JP2008047739A - 磁気ランダムアクセスメモリ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気ランダムアクセスメモリは、2層以上の強磁性層を、間に非磁性中間層を介して積層した積層構造を具備し、前記積層構造中、前記強磁性層の一が情報を磁化の形で保持する記録層を構成し、書き込み電流を前記積層構造の上端と下端の間で流す構成の磁気抵抗素子を含み、少なくとも一の強磁性層がホイスラー型合金膜を含む。
【選択図】図3B
Description
図1A,1Bに示すようなMRAMのフリー層においてスピン注入磁化反転を行う場合、必要な電流密度は、平行磁化状態から反平行磁化状態に磁化反転させる場合は、
図3Aは、本発明の第1の実施形態によるMRAM20の構成を示す。
図5は、本発明の第2の実施形態によるMR素子34の構成を示す。ただし図5のMR素子34は、前記図3AのMRAM20において、前記MR素子24を置き換えるものである。図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
図6は、本発明の第3の実施形態によるMR素子44の構成を示す。ただし図6のMR素子44は、前記3AのMRAM20において、前記MR素子24を置き換えるものである。図中、先に説明した部分に対応する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
図7は、本発明の第4の実施形態によるMR素子54の構成を示す。ただし図7のMR素子54は、前記3AのMRAM20において、前記MR24素子を置き換えるものである。
11,21 シリコン基板
11A,21A ソース電極
11B,21B ドレイン電極
11a,21a ソース領域
11b,21b ドレイン領域
11p,11q,21p,21q 導電性プラグ
12,22 ゲート絶縁膜
13,23 ゲート電極
14,24,54 MR素子
14A,24A,24B,54A,54B 下地層
14B,24C,54C 反強磁性層
14C,24D,54D,54F ピンド層
14D,24E,54G 非磁性中間層
14E,24F,54H,54I フリー層
14F,24G,54J 非磁性中間層
14G,24H,54K,54L ピンド層
14H,24I,54M 反強磁性層
15,25 ビット線
24Da,24Db ピンド層
24Ha,24Hb ピンド層
24Dc ピンド層
24De,54E 非磁性層
Claims (9)
- 2層以上の強磁性層を、間に非磁性中間層を介して積層した積層構造を具備し、前記積層構造中、前記強磁性層の一が情報を磁化の形で保持する記録層を構成し、書き込み電流を前記積層構造の上端と下端の間で流す構成の磁気抵抗素子を含む磁気ランダムアクセスメモリにおいて、
少なくとも一の強磁性層がCo2YX(Y=Fe,Mn,Cr,X=Al,Si,Ge,Sb,Ga)型のホイスラー型合金膜を含むことを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ。 - 前記ホイスラー型合金膜は、Co2FeX(X=Al,Si,Ge,Sb,Ga)で表される組成を有することを特徴とする請求項1記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記積層構造は、第1の強磁性層と、第1の非磁性中間層と、第2の強磁性層と、第2の非磁性中間層と、第3の強磁性層とを、第1の反強磁性層と第2の反強磁性層の間に順次積層した構成を有し、情報を前記第2の強磁性層に、磁化の形で保持し、前記第1の強磁性層と前記第3の強磁性層は、互いに反平行な磁化を担持することを特徴とする請求項1または2記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の非磁性中間層は非磁性絶縁膜よりなり、前記第2の非磁性中間層は非磁性導体膜よりなることを特徴とする請求項3記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の強磁性層と前記第2の強磁性層と前記第3の強磁性層は、いずれもホイスラー合金よりなることを特徴とする請求項3記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の強磁性層と前記第3の強磁性層の各々は、ホイスラー合金膜と他の強磁性膜との積層よりなることを特徴とする請求項3記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の強磁性層においては、前記他の強磁性膜が前記第1の反強磁性層に接して形成され、前記第2の強磁性層においては、前記他の強磁性膜が前記第2の反強磁性層に接して形成されることを特徴とする請求項6記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1および第3の強磁性層の一方は、第1の強磁性膜と第2の強磁性膜を非磁性膜Xで挟んだ構成を有し、X=Ru,Ir,Rh,Cr,Reであることを特徴とする請求項3記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
- 前記第1の強磁性層はCoFeB合金よりなり、前記第1の非磁性中間層はMgOよりなり、前記第2の強磁性層は、CoFeB合金膜とホイスラー合金膜の積層膜よりなり,前記第2の非磁性中間層2はCu膜よりなり、前記第3の強磁性層は、ホイスラー合金よりなることを特微とする請求項3記載の磁気ランダムアクセスメモリ。
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