JP6847267B2 - プラズマ源 - Google Patents

プラズマ源 Download PDF

Info

Publication number
JP6847267B2
JP6847267B2 JP2019563692A JP2019563692A JP6847267B2 JP 6847267 B2 JP6847267 B2 JP 6847267B2 JP 2019563692 A JP2019563692 A JP 2019563692A JP 2019563692 A JP2019563692 A JP 2019563692A JP 6847267 B2 JP6847267 B2 JP 6847267B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
antenna
diameter
plasma
plasma source
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019563692A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020506526A (ja
Inventor
ソルテー,パスカル
Original Assignee
ポリゴン フィジックス
ポリゴン フィジックス
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ポリゴン フィジックス, ポリゴン フィジックス filed Critical ポリゴン フィジックス
Publication of JP2020506526A publication Critical patent/JP2020506526A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6847267B2 publication Critical patent/JP6847267B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/461Microwave discharges
    • H05H1/463Microwave discharges using antennas or applicators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/06Sources
    • H01J2237/08Ion sources
    • H01J2237/0815Methods of ionisation
    • H01J2237/0817Microwaves
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/4645Radiofrequency discharges
    • H05H1/466Radiofrequency discharges using capacitive coupling means, e.g. electrodes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

本発明はガスプラズマ源に関し、より具体的には、高周波電磁放射線と低圧ガスとの相互作用によってプラズマを得るプラズマ源に関する。
電磁放射線を低圧ガスに当てることによって、ガスがイオン化して、高周波電磁場の強度が十分である領域にプラズマを生成し得ることが知られている。
本明細書に添付されている図1は、プラズマ源について記載している特開平09−245658号公報として発行された日本の特許出願の図1のコピーである。図面のある要素のみを以下に記載する。より完全な説明のために、以下、日本の特許出願について言及する。この図面に示されているプラズマ源は、4分の1波長アンテナ6 が配置されているプラズマチャンバ1 を備えている。4分の1波長アンテナ6 は、4分の1波長アンテナ6 の基部でプラズマチャンバ1 の筐体から隔離体2 によって隔離されている。4分の1波長アンテナ6 の自由端部が、穿孔された電極8 に対向して配置されている。入口4 によって、ガスをプラズマチャンバ1 の低圧筐体に導入することが可能である。4分の1波長アンテナ6 は高周波電磁場によって励起され、プラズマ5 が、多数の点によって示されているように、プラズマチャンバ1 内の電磁場が最大である位置で生成される。永久磁石3 が、プラズマを閉じ込めるためにプラズマチャンバ1 の筐体の周りに配置されている。プラズマの電荷が開口部又は抽出格子14を通って抽出され得る。
日本の特許出願の特開平09−245658号公報の段落[0020]には、4分の1波長アンテナ6 の寿命が2〜3時間であると記載されており、これは、4分の1波長アンテナ6 及び筐体1 の壁が噴霧を受けるためである。従って、4分の1波長アンテナ6 を定期的に交換してプラズマチャンバ1 を清浄化することが必要であると明示されている。従って、プラズマ源をプラズマ源が使用されている真空筐体から定期的に取り出すことが必要であり、このようなプラズマ源の取り出しは比較的長い保守及び真空復元動作の原因になる。
日本の特許出願の特開平09−245658号公報に記載されている寿命より長い寿命を有するプラズマ源を提供することが望ましい。
従って、実施形態は、4分の1波長アンテナの端部に対向する開口部を有する円筒状の筐体内に配置されている4分の1波長アンテナを備えており、前記4分の1波長アンテナの直径は、前記筐体の内径の3分の1から4分の1の範囲内であり、前記4分の1波長アンテナの端部と前記開口部との間の距離は、前記4分の1波長アンテナの直径の2/3 から5/3 の範囲内であることを特徴とするプラズマ源を提供する。
実施形態によれば、前記筐体の内径は10mm程度である。
実施形態によれば、前記筐体の内径は10mmであり、前記4分の1波長アンテナの直径は2.5 〜3.3 mmの範囲内であり、前記4分の1波長アンテナの端部と前記開口部との間の距離は1.5 〜5.5 mmの範囲内である。
実施形態によれば、前記開口部は、1μmから前記筐体の内径の範囲内の直径を有する円形の開口部である。
実施形態によれば、前記開口部は抽出格子である。
実施形態によれば、前記4分の1波長アンテナの励起周波数は2.45 GHzである。
実施形態は、並んで配置されている前述したようなプラズマ源の集合体を備えていることを特徴とする拡張プラズマ源を提供する。
前述及び他の特徴及び利点を、添付図面を参照して本発明を限定するものではない特定の実施形態について以下に詳細に説明する。
