され、精製される。排出口と固液分離装置との間にバルブ、ポンプ等を設けておいてもよい。排出量を制御することによっても、晶析槽1内の滞留時間を制御できる。
[晶析装置の操作]
第1の原料液体と第2の原料液体は、それぞれ連続的または断続的に、晶析槽1内に供給する。第1の原料液体と第2の原料液体の供給量、供給比は、それぞれ成長結晶させたい物質によって適宜選択すればよい。また、晶析槽1内の滞留時間も、成長結晶させたい物質によって適した時間を選択すればよい。
第1の原料液体と第2の原料液体は、それぞれ連続的または断続的に、晶析槽1内に供給する。第1の原料液体と第2の原料液体の供給量、供給比は、それぞれ成長結晶させたい物質によって適宜選択すればよい。また、晶析槽1内の滞留時間も、成長結晶させたい物質によって適した時間を選択すればよい。
晶析槽1内に供給された第1の原料液体と第2の原料液体とは、超高速攪拌装置により急速に攪拌される。これにより、均一性の高いスラリーが得られる。この結果、得られる成長結晶は粒度が均一なものとなる。得られた結晶スラリーは、排出口5から随時排出される。この結果、過度な結晶化を抑制できるので、粒子径の小さい結晶を得ることができる。
本発明の晶析装置を、例えば下記実施例のL−アラニンの製造に用いると、晶析装置1台、平均滞留時間τ=0.27秒、操作時間8時間/日で、5日間稼動すると、24kgのL−アラニンを得ることができる。
本発明の晶析装置は、上記したように、mlスケールの容積の小さいものである。一方、本発明の晶析装置は装置構成が簡易である。このため、多量に晶析を行う場合には、複数の晶析装置を用いて行えばよい。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。
[滞留時間]
以下の実施例において、平均滞留時間τは、晶析槽の容積をV(ml)、第1の原料液体の供給速度をFs(ml/s)、第2の原料液体の供給速度をFm(ml/s)とするとき、τ=V/(Fs+Fm)の式を用いて求めた。
以下の実施例において、平均滞留時間τは、晶析槽の容積をV(ml)、第1の原料液体の供給速度をFs(ml/s)、第2の原料液体の供給速度をFm(ml/s)とするとき、τ=V/(Fs+Fm)の式を用いて求めた。
(平均滞留時間の影響)
[実施例1]
図1に示す晶析装置(晶析槽容積0.9ml、シャフトタイプのホモジナイザー(攪拌速度24,000rpm))を用いて、L−アラニンの晶析試験をした。第1の原料液体として、L−アラニンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、L−アラニンの貧溶媒であるメタノールを用いた。第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とをそれぞれ0.0133、0.133、1.33(ml/s)、平均滞留時間τ=33、3.3、0.33(s)、晶析槽内メタノール濃度を50%に固定し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。
[実施例1]
図1に示す晶析装置(晶析槽容積0.9ml、シャフトタイプのホモジナイザー(攪拌速度24,000rpm))を用いて、L−アラニンの晶析試験をした。第1の原料液体として、L−アラニンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、L−アラニンの貧溶媒であるメタノールを用いた。第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とをそれぞれ0.0133、0.133、1.33(ml/s)、平均滞留時間τ=33、3.3、0.33(s)、晶析槽内メタノール濃度を50%に固定し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。
各平均滞留時間におけるL−アラニンの回収率を表1に、成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図1に示す。また、各平均滞留時間における成長結晶の粒径と粒径分布の関係を図2に、軸比(=短軸長さ/長軸長さ)と形状分布の関係を図3に示す。
表1から、平均滞留時間が短くてもほぼ90%のL−アラニンを回収できること、平均滞留時間が長いほどL−アラニンの回収率は向上することがわかった。また、図1、図2から平均滞留時間が短いほど成長結晶の粒径が小さくなることがわかった。また、図3から、平均滞留時間が短いほど成長結晶の形状が小さくなることがわかった。
[実施例2]
第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用いた以外は、実施例1と同様にしてグリシンの晶析を行った。ただし、良溶媒と貧溶媒の混合熱のために、平均滞留時間によってグリシンの溶解度が若干変化した。
第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用いた以外は、実施例1と同様にしてグリシンの晶析を行った。ただし、良溶媒と貧溶媒の混合熱のために、平均滞留時間によってグリシンの溶解度が若干変化した。
各平均滞留時間におけるグリシンの回収率を表2に、成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図4に示す。また、各平均滞留時間における成長結晶の粒径と粒径分布の関係を図5に、軸比(=短軸長さ/長軸長さ)と形状分布の関係を図6に示す。
表2から、平均滞留時間が短くても回収率は100%となることがわかった。また、図1、図2から平均滞留時間が短いほど成長結晶の粒径が小さくなることがわかった。得られたグリシンは全てα晶であった。また、図3から、成長結晶の形状分布を狭くする最適の平均滞留時間があることがわかった。
(貧溶媒添加率の影響)
[実施例3]
