JP2008016300A - Organic light emitting device, manufacturing method thereof, and electronic equipment - Google Patents

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JP2008016300A JP2006186031A JP2006186031A JP2008016300A JP 2008016300 A JP2008016300 A JP 2008016300A JP 2006186031 A JP2006186031 A JP 2006186031A JP 2006186031 A JP2006186031 A JP 2006186031A JP 2008016300 A JP2008016300 A JP 2008016300A
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Shinichi Yotsuya
真一 四谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an organic lighting emitting device inexpensively and high productivity capable of suppressing or preventing time-lapse drop of the characteristics of a light emitting element, to provide an organic light emitting device manufactured by the manufacturing method, and to provide electronic equipment of high reliability that comprises the organic light emitting device. <P>SOLUTION: The organic light emitting device means comprises a substrate (one substrate) 21 on which an organic EL element 3 is formed, an upper substrate (the other substrate) 22 on which a drying agent film 4 is formed, and a sealing part 23. Its manufacturing method includes a first process in which liquid repellency is applied to a liquid repellent film formation region 221 on a closed 24 side of the upper substrate 22 where no drying agent film 4 is formed, a second process for forming the drying agent film 4 by supplying a liquid-form material containing a drying agent to a drying agent film forming region 223 of the upper substrate 22 for drying, and a third process in which the substrate 21 and the upper substrate 22 are laminated together by forming the sealing part 23. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光装置の製造方法、有機発光装置および電子機器に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic light emitting device, an organic light emitting device, and an electronic apparatus.

有機半導体材料を使用したエレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示装置が備える有機発光素子としての用途が有望視され、多くの開発が行われている(例えば、特許文献1参照)。
一般に、有機EL素子は、陰極と陽極との間に有機半導体材料(有機発光材料)で構成される有機半導体層(有機発光層)を有する構成であり、陰極と陽極との間に電界を印加すると、有機発光層に陰極側から電子が注入され、陽極側から正孔が注入される。
An electroluminescence element (organic EL element) using an organic semiconductor material is expected to be used as an organic light-emitting element provided in a solid light-emitting inexpensive large-area full-color display device, and many developments have been made (for example, , See Patent Document 1).
In general, an organic EL element has an organic semiconductor layer (organic light emitting layer) composed of an organic semiconductor material (organic light emitting material) between a cathode and an anode, and an electric field is applied between the cathode and the anode. Then, electrons are injected into the organic light emitting layer from the cathode side, and holes are injected from the anode side.

そして、注入された電子と正孔とが有機発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際の失活エネルギーの少なくとも一部を光エネルギーとして放出することにより、有機発光層が発光する。
このような有機EL素子における発光効率等の特性を向上させることを目的に、用いる有機発光材料の種類や、デバイス構造等について活発な研究が行われている。
Then, the injected electrons and holes are recombined in the organic light emitting layer, and at least a part of the deactivation energy when the energy level returns from the conduction band to the valence band is released as light energy. The light emitting layer emits light.
For the purpose of improving characteristics such as light emission efficiency in such an organic EL element, active research has been conducted on the types of organic light emitting materials used, device structures, and the like.

ところで、有機発光材料は、一般的に、水に対する反応性が高いため、水分と接触すると経時的に変質・劣化することとなる。すなわち、有機発光層が経時的に変質・劣化することとなる。そのため、有機発光層の特性が低下したり、有機発光層が接触する層との間に剥離が生じてしまうこと等に起因して、有機EL素子の発光効率等の特性が低下するという問題がある。   By the way, since the organic light emitting material is generally highly reactive with water, when it comes into contact with moisture, it will be altered and deteriorated over time. That is, the organic light emitting layer is deteriorated and deteriorated with time. For this reason, there is a problem in that the characteristics of the organic EL element, such as the light emission efficiency, are deteriorated due to the deterioration of the characteristics of the organic light emitting layer or the separation between the organic light emitting layer and the layer in contact with the organic light emitting layer. is there.

かかる問題を解決すること、すなわち、有機発光材料の変質・劣化を防止することを目的に、水蒸気バリア性を有する封止材を用いて有機EL素子を封止するとともに、この封止材の内側に乾燥剤を配置して、有機EL素子の外部から内部への水分の移動(浸入)を抑制または防止し、さらに、仮に水分が侵入したとしても、この水分を乾燥剤に吸着させるようにしたデバイス構造が開発されている。   In order to solve such problems, that is, to prevent deterioration and deterioration of the organic light emitting material, the organic EL element is sealed with a sealing material having a water vapor barrier property, and the inside of the sealing material A desiccant was placed on the organic EL element to prevent or prevent the movement (intrusion) of moisture from the outside to the inside of the organic EL element, and even if moisture entered, the moisture was absorbed by the desiccant. Device structures have been developed.

例えば、特許文献1には、中央部に凹部を備え、この凹部内に乾燥剤を収納し得るガラス板を封止材として用いた有機EL素子が提案されている。
すなわち、特許文献1では、有機EL素子は、凹部内に乾燥剤が収納されたガラス板の縁部に、このガラス基板と有機EL素子が形成された基板とを接着する樹脂材料を塗布し、前記ガラス板と前記基板とを、それぞれ、乾燥剤側と有機EL素子側とを対向させて接合し、前記樹脂材料を硬化させることによって封止されている。
For example, Patent Document 1 proposes an organic EL element in which a concave portion is provided in the central portion, and a glass plate that can store a desiccant in the concave portion is used as a sealing material.
That is, in Patent Document 1, the organic EL element is coated with a resin material that adheres the glass substrate and the substrate on which the organic EL element is formed to the edge of the glass plate in which the desiccant is stored in the recess. The glass plate and the substrate are sealed by bonding the desiccant side and the organic EL element side facing each other and curing the resin material.

ここで、ガラス基板に凹(ザグリ)部を形成する方法としては、ブラスト法やウェットエッチング法等が用いられる。
しかしながら、これらの方法を用いて凹部を形成するには、長時間を要し、さらに例えばウェットエッチング法を用いた場合、エッチング液の処理等を行う必要があるため、かかる構成のガラス基板を封止材として用いると、有機EL装置の生産性が低くなり、製造コストが増大するという問題がある。
また、凹部内に収納された乾燥剤は、ガラス基板の中央部に局在していることから、有機EL装置全体を乾燥するのが困難であり、有機EL装置内に侵入した水分が十分に乾燥剤により吸着されないという問題も生じている。
Here, as a method for forming the concave portion on the glass substrate, a blast method, a wet etching method, or the like is used.
However, it takes a long time to form the recesses using these methods, and further, for example, when a wet etching method is used, it is necessary to process the etching solution. When used as a stopper, there is a problem that the productivity of the organic EL device is lowered and the manufacturing cost is increased.
Moreover, since the desiccant stored in the recesses is localized in the central portion of the glass substrate, it is difficult to dry the entire organic EL device, and the moisture that has entered the organic EL device is sufficient. There is also a problem that it is not adsorbed by the desiccant.

