JP2008047825A - 回路基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】BGAパッケージLSI実装工程において、はんだ溶融の初期に余剰はんだを溶融できるようにすると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようにして近接はんだの接触(ブリッジ)を回避できるようにする。
【解決手段】BGAパッケージLSIを実装する為のはんだ付け用のBGAランド2に接続され、はんだ付け時の熱をこのBGAランド2のランド延長部位3へ伝導する熱吸収ランド5を備えるものである。この例で、熱吸収ランド5は、サーマル・ビアホール4を経由してBGAランド2のランド延長部位3に接続されている。
【選択図】 図3
【解決手段】BGAパッケージLSIを実装する為のはんだ付け用のBGAランド2に接続され、はんだ付け時の熱をこのBGAランド2のランド延長部位3へ伝導する熱吸収ランド5を備えるものである。この例で、熱吸収ランド5は、サーマル・ビアホール4を経由してBGAランド2のランド延長部位3に接続されている。
【選択図】 図3
Description
本発明は、BGA(Ball Grid Array)パッケージLSI(Large Scale Integration)等の電子部品を実装するプリント回路基板などに適用可能なはんだ実装工程補償機能を有した回路基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法に関するものである。
詳しくは、電子部品を実装する為のはんだ付け用の導電部に接続され、はんだ付け時の熱をこの導電部へ伝導する熱伝導部を備え、電子部品を回路基板にはんだ付けする工程において、熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようにすると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようにして、近接はんだの接触(ブリッジ)を回避できるようにしたものである。
近年、BGAパッケージLSI等の電子部品をプリント回路基板に実装する場合、リフロー処理によりはんだ付けされることが多い。図9(a)はリフロー処理前のBGAパッケージ6及びサブストレート(プリント回路基板)50の一部を上面から見た図である。図9(a)に示すBGAパッケージ6には、ベアチップ9及び当該BGAパッケージ6の電極上にはんだボール7が搭載されている。このはんだボール7は、サブストレート50の第1のBGAランド1に当接されている。図9(b)は、図9(a)に示したはんだボール7が当接された状態を側面から見た図である。
はんだボール7がBGAランド1に当接された状態でリフロー炉内で熱風などにより加熱してはんだボール7を溶融する。図10(a)は、はんだボール7が溶融及び圧着されてサブストレート50にBGAパッケージ6が固定されたものである。例えば、図10(a)に示す全てのはんだボール7は、溶融かつ圧縮されて均等に楕円形に変形されてBGAランド1に固定されている。このようにして、BGAパッケージ6をサブストレート50に実装して半導体装置51を製造する。
しかし、通常は図10(b)に示すように、リフロー炉内で加熱した熱によりBGAパッケージ6がドーム状に湾曲する。これは、BGAパッケージ6がシリコンチップ、有機インターポーザー(樹脂+ガラスクロス)、封止樹脂などで構成されており、リフロー加熱の際に熱膨張差によってある程度の湾曲が発生するためである。この湾曲したBGAパッケージ6により、はんだボール7の一部(特に4隅のはんだボール)が過剰に押し潰され、隣接するはんだボール同士(例えばはんだボール7aとはんだボール7b)が接触(ブリッジ)するという現象が生じる。
このような従来例に関連して特許文献1にはプリント回路基板が開示されている。このプリント回路基板によれば、グリッドアレイ型半導体装置とプリント回路基板とによってはんだボールが押し潰されたときにこのボール状端子の余分なはんだを逃がす逃がし部がランドに設けられている。これにより、近接するはんだボール同士がブリッジするのを防止できるようになる。
しかしながら、従来例及び特許文献1に係るプリント回路基板によれば、余分なはんだを逃がす逃がし部がランドを延長して設けられているだけである。このため、はんだボールが溶融して変形するタイミングと、余剰はんだが逃がし部に逃げるタイミングが略同じであることから、はんだボールの配置及び大きさのバラツキや、BGAパッケージLSIとサブストレートとの組み合わせの不整合によって、ランドを延長して逃がし部を設けただけでは、この逃がし部に余分なはんだを引っ張ることができず、溶融した近接はんだボール同士がブリッジするおそれがある。
