JP2008026903A

JP2008026903A - クリンプおよびクリーブコネクタ用の拡張帯域光ファイバ

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Publication number: JP2008026903A
Application number: JP2007188926A
Authority: JP
Inventors: Adam S Hokansson; エス．ホッカンソンアダム; Jie Li; リジー; Xiaoguang Sun; サンシャオグアン
Original assignee: Furukawa Electric North America Inc
Current assignee: Furukawa Electric North America Inc
Priority date: 2006-07-20
Filing date: 2007-07-20
Publication date: 2008-02-07
Also published as: US7406238B2; US20080019650A1

Abstract

【課題】低コストでかつクリンプおよびクリーブ接続方式により接合が可能な広い帯域−長さ積を有する大コア光ファイバを実現する。
【解決手段】光ファイバは１００ＭＨｚ−ｋｍ以上のさらなる帯域−長さ積とするためにＧｅをドープしたシリカからなる大きなグレーデッド型屈折率のコアを含む。ドープしないシリカのクラッド層がプリフォーム工程の間にコアの上に形成され、それに引き続いてプリフォームの線引き中に紫外線硬化型ポリマーの第１の被覆がクラッド層の上にかぶせられる。第１の被覆はクリンプおよびクリープによる終端を容易にするためにシリカのコアおよびクラッド層の破断特性に適合するよう十分に硬化させられる。さらに第１の被覆はクラッド層よりも大きな屈折率を付与されてクラッド層からのモードあるいはエネルギーストリッピングを可能にする。保護、およびクリンプ後のコネクタの変形特性を保持するために光ファイバの強靭な外層を付与するために第２のポリマー層が任意に塗布されてもよい。
【選択図】図２

Description

本発明は基本的に広帯域でかつ減衰の少ない光ファイバに関する。より具体的には簡単なクリンプおよびクリーブによるコネクタ方式により容易に終端処理が可能な光ファイバに関する。

光ファイバはあらゆる形式および種類の情報に対して低コストの高帯域伝送媒体を提供することで通信工業に大変革を起こした。光ファイバ通信システムにおいて継続的に改良が行われている領域はそのようなファイバの接続である。これらのシステムの光ファイバは基本的にシリカガラスで作られ、ファイバの直径は小さいので２本のファイバを接続する、あるいはファイバを光送信機および受信機に差し込む目的でファイバの端部にコネクタを設けることが基本である。コネクタはファイバピッグテール（あらかじめ工場でコネクタ付けされたファイバの小片）にファイバを溶融接合する、あるいはコネクタにエポキシ樹脂でファイバを接着することによりファイバに取り付けられ、次いで端部を削り、研磨する。そのような方法は過去には効果的であったが、かなり複雑で処理時間を要し、費用がかかる方法である。ファイバツーザホームシステム（ｆｉｂｅｒｔｏｔｈｅｈｏｍｅｓｙｓｔｅｍ）のような将来予定されている光配信システムでは現場で多数の終端処理をする要求が増加している。迅速かつ容易な接続処理がますます重要となる。

ポリマークラッドマルチモード光ファイバ用の簡単なクリンプ（ｃｒｉｍｐ）およびクリーブ（ｃｌｅａｖｅ）方式による低価格コネクタが開発されている。光ファイバは破断線に沿ってガラスファイバに引っかき線をつけ、次いでそれを破断することによりクリーブするとファイバの長軸に直角な平坦な面が端部に形成される。そのようにクリーブされた２本のマルチモードファイバの端部は接着剤、あるいは屈折率整合材を必要に応じて使って突合せ接合される。それから接合部を支え、光ファイバ端部をいっしょに保持するコネクタの機械的部分が特別に適合させた（一般的には金属）スペーサリングを変形させる、あるいはその外側表面をつかむ機構により光ファイバの外側表面にクリンプされる。