特開2000−195660号公報JP 2000-195660 A

本発明の目的は、発光素子が水分と接触することによる特性の経時的な低減を抑制または防止することができる有機発光装置を、低コストで、生産性よく製造することができる有機発光装置の製造方法、かかる製造方法によって製造された有機発光装置、および、かかる有機発光装置を備え信頼性の高い電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic light-emitting device capable of manufacturing an organic light-emitting device that can suppress or prevent a decrease in characteristics over time due to contact of light-emitting elements with moisture at low cost and high productivity. An object of the present invention is to provide a manufacturing method, an organic light-emitting device manufactured by the manufacturing method, and a highly reliable electronic device including the organic light-emitting device.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の有機発光装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板と、該一対の基板同士の間に閉空間が形成されるように、前記一対の基板同士を封止する封止部とを備えるケーシングと、
前記一対の基板のうち、一方の基板の前記閉空間側に設けられ、主として有機発光材料で構成される有機発光層を備える有機発光素子と、
前記一対の基板のうち、他方の基板の前記閉空間側に設けられ、主として乾燥剤で構成される乾燥剤膜とを有する有機発光装置の製造方法であって、
前記閉空間内における前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記乾燥剤膜を形成しない第1の領域に、撥液性を付与し、撥液膜を形成する第1の工程と、
前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記乾燥剤膜を形成する第2の領域に、前記乾燥剤を含有する液状材料を供給して、該液状材料を、前記撥液膜により前記第2の領域に保持した状態で乾燥することにより、前記乾燥剤膜を形成する第2の工程と、
前記有機発光素子が形成された前記一方の基板と、前記乾燥剤膜が形成された前記他方の基板とを、前記有機発光素子と前記乾燥剤膜とが対向するようにして前記封止部を形成することにより貼り合せる第3の工程とを有することを特徴とする。
これにより、乾燥剤膜を、所定のパターンおよび厚さで、容易かつ確実に形成することができ、発光素子の特性の経時的な低減を抑制または防止することができる有機発光装置を、低コストで、生産性よく製造することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The organic light emitting device manufacturing method of the present invention includes a pair of substrates facing each other, and a sealing portion that seals the pair of substrates so that a closed space is formed between the pair of substrates. A casing with;
Of the pair of substrates, an organic light emitting element including an organic light emitting layer that is provided on the closed space side of one of the substrates and is mainly composed of an organic light emitting material;
Among the pair of substrates, a manufacturing method of an organic light emitting device having a desiccant film provided on the closed space side of the other substrate and mainly composed of a desiccant,
A first step of providing liquid repellency and forming a liquid repellent film on the first region of the other substrate in the closed space where the desiccant film is not formed on the surface on the closed space side;
A liquid material containing the desiccant is supplied to a second region for forming the desiccant film on the surface of the other substrate on the closed space side, and the liquid material is supplied to the second region by the liquid repellent film. A second step of forming the desiccant film by drying in a state of being held in the region of 2,
The one substrate on which the organic light emitting element is formed and the other substrate on which the desiccant film is formed are arranged so that the organic light emitting element and the desiccant film face each other. And a third step of bonding by forming.
Thus, an organic light emitting device that can easily and reliably form a desiccant film with a predetermined pattern and thickness, and that can suppress or prevent a decrease in the characteristics of the light emitting element over time can be obtained at low cost. Thus, it can be manufactured with high productivity.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第1の領域は、前記第2の領域の外周部分であることが好ましい。
これにより、乾燥剤膜を、第1の領域の内側に、所定の厚さで容易かつ確実に形成することができる。
本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第1の工程において、前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記第1の領域に、撥液性を有する化合物を主材料とする撥液膜を、プラズマ重合法を用いて形成することにより撥液性を付与することが好ましい。
これにより、他方の基板の閉空間側の面の前記第1の領域に、緻密な撥液膜を形成することができ、優れた撥液性を付与することができる。
In the method for manufacturing an organic light-emitting device of the present invention, it is preferable that the first region is an outer peripheral portion of the second region.
Thereby, a desiccant film | membrane can be easily and reliably formed by predetermined thickness inside a 1st area | region.
In the method for manufacturing an organic light-emitting device of the present invention, in the first step, the liquid repellent whose main material is a compound having liquid repellency in the first region of the surface on the closed space side of the other substrate. It is preferable to impart liquid repellency by forming the film using a plasma polymerization method.
Thereby, a dense liquid repellent film can be formed in the first region on the surface of the other substrate on the closed space side, and excellent liquid repellency can be imparted.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第3の工程において、前記封止部は、前記一方の基板と前記他方の基板との間に供給された樹脂材料を固化させることにより形成されることが好ましい。
これにより、封止部を比較的簡単な工程で形成することができる。
本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第3の工程に先立って、前記他方の基板の前記封止部を形成する領域に、前記樹脂材料に対して親和性を有する化合物を主材料とする樹脂親和膜を形成することにより前記樹脂材料に対する親和性を付与することが好ましい。
これにより、他方の基板が樹脂材料との密着性が低い材料で構成されている場合でも、この他方の基板と封止部とを密着性よく固定することができ、他方の基板と封止部との間の密閉性を向上させることができる。
In the manufacturing method of the organic light emitting device of the present invention, in the third step, the sealing portion is formed by solidifying a resin material supplied between the one substrate and the other substrate. It is preferable.
Thereby, a sealing part can be formed in a comparatively simple process.
In the method for manufacturing an organic light-emitting device of the present invention, prior to the third step, a compound having affinity for the resin material is used as a main material in a region where the sealing portion of the other substrate is formed. It is preferable to provide affinity for the resin material by forming a resin affinity film.
Accordingly, even when the other substrate is made of a material having low adhesion to the resin material, the other substrate and the sealing portion can be fixed with good adhesion, and the other substrate and the sealing portion can be fixed. The sealing property between the two can be improved.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記樹脂材料は、ギャップ材を含み、該ギャップ材により前記封止部の厚さが規定されることが好ましい。
これにより、所定の大きさの閉空間をこれらの一方の基板と他方の基板との間に設けることができる。
本発明の有機発光装置の製造方法では、前記ギャップ材は、粒子で構成されることが好ましい。
これにより、一方の基板と他方の基板との離間距離を一定の大きさに維持することができる。その結果、均一な厚さの封止部を形成することができ、有機発光素子と乾燥剤膜との離間距離を均一な大きさに保つことができる。
In the method for manufacturing an organic light emitting device of the present invention, it is preferable that the resin material includes a gap material, and the thickness of the sealing portion is defined by the gap material.
Thereby, a closed space of a predetermined size can be provided between the one substrate and the other substrate.
In the method for manufacturing an organic light emitting device of the present invention, the gap material is preferably composed of particles.
Thereby, the separation distance between one substrate and the other substrate can be maintained at a constant size. As a result, a sealing portion having a uniform thickness can be formed, and the separation distance between the organic light emitting element and the desiccant film can be kept uniform.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記ギャップ材は、主として乾燥剤で構成されることが好ましい。
これにより、封止部内で水分を吸着することができることから、封止部を介した有機発光装置から閉空間内への水分の侵入をより確実に防止することができる。
本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第3の工程において、前記封止部は、前記一方の基板と前記他方の基板との間に供給された前記ギャップ材を含む第1の樹脂材料を固化させた後、固化した前記第1の樹脂材料の前記有機発光素子と反対側に、前記ギャップ材を含まない第2の樹脂材料を供給して固化させることにより形成されることが好ましい。
封止部をかかる構成とすることは、ギャップ材が主として乾燥剤により構成されている場合に適用するのが特に効果的である。すなわち、第1の封止部の外側を第2の封止部で封止する構成とすることにより、第2の封止部を介して有機発光装置の外側から閉空間内に水分が浸入するのが好適に防止または抑制し得るとともに、仮に水分が第2の封止部を透過(通過)したとしても、第1の封止部内に含まれる乾燥剤により水分を確実に捕捉することができる。
In the method for manufacturing an organic light emitting device of the present invention, it is preferable that the gap material is mainly composed of a desiccant.
Thereby, since moisture can be adsorbed in the sealing portion, it is possible to more reliably prevent moisture from entering the closed space from the organic light emitting device via the sealing portion.
In the manufacturing method of the organic light-emitting device of the present invention, in the third step, the sealing portion includes a first resin material including the gap material supplied between the one substrate and the other substrate. It is preferable to form the first resin material after solidifying by supplying a second resin material not including the gap material to the opposite side of the solidified first resin material to the organic light emitting element.
Such a configuration of the sealing portion is particularly effective when applied to a case where the gap material is mainly composed of a desiccant. That is, moisture is infiltrated into the closed space from the outside of the organic light emitting device via the second sealing portion by sealing the outside of the first sealing portion with the second sealing portion. Can be suitably prevented or suppressed, and even if moisture permeates (passes through) the second sealing portion, moisture can be reliably captured by the desiccant contained in the first sealing portion. .

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第3の工程において、前記封止部は、前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記第1の領域に前記撥液膜が形成されていることにより、前記乾燥剤膜と離間して形成されることが好ましい。
かかる構成とすることにより、封止部と乾燥剤膜とが接触することによる乾燥剤膜の変質・劣化を確実に防止することができる。
In the method for manufacturing an organic light emitting device according to the aspect of the invention, in the third step, the sealing portion includes the liquid repellent film formed in the first region of the surface on the closed space side of the other substrate. It is preferable that it is formed away from the desiccant film.
By adopting such a configuration, it is possible to reliably prevent alteration and deterioration of the desiccant film due to contact between the sealing portion and the desiccant film.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記第3の工程において、前記乾燥剤膜と前記発光素子とを接触させることが好ましい。
かかる構成とすることにより、有機発光装置の厚さが薄くなるとともに、有機発光素子の駆動時において、この素子で生じた熱を、乾燥剤膜および他方の基板を伝導させて、有機発光装置の外部に効率よく放熱させることができるという利点も得られる。
In the manufacturing method of the organic light-emitting device of the present invention, it is preferable that the desiccant film and the light-emitting element are brought into contact in the third step.
With this configuration, the thickness of the organic light emitting device is reduced, and when the organic light emitting element is driven, heat generated in this element is conducted through the desiccant film and the other substrate, so that the organic light emitting device There is also an advantage that heat can be efficiently radiated to the outside.

本発明の有機発光装置の製造方法では、前記封止部は、雰囲気の温度を40℃とした時の水蒸気透過度(JIS K 7129に規定)が、10[g/m・day・90%RH]以下であることが好ましい。
これにより、封止部に、有機発光装置の外側から閉空間への水分の浸入を抑制するバリア層としての機能を好適に発揮させることができる。
In the manufacturing method of the organic light emitting device of the present invention, the sealing portion has a water vapor permeability (specified in JIS K 7129) of 10 [g / m 2 · day · 90% when the temperature of the atmosphere is 40 ° C. RH] or less.
Thereby, the function as a barrier layer which suppresses the penetration | invasion of the water | moisture content from the outer side of an organic light-emitting device to closed space can be exhibited suitably at a sealing part.

本発明の有機発光装置では、本発明の有機発光装置の製造方法で製造されたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高い有機発光装置を得ることができる。
本発明の電子機器では、本発明の有機発光装置を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を得ることができる。
The organic light emitting device of the present invention is manufactured by the method of manufacturing an organic light emitting device of the present invention.
Thereby, a highly reliable organic light-emitting device can be obtained.
The electronic apparatus according to the present invention includes the organic light-emitting device according to the present invention.
Thereby, an electronic device with high reliability can be obtained.

以下、本発明の有機発光装置の製造方法、有機発光装置および電子機器を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の有機発光装置の製造方法を有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に適用した場合について説明する。
<有機EL装置>
<<第1の構成>>
まず、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を説明するのに先立って、かかる製造方法を適用することにより得られた有機エレクトロルミネッセンス装置の第1の構成について説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing an organic light emitting device, an organic light emitting device, and an electronic apparatus according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
First, the case where the manufacturing method of the organic light-emitting device of the present invention is applied to the manufacturing method of the organic electroluminescence device will be described.
<Organic EL device>
<< First Configuration >>
First, before explaining the manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus, the 1st structure of the organic electroluminescent apparatus obtained by applying this manufacturing method is demonstrated.

図1は、本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機エレクトロルミネッセンス装置の第1の構成を示した模式図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図1に示す有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、「有機EL装置」という。)1aは、ケーシング2と、ケーシング2内に設けられた有機EL素子(発光素子)3および乾燥剤膜4とを有している。
FIG. 1 is a schematic diagram (longitudinal sectional view) showing a first configuration of an organic electroluminescent device obtained by applying the method for manufacturing an organic light emitting device of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 1 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
An organic electroluminescence device (hereinafter referred to as “organic EL device”) 1 a shown in FIG. 1 includes a casing 2, an organic EL element (light emitting element) 3 provided in the casing 2, and a desiccant film 4. ing.