また、リフロー処理の熱によって当該パッケージがドーム状に湾曲すると、余剰はんだは当該パッケージの内部方向へ押される傾向があり、近接のはんだボールにブリッジする可能性がある。特にBGAパッケージLSIの大型化により重量が増大すると湾曲が顕著になり、近接のはんだボール同士がブリッジする可能性が高くなる。一度接触してしまうと、その後ではんだが逃がし部に流れてもブリッジをカットすることが難しい。
そこで、本発明はこのような従来例に係る課題を解決したものであって、はんだ溶融の初期に余剰はんだを溶融できるようにすると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようにして近接はんだの接触(ブリッジ)を回避できるようにした回路基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項1に記載の回路基板は、基板本体と、前記基板本体の所定個所に形成され、電子部品を実装する為の複数のはんだ付け用の導電部と、前記導電部の中の特定の導電部に接続され、はんだ付け時の熱を当該導電部へ伝導する所定形状の熱伝導部とを備えることを特徴とするものである。
本発明に係る回路基板によれば、熱伝導部は、はんだ付け時の熱を、電子部品を実装する為のはんだ付け用の導電部へ伝導する。これにより、はんだ溶融の初期に熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようになり、近接はんだの接触(ブリッジ)を回避できるようになる。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項5に記載の回路基板の製造方法は、一方で、はんだ付け用の導電部を第1の基板上に形成する工程と、他方で、熱伝導用の所定形状の熱伝導部を第2の基板上に形成する工程と、前記導電部が形成された前記第1の基板と、前記熱伝導部が形成された第2の基板とを積層して接合する工程と、接合後、前記第1の基板の導電部と前記第2の基板の熱伝導部とを接続する工程とを有することを特徴とするものである。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項6に記載の半導体装置は、基板本体と、前記基板本体の所定個所に形成された導電部と、前記基板本体の所定個所に形成され、所定の前記導電部に接続された所定形状の熱伝導部と、前記導電部にはんだ付けによって接続された半導体チップとを備え、前記導電部と半導体チップとを接続するはんだは、はんだ付け工程時に、前記熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだが溶融され、溶融された余剰はんだが所定方向へ引っ張られた形状を有していることを特徴とするものである。
本発明に係る半導体装置によれば、余剰はんだが所定方向へ引っ張られた形状を有している。これにより、近接はんだの接触を回避した構成をとることができると共に当該装置の品質を向上できるようになる。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項7に記載の半導体装置の製造方法は、一方で、はんだ付け用の導電部を第1の基板上に形成する工程と、他方で、熱伝導用の所定形状の熱伝導部を第2の基板上に形成する工程と、前記導電部が形成された前記第1の基板と、前記熱伝導部が形成された第2の基板上とを積層して接合する工程と、接合後、前記第1の基板の導電部と前記第2の基板の熱伝導部とを接続する工程と、前記熱伝導部が接続された前記導電部及び他の導電部に半導体チップをはんだ付けにより実装する工程とを有することを特徴とするものである。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項8に記載の回路基板は、基板本体と、前記基板本体の所定個所に形成され、電子部品を実装する為の複数のはんだ付け用の導電部とを備え、前記導電部の中の特定の導電部は、所定の面積を有した一枚の板状の部材として成形され、はんだ付け時の熱を当該導電部の高温部位から低温部位へ伝導することを特徴とするものである。
本発明に係る回路基板によれば、導電部の中の特定の導電部は、所定の面積を有した一枚の板状の部材として成形され、はんだ付け時の熱を当該導電部の高温部位から低温部位へ伝導する。これにより、高温部位から低温部位へ伝導された熱で、はんだ溶融の初期に余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようになり、近接はんだの接触を回避できるようになる。
