JP2008047871A - 半導体発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光波長に対し透明である導電性の基板と、基板上に形成され、発光層を含む半導体層と、半導体層上に形成された表面電極と、基板の裏面に形成され、開口を有する裏面電極とを備え、開口の幅をLとし、裏面電極と発光層との距離をtとすると、L≦2tであり、基板の裏面の面積に対して裏面電極の面積の割合が40%以下である。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体発光ダイオードを示す断面図である。GaN基板1は、発光波長に対し透明である導電性の基板であり、研磨により99μm厚になっている。このGaN基板1上に、半導体層として、厚さが1.0μmでAl組成比が0.07のn型AlGaNクラッド層2と、厚さが7nmでIn組成比が0.02である4つのInGaNバリア層(不図示)と、厚さが5nmでIn組成比が0.10である3つのInGaNウェル層からなる発光層3と、厚さが100nmでAl組成比が0.07であるp型AlGaNクラッド層4と、厚さが20nmのp型GaNコンタクト層5とが積層されている。
図4は、本発明の実施の形態2に係る半導体発光ダイオードを基板の裏面側から見た図である。素子のサイズは縦400μm、横400μmである。また、n電極6の形状はくし状であり、n電極6の幅は15μmであり、開口の幅Lは150μmである。また、電極パッド10のサイズは50μm×50μmであり、SiO2絶縁膜9のサイズは60×60μmである。素子の積層構造は、実施の形態1と同じであるため、説明を省略する。
図5は、本発明の実施の形態3に係る半導体発光ダイオードを基板の裏面側から見た図である。素子のサイズは縦400μm、横400μmである。また、n電極6の形状は網目状であり、n電極6の幅は20μmであり、開口の幅Lは100μmである。また、電極パッド10のサイズは50μm×50μmであり、SiO2絶縁膜9のサイズは60×60μmである。素子の積層構造は、実施の形態1と同じであるため、説明を省略する。
2 n型AlGaNクラッド層(半導体層)
3 発光層(半導体層)
4 p型AlGaNクラッド層(半導体層)
5 p型GaNコンタクト層(半導体層)
6 n電極(裏面電極)
7 p電極(表面電極)
9 SiO2絶縁膜(絶縁膜)
10 電極パッド
Claims (11)
- 発光波長に対し透明である導電性の基板と、
前記基板上に形成され、発光層を含む半導体層と、
前記半導体層上に形成された表面電極と、
前記基板の裏面に形成され、開口を有する裏面電極とを備え、
前記開口の幅をLとし、前記裏面電極と前記発光層との距離をtとすると、L≦2tであり、
前記基板の裏面の面積に対して前記裏面電極の面積の割合が40%以下であることを特徴とする半導体発光ダイオード。 - 前記基板の裏面の面積に対して前記裏面電極の面積の割合が25%以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光ダイオード。
- 前記基板の裏面の面積に対して前記裏面電極の面積の割合が15%以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光ダイオード。
- 発光波長に対し透明である導電性の基板と、
前記基板上に形成され、発光層を含む半導体層と、
前記半導体層上に形成された表面電極と、
前記基板の裏面に形成され、開口を有する裏面電極と、
前記基板の裏面に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記裏面電極と接続された電極パッドとを備え、
前記開口の幅をLとし、前記裏面電極と前記発光層との距離をtとすると、L≦2tであり、
前記絶縁膜が形成された領域を除く前記基板の裏面の面積に対して、前記絶縁膜上以外に形成された前記裏面電極の面積の割合が40%以下であることを特徴とする半導体発光ダイオード。 - 前記絶縁膜が形成された領域を除く前記基板の裏面の面積に対して、前記絶縁膜上以外に形成された前記裏面電極の面積の割合が25%以下であることを特徴とする請求項4に記載の半導体発光ダイオード。
- 前記絶縁膜が形成された領域を除く前記基板の裏面の面積に対して、前記絶縁膜上以外に形成された前記裏面電極の面積の割合が15%以下であることを特徴とする請求項4に記載の半導体発光ダイオード。
- L≦1.5tであることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の半導体発光ダイオード。
- L≦1.0tであることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の半導体発光ダイオード。
- 発光波長に対し透明である導電性の基板と、
前記基板上に形成され、発光層を含む半導体層と、
前記半導体層上に形成された表面電極と、
前記基板の裏面に形成された複数の裏面電極とを備え、
隣接する前記裏面電極間の距離をLとし、前記複数の裏面電極と前記発光層との距離をtとすると、L≦2tであり、
前記基板の裏面の面積に対して前記複数の裏面電極の面積の割合が40%以下であることを特徴とする半導体発光ダイオード。 - 前記裏面電極の形状がくし状であることを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体発光ダイオード。
- 前記裏面電極の形状が網目状であることを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体発光ダイオード。
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