ケーシング2は、基板(一方の基板)21と、基板21に対向するように配置された上基板(他方の基板)22と、これらの基板21、上基板22同士の間に閉空間24が画成されるように、その縁部でこれらの基板21、22同士を封止する封止部23と、封止部23と乾燥剤膜4とを離間する撥液膜5とで構成されている。
そして、この閉空間24内の基板21の上面および上基板22の下面に、それぞれ有機EL素子3および乾燥剤膜4が設けられている。
The casing 2 includes a substrate (one substrate) 21, an upper substrate (the other substrate) 22 disposed so as to face the substrate 21, and a closed space 24 defined between the substrates 21 and 22. As shown in the figure, the edge portion includes a sealing portion 23 that seals the substrates 21 and 22 together, and a liquid repellent film 5 that separates the sealing portion 23 and the desiccant film 4. .
The organic EL element 3 and the desiccant film 4 are provided on the upper surface of the substrate 21 and the lower surface of the upper substrate 22 in the closed space 24, respectively.

基板21は、有機EL素子3を支持する支持体となるものであるとともに、有機EL素子3の下側で、有機EL素子3および乾燥剤膜4を気密的に封止する封止材として機能するものである。
また、本実施形態の有機EL装置1aは、基板21(後述する陽極31)側から光を取り出す構成(ボトムエミッション型)であるため、基板21は、実質的に透明(無色透明、着色透明、半透明)とされる。
The substrate 21 serves as a support for supporting the organic EL element 3 and functions as a sealing material for hermetically sealing the organic EL element 3 and the desiccant film 4 below the organic EL element 3. To do.
In addition, since the organic EL device 1a of the present embodiment is configured to extract light from the substrate 21 (anode 31 described later) side (bottom emission type), the substrate 21 is substantially transparent (colorless transparent, colored transparent, Translucent).

このような基板21には、透光性を有する各種ガラス材料基板および各種樹脂基板が好適に用いられる。
具体的には、例えば、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料等を主材料として構成される基板を用いることができる。
For such a substrate 21, various glass material substrates and various resin substrates having translucency are preferably used.
Specifically, for example, glass materials such as quartz glass and soda glass, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyarylate, etc. A substrate composed mainly of a resin material or the like can be used.

上基板22は、乾燥剤膜4を支持する支持体となるものであるとともに、有機EL素子3の上側で、有機EL素子3および乾燥剤膜4を気密的に封止する封止材として機能するものである。
本実施形態の有機EL装置1aは、ボトムエミッション型であるため、上基板22には、透光性は特に必要とされず、前述した透光性を有する材料を主材料として構成される基板を用いることができるとともに、透光性を有さない材料を主材料として構成される基板を用いることができる。
The upper substrate 22 serves as a support that supports the desiccant film 4 and functions as a sealing material that hermetically seals the organic EL element 3 and the desiccant film 4 on the upper side of the organic EL element 3. To do.
Since the organic EL device 1a of the present embodiment is a bottom emission type, the upper substrate 22 is not particularly required to have translucency, and a substrate composed of the above-described translucent material as a main material. In addition to a substrate that can be used, a substrate formed using a material that does not transmit light as a main material can be used.

具体的には、透光性を有さない材料を主材料として構成される基板としては、金属基板、樹脂基板およびアルミナ等のセラミック基板の他、これらの基板の表面に水蒸気透過度の小さい薄膜を被膜した多層基板等が挙げられる。また、水蒸気透過度の小さい薄膜としては、SiOx膜、SiNx膜、SiON膜、金属膜等が挙げられる。
これらのうち、金属基板や水蒸気透過度の小さい薄膜を被膜した多層基板は、水蒸気透過度が小さく、特に優れた水蒸気バリア性を発揮することから、上基板22として好適に用いられる。
Specifically, as a substrate composed mainly of a material that does not transmit light, a metal substrate, a resin substrate, a ceramic substrate such as alumina, and a thin film having a low water vapor transmission rate on the surface of these substrates. And a multilayer substrate coated with. Examples of the thin film having a low water vapor permeability include a SiOx film, a SiNx film, a SiON film, and a metal film.
Among these, a multilayer substrate coated with a metal substrate or a thin film having a low water vapor transmission rate is preferably used as the upper substrate 22 because it has a low water vapor transmission rate and exhibits particularly excellent water vapor barrier properties.

封止部23は、基板21と上基板22との間で形成された空間を、これらの縁部(封止部形成領域222)において封止することにより閉空間24を画成し、この閉空間24内で有機EL素子3および乾燥剤膜4を気密的に封止する封止材として機能するものである。
本実施形態では、封止部23は、封止材231とギャップ材232とで構成されている。
The sealing portion 23 defines a closed space 24 by sealing a space formed between the substrate 21 and the upper substrate 22 at these edges (sealing portion forming region 222). It functions as a sealing material that hermetically seals the organic EL element 3 and the desiccant film 4 in the space 24.
In the present embodiment, the sealing portion 23 includes a sealing material 231 and a gap material 232.

封止材231は、基板21と上基板22とを連結する機能を有するものである。
封止材231の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiのような金属材料またはこれら金属材料を含む合金、酸化シリコンのような無機酸化物、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂のような樹脂材料等が挙げられるが、これらの中でも、樹脂材料を用いるのが好ましい。樹脂材料を用いることにより、後述する封止部形成工程において、ギャップ材232を含有する樹脂材料を基板21と上基板22との間に供給して固化させる(乾燥する)という比較的簡単な工程で封止部23を形成することができる。
The sealing material 231 has a function of connecting the substrate 21 and the upper substrate 22.
Examples of the constituent material of the sealing material 231 include metal materials such as Al, Au, Cr, Nb, Ta, and Ti, alloys containing these metal materials, inorganic oxides such as silicon oxide, epoxy resins, acrylics, and the like. Examples thereof include resin materials such as resin, polyester resin, and polyamide resin. Among these, it is preferable to use a resin material. By using the resin material, a relatively simple process of supplying and solidifying (drying) the resin material containing the gap material 232 between the substrate 21 and the upper substrate 22 in the sealing portion forming process described later. Thus, the sealing portion 23 can be formed.

ギャップ材232は、封止部23の厚さ、すなわち基板21と上基板22との厚さを規定する機能を有するものである。そのため、基板21と上基板22との間に、このギャップ材232を含む樹脂材料を供給して、封止部23を得る構成とすることにより、所定の大きさの閉空間(スペース)24をこれらの基板21、22同士の間に設けることができる。   The gap material 232 has a function of defining the thickness of the sealing portion 23, that is, the thickness of the substrate 21 and the upper substrate 22. Therefore, by supplying a resin material including the gap material 232 between the substrate 21 and the upper substrate 22 to obtain the sealing portion 23, a closed space 24 having a predetermined size is formed. It can be provided between these substrates 21 and 22.

このようなギャップ材232の形状は、粒子状のものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、球状、楕円球状または多角形状であるのが好ましく、球状であるのがより好ましい。ギャップ材232として、粒子状のものを用いることにより、後述する封止部形成工程において、基板21と上基板22との離間距離を一定の大きさに維持することができる。その結果、均一な厚さの封止部23を形成することができ、有機EL素子3と乾燥剤膜4との離間距離を均一な大きさに保つことができる。   The shape of the gap material 232 is not particularly limited as long as it is in the form of particles. For example, the gap material 232 is preferably spherical, elliptical, or polygonal, and more preferably spherical. . By using a particulate material as the gap material 232, the separation distance between the substrate 21 and the upper substrate 22 can be maintained at a constant size in a sealing portion forming step described later. As a result, the sealing portion 23 having a uniform thickness can be formed, and the separation distance between the organic EL element 3 and the desiccant film 4 can be kept uniform.

ギャップ材232の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiのような金属材料またはこれら金属材料を含む合金、酸化シリコンのような無機酸化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、ギャップ材232は、上述したような構成材料を主材料として構成されるものの他、その一部またはほぼ全てが乾燥剤により構成されるものであってもよい。ギャップ材232を、乾燥剤を含む構成とすることにより、仮に有機EL装置1a(閉空間24)内に水分が残存したとしても、この水分を、後述する乾燥剤膜4に含まれる乾燥剤とともに、この封止部23に含まれる乾燥剤にも吸着させることができる。さらに、封止部23内で水分を吸着(捕捉)することができることから、封止部23を介した有機EL装置1aから閉空間24内への水分の侵入をより確実に防止することができる。
Examples of the constituent material of the gap material 232 include metal materials such as Al, Au, Cr, Nb, Ta, and Ti, alloys containing these metal materials, inorganic oxides such as silicon oxide, and the like. One or two or more of them can be used in combination.
Further, the gap material 232 may be constituted by a desiccant in part or almost all of the gap material 232 in addition to the above-described constituent material. By configuring the gap member 232 to include a desiccant, even if moisture remains in the organic EL device 1a (closed space 24), the moisture is combined with the desiccant contained in the desiccant film 4 described later. The desiccant contained in the sealing portion 23 can be adsorbed. Furthermore, since moisture can be adsorbed (captured) in the sealing portion 23, it is possible to more reliably prevent moisture from entering the closed space 24 from the organic EL device 1a via the sealing portion 23. .