上述した課題を解決するために本発明に係る請求項9に記載の回路基板の製造方法は、はんだ付け用の導電部とはんだ付け兼熱伝導用の導電部を基板上に形成する工程と、前記基板上に形成された熱伝導用の導電部の所定範囲を保護膜で覆う工程とを有し、前記はんだ付け兼熱伝導用の導電部を前記はんだ付け用の導電部に比べて面積を広く配置することを特徴とするものである。
本発明に係る回路基板によれば、電子部品を実装する為のはんだ付け用の導電部に接続され、はんだ付け時の熱をこの導電部へ伝導する熱伝導部を備えるものである。この構成によって、電子部品を回路基板にはんだ付けする工程において、はんだ溶融の初期に熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようになる。これにより、近接はんだの接触を回避できるようになる。
本発明に係る回路基板の製造方法によれば、電子部品を回路基板の導電部にはんだ付けする工程において、近接はんだの接触が回避可能な回路基板を提供できるようになる。
本発明に係る半導体装置によれば、導電部と半導体チップとを接続するはんだは、はんだ付け工程時に、熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだが溶融され、溶融された余剰はんだが所定方向へ引っ張られた形状を有している。この構成によって、近接はんだの接触を回避した構成をとることができると共に当該装置の品質を向上できるようになる。
本発明に係る半導体装置の製造方法によれば、はんだ溶融の初期に熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだが溶融され、溶融された余剰はんだが所定方向へ引っ張られるので、近接はんだの接触を回避した半導体装置を提供できるようになる。
以下、図面を参照しながら、本発明に係る回路基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法の実施例について説明をする。
図1は、第1の実施例としてのサブストレート100の構成例(その1)を示す一部破砕の上面図である。図1に示すサブストレート100は回路基板の一例を構成し、サブストレート本体20、第1のBGAランド1、第2のBGAランド2及び熱吸収ランド5を備える。サブストレート100は2層の基板から成る。
BGAランド1及び2は導電部の一例を構成し、熱伝導率の優れた銅などの金属素材で成形される。これに限らず銀などを使用してもよい。BGAランド1の形状は円形であり、BGAランド2の形状は楕円(トラック形状)である。BGAランド1及び2は、基板本体の一例を構成するサブストレート本体(第1層)20に格子配列(グリッド・アレイ)形状に形成される。この例で、BGAランド2は、グリッド・アレイ形状の4隅に3個ずつ形成される。BGAランド1及び2は、BGAパッケージLSI等の電子部品を実装する際にはんだ付けに使用される。
熱吸収ランド5は熱伝導部の一例を構成し、銅や銀などの金属素材で成形され、ある程度の面積を有した釣鐘形状である。熱吸収ランド5の各々は、図示しない第2層の上面に形成され熱伝送路を介して4隅の各々のBGAランド2の先端部に接合され、はんだ付け時の熱を当該BGAランド2の当該先端部へ伝導する。
これにより、電子部品をサブストレート100にリフロー処理によりはんだ付けする工程において、はんだ溶融の初期において、BGAランド2の先端部は、熱吸収ランド5により伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだをこの先端部が向く方向(グリッド外方向)へ引っ張れるようになる。これにより、近接はんだの接触(ブリッジ)を回避できるようになる。ここで、グリッド外方向とは、グリッド・アレイ形状の中心から放射状に外部へ向く方向である。
図2は、サブストレート100の構成例(その2)を示す上面図であり、図1の破線四角内を拡大したものである。図2に示すサブストレート100は、熱伝導路の一例を構成するサーマル・ビアホール(サーマル・パターン)4を備える。このサーマル・ビアホール4には銅や銀などが使用される。BGAランド2は、熱吸収ランド5により伝導された熱によって溶融されたはんだの一部を逃がすランド延長部位3を有する。トラック形状のBGAランド2は、円形のBGAランド1と比べて広い面積を有している。この広い面積の範囲が図2中の一点鎖線で囲まれたランド延長部位3である。このランド延長部位3は、BGAランド2がグリッド外を向く側の先端に位置する。
