JP2008041169A - 追記型光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に、少なくとも、Bi、B及びOを含有する記録層を備え、記録層におけるBiとBの原子比が3/7≦Bi/B≦8である追記型光記録媒体である。記録層におけるOとBの原子比が2.2≦O/B≦13である態様、記録層を構成する元素全量のうち、Oが占める割合が、原子比で50%から67%の範囲である態様などが好ましい。
【選択図】図1
Description
<1> 基板上に、少なくとも、Bi、B及びOを含有する記録層を備え、記録層におけるBiとBの原子比が3/7≦Bi/B≦8であることを特徴とする追記型光記録媒体である。
該<1>においては、基板上に、少なくとも、Bi、B及びOを含有する記録層を備え、記録層におけるBiとBの原子比を3/7≦Bi/B≦8とすることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<2> 記録層におけるOとBの原子比が2.2≦O/B≦13である前記<1>に記載の追記型光記録媒体である。
該<2>においては、記録層におけるOとBの原子比を2.2≦O/B≦13とすることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<3> 記録層を構成する元素全量のうち、Oが占める割合が、原子比で50%から67%の範囲である前記<1>から<2>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<3>においては、記録層を構成する元素全量におけるOが占める割合を最適化することにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<4> 記録層の両表面に隣接する保護層を備えた前記<1>から<3>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<4>においては、記録層の両表面に隣接する保護層を備えた構成を用いることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<5> 保護層が、ZnS−SiO2又は、窒化シリコン、又は、酸化アルミニウムを主成分とする前記<1>から<4>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<5>においては、保護層が、ZnS−SiO2又は、窒化シリコン、又は、酸化アルミニウムを主成分とすることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<6> 基板上に、少なくとも、第一の保護層、記録層、第二の保護層、反射層が順次積層され、第一の保護層が酸化アルミニウム、第二の保護層がZnS−SiO2からなる前記<1>から<5>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<6>においては、基板上に、少なくとも、第一の保護層、記録層、第二の保護層、反射層が順次積層され、第一の保護層が酸化アルミニウム、第二の保護層がZnS−SiO2からなる層構成とすることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<7> 基板上に、少なくとも、反射層、第二の保護層、記録層、第一の保護層、カバー層が順次積層され、第二の保護層が窒化シリコン、第一の保護層がZnS−SiO2からなる前記<1>から<5>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<7>においては、基板上に、少なくとも、反射層、第二の保護層、記録層、第一の保護層、カバー層が順次積層され、第二の保護層が窒化シリコン、第一の保護層がZnS−SiO2からなる層構成とすることにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<8> 反射層がAl合金からなる前記<6>から<7>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<8>においては、反射層材料を限定することにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<9> 基板上に、少なくとも、第一の保護層、記録層、第二の保護層、反射層が順次積層され、第一の保護層の厚みが10〜80nm、記録層の厚みが6〜30nm、第二の保護層の厚みが8〜35nm、反射層の厚みが20〜100nmの範囲である前記<1>から<6>及び<8>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<9>においては、各層の厚みを最適化することにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<10> 