なお、乾燥剤としては、後述する乾燥剤膜4で用いる乾燥剤と同様のものを用いることができる。
かかる構成の封止部23は、雰囲気の温度を40℃とした時の水蒸気透過度(JIS K 7129に規定)[g/m・day・90%RH]が、10以下であるのが好ましく、1〜5程度であるのがより好ましい。これにより、封止部23は、有機EL装置1aの外側から閉空間24への水分の浸入を抑制するバリア層としての機能を好適に発揮する。
In addition, as a desiccant, the thing similar to the desiccant used with the desiccant film | membrane 4 mentioned later can be used.
The sealing part 23 having such a configuration preferably has a water vapor permeability (as defined in JIS K 7129) [g / m 2 · day · 90% RH] of 10 or less when the temperature of the atmosphere is 40 ° C. 1 to 5 is more preferable. Thereby, the sealing part 23 exhibits the function as a barrier layer which suppresses the penetration | invasion of the water | moisture content from the outer side of the organic EL apparatus 1a to the closed space 24 suitably.

なお、この水分透過度は、JIS K 7129の規定に従って、試験(雰囲気)温度(40±0.5℃)、相対湿度差(90±2%RH)の条件下で、感湿センサー法を用いて算出できる。
なお、感湿センサー法とは、上基板22(試験片)の片側を水蒸気飽和状態とし、その反対(低湿度)側の湿度を10%RHに設定する。次に、この試験片を透過した水蒸気量による湿度変化を低湿度側に設置した感湿センサーで検出し、電気信号に変換する。そして、一定の相対湿度幅(90%RH)の水蒸気透過時間を測定し、その水蒸気透過速度の定常状態を確認後、その数値から水蒸気透過度を算出する方法である。
This moisture permeability was measured using a humidity sensor method under the conditions of the test (atmosphere) temperature (40 ± 0.5 ° C.) and the relative humidity difference (90 ± 2% RH) in accordance with JIS K 7129. Can be calculated.
In the humidity sensor method, one side of the upper substrate 22 (test piece) is saturated with water vapor, and the humidity on the opposite (low humidity) side is set to 10% RH. Next, a change in humidity due to the amount of water vapor that has passed through the test piece is detected by a humidity sensor installed on the low humidity side and converted into an electrical signal. And it is the method of calculating water vapor transmission rate from the numerical value, after measuring the water vapor transmission time of a fixed relative humidity width (90% RH) and confirming the steady state of the water vapor transmission rate.

なお、基板21または上基板22のうち少なくとも一方が可撓性を有する場合、封止部23の形成を省略して、この可撓性を有する基板を撓ませた後、これらの基板同士が接合する周辺部において封止することにより、基板21および/または上基板22に封止部23としての機能を発揮させることができる。
また、有機EL装置1aを可撓性を有するフレキシブルディスプレイとする場合には、ケーシング2、すなわち、上述した基板21、上基板22および封止部23の全てを、樹脂材料を主材料として構成すればよい。
When at least one of the substrate 21 and the upper substrate 22 is flexible, the formation of the sealing portion 23 is omitted, and after the flexible substrate is bent, the substrates are bonded to each other. By sealing at the peripheral portion to be performed, the substrate 21 and / or the upper substrate 22 can function as the sealing portion 23.
Further, when the organic EL device 1a is a flexible display having flexibility, the casing 2, that is, the substrate 21, the upper substrate 22 and the sealing portion 23 described above, are all composed of a resin material as a main material. That's fine.

なお、フレキシブルディスプレイとすること、すなわち、基板21、上基板22および封止部23の全てを樹脂材料で構成することにより、これらの一部を例えばガラス材料で構成する場合と比較して、ケーシング2の水蒸気バリア性が低下する傾向を示す。そのため、フレキシブルディスプレイの製造方法に、後述するように、乾燥剤膜を所定のパターンおよび厚さで形成し得る本発明の製造方法を適用することは特に有効である。   In addition, it is set as a flexible display, ie, by comprising all of the board | substrate 21, the upper board | substrate 22, and the sealing part 23 with a resin material, compared with the case where these are comprised with a glass material, for example, a casing. 2 shows a tendency for the water vapor barrier property to decrease. Therefore, it is particularly effective to apply the manufacturing method of the present invention that can form a desiccant film with a predetermined pattern and thickness, as described later, to the manufacturing method of the flexible display.

乾燥剤膜4は、閉空間24内における上基板22の下面の外周部分を除いた乾燥剤膜形成領域(第2の領域)223、すなわち後述する撥液膜形成領域(第1の領域)221に取り囲まれる領域に設けられている。
乾燥剤膜4は主として乾燥剤で構成され、閉空間24内に残存または浸入した水分を吸湿(吸着)する機能を有するものである。このような乾燥剤膜4を設ける構成とすることにより、たとえ有機EL装置1a(閉空間24)内に水分が残存または浸入したとしても、この水分を乾燥剤膜4に含まれる乾燥剤に確実に吸着させることができる。その結果、有機EL素子3内に水分が浸入するのを経時的に防止し得ることから、有機EL素子3の特性の低下を確実に防止することができる。
The desiccant film 4 is a desiccant film forming region (second region) 223 excluding the outer peripheral portion of the lower surface of the upper substrate 22 in the closed space 24, that is, a liquid repellent film forming region (first region) 221 described later. Is provided in a region surrounded by
The desiccant film 4 is mainly composed of a desiccant and has a function of absorbing (adsorbing) moisture remaining or entering the closed space 24. By providing such a desiccant film 4, even if moisture remains or enters the organic EL device 1 a (closed space 24), the moisture is reliably supplied to the desiccant contained in the desiccant film 4. Can be absorbed. As a result, it is possible to prevent moisture from entering into the organic EL element 3 over time, and thus it is possible to reliably prevent deterioration of the characteristics of the organic EL element 3.

また、本実施形態では、図1に示すように、後述する有機EL素子3の形状に対応するように乾燥剤膜4が形成されている。かかる構成とすることにより、有機EL素子3全体を乾燥することができ、有機EL素子3の一部に対して水分が局所的に浸入してしまうのを確実に防止することができる。
この乾燥剤膜4は、乾燥剤を含有する液状材料を、乾燥剤膜形成領域223に供給した後、乾燥することによって形成されるものである。
Moreover, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the desiccant film | membrane 4 is formed so that it may correspond to the shape of the organic EL element 3 mentioned later. By adopting such a configuration, the entire organic EL element 3 can be dried, and it is possible to reliably prevent moisture from locally entering a part of the organic EL element 3.
The desiccant film 4 is formed by supplying a liquid material containing a desiccant to the desiccant film forming region 223 and then drying it.

なお、乾燥剤を含有する液状材料の具体例および乾燥剤膜4の形成方法については後述する乾燥剤膜形成工程において詳述する。
また、閉空間24内における上基板22の下面の乾燥剤膜形成領域(第2の領域)223を除いた撥液膜形成領域(第1の領域)221には、乾燥剤膜形成領域223を取り囲むように撥液膜5が形成されている。
In addition, the specific example of the liquid material containing a desiccant and the formation method of the desiccant film 4 are explained in full detail in the desiccant film formation process mentioned later.
Further, the desiccant film forming region 223 is formed in the liquid repellent film forming region (first region) 221 excluding the desiccant film forming region (second region) 223 on the lower surface of the upper substrate 22 in the closed space 24. A liquid repellent film 5 is formed so as to surround it.

この撥液膜5は、後述する乾燥剤膜形成工程および封止部形成工程において、それぞれ、乾燥剤を含有する液状材料、および、封止部23を形成するための樹脂材料を供給する際に、前記液状材料および前記樹脂材料が所定領域223、222からはみ出るのを防止する機能を有する。すなわち、撥液膜5は、前記液状材料および前記樹脂材料を、それぞれ、所定領域223、222内に保持する機能を有する。このような撥液膜5を備える構成とすることにより、所望のパターン(形状)および厚さで形成された、乾燥剤膜4および封止部23を確実に得ることができる。
この撥液膜5の材料の具体例およびその形成方法については、後述する撥液膜形成工程において詳述する。
The liquid repellent film 5 is used when supplying a liquid material containing a desiccant and a resin material for forming the sealing portion 23 in a desiccant film forming step and a sealing portion forming step, which will be described later. The liquid material and the resin material have a function of preventing the liquid material and the resin material from protruding from the predetermined regions 223 and 222. That is, the liquid repellent film 5 has a function of holding the liquid material and the resin material in the predetermined regions 223 and 222, respectively. By adopting a configuration including such a liquid repellent film 5, it is possible to reliably obtain the desiccant film 4 and the sealing portion 23 formed with a desired pattern (shape) and thickness.
Specific examples of the material of the liquid repellent film 5 and a method for forming the material will be described in detail in the liquid repellent film forming step described later.

有機EL素子3は、基板21上の閉空間24に対応する領域に設けられている。
有機EL素子(発光素子)3は、図1に示すように、陽極31と、陰極33と、陽極31と陰極33との間に設けられた有機半導体層32とを有している。
この有機半導体層32は、I:陽極31側から正孔輸送層と有機発光層と電子輸送層とがこの順で積層された積層体、II:Iの構成から正孔輸送層または電子輸送層のいずれかを省略した積層体、III:Iの構成から正孔輸送層および電子輸送層を省略した単層体等の有機発光層を備えるものであればいかなる構成であってもよいが、以下ではIの場合を代表に説明する。
The organic EL element 3 is provided in a region corresponding to the closed space 24 on the substrate 21.
As shown in FIG. 1, the organic EL element (light emitting element) 3 includes an anode 31, a cathode 33, and an organic semiconductor layer 32 provided between the anode 31 and the cathode 33.
The organic semiconductor layer 32 is I: a laminate in which a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are laminated in this order from the anode 31 side, and a hole transport layer or an electron transport layer from a configuration of II: I. Any structure may be used as long as it includes an organic light emitting layer such as a laminate in which any of the above is omitted, and a single layer body in which the hole transport layer and the electron transport layer are omitted from the configuration of III: I, The case of I will be described as a representative.