特許出願の特開平09−245658号公報の図1のコピーであり、プラズマ源を示す断面図である。 直径が異なるアンテナが設けられているプラズマチャンバを示す図である。 直径が異なるアンテナが設けられているプラズマチャンバを示す図である。 直径が異なるアンテナが設けられているプラズマチャンバを示す図である。 アンテナの直径dに応じた、ある領域におけるアンテナによって放射される平均エネルギーEを示す図である。 アンテナの直径dに応じた、ある領域におけるアンテナによって放射される平均エネルギーEを示す図である。 プラズマ源の実施形態を示す断面略図である。
同一の要素は異なる図面において同一の参照番号で示されている。明瞭化のために、記載された実施形態の理解に有用な工程及び要素のみが示され詳述されている。特に、プラズマチャンバを囲むプラズマ源の要素、特にガス入口、永久磁石、高周波信号接続部及び抽出電極は示されていない。
「約」、「実質的に」及び「程度」という用語は、該当する値のプラスマイナス10%、好ましくはプラスマイナス5%の許容値を示すために本明細書に使用されている。
図2A〜2Cは、直径が異なる4分の1波長アンテナ102 が配置されている全て同一の円筒状のプラズマチャンバ100 を示す断面図である。4分の1波長アンテナは、4分の1波長アンテナの励起信号の波長の4分の1と略等しい長さを有するアンテナを意味する。図2A、図2B及び図2Cの4分の1波長アンテナの直径は夫々1mm、3mm及び6mmである。各プラズマチャンバ100 は開口部又は抽出格子104 を有しており、開口部又は抽出格子104 を通してプラズマのイオンを抽出してもよい。
各筐体100 内で、表面105 がプラズマ生成領域を画定している。このようなプラズマ生成領域は、プラズマの生成を可能にすべく電磁場の値が十分に高い、アンテナを囲む領域に相当する。この値は、例えば104 V/m 程度であってもよい。
本発明者は、各プラズマ生成領域内の第1の領域106 を検討する。第1の領域106 は開口部又は抽出格子104 の側に設けられている。ここで有用な領域と称される第1の領域106 は、有用なプラズマと称されるプラズマ、すなわち、イオン源を形成するためにイオンを抽出することができるプラズマを含んでいる。
本発明者は、各プラズマ生成領域内の第2の領域108 を更に検討する。第2の領域108 は、アンテナ102 の周りにアンテナ102 の長さの少なくとも一部に沿って配置されている。ここで無用な領域と称される第2の領域108 は、無用なプラズマと称されるプラズマを含んでいる。無用なプラズマはプラズマ源から抽出されることができず、ひいては有用な役割を担わないが、特許出願の特開平09−245658号公報に記載されているアンテナ102 の劣化の原因のようである。
従って、本発明者は、無用なプラズマの量を減少させながら、有用なプラズマの量を最大にしようと試みた。これを達成するために、本発明者は、このような有用なプラズマ領域及び無用なプラズマ領域におけるプラズマチャンバ100 内のアンテナ102 の直径の影響を調査した。
図2A〜図2C及び以下の図面には、内径が10mmのプラズマチャンバ100 を例として検討する。
図2Aでは、アンテナ102 の直径は1mmである。このような大きさは、上記の日本の特許出願に図示されているアンテナ及びプラズマチャンバの大きさに相当する。
図2Bでは、アンテナ102 の直径は3mmである。無用な領域108 の体積は、図2Aの場合より小さいため、劣化が減少する。しかしながら、有用な領域106 は同様の体積を維持する。
図2Cでは、アンテナ102 の直径は6mmである。無用な領域108 の体積は更に減少する。しかしながら、有用な領域106 の体積も減少する。
図3A及び図3Bは、2.45 GHzの周波数で5Wの強度を有する同一の放射電力に関して、アンテナ102 の直径dに応じた、有用な領域106 及び無用な領域108 に蓄えられたエネルギーEを夫々示す図である。
図3Aでは、1〜3mmの範囲内のアンテナ102 の直径dに関して有用な領域106 に蓄えられたエネルギーEは略一定であり、6.10-11Jに近いことが観察され得る。3〜6mmの範囲内の直径dに関して、有用な領域106 に蓄えられたエネルギーEが著しく減少し、6mmのアンテナ102 の直径dでは3.10-11 Jに近い実質的に半分の値に達することが更に観察され得る。
図3Bでは、アンテナ102 の直径が1mmから6mmに増加するとき、無用な領域108 に蓄えられたエネルギーEが2.10-9Jから6,4.10-10 Jに実質的に3分の1減少することが観察され得る。
図3Bに示されているように、アンテナの直径が増加すると、無用な領域108 の体積が減少し、すなわちアンテナ102 を劣化させる虞がある無用なプラズマの量が減少する。更に、図3Aに示されているように、有用な領域106 は、約1〜3mmの範囲内のアンテナ102 の直径では実質的に一定量の有用なプラズマを含んでいる。
従って、アンテナ102 の有利な直径は、無用な領域108 の体積を可能な限り減らしながら、有用な領域106 の可能な限り大きな体積を維持し得る直径である。
従って、本発明者は、プラズマチャンバ100 の10mmの内径ではアンテナの有利な直径が約3mm、例えば2.5 〜3.3 mmの範囲内であると決定した。この直径は、プラズマチャンバの内径の4分の1から3分の1の範囲内のプラズマ源の直径に相当する。
図4は、プラズマチャンバ200 の実施形態を示す断面略図である。プラズマチャンバ200 は円筒状の筐体202 を有している。4分の1波長アンテナ204 が筐体202 内に配置されている。4分の1波長アンテナ204 の基部が隔離体206 によって筐体202 から隔離されている。筐体202 は、4分の1波長アンテナ204 の端部に対向する開口部208 を有している。開口部208 は、この例では円形の開口部である。開口部208 は抽出格子であってもよい。筐体の内径d1はこの例では10mmである。既に決定されているように、4分の1波長アンテナ204 の直径dの最適値は、筐体の内径d1の4分の1から3分の1の範囲内であり、すなわち約2.5 〜3.3 mmの範囲内である。4分の1波長アンテナ204 の端部と開口部208 との間の距離lは、例えば4分の1波長アンテナ204 の直径の2/3 から5/3 の範囲内の値、すなわち、ここでは1.5 〜5.5 mmの範囲内の値を有する。同様に、図4の例における開口部208 の直径d2は、4分の1波長アンテナ204 の直径dと略等しい直径、例えば4分の1波長アンテナ204 の直径dの4/5 から6/5 の範囲内の直径を有している。
特定の実施形態が述べられている。様々な変更、調整及び改良が当業者に容易に想起される。特に、プラズマチャンバの内径d1は、ここでは10mmの値を有すると記載されている。この直径は異なるように選択されてもよい。
更に、開口部208 の直径は1μmと筐体の内径d1との間で異なってもよい。
このようなプラズマ源は拡張プラズマ源を形成すべく関連付けられてもよい。
本特許出願は、参照によって本明細書に組み込まれる仏国特許出願第17/50978 号明細書の優先権を主張している。