このランド延長部位3からサーマル・ビアホール4が4本引き出され、引き出されたサーマル・ビアホール4に熱吸収ランド5が接続(接合)される。ランド延長部位3のBGAランド2は、サーマル・ビアホール4を経由して熱吸収ランド5から伝導されたはんだ付け時の熱によって溶融されたはんだの一部(余剰はんだ)をグリッド外方向へ逃がす。この例で、図2に示す各ランド延長部位3のBGAランド2は、近接するBGAランド1aに接合されるはんだから各BGAランド2に接合されるはんだの一部をグリッド外方向へ逃がす。これにより、BGAランド1aに接合されるはんだと各BGAランド2に接合されるはんだとのブリッジを回避できるようになる。
図3(a)〜(c)はサブストレート100の製造例を示す工程図であり、図3(c)は図2中のX−X矢視の切断面の一部である。サブストレート100の製造方法は、一方で、はんだ付け用のBGAランド1及び2をサブストレート本体20aの表面に形成し、更にサーマル・ビアホール4を設ける。例えば、図3(a)に示すように、サブストレート本体20aにBGAランド1及び2のパターンを形成してエッチング処理を行ってBGAランド1及び2を形成し、BGAランド1及び2が形成されたサブストレート本体20aにサーマル・ビアホール4を設ける。他方で、図3(b)に示すように、熱吸収ランド5のパターンを形成してエッチング処理を行って熱吸収ランド5をサブストレート本体20bの表面に形成する。
図3(c)に示すように、BGAランド1及び2が形成されたサブストレート本体20aの裏面と、熱吸収ランド5形成されたサブストレート本体20bの表面とを積層して接合する。このとき、BGAランド2のランド延長部位3と熱吸収ランド5とをサーマル・ビアホール4を介して接続する。その後、サブストレート100のBGAランド1及び2以外の表裏面に保護膜としてグリーンレジスト30を塗布する。このようにして、サブストレート100が製造される。
続いて、上述したサブストレート100にBGAパッケージ(半導体チップ)6を実装して半導体装置を製造する工程を説明する。図4(a)〜(c)はサブストレート100の機能例を示す工程図である。この例で、BGAパッケージ6には、予めグリッド・アレイ状にはんだボール7が形成(配置)されている。また、部品搭載・はんだ付けなど一連の工程を受け持つ多数の機械を直列に配列して構成された図示しない自動実装機を使用する。
これらを製造条件として、図4(a)に示すサブストレート100のBGAランド1及び2には、自動実装機によりはんだペースト8が塗布され、このはんだペースト8にBGAパッケージ6のはんだボール7が当接されてサブストレート100にBGAパッケージ6が搭載される。
サブストレート100にBGAパッケージ6を搭載後、サブストレート100及びBGAパッケージ6が自動実装機のリフロー炉内に送り込まれる。送り込まれた後、リフロー炉内で熱風などによりサブストレート100のはんだペースト8が加熱されて当該はんだペースト8が溶融される。
このとき、図4(b)に示すサブストレート100の熱吸収ランド5は、リフロー処理による熱を矢印E方向へ伝導すると共に、サーマル・ビアホール4を経由してBGAランド2のランド延長部位3へ伝導する。このランド延長部位3のBGAランド2は、熱吸収ランド5により伝導された熱により、BGAランド2のランド延長部位3以外の部分より昇温する。
すなわち、BGAパッケージ6の直下に位置する部分より昇温が早いBGAパッケージ6の周辺に形成された熱吸収ランド5から、サブストレート樹脂と比較して格段に熱伝導の優勢な銅製のサーマル・ビアホール4を経由してリフロー熱がBGAランド2のランド延長部位3に流入する。このランド延長部位3のBGAランド2は、流入したリフロー熱によってランド延長部位3以外の部分より早く昇温する。
これにより、図4(b)に示すランド延長部位3のBGAランド2は、当該ランド延長部位3に塗布された当該はんだペースト8を先んじて溶融する。その後、図4(c)に示すはんだボール7bは、この先んじて溶融された当該はんだペースト8に引っ張られながら溶融し、はんだボール7bの余剰はんだはランド延長部位3に流れる。このようにして、BGAランド1及び2にBGAパッケージ6をはんだ付けにより実装して半導体装置が製造される。
なお、図4(c)に示すようにBGAパッケージ6がリフロー熱により湾曲した場合であっても、はんだ溶融の初期において、ランド延長部位3のBGAランド2は、熱吸収ランド5により伝導された熱ではんだボール7bの余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだを近接するはんだボール7aから遠ざかる方向(グリッド外方向)へ引っ張れるようになる。これにより、図10(b)に示したようなはんだボール7aとはんだボール7bとのブリッジを回避した半導体装置を提供できるようになる。