陽極31は、有機半導体層32(本実施形態では、正孔輸送層)に正孔を注入する電極である。
この陽極31の構成材料(陽極材料)としては、有機EL装置1aが陽極31側から光を取り出すボトムエミッション構造であるため透光性を有する導電材料が選択され、特に、仕事関数が大きく、優れた導電性を有するものが好適に用いられる。
The anode 31 is an electrode that injects holes into the organic semiconductor layer 32 (in this embodiment, a hole transport layer).
As a constituent material (anode material) of the anode 31, a conductive material having translucency is selected because the organic EL device 1a has a bottom emission structure in which light is extracted from the anode 31 side. Those having high conductivity are preferably used.

このような陽極31の構成材料としては、インジウムティンオキサイド(ITO)、フッ素含有インジウムティンオキサイド(FITO)、アンチモンティンオキサイド(ATO)、インジウムジンクオキサイド(IZO)、アルミニウムジンクオキサイド(AZO)、酸化スズ(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)、フッ素含有酸化スズ(FTO)、フッ素含有インジウムオキサイド(FIO)、インジウムオキサイド(IO)、等の透明導電性材料が挙げられ、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
このような陽極31は、その光(可視光領域)の透過率が好ましくは60%以上、より好ましくは80%以上となっている。これにより、光を効率よく陽極31側から取り出すことができる。
Examples of the constituent material of the anode 31 include indium tin oxide (ITO), fluorine-containing indium tin oxide (FITO), antimony tin oxide (ATO), indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), and tin oxide. Examples include transparent conductive materials such as (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), fluorine-containing tin oxide (FTO), fluorine-containing indium oxide (FIO), and indium oxide (IO), and at least one of these materials Can be used.
Such an anode 31 has a light transmittance (visible light region) of preferably 60% or more, more preferably 80% or more. Thereby, light can be efficiently extracted from the anode 31 side.

一方、陰極33は、有機半導体層32(本実施形態では、電子輸送層)に電子を注入する電極である。
この陰極33の構成材料(陽極材料)としては、電子輸送層への電子の注入効率を向上させることを目的に、優れた導電性を発揮するもののうち、特に、仕事関数が小さいものが好適に用いられる。
On the other hand, the cathode 33 is an electrode that injects electrons into the organic semiconductor layer 32 (in this embodiment, an electron transport layer).
As a constituent material (anode material) of the cathode 33, a material having a small work function is particularly preferable among those exhibiting excellent conductivity for the purpose of improving the efficiency of injecting electrons into the electron transport layer. Used.

このような陰極33の構成材料としては、例えば、Li、Na、K、Rb、CsおよびFrからなるアルカリ金属、および、Be、Mg、Ca、Sr、BaおよびRaからなるアルカリ土類金属等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、陰極33の構成材料として、上述したような金属を含む合金を用いる場合には、Ag、Al、Cu等の安定な金属を含む合金、具体的には、MgAg、AlLi、CuLi等の合金を用いるようにすればよい。かかる合金を陰極33の構成材料として用いることにより、電子の電子輸送層への注入効率および陰極33の安定性の向上を図ることができる。
Examples of the constituent material of the cathode 33 include alkali metals made of Li, Na, K, Rb, Cs and Fr, and alkaline earth metals made of Be, Mg, Ca, Sr, Ba and Ra. 1 type or 2 types or more of them can be used in combination.
Further, when an alloy containing a metal as described above is used as a constituent material of the cathode 33, an alloy containing a stable metal such as Ag, Al, or Cu, specifically, an alloy such as MgAg, AlLi, or CuLi. May be used. By using such an alloy as the constituent material of the cathode 33, it is possible to improve the injection efficiency of electrons into the electron transport layer and the stability of the cathode 33.

陽極31と陰極33との間には、前述したように、正孔輸送層と有機発光層と電子輸送層とが陽極31側からこの順で積層された有機半導体層32が設けられている。
正孔輸送層は、陽極31から注入された正孔を有機発光層まで輸送する機能を有するものである。
この正孔輸送層の構成材料(正孔輸送材料)としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン:ポリスチレンスルホネート、ポリアニリン:ポリスチレンスルホネート、ポリアリールアミン、フルオレン−アリールアミン共重合体、フルオレン−ビチオフェン共重合体、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリチオフェン、ポリアルキルチオフェン、ポリヘキシルチオフェン、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリチニレンビニレン、ピレンホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂またはその誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
As described above, the organic semiconductor layer 32 in which the hole transport layer, the organic light emitting layer, and the electron transport layer are stacked in this order from the anode 31 side is provided between the anode 31 and the cathode 33.
The hole transport layer has a function of transporting holes injected from the anode 31 to the organic light emitting layer.
As a constituent material (hole transport material) of this hole transport layer, for example, polyethylene dioxythiophene: polystyrene sulfonate, polyaniline: polystyrene sulfonate, polyarylamine, fluorene-arylamine copolymer, fluorene-bithiophene copolymer , Poly (N-vinylcarbazole), polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polythiophene, polyalkylthiophene, polyhexylthiophene, poly (p-phenylenevinylene), polytinylenevinylene, pyreneformaldehyde resin, ethylcarbazole formaldehyde resin or derivatives thereof, etc. These can be used, and one or more of these can be used in combination.

なお、陽極31と正孔輸送層との間には、例えば、陽極31からの正孔注入効率を向上させる正孔注入層を設けるようにしてもよい。
この正孔注入層の構成材料(正孔注入材料)としては、例えば、銅フタロシアニンや、4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)等が挙げられる。
In addition, you may make it provide the hole injection layer which improves the hole injection efficiency from the anode 31, for example between the anode 31 and a hole transport layer.
As a constituent material (hole injection material) of this hole injection layer, for example, copper phthalocyanine, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-phenyl-3-methylphenylamino) triphenylamine ( m-MTDATA) and the like.

また、電子輸送層は、陰極33から注入された電子を有機発光層まで輸送する機能を有するものである。
電子輸送層の構成材料(電子輸送材料)としては、例えば、1,3,5−トリス[(3−フェニル−6−トリ−フルオロメチル)キノキサリン−2−イル]ベンゼン(TPQ1)のようなベンゼン系化合物、ナフタレン系化合物、フェナントレン系化合物、クリセン系化合物、ペリレン系化合物、アントラセン系化合物、ピレン系化合物、アクリジン系化合物、スチルベン系化合物、BBOTのようなチオフェン系化合物、ブタジエン系化合物、クマリン系化合物、キノリン系化合物、ビスチリル系化合物、ジスチリルピラジンのようなピラジン系化合物、キノキサリン系化合物、2,5−ジフェニル−パラ−ベンゾキノンのようなベンゾキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)のようなオキサジアゾール系化合物、3,4,5−トリフェニル−1,2,4−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、オキサゾール系化合物、アントロン系化合物、1,3,8−トリニトロ−フルオレノン(TNF)のようなフルオレノン系化合物、MBDQのようなジフェノキノン系化合物、MBSQのようなスチルベンキノン系化合物、アントラキノジメタン系化合物、チオピランジオキシド系化合物、フルオレニリデンメタン系化合物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フローレン系化合物、ピロール系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、8−ヒドロキシキノリン アルミニウム(Alq)、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする錯体のような各種金属錯体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
The electron transport layer has a function of transporting electrons injected from the cathode 33 to the organic light emitting layer.
As a constituent material (electron transport material) of the electron transport layer, for example, benzene such as 1,3,5-tris [(3-phenyl-6-tri-fluoromethyl) quinoxalin-2-yl] benzene (TPQ1) Compounds, naphthalene compounds, phenanthrene compounds, chrysene compounds, perylene compounds, anthracene compounds, pyrene compounds, acridine compounds, stilbene compounds, thiophene compounds such as BBOT, butadiene compounds, coumarin compounds , Quinoline compounds, bistyryl compounds, pyrazine compounds such as distyrylpyrazine, quinoxaline compounds, benzoquinone compounds such as 2,5-diphenyl-para-benzoquinone, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, 2- ( 4-biphenylyl) -5- Oxadiazole compounds such as 4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (PBD), triazole compounds such as 3,4,5-triphenyl-1,2,4-triazole Compounds, oxazole compounds, anthrone compounds, fluorenone compounds such as 1,3,8-trinitro-fluorenone (TNF), diphenoquinone compounds such as MBDQ, stilbenequinone compounds such as MBSQ, anthraquinodimethane Compounds, thiopyrandioxide compounds, fluorenylidenemethane compounds, diphenyldicyanoethylene compounds, fluorene compounds, pyrrole compounds, phosphine oxide compounds, 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq 3 ), benzoxazole, Benzothiazole Include various metal complexes, such as complexes with ligands it is, can be used singly or in combination of two or more of them.

なお、陰極33と電子輸送層との間には、例えば、陰極33から電子輸送層への電子の注入効率を向上させる電子注入層を設けるようにしてもよい。
この電子注入層の構成材料(電子注入材料)としては、例えば、8−ヒドロキシキノリン、オキサジアゾール、または、これらの誘導体(例えば、8−ヒドロキシキノリンを含む金属キレートオキシノイド化合物)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上組み合わせて用いることができる。
For example, an electron injection layer that improves the efficiency of electron injection from the cathode 33 to the electron transport layer may be provided between the cathode 33 and the electron transport layer.
Examples of the constituent material (electron injection material) of the electron injection layer include 8-hydroxyquinoline, oxadiazole, or derivatives thereof (for example, metal chelate oxinoid compounds containing 8-hydroxyquinoline). These can be used alone or in combination of two or more.

ここで、陽極31と陰極33との間に通電(電圧を印加)すると、正孔輸送層中を移動した正孔が有機発光層に注入され、また、電子輸送層中を移動した電子が有機発光層に注入され、この有機発光層において正孔と電子とが再結合する。そして、有機発光層ではエキシトン(励起子)が生成し、このエキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出(発光)する。   Here, when an electric current is applied between the anode 31 and the cathode 33 (voltage is applied), holes that have moved in the hole transport layer are injected into the organic light emitting layer, and electrons that have moved in the electron transport layer are organic. It is injected into the light emitting layer, and holes and electrons are recombined in this organic light emitting layer. Then, excitons (excitons) are generated in the organic light emitting layer, and energy (fluorescence or phosphorescence) is emitted (emitted) when the excitons return to the ground state.