Claims (7)

  1. 4分の1波長アンテナ(204) の端部に対向する開口部(208) を有する円筒状の筐体(202) 内に配置されている4分の1波長アンテナ(204) を備えており、
    前記4分の1波長アンテナ(204) の直径(d) は、前記筐体(202) の内径(d1)の3分の1から4分の1の範囲内であり、
    前記4分の1波長アンテナ(204) の端部と前記開口部(208) との間の距離(l) は、前記4分の1波長アンテナ(204) の直径(d) の2/3 から5/3 の範囲内であることを特徴とするプラズマ源。
  2. 前記筐体(202) の内径(d1)は10mm程度であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ源。
  3. 前記筐体(202) の内径(d1)は10mmであり、前記4分の1波長アンテナ(204) の直径(d) は2.5 〜3.3 mmの範囲内であり、前記4分の1波長アンテナ(204) の端部と前記開口部(208) との間の距離(l) は1.5 〜5.5 mmの範囲内であることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ源。
  4. 前記開口部(208) は、1μmから前記筐体(202) の内径(d1)の範囲内の直径を有する円形の開口部であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のプラズマ源。
  5. 前記開口部(208) は抽出格子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のプラズマ源。
  6. 前記4分の1波長アンテナの励起周波数は2.45 GHzであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のプラズマ源。
  7. 並んで配置されている請求項1〜6のいずれか1つに記載のプラズマ源の集合体を備えていることを特徴とする拡張プラズマ源。
JP2019563692A 2017-02-06 2017-12-21 プラズマ源 Active JP6847267B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1750978 2017-02-06
FR1750978A FR3062770B1 (fr) 2017-02-06 2017-02-06 Source de plasma
PCT/FR2017/053798 WO2018142036A1 (fr) 2017-02-06 2017-12-21 Source de plasma

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020506526A JP2020506526A (ja) 2020-02-27
JP6847267B2 true JP6847267B2 (ja) 2021-03-24

Family

ID=58547698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019563692A Active JP6847267B2 (ja) 2017-02-06 2017-12-21 プラズマ源