基板上に、少なくとも、反射層、第二の保護層、記録層、第一の保護層、カバー層が順次積層され、第一の保護層の厚みが7〜30nm、記録層の厚みが6〜30nm、第二の保護層の厚みが5〜30nm、反射層の厚みが30〜80nmの範囲である前記<1>から<5>及び<7>から<8>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<10>においては、各層の厚みを最適化することにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<11> Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態である酸化物を含む前記<1>から<10>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<11>においては、Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態である酸化物を含むことにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<12> Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態であるBi酸化物を含む前記<1>から<11>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<12>においては、Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態であるBi酸化物を含むことにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<13> 光照射により、記録された記録マークが、酸化物ではない単体元素を含む前記<1>から<12>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<13>においては、光照射により、記録された記録マークが、酸化物ではない単体元素を含むことにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
<14> 光照射により、記録された記録マークが、明確な結晶性を示さない前記<1>から<13>のいずれかに記載の追記型光記録媒体である。
該<14>においては、光照射により、記録された記録マークが、明確な結晶性を示さないことにより、記録特性、保存安定性に優れた追記型光記録媒体を提供できる。
具体的には、優れた記録特性、保存特性を有する追記型光記録媒体、特にHD DVD−R規格、または、BD−R規格に準拠するような優れた追記型光記録媒体を提供できる。
実施例により限定されるものではない。
案内溝(溝深さ21nm、トラックピッチ0.32μm)を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)上に、スパッタ法で、厚み35nmのAlTi合金(Ti:1.0質量%)層、厚み10nmのZnS―SiO2(80:20モル%)層、厚み16nmのBiとBと酸素からなる層(Bi―B―O層)、10nmのZnS―SiO2(80:20モル%)層、を順に設け、更に、その上に、紫外線硬化樹脂(DVD003、日本化薬株式会社製)を用いて厚さ75μmポリカーボネートシート(ピュアエース、帝人化成株式会社製)を貼り合わせて光透過層とし、厚さ約1.2mmとして、本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray(ブルーレイ)ディスク規格対応の追記型光記録媒体)を作成した。
表5、表6中の実施例1から8、及び比較例1から2の追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、追記型Blu−rayディスクの規格(BD−R Version1.1)にあわせた条件で記録を行い、ジッターの値を評価した。
案内溝(溝深さ26nm、トラックピッチ0.4μm)を有するポリカーボネート基板上に、スパッタ法を用いて、ZnS−SiO2層(ZnS:SiO2=80:20mol%)を厚み15nm、記録層として厚み15nmのBi―B―O層、厚み20nmのZnS−SiO2層(ZnS:SiO2=80:20mol%)を順次積層した。Bi―B―O層はBi/B原子比が7.9、O/B原子比が13.2のものを用いた。次いでスパッタ法で厚み40nmのAlTi合金(Ti:1.0質量%)層、その上には、スピンコート法で紫外線硬化型樹脂(ノプコキュア134、サンノプコ株式会社製)からなる厚み約5μmの有機保護層を設け、更に、0.6mm厚のダミー基板と紫外線硬化型樹脂で張り合わせ追記型光記録媒体を得た。この追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、HD DVD−R規格(DVD Specifications for High Density Recordable Disc(HD DVD−R) Version1.0))に合わせた条件で記録を行い、PRSNRを測定し、22.0(規格値:15以上)という良好な値を得た。また、温度80℃、湿度85%の300時間の保存試験後のPRSNRは、16.0となり、良好な特性を示した。
案内溝(溝深さ26nm、トラックピッチ0.4μm)を有するポリカーボネート基板上に、スパッタ法を用いて、酸化アルミニウム(Al2O3)層を厚み15nm、記録層として厚み15nmのBi―B―O層、厚み20nmのZnS−SiO2層(ZnS:SiO2=80:20モル%)を順次積層した。Bi―B―O層は、Bi/B原子比が1.75、O/B原子比が4.5のものを用いた。