有機発光層の構成材料(有機発光材料)としては、例えば、1,3,5−トリス[(3−フェニル−6−トリ−フルオロメチル)キノキサリン−2−イル]ベンゼン(TPQ1)、1,3,5−トリス[{3−(4−t−ブチルフェニル)−6−トリスフルオロメチル}キノキサリン−2−イル]ベンゼン(TPQ2)のようなベンゼン系化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン(CuPc)、鉄フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、トリス(8−ヒドロキシキノリノレート)アルミニウム(Alq)、ファクトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy))のような低分子系のものや、オキサジアゾール系高分子、トリアゾール系高分子、カルバゾール系高分子、フルオレン系高分子のような高分子系のものが挙げられ、これらの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。各種の高分子材料や、各種の低分子材料を単独または組み合わせて用いることができる。 As a constituent material (organic light emitting material) of the organic light emitting layer, for example, 1,3,5-tris [(3-phenyl-6-tri-fluoromethyl) quinoxalin-2-yl] benzene (TPQ1), 1,3 , 5-tris [{3- (4-t-butylphenyl) -6-trisfluoromethyl} quinoxalin-2-yl] benzene (TPQ2), phthalocyanine, copper phthalocyanine (CuPc), iron phthalocyanine Low molecular weight compounds such as metal or metal-free phthalocyanine compounds such as tris (8-hydroxyquinolinolate) aluminum (Alq 3 ), factory (2-phenylpyridine) iridium (Ir (ppy) 3 ) Oxadiazole polymers, triazole polymers, carbazole polymers, fluorene polymers Examples thereof include macromolecules such as molecules, and these can be used alone or in combination. Various polymer materials and various low molecular materials can be used alone or in combination.

以上のような有機EL装置1aは、上基板22の下面に、乾燥剤膜4が形成されている。そのため、たとえ有機EL装置1a(閉空間24)内に水分が残存または浸入したとしても、この水分を乾燥剤に吸着させて、有機EL素子3内に浸入するのを経時的に防止できることから、有機EL素子3の特性の低下を好適に抑制または防止することができる。
また、上基板22の下面の撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成することにより、後述する乾燥剤膜形成工程および封止部形成工程において、この撥液膜5により、乾燥剤を含有する液状材料、および、封止部23を形成するための樹脂材料を供給した際に、これらのものが所定の領域からはみ出るのを確実に防止し得る。その結果、乾燥剤膜4および封止部23が所定のパターンおよび厚さで形成されることとなる。したがって、乾燥剤膜4に、乾燥剤としての機能を確実に発揮させることができるとともに、封止部23により、有機EL装置1a(閉空間24)内への水分の浸入を確実に防止することができる。
In the organic EL device 1 a as described above, the desiccant film 4 is formed on the lower surface of the upper substrate 22. Therefore, even if moisture remains or enters the organic EL device 1a (closed space 24), it is possible to prevent the moisture from adsorbing to the desiccant and entering the organic EL element 3 over time. The deterioration of the characteristics of the organic EL element 3 can be suitably suppressed or prevented.
Further, by forming the liquid repellent film 5 in the liquid repellent film forming region 221 on the lower surface of the upper substrate 22, the desiccant is applied by the liquid repellent film 5 in the desiccant film forming process and the sealing part forming process described later. When the liquid material to be contained and the resin material for forming the sealing portion 23 are supplied, these can be reliably prevented from protruding from a predetermined region. As a result, the desiccant film 4 and the sealing portion 23 are formed with a predetermined pattern and thickness. Therefore, the desiccant film 4 can reliably function as a desiccant, and the sealing portion 23 reliably prevents moisture from entering the organic EL device 1a (closed space 24). Can do.

さらに、上基板22の下面の撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成する構成とすることにより、上基板22に凹部を設けることなく乾燥剤膜4を形成することができる。その結果、上基板22の厚さを薄くすること、ひいては、有機EL素子3全体としての厚さを薄く設定することができる。また、上基板22に凹部を設ける場合と比較して、乾燥剤膜4を形成する領域を大きく設定し得る、すなわち有機EL素子3を包含する領域に乾燥剤膜4を形成し得ることから、閉空間24内全体を確実に乾燥することができる。   Further, by forming the liquid repellent film 5 in the liquid repellent film forming region 221 on the lower surface of the upper substrate 22, the desiccant film 4 can be formed without providing a recess in the upper substrate 22. As a result, it is possible to reduce the thickness of the upper substrate 22 and to set the thickness of the organic EL element 3 as a whole. Further, compared to the case where the concave portion is provided on the upper substrate 22, the region for forming the desiccant film 4 can be set larger, that is, the desiccant film 4 can be formed in a region including the organic EL element 3. The entire closed space 24 can be reliably dried.

なお、図1では、基板21上に有機EL素子3が1つ設けられている場合を示したが、これは模式的に示したものであり、このような場合に限定されず、複数の有機EL素子3が基板上に設けられ、これらの素子により複数の画素が形成されるものであってもよい。また、この場合、乾燥剤膜4は、上基板22の下面に、各有機EL素子3に対応するように個別に設けられるものであってもよいし、各有機EL素子3を包含するように一体的に設けられるものであってもよい。   FIG. 1 shows the case where one organic EL element 3 is provided on the substrate 21, but this is schematically shown, and the present invention is not limited to such a case. The EL element 3 may be provided on a substrate, and a plurality of pixels may be formed by these elements. Further, in this case, the desiccant film 4 may be individually provided on the lower surface of the upper substrate 22 so as to correspond to each organic EL element 3, and includes each organic EL element 3. It may be provided integrally.

以上、説明した有機EL装置1aは、例えばディスプレイ用として用いることができるが、その他にも光源等としても使用可能であり、種々の光学的用途等に用いることが可能である。
また、有機EL装置1aをディスプレイに適用する場合、その駆動方式としては、特に限定されず、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリックス方式のいずれであってもよい。
The organic EL device 1a described above can be used for, for example, a display, but can also be used as a light source or the like, and can be used for various optical applications.
When the organic EL device 1a is applied to a display, the driving method is not particularly limited, and any of an active matrix method and a passive matrix method may be used.

次に、本発明の有機発光装置の製造方法について、有機EL装置の第1の構成すなわち図1に示す有機EL装置1aを製造する場合を一例に説明する。
図2は、図1に示す有機EL装置の製造方法を説明するための図(斜視図および縦断面図)、図3は、撥液膜を成膜するためのプラズマ重合装置を示す模式図、図4は、プラズマ重合に際して用いるマスクを示す斜視図である。なお、以下の説明では、図2〜図4中の上側を「上」、下側を「下」という。
有機EL装置の第1の構成の製造方法は、[1A]有機EL素子形成工程と、[2A]撥液膜形成工程と、[3A]乾燥剤膜形成工程と、[4A]封止部形成工程とを有している。以下、これらの各工程について、順次説明する。
Next, the manufacturing method of the organic light emitting device of the present invention will be described by taking as an example the case where the first configuration of the organic EL device, that is, the organic EL device 1a shown in FIG. 1 is manufactured.
FIG. 2 is a view (perspective view and longitudinal sectional view) for explaining a method of manufacturing the organic EL device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic view showing a plasma polymerization apparatus for forming a liquid repellent film. FIG. 4 is a perspective view showing a mask used for plasma polymerization. In the following description, the upper side in FIGS. 2 to 4 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
The manufacturing method of the first configuration of the organic EL device includes: [1A] organic EL element forming step, [2A] liquid repellent film forming step, [3A] desiccant film forming step, and [4A] sealing portion formation. Process. Hereinafter, each of these steps will be described sequentially.

[1A]有機EL素子形成工程
基板21上に、有機EL素子3を形成する。
(1A−1) まず、基板21を用意し、この基板21上に陽極31を形成する。
陽極31は、例えば、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
[1A] Organic EL Element Formation Step The organic EL element 3 is formed on the substrate 21.
(1A-1) First, the substrate 21 is prepared, and the anode 31 is formed on the substrate 21.
The anode 31 is, for example, a chemical vapor deposition method (CVD) such as plasma CVD, thermal CVD, or laser CVD, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a wet method such as electrolytic plating, immersion plating, or electroless plating. It can be formed by using a plating method, a thermal spraying method, a sol-gel method, a MOD method, a metal foil bonding, or the like.

(1A−2) 次に、陽極31上に正孔輸送層を形成する。
正孔輸送層は、例えば、前述した正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔輸送層形成用材料を、陽極31上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成することができる。
正孔輸送層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることができる。かかる塗布法を用いることにより、正孔輸送層を比較的容易に形成することができる。
(1A-2) Next, a hole transport layer is formed on the anode 31.
For example, the hole transport layer may be dried (desolvent or dedispersed) after supplying the hole transport layer forming material obtained by dissolving the above-described hole transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the anode 31. Medium).
Examples of the method for supplying the hole transport layer forming material include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, and spray coating. Various coating methods such as a printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, and an ink jet printing method can be used. By using such a coating method, the hole transport layer can be formed relatively easily.

正孔輸送層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、アンモニア、過酸化水素、水等の無機溶媒や、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン等の芳香族複素環化合物系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。
なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。
Examples of the solvent or dispersion medium used for preparing the hole transport layer forming material include inorganic solvents such as ammonia, hydrogen peroxide, and water, ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK) and acetone, methanol, ethanol, and isopropanol. Alcohol solvents such as diethyl ether and diisopropyl ether, cellosolve solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and pentane, and aromatic carbonization such as toluene, xylene and benzene Examples thereof include various organic solvents such as hydrogen solvents, aromatic heterocyclic compound solvents such as pyridine and pyrazine, and mixed solvents containing these.
The drying can be performed, for example, by standing in an atmospheric pressure or a reduced pressure atmosphere, heat treatment, or blowing an inert gas.