クリンプ、およびクリーブ接続方式に特に使われるマルチモードファイバのひとつはドープしないシリカコアとクラッド層を形成する、より低屈折率の光ポリマー被覆を有するステップインデックス（ＳＩ）型光ファイバである。それからこの光ファイバは保護のため、およびコネクタのクリンプ機構の変形を受けとめるために光学的特性を持たないＥＴＦＥのような丈夫なポリマーからなる他の緩衝層で被覆されてもよい。第一のポリマー被覆はＳｋｕｔｎｉｃ他による米国特許４，７０７，０７６号あるいは同４，５１１，２０９号の方法によって作られ、少なくともひとつのエチレン系不飽和モノマー、ポリエン、および硬化開始剤からなる。Ｓｋｕｔｎｉｃ他の開示は参照のためにここに引用されている。クリーブ処理中にガラスコアがきれいに折れ、しかし壊れることなくクリンプ処理に耐えるよう丈夫にするためにポリマー被覆にさらに処理が追加される。この光ファイバは大コア（一般に約２００μｍ）、高開口数（一般に約０．３７）およびクリンプならびにクリーブ方式による接続処理可能性を含む分配型通信システムで必要とされる数多くの望ましい光学的特性を示す。しかしながら、約１０ＭＨｚ−ｋｍという低い帯域−長さ積（ＢＬＰ）のために、そのような光ファイバをより高速あるいはより長いファイバリンク長を必要とする新規の用途に使用することは困難である。

帯域の増加は、コアの屈折率プロファイルを一定（ＳＩ）からグレーデッド型屈折率（ＧＩ）に変える、つまり通常は、べき関数Ｒ^α（αは一般的に１．５と３の間）に従う屈折率プロファイルを変化させることによりマルチモード光ファイバで実現できる。通常これはシリカコアを有する光ファイバについてよく行われるように、コア材料に屈折率を変化させる材料をドープすることにより達成できる。シリカの屈折率を増加させることはゲルマニウム（Ｇｅ）あるいは他の既知の屈折率増加要素をシリカに加えることにより達成されるが、そのような大きいコアのファイバの場合には高価である。しかしながら、クリンプおよびクリーブコネクタで使われるこれまでの光ファイバの大きいシリカコアについては、コア全体にＧｅを加えることはそのコストのためにするべきではなく、またファイバのＢＬＰを十分に増加させることはない。
米国特許第４，７０７，０７６号明細書米国特許第４，５１１，２０９号明細書

それ故に、大きな開口数を有し、かつ製造に費用がかからずクリンプおよびクリーブ接続方式により接合が可能な広い帯域−長さ積を有する大きいコアの光ファイバの必要性がある。

一実施例において、広帯域で容易に接続可能な光ファイバはコアおよびコアを取り囲むクラッド層からなる。好ましくは、コアは１．４６０から１．４８４の間の屈折率を持ち、それはクラッド層よりも大きい。広帯域用途では、コアはシリカにゲルマニウムのような屈折率増加ドーパントをドープすることにより増加するグレーデッド型屈折率プロファイルを利用する。それからクラッド層は、例えばドープしないシリカのように、より屈折率の低い材料であってよい。さらに光ファイバはクラッド層よりも大きい、もしクラッド層がシリカであれば屈折率が１．４５３より大きい、好ましくは約１．４６である、クラッド層を取り囲む第１の被覆層を有する。このことが第１の被覆層にクラッド層からの光をモードストリップさせ、コアのグレーデッド型屈折率プロファイルと相まって光ファイバの帯域−長さ積を増加させる。

第１の被覆層はコアおよびクラッドのシリカガラスと類似の破断特性を持ち、シリカガラスへの良好な接着性を有する好ましくはＵＶ硬化型のポリマーである。好ましくは第１の被覆層の破断時伸び（ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎａｔｆｒａｃｔｕｒｅ）は２０％以下、好ましくは１０％以下であって、シリカのそれに極めてよく似ている。しかしながら、第１の被覆層がポリマーであるということはかなり強靭で耐久性があるということである。硬化した時の第１の被覆のヤング率は５０以上必要であり、より好ましくは約６８である。このことがファイバがコネクタ方式による接続のためにクリーブされるときに第１の被覆層がコアおよびクラッドとともにきれいに破断されるが、コネクタがクリンプされるときは切断により破断することなく十分しっかりした状態に保持されるという利点をもたらす。

本発明のこれら、およびその他の目的、観点、および特徴は添付の図面とともに以下の詳細な記述を読むことによってより明確に理解され、かつよりよく説明されよう。その図面全体にわたり同一要素は同一の参照番号が付与されている。

図１において、一般的に円筒状のコア１２を有する光ファイバ１０が示される。コアを取り囲むものはクラッド層１４であり、従来の導波理論によれば一般的にコアよりも低い屈折率を有する。クラッド層１４を取り囲むものは一般的にクラッド層よりも高い屈折率を有する第１の被覆層１６である。オプション的に第１の被覆層を取り囲むものは第２の被覆層１８である。

