JP2008021924A - シリコンウエハ表面の不純物除去方法 - Google Patents
シリコンウエハ表面の不純物除去方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】回転させたシリコンウエハ表面に、フッ化水素酸とオゾンとを含む混合水溶液を供給して洗浄することにより、シリコンウエハ表面の不純物除去方法に関する。
【選択図】なし
Description
本発明のかかる洗浄方法(以下「本洗浄方法」とする。)により洗浄可能な表面を有するシリコンウエハの形状については特に制限はない。種々の目的で使用されている種々のサイズのシリコンウエハに適用可能である。具体的には6〜12インチの円形状シリコンウエハが挙げられる。また本洗浄方法により洗浄可能なシリコンウエハの前工程の種類にも制限はない。具体的には、スライス−出荷前洗浄までの全ての工程が挙げられる。
また本洗浄方法で洗浄されるシリコンウエハ表面の不純物には、前工程において発生し付着した不純物だけでなく、本洗浄工程中において発生付着する可能性のある不純物をも含む。不純物にはまた有機性、無機性の両方の性質を有する物を含む。さらには、種々のサイズや形状の固体状の付着物(パーティクル)や有機性、又は無機性のイオン種の付着、吸着物をも含む。さらには、シリコンウエハ表面の不純物は、シリコンウエハの表面に吸着して存在する物のみならず表面の凹凸に基づいて機械的に付着、吸着した物をも含む。さらには、表面から10nm程度の内部に付着、吸着する不純物をも含む。
本洗浄方法で使用する混合液は、(1)シリコンウエハ表面に酸化膜を形成する物質、と(2)シリコン表面の酸化膜をエッチングする物質を少なくとも含むことを特徴とする。さらに(2)のシリコン表面の酸化膜をエッチングする物質は、シリコン表面はエッチングしないことを特徴とする。
本洗浄方法は、シリコンウエハの枚葉洗浄方法において特に顕著な効果を奏する方法である。ここでシリコンウエハの枚葉洗浄方法については特に制限はなく、シリコンウエハを一枚毎に洗浄処理する公知の方法であれば好ましく使用可能である。かかる処理には、シリコンウエハの表面に上で説明した混合溶液を供給する方法であれば制限はない。シリコンウエハを混合液に漬ける方法と、シリコンウエハの表面に混合液を供給する方法の両方法が可能であるが、特にシリコンウエハの表面に混合液を供給する方法が好ましい。
試料として8インチのシリコンウエハを用いた。IAP法にてCu,Al,Feの各元素イオンを5〜20E10atoms/cm2の範囲に表面汚染した。シリコンウエハ表面の金属分析は、アジレントテクノロジー社製のICPMSを用いた(以下同じ)。
試料として8インチのシリコンウエハを用いた。シリコンウエハ表面に、研磨剤GLANZOX3900(フジミ製)をスピンコート法にて、数百個のφ0.13μm以上のパーティクル数となるよう調製した。シリコンウエハ表面のパーティクルの測定は表面異物計(KLA−テンコール社製、レーザー散乱法)を用いた。洗浄条件は実施例1〜3、比較例1、2と同じとし、洗浄結果を表2にまとめた。
試料として8インチのシリコンウエハを用いて、HFの濃度によりHF/オゾン混合液のウエハ表面へ与える影響を調べた。清浄なウエハのヘイズを洗浄前後で比較した。ヘイズの測定は表面異物計(レーザー散乱法)を用いた。洗浄条件は金属の評価と同じであった。結果を表3にまとめた。
Claims (1)
- シリコンウエハ表面に付着している不純物を除去する方法であって、回転させたシリコンウエハ表面に、フッ化水素酸とオゾンとを含む混合水溶液を供給して洗浄することを特徴とする、シリコンウエハ表面の不純物除去方法。
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JP7193026B1 (ja) | 2022-05-13 | 2022-12-20 | 信越半導体株式会社 | 洗浄液、及びウェーハの洗浄方法 |
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JPH10340876A (ja) * | 1997-06-10 | 1998-12-22 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 洗浄処理方法および洗浄処理装置 |
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Patent Citations (1)
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