図1に示す晶析装置(晶析槽容積0.9ml、シャフトタイプのホモジナイザー(攪拌速度24,000rpm))を用いて、L−アラニンの晶析試験をした。第1の原料液体として、L−アラニンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、L−アラニンの貧溶媒であるメタノールを用いた。第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とを、Fs+Fm=0.13ml/s(一定)で、平均滞留時間τ=3.3(s)(一定)、晶析槽内メタノール濃度をそれぞれ50、78、91%になるように調整し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。
[実施例3]
図1に示す晶析装置(晶析槽容積0.9ml、シャフトタイプのホモジナイザー(攪拌速度24,000rpm))を用いて、L−アラニンの晶析試験をした。第1の原料液体として、L−アラニンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、L−アラニンの貧溶媒であるメタノールを用いた。第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とを、Fs+Fm=0.13ml/s(一定)で、平均滞留時間τ=3.3(s)(一定)、晶析槽内メタノール濃度をそれぞれ50、78、91%になるように調整し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。
各メタノール濃度におけるL−アラニンの回収率を表3に、成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図7に示す。また、各平均滞留時間における成長結晶の粒径と粒径分布の関係を図8に、軸比(=短軸長さ/長軸長さ)と形状分布の関係を図9に示す。
表3から、L−アラニンの回収率を向上させる最適のメタノール濃度があることがわかった。また、図7、図8からメタノール濃度が高いほど成長結晶の粒径が小さくなることがわかった。また、図3から、メタノール濃度が高いほど成長結晶の形状が小さくなることがわかった。これは、過飽和度が影響しているためと考えられた。
[実施例4]
第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用いた以外は、実施例3と同様にしてグリシンの晶析を行った。
第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用いた以外は、実施例3と同様にしてグリシンの晶析を行った。
各メタノール濃度におけるグリシンの回収率を表4に、成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図10に示す。また、各メタノール濃度における成長結晶の粒径と粒径分布の関係を図11に、軸比(=短軸長さ/長軸長さ)と形状分布の関係を図12に示す。
表4から、グリシンの回収率を向上させる最適のメタノール濃度があることがわかった。また、図10、図11からメタノール濃度が高いほどグリシンのβ晶が得られることがわかった。また、図12から、メタノール濃度が高いほど成長結晶の形状が小さくなることがわかった。
(従来の晶析装置との対比)
[実施例5]
図13に示す半回分式晶析装置(容積40ml)と(容積はどの程度でしょうか?)、図14に示すラボスケール連続晶析装置(容積114.5ml)と、本発明の晶析装置とを用いて、グリシンα晶の晶析を行った。第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、グリシンの貧溶媒であるメタノールを用いた。図13の装置では、攪拌翼を300rpmで攪拌し、反応開始後90分後に回収した。図14の装置では、ホモジナイザーを24,000rpmで回転させ、平均滞留時間τ=11.5分にした。本発明の晶析装置は、第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とを0.133(ml/s)、平均滞留時間τ=3.3(s)でおこなった。それぞれの晶析槽内メタノール濃度を50%に固定し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図15に示す。
[実施例5]
図13に示す半回分式晶析装置(容積40ml)と(容積はどの程度でしょうか?)、図14に示すラボスケール連続晶析装置(容積114.5ml)と、本発明の晶析装置とを用いて、グリシンα晶の晶析を行った。第1の原料液体として、グリシンの飽和水溶液を用い、第2の原料液体として、グリシンの貧溶媒であるメタノールを用いた。図13の装置では、攪拌翼を300rpmで攪拌し、反応開始後90分後に回収した。図14の装置では、ホモジナイザーを24,000rpmで回転させ、平均滞留時間τ=11.5分にした。本発明の晶析装置は、第1の原料液体の供給速度:Fs(ml/s)と、第2の原料液体の供給速度:Fm(ml/s)とを0.133(ml/s)、平均滞留時間τ=3.3(s)でおこなった。それぞれの晶析槽内メタノール濃度を50%に固定し、晶析槽内の温度を25℃に固定して、晶析を行った。成長結晶の操作型電子顕微鏡写真を図15に示す。
図15から、成長結晶の形状は、図13に示す半回分式晶析装置、図14に示すラボスケール連続晶析装置、本発明の晶析装置の順で小さくなることがわかる。このことから、本発明の晶析装置は、微小な結晶を晶析させることに適することがわかった。
1 晶析槽
2 超高速攪拌装置
3 第1の原料液体供給口
4 第2の原料液体供給口
5 排出口
6 パッキン
2 超高速攪拌装置
3 第1の原料液体供給口
4 第2の原料液体供給口
5 排出口
6 パッキン
Claims (2)
- 晶析槽と、
前記晶析槽内壁にほぼ近接して設けられた超高速攪拌装置と、
前記晶析槽に第1の原料液体を供給する第1の原料液体供給口と、
前記晶析槽に第2の原料液体を供給する第2の原料液体供給口と、
前記晶析槽内から成長結晶を含む結晶スラリーを排出する排出口と
を備える晶析装置。 - 第1の原料液体と、第2の原料液体とをそれぞれ連続してまたは断続して晶析槽内に供給し、
前記供給された原料液体を、超高速で攪拌混合し、