続いて、リフロー処理によりBGAパッケージ6がサブストレート100に搭載された半導体装置40の構成例を説明する。図5は半導体装置40の構成例を示す上面図である。図5に示すBGAパッケージ6は一部切り取られ、はんだボール7a〜7cなどが直視可能な状態となっている。BGAパッケージ6及びサブストレート100に係る構成は、上述した構成と同じであるため省略する。
この半導体装置40のBGAランド2とBGAパッケージ6とを接続するはんだボール7は、はんだ付け工程時に、熱吸収ランド5により伝導された熱で余剰はんだが溶融され、溶融された余剰はんだがグリッド外方向へ引っ張られた形状を有している。この例で、グリッド・アレイ形状の4隅に3個ずつ形成された当該はんだボール7a〜7cは、図4に示したランド延長部位3のBGAランド2によって、グリッド外方向に引っ張られて固着されている。これにより、近接するはんだボール7a〜7cのブリッジを回避した構成をとることができるので、当該装置の品質を向上できるようになる。
このように、本発明に係る第1の実施例のサブストレート100によれば、BGAパッケージ6を実装する為のはんだ付け用のBGAランド2のランド延長部位3に接続され、はんだ付け時の熱をこのランド延長部位3へ伝導する熱吸収ランド5を備えるものである。
従って、BGAパッケージ6をサブストレート100にはんだ付けする工程において、はんだ溶融の初期に熱吸収ランド5により伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようになると共に、溶融された余剰はんだをグリッド外方向へ引っ張れるようになる。これにより、近接するはんだボール7のブリッジを回避できるようになる。
回路基板の製造方法によれば、BGAパッケージ6をサブストレート100のBGAランド1及び2にはんだ付けする工程において、近接するはんだボール7の接触が回避可能なサブストレート100を提供できるようになる。
本発明に係る半導体装置40及びその製造方法によれば、サブストレート100を応用しているので近接するはんだボール7のブリッジを回避した構成をとることができると共に当該装置の品質を向上できるようになる。
図6(a)は、第2の実施例としてのサブストレート200の構成例を示す一部破砕の上面図である。図6(a)に示すサブストレート200は、第1のBGAランド1、第2のBGAランド12、サブストレート本体21及びグリーンレジスト30を備える。BGAランド12は、ランド延長部位13及び熱吸収ランド15を有する。
BGAランド1及び12はサブストレート本体21にグリッド・アレイ状に配置(成形)される。この例で、BGAランド12はグリッド・アレイ形状の4隅に3個ずつ成形される。BGAランド12は、所定の面積を有した一枚の板状の部材として成形される。例えば、BGAランド12は釣鐘形状に成形される。BGAランド1及び12は図5に示したBGAパッケージ6を実装する際にはんだ付けに使用される。釣鐘形状のBGAランド12のはんだ付けされる以外の部分はグリーンレジスト30により覆われている。BGAランド12の材質は銅であり、これに限らず銀などを使用してもよい。
図6(b)はBGAランド12を抜粋した図である。図6(b)に示す開口部10は、BGAランド12のはんだ付けされる部分であり、トラックの形状を成している。このトラック形状の開口部10は、BGAランド1の円形と比べて広い面積を有している。開口部10におけるこの広い面積の範囲が図6(b)中の一点鎖線で囲まれたランド延長部位13である。熱吸収ランド15は、BGAランド12の開口部10を除く部分である。このように、BGAランド12には、ランド延長部位13及び熱吸収ランド15が形成されている。
BGAランド12は、はんだ付け時の熱を当該BGAランド12の熱吸収ランド15(高温部位)からランド延長部位13(低温部位)へ伝導する。これにより、図5に示したBGAパッケージ6をサブストレート200にはんだ付けする工程において、はんだ溶融の初期に熱吸収ランド15からランド延長部位13に伝導された熱で余剰はんだを溶融できるようになる。