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10798810B2 (ja)
EP (1) EP3578014B1 (ja)
JP (1) JP6847267B2 (ja)
KR (1) KR102526862B1 (ja)
CN (1) CN110383957B (ja)
DK (1) DK3578014T3 (ja)
FR (1) FR3062770B1 (ja)
PL (1) PL3578014T3 (ja)
WO (1) WO2018142036A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3136104A1 (fr) 2022-05-30 2023-12-01 Polygon Physics Dispositif à faisceau d’électrons pour le traitement d’une surface

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3023055A1 (de) * 1979-07-12 1981-02-05 Emi Ltd Antenne
FR2480552A1 (fr) * 1980-04-10 1981-10-16 Anvar Generateur de plasmaŸ
US5361737A (en) * 1992-09-30 1994-11-08 West Virginia University Radio frequency coaxial cavity resonator as an ignition source and associated method
US7103460B1 (en) * 1994-05-09 2006-09-05 Automotive Technologies International, Inc. System and method for vehicle diagnostics
JPH09245658A (ja) * 1996-03-12 1997-09-19 Nissin Electric Co Ltd 永久磁石によるecr共鳴を利用するプラズマ生成機構
US5961772A (en) * 1997-01-23 1999-10-05 The Regents Of The University Of California Atmospheric-pressure plasma jet
US20070095823A1 (en) * 2005-10-27 2007-05-03 Sedlmayr Steven R Microwave nucleon-electron-bonding spin alignment and alteration of materials
CN100388559C (zh) * 2005-12-29 2008-05-14 上海交通大学 自重构等离子体天线
CN104174049B (zh) * 2007-11-06 2017-03-01 克里奥医药有限公司 可调施放器组件以及等离子体灭菌设备
KR101012345B1 (ko) * 2008-08-26 2011-02-09 포항공과대학교 산학협력단 저 전력 휴대용 마이크로파 플라즈마 발생기
FR2937494B1 (fr) * 2008-10-17 2012-12-07 Centre Nat Rech Scient Source de plasma gazeux basse puissance
US20110248002A1 (en) * 2010-04-13 2011-10-13 General Electric Company Plasma generation apparatus
EP2928011B1 (en) * 2014-04-02 2020-02-12 Andrew Wireless Systems GmbH Microwave cavity resonator

Also Published As

Publication number Publication date
EP3578014A1 (fr) 2019-12-11
CN110383957A (zh) 2019-10-25
DK3578014T3 (da) 2020-11-30
WO2018142036A1 (fr) 2018-08-09
FR3062770A1 (fr) 2018-08-10
US20190394866A1 (en) 2019-12-26
CN110383957B (zh) 2021-09-17
FR3062770B1 (fr) 2019-03-29
EP3578014B1 (fr) 2020-10-28
JP2020506526A (ja) 2020-02-27
US10798810B2 (en) 2020-10-06
KR20190109749A (ko) 2019-09-26
PL3578014T3 (pl) 2021-05-31
KR102526862B1 (ko) 2023-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9153405B2 (en) Ion source device and ion beam generating method
KR20080077670A (ko) 유도성으로 결합된 고주파 플라즈마 플러드 건을 제공하기위한 기법
US8736176B2 (en) Device and method for producing and/or confining a plasma
US20160351379A1 (en) Plasma generator and thermal electron emitter
US20100034668A1 (en) Vacuum pumping system with a plurality of sputter ion pumps
US8324814B2 (en) Device and method for producing and/or confining a plasma
JP6847267B2 (ja) プラズマ源
CN109192641B (zh) 一种潘宁冷阴极离子源
JP2007324134A (ja) 改良された磁石アセンブリを有するスパッタ・イオン・ポンプ
KR101404916B1 (ko) 가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스
JP2016035925A (ja) プラズマビーム発生方法並びにプラズマ源
KR102117569B1 (ko) 플라즈마원
RU2387039C1 (ru) Высокочастотный генератор на основе разряда с полым катодом
JP4417945B2 (ja) イオン発生装置
TWI470662B (zh) Ion gun
JP6283259B2 (ja) マイクロ波イオン源
KR20140142464A (ko) 이온 빔 소스
RU2371803C1 (ru) Плазменный источник ионов
JP7255952B2 (ja) イオンビーム源
CN109479369B (zh) 等离子源以及等离子处理装置
KR100735747B1 (ko) 플라즈마를 이용한 반도체 제조장치
JPH10241591A (ja) イオン源装置
JP6150705B2 (ja) マイクロ波イオン源
RU2371804C1 (ru) Газоразрядный источник ионов
RU2436185C1 (ru) Способ локального плазмохимического травления материалов

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201119

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20201119

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20201203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210302

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6847267

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250