(1A−3) 次に、正孔輸送層上(陽極31と反対側)に、有機発光層を形成する。
有機発光層は、例えば、前述した有機発光材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる有機発光層形成用材料を、正孔輸送層上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成することができる。
有機発光層形成用材料の供給方法および乾燥の方法は、前記正孔輸送層の形成で説明したのと同様である。
(1A-3) Next, an organic light emitting layer is formed on the hole transport layer (on the side opposite to the anode 31).
For example, the organic light-emitting layer is dried (desolvent or dedispersion medium) after supplying the organic light-emitting layer forming material obtained by dissolving the above-described organic light-emitting material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the hole transport layer. ).
The method for supplying the organic light emitting layer forming material and the method for drying are the same as described in the formation of the hole transport layer.

なお、前述したような有機発光材料を用いる場合、有機発光層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、非極性溶媒が好適であり、例えば、キシレン、トルエン、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられ、これらを単独またはこれらを含む混合溶媒として用いることができる。   In the case of using the organic light emitting material as described above, a nonpolar solvent is suitable as the solvent or dispersion medium used for preparing the organic light emitting layer forming material, for example, xylene, toluene, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran. , Aromatic hydrocarbon solvents such as trimethylbenzene and tetramethylbenzene, aromatic heterocyclic solvents such as pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene and methylpyrrolidone, aliphatic carbonization such as hexane, pentane, heptane and cyclohexane Examples thereof include hydrogen solvents, and these can be used alone or as a mixed solvent containing them.

(1A−4) 次に、有機発光層上(正孔輸送層と反対側)に、電子輸送層を形成する。
電子輸送層は、例えば、前述した電子輸送材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子輸送層形成用材料を、有機発光層上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成することができる。
電子輸送層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒、電子輸送層形成用材料の供給方法および乾燥の方法は、前記正孔輸送層の形成で説明したのと同様である。
(1A−5) 次に、電子輸送層上(有機発光層と反対側)に、陰極33を形成する。
陰極33は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合、金属微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
以上のような工程を経て、基板21上に有機EL素子3が形成される。
(1A-4) Next, an electron transport layer is formed on the organic light emitting layer (on the side opposite to the hole transport layer).
The electron transport layer is dried (desolvent or dedispersion medium) after supplying the electron transport layer forming material obtained by, for example, dissolving the above electron transport material in a solvent or dispersing in a dispersion medium onto the organic light emitting layer. Can be formed.
The solvent or dispersion medium used for the preparation of the electron transport layer forming material, the method for supplying the electron transport layer forming material, and the drying method are the same as described in the formation of the hole transport layer.
(1A-5) Next, the cathode 33 is formed on the electron transport layer (on the side opposite to the organic light emitting layer).
The cathode 33 can be formed by using, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, bonding of metal foil, application and firing of metal fine particle ink, or the like.
The organic EL element 3 is formed on the substrate 21 through the above steps.

[2A]撥液膜形成工程(第1の工程)
次に、上基板22を用意し、図2(a)に示すように、上基板22上の封止部形成領域222および乾燥剤膜形成領域(第2の領域)223を除く撥液膜形成領域221、すなわち閉空間24内における上基板22上の乾燥剤膜4を形成しない撥液膜形成領域(第1の領域)221に撥液膜5を形成する。
[2A] Liquid repellent film forming step (first step)
Next, an upper substrate 22 is prepared, and as shown in FIG. 2A, a liquid repellent film is formed excluding the sealing portion forming region 222 and the desiccant film forming region (second region) 223 on the upper substrate 22. The liquid repellent film 5 is formed in the region 221, that is, the liquid repellent film forming region (first region) 221 in which the desiccant film 4 is not formed on the upper substrate 22 in the closed space 24.

換言すれば、本実施形態では、乾燥剤膜形成領域(第2の領域)223の外周部分が撥液膜形成領域(第1の領域)221を構成し、上基板22上のこの領域に撥液膜5を形成する。
ここで、上基板22の撥液膜形成領域221は、撥液膜5を形成することにより、乾燥材料を含有する液状材料に対する濡れ性が低くなる。さらに、一般的に樹脂材料は親液性が高い材料であるため、上基板22の撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成することにより、上基板22の撥液膜形成領域221は、他の領域よりも樹脂材料に対する濡れ性が低くなり、樹脂材料が実質的に付着しない領域となる。
In other words, in this embodiment, the outer peripheral portion of the desiccant film formation region (second region) 223 forms a liquid repellent film formation region (first region) 221, and this region on the upper substrate 22 is repelled. A liquid film 5 is formed.
Here, in the liquid repellent film forming region 221 of the upper substrate 22, the wettability with respect to the liquid material containing the dry material is lowered by forming the liquid repellent film 5. Further, since the resin material is generally a highly lyophilic material, by forming the liquid repellent film 5 in the liquid repellent film forming region 221 of the upper substrate 22, the liquid repellent film forming region 221 of the upper substrate 22 is The wettability with respect to the resin material is lower than in other regions, and the resin material does not substantially adhere.

そのため、上基板22上の撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成する構成とすることにより、後に説明する乾燥剤膜形成工程[3A]および封止部形成工程[4A]において、それぞれ用いられる液状材料および樹脂材料がこの領域221に付着するのを好適に防止または抑制することができる。
この撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成(成膜)する方法としては、特に限定されないが、例えば、I:プラズマ重合により撥液性を有する化合物を成膜することにより撥液膜5を得る方法、II:撥液性を有するカップリング剤を基板上に化学的に結合させることにより撥液膜5を得る方法等により形成することができる。Iの方法によれば、緻密な撥液膜5を基板上に形成することができ、その厚さを比較的薄く設定した場合においても、撥液膜5に優れた撥液性を付与することができる。また、IIの方法によれば、真空チャンバのような大掛かりな装置を用いることなく、基板上に撥液性を有するカップリング剤を供給して乾燥するという比較的簡単な工程で撥液膜5を形成することができる。
Therefore, by forming the liquid repellent film 5 in the liquid repellent film forming region 221 on the upper substrate 22, in the desiccant film forming process [3A] and the sealing part forming process [4A] described later, respectively. The liquid material and resin material to be used can be suitably prevented or suppressed from adhering to this region 221.
A method for forming (depositing) the liquid repellent film 5 in the liquid repellent film forming region 221 is not particularly limited. For example, I: a liquid repellent film formed by depositing a compound having liquid repellency by plasma polymerization. And II: a method of obtaining the liquid repellent film 5 by chemically bonding a liquid repellent coupling agent onto the substrate. According to the method I, the dense liquid repellent film 5 can be formed on the substrate, and even when the thickness is set relatively thin, the liquid repellent film 5 is provided with excellent liquid repellency. Can do. Further, according to the method II, the liquid repellent film 5 can be obtained by a relatively simple process of supplying a liquid repellent coupling agent and drying the substrate without using a large-scale apparatus such as a vacuum chamber. Can be formed.

以下、IおよびIIの方法を用いて撥液膜5を形成する場合についてそれぞれ説明する。
I:プラズマ重合により撥液性を有する化合物を成膜することにより撥液膜5を得る方法
図3は、撥液膜5を成膜するためのプラズマ重合装置の一例である。
図3に示すプラズマ重合装置100は、真空ポンプ101およびガス供給管102が接続された真空チャンバ103を備え、この真空チャンバ103内に、試料台を兼ねる電極104と、ガス供給管102から供給されたガスを噴射するヘッド105とが設けられている。
Hereinafter, the case where the liquid repellent film 5 is formed using the methods I and II will be described.
I: Method for Obtaining Liquid Repellent Film 5 by Forming Liquid Repellent Compound by Plasma Polymerization FIG. 3 shows an example of a plasma polymerization apparatus for forming the liquid repellent film 5.
A plasma polymerization apparatus 100 shown in FIG. 3 includes a vacuum chamber 103 to which a vacuum pump 101 and a gas supply pipe 102 are connected, and an electrode 104 that also serves as a sample stage and a gas supply pipe 102 are supplied into the vacuum chamber 103. And a head 105 for injecting gas.

電極104は、真空チャンバ103の下方に設けられ、真空チャンバ103の外部に配設された高周波電源106に接続されている。また、このプラズマ重合装置100では、真空チャンバ103の上壁107が接地されており、電極104に対する対向電極として機能するようになっている。
プラズマ重合により撥液膜5を形成する際には、高周波電源106を作動することにより、電極104と上壁107との間に電圧を印加する。このとき、真空チャンバ103内には、電界が発生し、後述するガス供給管102よりキャリアガスともに原料ガスが供給されると、放電が生じて原料ガスのプラズマが発生する。
The electrode 104 is provided below the vacuum chamber 103 and is connected to a high frequency power source 106 disposed outside the vacuum chamber 103. In the plasma polymerization apparatus 100, the upper wall 107 of the vacuum chamber 103 is grounded, and functions as a counter electrode with respect to the electrode 104.
When the liquid repellent film 5 is formed by plasma polymerization, a voltage is applied between the electrode 104 and the upper wall 107 by operating the high frequency power source 106. At this time, when an electric field is generated in the vacuum chamber 103 and a source gas is supplied together with a carrier gas from a gas supply pipe 102 described later, a discharge occurs and plasma of the source gas is generated.