コア１２およびクラッド層１４は光ファイバプリフォームを作る多くの方法によって生成が可能である。例えば、化学気相堆積法（ＣＶＤ）、修正化学気相堆積法（ＭＣＶＤ）あるいはプラズマ化学気相堆積法（ＰＣＶＤ）のような内付法や、外側気相堆積法（ＯＶＤ）あるいはプラズマ外側気相堆積法（ＰＯＶＤ）のような外付法が使える。例として、本質的に純粋なシリカのガラスコア管がＭＣＶＤ旋盤に取り付けられ、ガラス構成要素成分が蒸気の形で管の中に供給される。それからガラス構成要素成分が互いに反応し、管の側面にガラスの薄い層を堆積するように移動するトーチによって加熱される。好ましくはコア１２を形成する少なくとも一つのガス構成成分はクラッド層に対してコアの屈折率を増加させるドーパントであってもよい。反対にクラッド層はクラッド層１４の屈折率を減少させるドーパントで処理されてもよい。

光ファイバプリフォームとして適当な屈折率プロファイルが得られたら、管および内側の層は縮径され、プリフォームとして処理する、あるいは一つ以上のオーバークラッド管でオーバークラッドされた後に引き続いて線引きするために線引き塔に移される。

次に、コア１２とクラッド層１４を形成するプリフォームは線引き塔に取り付けられ一端を炉中で加熱される。プリフォームの溶融端はそれから張力をかけられ長く細い糸状の光ファイバに線引きされる。まだ半溶融の間にガラスファイバは引っ張られ、連続する金型あるいは他の従来型の方法により第１の被覆層１６および状況に応じて第２のあるいはそれ以上の被覆層１８の均一で薄い液体で被覆される。次に、第１および第２の被覆層は線引きにつれて光ファイバの一部分をカバーする一連のＵＶランプの紫外放射によって硬化される。

このプロセスによって作られる光ファイバ１０の屈折率プロファイルの例が図２に示される。屈折率（ｎ）が光ファイバ１０の中心軸からの半径方向の距離（ｒ）の関数として縦軸に沿って示される。コア１２はクラッド層１４の屈折率ｎ２よりも大きい屈折率ｎ１を有する。第１の被覆層１６はクラッド層の屈折率ｎ２よりも大きい屈折率ｎ３を有する。

図示する実施例において、コア１２の屈折率ｎ１は、例えばシリカコア材料の屈折率を増加させるゲルマニウム（Ｇｅ）によるコアのドーピング処理の間に決定されるグレーデッド型屈折率（ＧＩ）を有する。コア１２のＧＩプロファイルは光ファイバ１０が一般的なステップインデックス型シリカコア光ファイバよりもより大きい帯域−長さ積（＞１００ＭＨｚ−ｋｍ）を示すことが可能である。コア１２の直径（２×ｒｌ）は、減衰、使われる光源の種類、光部品の公差、使用するコネクタの挿入損失、コストなどを含む光ファイバ１０に対する要求に合わせてそれを最適化するために変更してもよい。コア１２の直径の一般的な値は２０μｍから１８０μｍの範囲にあってよい。クラッド１４の直径の一般的な値は１００μｍから２２５μｍの範囲にあってよい。

第１の被覆層はＳｋｕｔｎｉｃ他による米国特許第４，７０７，０７６号あるいは同４，５１１，２０９号の方法によって作られ、少なくともひとつのエチレン系不飽和モノマー、ポリエン、および硬化開始剤からなる。Ｓｋｕｔｎｉｃ他の開示は参照のためにここに引用されている。クリーブ処理中にガラスコアがきれいに折れ、しかし壊れることなくクリンプ処理に耐えるよう丈夫にするためにポリマー被覆にさらに処理が追加される。

図４の表Ｂにおいて、クラッド層１２を取り囲む第１の被覆層１４はクラッド層よりも大きい、つまりもしコアがシリカであれば１．４３より大きい、好ましくは約１．４６である屈折率を有する。このことが第１の被覆層にクラッド層からの光をモードストリップさせ、コアのグレーデッド型屈折率プロファイルと相まって光ファイバの帯域−長さ積を増加させる。第１の被覆層はコアおよびクラッドのシリカガラスと類似の破断特性を持ち、シリカガラスへの良好な接着性を有する好ましくはポリマーである。好ましくは第１の被覆層の破断時伸びは２０％以下、好ましくは１０％以下であって、シリカのそれに極めてよく似ている。しかしながら、第１の被覆層がポリマーであるということはかなり強靭で耐久性があるということである。硬化した時の第１の被覆のヤング率は５０以上であるべきであり、より好ましくは約６８である。このことがファイバがコネクタ方式による接続のためにクリーブされるときに第１の被覆層がコアおよびクラッドとともにきれいに破断されるが、しかしコネクタがクリンプされるときに切断により破壊することなく十分しっかりした状態に保持されるという利点をもたらす。