成長結晶を含む結晶スラリーを、随時排出する晶析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006229954A JP2008049304A (ja) | 2006-08-26 | 2006-08-26 | 晶析装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006229954A JP2008049304A (ja) | 2006-08-26 | 2006-08-26 | 晶析装置および方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008049304A true JP2008049304A (ja) | 2008-03-06 |
Family
ID=39233833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006229954A Pending JP2008049304A (ja) | 2006-08-26 | 2006-08-26 | 晶析装置および方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008049304A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010143598A1 (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | 住友化学株式会社 | ピラゾリノン誘導体の精製方法 |
WO2011115136A1 (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-22 | 三菱化学株式会社 | コハク酸の製造方法 |
-
2006
- 2006-08-26 JP JP2006229954A patent/JP2008049304A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010143598A1 (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | 住友化学株式会社 | ピラゾリノン誘導体の精製方法 |
US9296700B2 (en) | 2009-06-08 | 2016-03-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for purifying a pyrazolinone derivative |
WO2011115136A1 (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-22 | 三菱化学株式会社 | コハク酸の製造方法 |
JPWO2011115136A1 (ja) * | 2010-03-16 | 2013-06-27 | 三菱化学株式会社 | コハク酸の製造方法 |
US9035095B2 (en) | 2010-03-16 | 2015-05-19 | Mitsubishi Chemical Corporation | Processes for producing succinic acid |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003534129A (ja) | 結晶製造用の装置 | |
US11981968B2 (en) | Continuous method for obtaining a crystalline monosaccharide and device for continuous crystallization | |
JP2008049304A (ja) | 晶析装置および方法 | |
TW575456B (en) | Crystallization process and apparatus therefor | |
Tsuchiya et al. | Effects of CO2 fine bubble injection on reactive crystallization of dolomite from concentrated brine | |
JPWO2007088981A1 (ja) | カルボン酸の製造方法 | |
CN105031963A (zh) | 一种集成反溶剂-真空蒸发-冷却或反溶剂的结晶方法 | |
JP2008049303A (ja) | 晶析装置および方法 | |
CN106512737B (zh) | 基于超声辅助连续反溶剂膜渗析过程的颗粒可控制备方法及装置 | |
WO2019239550A1 (ja) | 晶析装置及び晶析方法 | |
JP2004035840A (ja) | ガスハイドレート脱水機 | |
CN204656045U (zh) | 一种结晶罐 | |
US10195540B2 (en) | Modular sub-unit for a suspension crystallization system | |
KR19990029385A (ko) | 침전에 의한 고체 생성 방법 | |
JP4259819B2 (ja) | 晶析方法および晶析装置 | |
JP2890881B2 (ja) | アミノ酸又は核酸の晶析法 | |
KR101007430B1 (ko) | 용해도 조절에 의한 거대 결정입자의 제조방법 | |
JP2008036545A (ja) | 晶析方法 | |
KR101137682B1 (ko) | 용해도 조절에 의한 거대 결정입자의 제조방법 | |
JP4346152B2 (ja) | ガスハイドレートの製法 | |
JPH07144102A (ja) | 有機薬品の晶析方法 | |
JP2004168673A (ja) | スラリーの処理方法 | |
KR20160026053A (ko) | 크러스레이트 하이드레이트 연속 생성을 위한 펠릿타이저 일체형 고속 교반 반응기 | |
JP2004203713A (ja) | 高純度塩化アルミニウムの製造方法および高純度アルミニウムの製造装置 | |
Mikami et al. | Influence of Feed Condition on Crystal Size Distribution of Potassium Alum Obtained by Unseeded Semi-batch Cooling Crystallization |