案内溝(溝深さ21nm、トラックピッチ0.32μm)を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)上に、スパッタ法で、反射層として厚み35nmのAlTi合金(Ti:1.0質量%)層、第二の保護層として、厚み10nmの窒化シリコン層、厚み16nmのBiとBと酸素からなる層(Bi―B―O層)、12nmのZnS―SiO2(80:20モル%)層、を順に設け、更に、その上に、紫外線硬化樹脂(DVD003、日本化薬株式会社製)を用いて厚さ75μmポリカーボネートシート(ピュアエース、帝人化成株式会社製)を貼り合わせて光透過層とし、厚さ約1.2mmとして、本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray(ブルーレイ)ディスク規格対応の追記型光記録媒体)を作成した。Bi―B―O層は、Bi/B原子比が1.75、O/B原子比が4.5のものを用いた。この追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、追記型Blu−rayディスクの規格(BD−R Version1.1)にあわせた条件で記録を行い、ジッターの値を測定した。保存試験前のジッターの値は、5.1%であった。温度80℃、湿度85%の300時間保存試験後のジッターは6.1%であった。良好な特性が得られることがわかった。また、図3に示したように、保存後の再生信号は、窒化シリコンを用いたディスクのほうが、ノイズが小さいことがわかり、第二の保護層として窒化シリコンを用いることが好ましいことが明らかとなった。
請求項3に対する実施例である。案内溝(溝深さ21nm、トラックピッチ0.32μm)を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)上に、スパッタ法で、反射層として厚み35nmのAlTi合金(Ti:1.0質量%)層、第二の保護層として、厚み10nmのZnS―SiO2(80:20モル%)層を、厚み16nmのBiとBと酸素からなる層(Bi―B―O層)、10nmのZnS―SiO2(80:20モル%)層、を順に設け、更に、その上に、紫外線硬化樹脂(DVD003、日本化薬株式会社製)を用いて厚さ75μmポリカーボネートシート(ピュアエース、帝人化成株式会社製)を貼り合わせて光透過層とし、厚さ約1.2mmとして、本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray(ブルーレイ)ディスク規格対応の追記型光記録媒体)を作成した。この追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、追記型Blu−rayディスクの規格(BD−R Version1.1)にあわせた条件で記録を行い、記録特性を評価した。Bi―B―O層の酸素量と最適記録パワーの関係を図4に示した。酸素量がこの範囲では、最適記録パワーは、規格値におさまっており、良好な値を示しているが、酸素量60原子%以下の範囲では、特に良好な値を示している。また、保存前後でジッター値がどれだけ悪くなるかを調べた結果を図5に示した。保存前後のジッター値の変化量を保存前のジッター値のどのくらいの割合かで示している。300時間保存試験後の値を用いた。酸素量が50%以上では比較的ジッター値の悪化量が小さく好ましいことがわかる。55%以上では、ほとんど変化しないことが分かり、さらに好ましい。
案内溝(溝深さ26nm、トラックピッチ0.4μm)を有するポリカーボネート基板上に、スパッタ法を用いて、第一の保護層ZnS−SiO2層(ZnS:SiO2=80:20モル%)を、記録層としてBi―B―O層、第二の保護層ZnS−SiO2層(ZnS:SiO2=80:20モル%)、反射層AlTi合金(Ti:1.0質量%)層を順次積層した。Bi―B―O層は、Bi27.0−B13.1−O59.9の組成のものを用いた。次いでその上には、スピンコート法で紫外線硬化型樹脂(ノプコキュア134、サンノプコ株式会社製)からなる厚み約5μmの有機保護層を設け、更に、0.6mm厚のダミー基板と紫外線硬化型樹脂で張り合わせ追記型光記録媒体を得た。この追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、HD DVD−R規格(DVD Specifications for High Density Recordable Disc(HD DVD−R) Version1.0))に合わせた条件で記録を行った。本実施例13は、請求項9などに対する実施例である。図6に第一の保護層ZnS−SiO2層の厚みを変化させ、記録層を17nm、第二の保護層を20nm、反射層を40nmとした光記録媒体のPRSNRの値を示した。特に60nm付近で良好な値を示した。図7に第一の保護層ZnS−SiO2層を60nm、記録層の厚みを変化させ、第二の保護層を20nm、反射層を40nmとした光記録媒体のPRSNRの値を示した。17nm付近が最も高い値を示した。図8に第一の保護層ZnS−SiO2層を60nm、記録層を17nm、第二の保護層の厚みを変化させ、反射層を40nmとした光記録媒体のPRSNRの値を示した。20nm付近で高い値を示した。また、図9には、保存前と保存試験200時間後のPRSNRの値を示した。第一の保護層の厚みにより、違いがあることがわかる。第一の保護層が0nmの場合は、劣化が大きいが、10、30nmのものは、劣化が抑制されて効果があることがわかる。図10に反射層の厚みとPRSNRの関係を示した。第一の保護層ZnS−SiO2層を60nm、記録層を17nm、第二の保護層を20nmとした。40nm付近で良好な特性を示している。