第２の被覆層１６あるいは緩衝は光ファイバで緩衝層として使われる任意の既知のポリマーでよく、好ましくはＥＴＦＥがよい。この追加の層は光ファイバの保護を強化する。

図３の表Ａは本発明により作られた数例の光ファイバの動作、および物理特性を列挙して、ポリマー被覆したＳＩシリカコア光ファイバで得られるそれらの特性と比較している。

実施例１
Ｇｅがドープされたコアおよびドープしないシリカクラッドを提供するためにＭＣＶＤプロセスにより作られるプリフォームである。プリフォームの光学的プロファイルは以下のようなものであって、線引きにより生成される光ファイバはコア径が６２．５μｍ、クラッド径が２００μｍである。コアの屈折率はグレーデッド型プロファイルであって、それはファイバの中心からの半径距離のべき関数Ｒ^α（α＝約２（α＝〜２））によって変化する。クラッドの屈折率はおおよそシリカの屈折率に等しい。それからプリフォームはその一端を炉中に入れた状態で線引き搭に取り付けられた。プリフォームの引き端あるいは滴端が溶融状態になると張力がかかり、光ファイバがそれから線引きされた。線引き中に光ファイバは被覆用金型を通して均一で薄い液状ポリマーの層を塗布することにより図４の表Ｂに説明される特性を有するようにＳｋｕｔｎｉｋ他によって体系化されたＵＶ硬化型ポリマーで第１の被覆がなされる。第１の被覆は約１２μｍ（〜１２μｍ）の厚さに塗布され、屈折率は約１．４６である。次いで光ファイバは巻き取りリールに巻かれる前にＵＶ硬化型緩衝層あるいは押し出しポリマー（つまりＥＴＦＥ）で被覆される。

図３および表Ａにおいて、実施例１は本発明により作られた光ファイバは８５０ｎｍおよび１３１０ｎｍにおける低い減衰およびクリンプおよびクリーブ接続工程に使うことが可能であるというＳＩポリマークラッドシリカコアファイバの望ましい品質を保持していることを説明している。さらに実施例１における本発明により作られた光ファイバは０．２７５という十分大きな開口数を明示している。より重要なこととして、新しい設計はＢＬＰを１０から１００以上に向上させたので、より高速、より長距離の通信システムにますます多く使われるようになったことである。このファイバのコアは従来の６２．５μｍＧＩファイバと寸法および光学的なパラメータ（ドーパントの水準およびＮＡ）が同じであるのでこのファイバの既存の製品との互換性を非常に高くしている。さらに２００μｍガラスクラッドは１２５μｍクラッドファイバよりも極めて高い引っ張り強度を与えている。

実施例２
Ｇｅがドープされたコアおよびドープしないシリカクラッドを提供するためにＭＣＶＤプロセスにより作られるプリフォームである。プリフォームの光学的プロファイルは以下のようなものであって、線引きにより生成される光ファイバはコア径が１００μｍ、クラッド径が２００μｍである。コアの屈折率はグレーデッド型プロファイルであって、それはファイバの中心からの半径距離のべき関数Ｒ^α（α＝約２（α＝〜２））によって変化する。クラッドの屈折率はおおよそシリカの屈折率に等しい。それからプリフォームはその一端を炉中に入れた状態で線引き搭に取り付けられた。プリフォームの引き端あるいは滴端が溶融状態になると張力がかかり、光ファイバがそれから線引きされた。線引き中に光ファイバは被覆用金型を通して均一で薄い液状ポリマーの層を塗布することにより図４の表Ｂに説明される特性を有するようにＳｋｕｔｎｉｋ他によって体系化されたＵＶ硬化型ポリマーで第１の被覆がなされる。第１の被覆は約１２μｍ（〜１２μｍ）の厚さに塗布され、屈折率は約１．４６である。次いで光ファイバは巻き取りリールに巻かれる前にＵＶ硬化型緩衝層あるいは押し出しポリマー（つまりＥＴＦＥ）で被覆される。