図7(a)及び(b)はサブストレート200の製造例を示す工程図であり、図7(b)は図6(a)中のY−Y矢視の切断面の一部である。サブストレート200の製造方法は、先ず、はんだ付け用のBGAランド1とはんだ付け兼熱伝導用のBGAランド12をサブストレート本体21に形成する。例えば、図7(a)に示すサブストレート本体21の表面にBGAランド1及び12のパターンを形成してエッチング処理を行い、BGAランド1及び12を形成する。このとき、BGAランド12をBGAランド1に比べて面積を広く配置する。この例で、BGAランド12のはんだ付け部分に加えてランド延長部位13及び熱吸収ランド15を形成する。次に図7(b)に示すように、BGAランド1と、BGAランド12の開口部10以外の表裏面にグリーンレジスト30を塗布する。このようにして、サブストレート200が製造される。
続いて、上述したサブストレート200にBGAパッケージ6を実装して半導体装置を製造する工程を説明する。図8(a)及び(b)はサブストレート200の機能例を示す工程図である。この例で、BGAパッケージ6には予めグリッド・アレイ状にはんだボール7が形成されている。また、図4(a)〜(c)に示した図示しない自動実装機を使用する。
これらを製造条件として、図8(a)に示すサブストレート200のBGAランド1、及びBGAランド12の開口部10には、自動実装機によりはんだペースト8が塗布され、このはんだペースト8にBGAパッケージ6のはんだボール7が当接されてサブストレート200にBGAパッケージ6が搭載される。サブストレート200にBGAパッケージ6を搭載後、リフロー炉内で熱風などによりサブストレート200のはんだペースト8が加熱されて当該はんだペースト8が溶融される。
このとき、図8(b)に示すサブストレート200の熱吸収ランド15は、リフロー処理による熱を矢印E方向へ伝導してランド延長部位13へ伝導する。このランド延長部位13は、熱吸収ランド15により伝導された熱により、開口部10におけるランド延長部位13以外の部分より昇温する。なお、リフロー処理時の温度は200℃〜220℃程度に設定し、リフロー処理の時間は8分〜12分程度に設定する。
これにより、ランド延長部位13のBGAランド12は、当該ランド延長部位13に塗布された当該はんだペースト8を先んじて溶融する。その後、図8(b)に示すはんだボール7bは、この先んじて溶融された当該はんだペースト8に引っ張られながら溶融し、はんだボール7bの余剰はんだはランド延長部位13に流れる。このようにして、BGAランド1及び12にBGAパッケージ6をはんだ付けにより実装し、はんだボール7aとはんだボール7bとのブリッジを回避した半導体装置41を製造する。
このように、本発明に係る第2の実施例のサブストレート200によれば、BGAランド12は、所定の面積を有した一枚の板状の部材として成形され、はんだ付け時の熱を当該BGAランド12の熱吸収ランド15からランド延長部位13へ伝導するものである。従って、ランド延長部位13へ伝導された熱により余剰はんだをグリッド外方向へ引っ張れるようになるので、はんだボール7のブリッジを回避できるようになる。
なお、今後需要が増加すると予想される大型かつ重いBGAパッケージの場合、より高温のリフロー熱によりはんだ付けが行われる。このとき、BGAパッケージの湾曲が大きくになり、近接のはんだボール同士がブリッジする可能性が高くなる。また、BGAパッケージの直下に位置するはんだボールは、周辺のサブストレートと比較して昇温が遅れる傾向が顕著になる。これにより、周辺のサブストレートに形成された熱吸収ランドは、より高温のリフロー熱をBGAランドのランド延長部へ伝導するので、はんだボールの余剰はんだを確実に溶融できるようになる。従って、特に大型のBGAパッケージに対してサブストレート100及び200は効果的である。
また、第2の実施例のサブストレート200は、第1の実施例のサブストレート100のようにサーマル・ビアホール4の設置や多層基板にする必要がないので、構造を単純化できるようになる。また、サブストレート200はランド延長部位13と熱吸収ランド15との距離を短縮できると共に、ランド延長部位13と熱吸収ランド15との接合面積を広くできるので熱伝導率を向上できるようになる。
この発明は、BGAパッケージLSI等の電子部品を実装するプリント回路基板などに適用して好適なものである。
1・・・第1のBGAランド(導電部)、2、12・・・第2のBGAランド(導電部)、3、13・・・ランド延長部位、4・・・サーマル・ビアホール(熱伝導路)、5、15・・・熱吸収ランド(熱伝導部)、20、21・・・サブストレート本体(基板本体)、30・・・グリーンレジスト(保護膜)、40、41・・・半導体装置、100、200・・・サブストレート(回路基板)
Claims (9)
- 基板本体と、
前記基板本体の所定個所に形成され、電子部品を実装する為の複数のはんだ付け用の導電部と、
前記導電部の中の特定の導電部に接続され、はんだ付け時の熱を当該導電部へ伝導する所定形状の熱伝導部と