案内溝(溝深さ21nm、トラックピッチ0.32μm)を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート基板(製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製)上に、スパッタ法で、反射層としてのAlTi合金(Ti:1.0質量%)層、第二の保護層として、窒化シリコン層を、記録層としてBiとBと酸素からなる層(Bi―B―O層)、第一の保護層ZnS−SiO2(80:20モル%)層、を順に設け、更に、その上に、紫外線硬化樹脂(DVD003、日本化薬株式会社製)を用いて厚さ75μmポリカーボネートシート(ピュアエース、帝人化成株式会社製)を貼り合わせて光透過層とし、厚さ約1.2mmとして、本発明の追記型光記録媒体(いわゆるBlu−ray(ブルーレイ)ディスク規格対応の追記型光記録媒体)を作成した。この追記型光記録媒体に対し、光ディスク評価装置(ODU−1000、パルステック工業株式会社製(波長:405nm、NA:0.85))を用いて、追記型Blu−rayディスクの規格(BD−R Version1.1)にあわせた条件で記録を行い、記録特性を評価した。本実施例14は、請求項10に対する実施例である。反射層35nm、記録層16nm、第一の保護層10nmとし、第二の保護層の厚みを変化させた結果を図11に示した。10から12nm付近で最も良好な特性を示している。図12に反射層35nm、記録層16nm、第二の保護層12nmとし、第一の保護層の厚みを変化させた結果を示した。10nm付近の厚みで良好な特性を示している。図13に反射層35nm、第二の保護層12nm、第一の保護層を10nmとし、記録層の厚みを変化させた結果を示した。13から16nm付近の厚みで良好な特性を示している。
Bi2O3とMoO3を70:30(モル比)で混合して焼結し、直径76.2mmφ、厚さ4mmのスパッタリングターゲットを作成し、製膜を行った。BiMoOは、BiとMoと酸素を主成分としている。そのときの印加電力とターゲットの強度を調べ、その結果を表7に示す。正常に製膜できた場合を○、ターゲットが破損した場合を×とした。比較のため、Bi2O3とB2O3を2:1で混合し、焼結したものについても記載した。
Claims (14)
- 基板上に、少なくとも、Bi、B及びOを含有する記録層を備え、記録層におけるBiとBの原子比が3/7≦Bi/B≦8であることを特徴とする追記型光記録媒体。
- 記録層におけるOとBの原子比が2.2≦O/B≦13である請求項1に記載の追記型光記録媒体。
- 記録層を構成する元素全量のうち、Oが占める割合が、原子比で50%から67%の範囲である請求項1から2のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 記録層の両表面に隣接する保護層を備えた請求項1から3のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 保護層が、ZnS−SiO2、窒化シリコン、又は、酸化アルミニウムを主成分とする請求項1から4のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 基板上に、少なくとも、第一の保護層、記録層、第二の保護層、反射層が順次積層され、第一の保護層が酸化アルミニウムからなり、第二の保護層がZnS−SiO2からなる請求項1から5のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 基板上に、少なくとも、反射層、第二の保護層、記録層、第一の保護層、カバー層が順次積層され、第二の保護層が窒化シリコンからなり、第一の保護層がZnS−SiO2からなる請求項1から5のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 反射層がAl合金からなる請求項6から7のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 基板上に、少なくとも、第一の保護層、記録層、第二の保護層、反射層が順次積層され、第一の保護層の厚みが10〜80nm、記録層の厚みが6〜30nm、第二の保護層の厚みが8〜35nm、反射層の厚みが20〜100nmの範囲である請求項1から6及び8のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 基板上に、少なくとも、反射層、第二の保護層、記録層、第一の保護層、カバー層が順次積層され、第一の保護層の厚みが7〜30nm、記録層の厚みが6〜30nm、第二の保護層の厚みが5〜30nm、反射層の厚みが30〜80nmの範囲である請求項1から5及び7から8のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態である酸化物を含む請求項1から10のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- Bi、B、Oを含有する記録層が、化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態であるBi酸化物を含む請求項1から11のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 光照射により、記録された記録マークが、酸化物ではない単体元素を含む請求項1から12のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
- 光照射により、記録された記録マークが、明確な結晶性を示さない請求項1から13のいずれかに記載の追記型光記録媒体。
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