図３および表Ａにおいて、実施例２は本発明により作られた光ファイバは８５０ｎｍおよび１３１０ｎｍにおける低い減衰およびクリンプおよびクリーブ接続工程に使うことが可能であるというＳＩポリマークラッドシリカコアファイバの望ましい品質を保持していることを説明している。さらに実施例２における本発明により作られた光ファイバは０．２７５という十分大きな開口数を明示している。より重要なこととして、新しい設計はＢＬＰを１０から１００以上に向上させたので、より高速、より長距離の通信システムにますます多く使われるようになったことである。さらにこの例は、光ファイバの所望の品質をそれほど変えることなく本発明の範囲内で使われる一連のコア径があることを実施例１で説明している。さらに２００μｍガラスクラッドは１２５μｍクラッドファイバよりも極めて高い引っ張り強度を与えている。

実施例３
Ｇｅがドープされたコアおよびドープしないシリカクラッドを提供するためにＭＣＶＤプロセスにより作られるプリフォームである。プリフォームの光学的プロファイルは以下のようなものであって、線引きにより生成される光ファイバはコア径が６２．５μｍ、クラッド径が１２５μｍである。コアの屈折率はグレーデッド型プロファイルであって、それはファイバの中心からの半径距離のべき関数Ｒ^α（α＝約２（α＝〜２））によって変化する。クラッドの屈折率はおおよそシリカの屈折率に等しい。それからプリフォームはその一端を炉中に入れた状態で線引き搭に取り付けられた。プリフォームの引き端あるいは滴端が溶融状態になると張力がかかり、光ファイバがそれから線引きされた。線引き中に光ファイバは被覆用金型を通して均一で薄い液状ポリマーの層を塗布することにより図４の表Ｂに説明される特性を有するようにＳｋｕｔｎｉｋ他によって体系化されたＵＶ硬化型ポリマーで第１の被覆がなされる。第１の被覆は約１２μｍ（〜１２μｍ）の厚さに塗布され、屈折率は約１．４６である。次いで光ファイバは巻き取りリールに巻かれる前にＵＶ硬化型緩衝層あるいは押し出しポリマー（つまりＥＴＦＥ）で被覆される。

図３および表Ａにおいて、実施例３は本発明により作られた光ファイバは８５０ｎｍおよび１３１０ｎｍにおける低い減衰およびクリンプおよびクリーブ接続工程に使うことが可能であるというＳＩポリマークラッドシリカコアファイバの望ましい品質を保持していることを説明している。さらに実施例３における本発明により作られた光ファイバは０．２７５という十分大きな開口数を明示している。より重要なこととして、新しい設計はＢＬＰを１０から１００以上に向上させたので、より高速、より長距離の通信システムにますます多く使われるようになったことである。さらにこの実施例は光ファイバの所望の品質をそれほど変えることなく本発明の範囲内で使われる一連のコア径があることを実施例１で説明している。このファイバのコアは従来の６２．５μｍＧＩファイバと寸法および光学的なパラメータ（ドーパントの水準およびＮＡ）が同じであるのでこのファイバの既存の製品との互換性を非常に高くしている。

本発明は典型的な実施例に関連して述べられているが、この詳細な記述は本発明の範囲をここに説明された特定の形態、あるいは方法に限定することを意図するものではなく、逆に付属する請求項により規定される本発明の精神及び範囲内に含まれるいかなる変更、修正、および同等のものをも包含するものとして意図している。

本発明により構成される光ファイバの一例の端部断面図である。図1に示される光ファイバの例示的な屈折率プロファイルを図示したものである。図１に示される数例の光ファイバの動作、および物理特性を表で示したものである。図１に示されるポリマー被覆層の動作、および物理特性を表で表したものである。

