JP2008041495A - マイクロ波プラズマトーチ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】誘電体からなる円筒状の放電管1と、放電管の一端開口を封閉する蓋体9と、蓋体を貫通して放電管内にその中心軸に沿ってのびるマイクロ波供給用アンテナ4と、放電管の外側を被覆するグランド電極2と、放電管内にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給管3と、グランド電極の外面を被覆する誘電体の外被5を備える。アンテナには、その先端部から間隔をあけた位置にプラズマ遮断手段6a〜6cが設けられる。プラズマ遮断手段は誘電体からなり、プラズマ遮断手段と放電管との間、またはプラズマ遮断手段自体に、プラズマ生成用ガスを通過させるが、プラズマは遮断する通路が設けられる。
【選択図】図1
Description
さらに、グランド電極2の外面は、ガス供給管3から下方の領域がすべて、誘電体の外被5によって被覆されている。
2 グランド電極
3 ガス供給管
4 アンテナ
4a アンテナ先端部
5 外被
6a〜6c フィン
7a〜7c スペーサ
9 蓋体
Claims (5)
- 誘電体からなる円筒状の放電管と、
前記放電管の一端開口を封閉する蓋体と、
前記蓋体を貫通して前記放電管内にその中心軸に沿ってのびるマイクロ波供給用アンテナと、
前記放電管の外側を被覆するグランド電極と、
前記放電管内にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給管と、
前記グランド電極の外面を被覆する誘電体の外被と、を備え、
前記アンテナには、その先端部から間隔をあけた位置にプラズマ遮断手段が設けられており、前記プラズマ遮断手段は誘電体から形成され、前記プラズマ遮断手段と前記放電管との間、または前記プラズマ遮断手段自体に、プラズマ生成用ガスを通過させるが、プラズマは遮断する通路が設けられているものであることを特徴とするマイクロ波プラズマトーチ。 - 前記プラズマ遮断手段は、前記アンテナにその外周を取り巻くように設けられた少なくとも1つの環状のフィンからなり、前記プラズマ遮断手段の通路は、前記フィンの外周縁と前記放電管の内壁面との間に形成された前記放電管の内径の10%以下の大きさの間隙からなっていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波プラズマトーチ。
- 複数の前記環状のフィンが前記アンテナの軸方向に間隔をあけて設けられており、隣接する前記フィンの間隔が10mm以下であることを特徴とする請求項2に記載のマイクロ波プラズマトーチ。
- 前記プラズマ遮断手段は、前記アンテナにその外周を取り巻くように設けられた少なくとも1つの環状のフィンからなり、前記フィンの外周縁は前記放電管の内壁に接触しており、前記プラズマ遮断手段の通路は、前記フィンに形成された少なくとも1つの開口からなっていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波プラズマトーチ。
- 前記プラズマ遮断手段は、前記アンテナにその外周を取り巻くように設けられた単一の円筒状隆起部からなり、前記プラズマ遮断手段の通路は、前記円筒状隆起部の外周面と前記放電管の内壁面との間に形成された前記放電管の内径の10%以下の大きさの間隙からなっていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波プラズマトーチ。
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