を備えることを特徴とする回路基板。 - 前記熱伝導部に接続された前記導電部は、
前記熱伝導部により伝導された熱によって溶融されたはんだの一部を逃がす形状を有していることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。 - 前記はんだ付け用の導電部は格子形状に配設され、
前記熱伝導部に接続された導電部は、
少なくとも、前記格子形状の4隅に設けられ、
前記はんだ付け時の熱により溶融されたはんだの一部を格子外方向へ逃がすことを特徴とする請求項1に記載の回路基板。 - 前記特定の導電部の所定位置から引き出され、熱を伝導する熱伝導路を備え、
前記熱伝導路は前記熱伝導部に接続されることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。 - 一方で、はんだ付け用の導電部を第1の基板上に形成する工程と、
他方で、熱伝導用の所定形状の熱伝導部を第2の基板上に形成する工程と、
前記導電部が形成された前記第1の基板と、前記熱伝導部が形成された第2の基板とを積層して接合する工程と、
接合後、前記第1の基板の導電部と前記第2の基板の熱伝導部とを接続する工程と
を有することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 基板本体と、
前記基板本体の所定個所に形成された導電部と、
前記基板本体の所定個所に形成され、所定の前記導電部に接続された所定形状の熱伝導部と、
前記導電部にはんだ付けによって接続された半導体チップとを備え、
前記導電部と半導体チップとを接続するはんだは、
はんだ付け工程時に、
前記熱伝導部により伝導された熱で余剰はんだが溶融され、溶融された余剰はんだが所定方向へ引っ張られた形状を有していることを特徴とする半導体装置。 - 一方で、はんだ付け用の導電部を第1の基板上に形成する工程と、
他方で、熱伝導用の所定形状の熱伝導部を第2の基板上に形成する工程と、
前記導電部が形成された前記第1の基板と、前記熱伝導部が形成された第2の基板上とを積層して接合する工程と、
接合後、前記第1の基板の導電部と前記第2の基板の熱伝導部とを接続する工程と、
前記熱伝導部が接続された前記導電部及び他の導電部に半導体チップをはんだ付けにより実装する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 基板本体と、
前記基板本体の所定個所に形成され、電子部品を実装する為の複数のはんだ付け用の導電部とを備え、
前記導電部の中の特定の導電部は、
所定の面積を有した一枚の板状の部材として成形され、はんだ付け時の熱を当該導電部の高温部位から低温部位へ伝導することを特徴とする回路基板。 - はんだ付け用の導電部とはんだ付け兼熱伝導用の導電部を基板上に形成する工程と、
前記基板上に形成された熱伝導用の導電部の所定範囲を保護膜で覆う工程とを有し、
前記はんだ付け兼熱伝導用の導電部を前記はんだ付け用の導電部に比べて面積を広く配置することを特徴とする回路基板の製造方法。
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---|---|---|---|
JP2006224397A JP2008047825A (ja) | 2006-08-21 | 2006-08-21 | 回路基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110013366A1 (en) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | Abb Research Ltd | Electronic circuit board with a thermal capacitor |
CN101609793B (zh) * | 2009-06-30 | 2011-07-27 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | Bga器件漏印工装及印制板bga器件的更新焊接方法 |
JP7459610B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-04-02 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
-
2006
- 2006-08-21 JP JP2006224397A patent/JP2008047825A/ja active Pending
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