符号の説明

１０光ファイバ
１２コア
１４クラッド層
１６第１の被覆層
１８第２の被覆層

Claims

コアと前記コアを取り囲むクラッド層とを有する光ファイバであって、
前記コアはコア屈折率を有し、そして、
前記クラッドはクラッド屈折率を有し、さらに、
第１の被覆層屈折率を有する、前記クラッド層を取り囲む第１の被覆層を含み、
前記コア屈折率は前記クラッド屈折率より大きく、そして前記第１の被覆層屈折率は前記クラッド屈折率よりも大きく、そして、
前記第１の被覆層は、前記コアおよび前記クラッドの破断時伸びとほぼ同じ破断時伸びを有することを特徴とする光ファイバ。
前記コアの少なくとも一部はシリカガラスであることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
前記クラッドの少なくと一部はシリカガラスであることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
前記第１の被覆層の少なくとも一部はポリマーであることを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
前記コアはグレーデッド型屈折率プロファイルを有することを特徴とする請求項２に記載の光ファイバ。
前記コアの少なくとも一部は、ゲルマニウムをドープしたシリカガラスであることを特徴とする請求項５に記載の光ファイバ。
前記第１の被覆層を取り囲む第２の被覆層をさらに含み、前記第２の被覆層の少なくとも一部はポリマーであることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ。
コアと前記コアを取り囲むクラッド層とを有する光ファイバであって、
前記コアはコア屈折率を有し、前記コアの少なくとも一部は、ゲルマニウムをドープしたグレーデッド型屈折率を有するシリカガラスであり、
前記クラッドはクラッド屈折率を有し、そして前記クラッドの少なくとも一部はシリカであり、さらに、
第１の被覆層屈折率を有する、前記クラッドを取り囲む第１の被覆層を含み、前記クラッドの少なくとも一部はポリマであり、そして
前記コア屈折率は前記クラッド屈折率より大きく、そして前記第１の被覆層屈折率は前記クラッド屈折率より大きいことを特徴とする光ファイバ。
前記第１の被覆層を取り囲む第２の被覆層をさらに含み、前記第２の被覆層の少なくとも一部はポリマーであることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。
前記第１の被覆層は１．４３から１．７までの間の屈折率を有することを特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。
前記第１の被覆層の屈折率は約１．４６であることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。
コアと前記コアを取り囲むクラッド層とを有する、プリフォームから線引きされた光ファイバであって、
前記コアは、累乗のプロファイルＲ^α（αは１．５から３の間）に従うグレーデット型コア屈折率を有し、
前記クラッド層は、ドープしないシリカとおおよそ同じクラッド屈折率を有し、さらに
第１の被覆層屈折率が約１．４６である、前記クラッド層を取り囲むポリマーの第１の被覆層を含み、前記第１の被覆層は、前記光ファイバの線引き工程の間にＵＶ硬化法により塗布されるものであり、
前記コア屈折率は前記クラッド屈折率より大きく、そして前記第１の被覆層屈折率は前記クラッド屈折率よりも大きく、そして、
前記第１の被覆層は、前記コアおよび前記クラッドの破断時伸びとほぼ同じ破断時伸びを有することを特徴とする光ファイバ。
前記光ファイバのコアの直径は２０μｍから１８０μｍの間であることを特徴とする請求項１２に記載の光ファイバ。
前記光ファイバのクラッドの直径は１００μｍから２２５μｍの間であることを特徴とする請求項１２に記載の光ファイバ。
前記光ファイバのコアの直径は６２．５μｍ、前記光ファイバのクラッドの直径は２００μｍ、そして前記光ファイバの第１の被覆層の直径は２２５μｍであることを特徴とする請求項１２に記載の光ファイバ。
前記光ファイバのコアの直径は１００μｍ、前記光ファイバのクラッドの直径は２００μｍ、そして前記光ファイバの第１の被覆層の直径は２２５μｍであることを特徴とする請求項１２に記載の光ファイバ。
前記光ファイバのコアの直径は６２．５μｍ、前記光ファイバのクラッドの直径は１２５μｍ、そして前記光ファイバの第１の被覆層の直径は１４５μｍであることを特徴とする請求項１２に記載の光ファイバ。
Ｇｅでドープされたシリカコアと、前記コアを取り囲むドープしないシリカクラッド層とを有する、プリフォームから線引きされた光ファイバであって、
前記コアは、累乗のプロファイルＲ^α（αは１．５から３との間）に従うグレーデッド型コア屈折率と、２０μｍから１８０μｍの間の直径とを有し、
前記クラッド層は、ドープしないシリカとおおよそ同じクラッド屈折率と、１００μｍから２２５μｍの間の直径をと有し、そして、
第１の被覆層屈折率が約１．４６である、前記クラッド層を取り囲むポリマーの第１の被覆層を含み、前記第１の被覆層は、前記光ファイバの線引き工程の間にＵＶ硬化法により塗布されるものであり、
前記コア屈折率は前記クラッド屈折率より大きく、前記第１の被覆層屈折率は前記クラッド屈折率よりも大きく、そして、
前記第１の被覆層は、約２０％より小さい破断時伸びと５０より大きいヤング率とを有することを特徴とする光ファイバ。
前記第１の被覆層は、約９％の破断時伸びと６８のヤング率とを有することを特徴とする請求項１８に記載の光ファイバ。
帯域−長さ積は１００ＭＨｚ−ｋｍよりも大きいことを特徴とする請求項１８に記載の光ファイバ。