ヘッド105は、真空チャンバ103の上方に設けられ、ガス供給管102と接続されている。
ガス供給管102には、キャリアガスを充填し供給する図示しないガスボンベが流量制御弁を介して接続されるとともに、プラズマ重合膜の原料を収納する図示しない原料容器が流量制御弁を介して接続されている。
The head 105 is provided above the vacuum chamber 103 and connected to the gas supply pipe 102.
A gas cylinder (not shown) that is filled and supplied with a carrier gas is connected to the gas supply pipe 102 via a flow control valve, and a raw material container (not shown) that stores the raw material of the plasma polymerization film is connected via the flow control valve. ing.

気化した原料ガスおよびキャリアガスは、真空チャンバ103の負圧により吸引され、ガス供給管102を通ってヘッド105に供給され、ヘッド105から真空チャンバ103内に霧状に放出される。
なお、真空チャンバ103へ供給される原料ガスおよびキャリアガスの流量は、流量制御弁の開閉操作によって制御される。
上述したような撥液膜5の成膜は、プラズマ重合装置100により、次のようにして行われる。
The vaporized source gas and carrier gas are sucked by the negative pressure in the vacuum chamber 103, supplied to the head 105 through the gas supply pipe 102, and discharged from the head 105 into the vacuum chamber 103 in the form of a mist.
Note that the flow rates of the source gas and the carrier gas supplied to the vacuum chamber 103 are controlled by opening and closing operations of the flow rate control valve.
The liquid repellent film 5 as described above is formed by the plasma polymerization apparatus 100 as follows.

(2AI−1) まず、上基板22を、真空チャンバ100内の電極104上に配置し、この上基板22の上に、マスク108を載置する。
マスク108としては、例えば、図4に示すように、乾燥剤膜形成領域223と当接する第1の部分109と、封止部形成領域222と当接する第2の部分110と、これら第1の部分109と第2の部分110の間に、上基板22と接触しないように架設された複数の梁部111を有するものが用いられる。
(2AI-1) First, the upper substrate 22 is disposed on the electrode 104 in the vacuum chamber 100, and the mask 108 is placed on the upper substrate 22.
As the mask 108, for example, as shown in FIG. 4, the first portion 109 that contacts the desiccant film forming region 223, the second portion 110 that contacts the sealing portion forming region 222, and these first portions What has the some beam part 111 constructed so that it may not contact the upper board | substrate 22 between the part 109 and the 2nd part 110 is used.

このようなマスク108を使用すると、フォトリソグラフィ等のような煩雑な工程でレジストマスクを形成することなく所望の形状の撥液膜5を形成することができるので、工程の簡易化を図ることができる。
また、梁部111を上基板22と接触しないように架設すること、すなわち、マスク108の厚さ方向において上基板22と反対側に架設することにより、撥液膜5の原料を、梁部111を回り込むようにして上基板22上に到達させることができる。その結果、梁部111が設けられた位置で撥液膜5を切断させることなく、封止部形成領域222の形状に対応した撥液膜5を形成することができる。
さらに、このマスク108は、繰り返して使用することができるため、マスクにかかるコストを削減することができる。
When such a mask 108 is used, the liquid-repellent film 5 having a desired shape can be formed without forming a resist mask in a complicated process such as photolithography, so that the process can be simplified. it can.
Further, the beam portion 111 is laid so as not to contact the upper substrate 22, that is, the beam portion 111 is laid on the side opposite to the upper substrate 22 in the thickness direction of the mask 108, so Can be made to reach the upper substrate 22. As a result, the liquid repellent film 5 corresponding to the shape of the sealing portion forming region 222 can be formed without cutting the liquid repellent film 5 at the position where the beam portion 111 is provided.
Further, since the mask 108 can be used repeatedly, the cost for the mask can be reduced.

(2AI−2) 次に、撥液膜5の原料となる撥液性を有する化合物を原料容器内に収納する。
原料としては、撥液性を有し、プラズマ重合によって成膜可能な化合物が用いられ、例えば、トリフルオロメタン、オクタフルオロシクロブタンのようなフッ化炭化水素の他、6弗化イオウ等が用いられる。
(2AI-2) Next, a compound having liquid repellency as a raw material of the liquid repellent film 5 is stored in a raw material container.
As the raw material, a compound having liquid repellency and capable of being formed by plasma polymerization is used. For example, in addition to fluorinated hydrocarbons such as trifluoromethane and octafluorocyclobutane, sulfur hexafluoride is used.

(2AI−3) 次に、真空ポンプ101を作動させることにより、真空チャンバ103内を減圧した後、キャリアガスと原料ガスを、供給管102およびヘッド105を介して真空チャンバ104内に供給するとともに、高周波電源106を作動させることによって電極104と上壁107間に電圧を印加する。
これにより、真空チャンバ107内に放電が生じ、その結果、原料ガスがプラズマ化する。そして、プラズマ化した原料ガスの分子同士が衝突することにより、これら同士の間で重合反応が生じて、上基板22上の撥液膜形成領域221に、重合反応により生じた生成物で構成される撥液膜5が形成される。
このようなプラズマ重合により成膜される撥液膜5は、例えば、原料としてトリフルオロメタンを用いた場合、一般式−(CF−[式中、nは、1以上の整数を表す。]で表される化学構造を有するものとなり、特に、緻密性が高く、優れた撥液性を発揮する。
(2AI-3) Next, by operating the vacuum pump 101 to reduce the pressure in the vacuum chamber 103, the carrier gas and the source gas are supplied into the vacuum chamber 104 through the supply pipe 102 and the head 105. A voltage is applied between the electrode 104 and the upper wall 107 by operating the high frequency power source 106.
As a result, discharge occurs in the vacuum chamber 107, and as a result, the source gas is turned into plasma. Then, the molecules of the plasma source gas collide with each other to cause a polymerization reaction between them, and the liquid-repellent film forming region 221 on the upper substrate 22 is composed of a product generated by the polymerization reaction. A liquid repellent film 5 is formed.
The liquid repellent film 5 formed by such plasma polymerization, for example, when trifluoromethane is used as a raw material, has a general formula — (CF 2 ) n — [ where n represents an integer of 1 or more. In particular, it has a high density and exhibits excellent liquid repellency.

このプラズマ重合において、高周波電源の出力は、100〜600W程度であるのが好ましく、200〜400W程度であるのがより好ましい。
キャリアガスおよび原料ガスの流量は、10〜80sccm程度であるのが好ましく、30〜50sccm程度であるのがより好ましい。
真空チャンバ内の圧力は、1〜70Pa程度であるのが好ましく、20〜50Pa程度であるのがより好ましい。
成膜時間は、10〜120秒程度であるのが好ましく、30〜60秒程度であるのがより好ましい。
このような条件で成膜を行うことにより、撥液性に優れた撥液膜5を形成することができる。
In this plasma polymerization, the output of the high-frequency power source is preferably about 100 to 600 W, and more preferably about 200 to 400 W.
The flow rates of the carrier gas and the source gas are preferably about 10 to 80 sccm, and more preferably about 30 to 50 sccm.
The pressure in the vacuum chamber is preferably about 1 to 70 Pa, and more preferably about 20 to 50 Pa.
The film formation time is preferably about 10 to 120 seconds, and more preferably about 30 to 60 seconds.
By performing film formation under such conditions, the liquid repellent film 5 having excellent liquid repellency can be formed.

II:撥液性を有するカップリング剤を基板上に化学的に結合させることにより撥液膜5を得る方法
かかる方法において、撥液性を有するカップリング剤としては、撥液性を有する官能基と、上基板22と結合する反応性基とを有するものが好適に用いられる。このようなカップリング剤を用いることにより、上基板22とカップリング剤との結合力が強固となり、撥液膜5を上基板22に密着性よく形成することができる。
II: Method for obtaining the liquid repellent film 5 by chemically bonding a liquid repellent coupling agent on the substrate In this method, the liquid repellent coupling agent may be a functional group having liquid repellent properties. And a reactive group that binds to the upper substrate 22 are preferably used. By using such a coupling agent, the bonding force between the upper substrate 22 and the coupling agent becomes strong, and the liquid repellent film 5 can be formed on the upper substrate 22 with good adhesion.

なお、ここでは、撥液性を有するカップリング剤を「第1のカップリング剤」、この化合物が有する撥液性を有する官能基および上基板22と結合する反応性基を、それぞれ、「第1の官能基」および「第1の反応性基」と言う場合がある。
第1の反応性基は、第1のカップリング剤に少なくとも1つ含まれていればよいが、複数含まれているのが好ましい。これにより、第1のカップリング剤と上基板22とを複数の第1の反応性基で結合することができ、第1のカップリング剤の上基板22に対する密着性を向上させることができる。
Here, the liquid repellent coupling agent is referred to as “first coupling agent”, the liquid repellent functional group of this compound and the reactive group that binds to the upper substrate 22 are respectively referred to as “first coupling agent”. 1 functional group "and" first reactive group ".
At least one first reactive group may be contained in the first coupling agent, but a plurality of first reactive groups are preferably contained. Thereby, the 1st coupling agent and upper substrate 22 can be combined with a plurality of 1st reactive groups, and the adhesiveness to the upper substrate 22 of the 1st coupling agent can be improved.

この第1の反応性基は、上基板22と結合し得るものであればよく、特に限定されないが、例えば、上基板22の表面に水酸基を露出する構成である場合、例えば、アルコキシ基やハロゲン基のような加水分解基、アミノ基等を含むものが挙げられる。これらの中でも、第1の反応性基を複数備える場合、加水分解基を含むものであるのが好ましい。これにより、上基板22の他に、第1の反応性基同士間で結合を行うことができるため、第1のカップリング剤によるネットワーク(網目状構造)を上基板22上に形成することができ、形成される撥液膜5が緻密なものとなる。その結果、特に高い撥液性が得られるとともに、撥液膜5の上基板22への密着性の向上を図ることができる。   The first reactive group is not particularly limited as long as it can be bonded to the upper substrate 22. For example, when the hydroxyl group is exposed on the surface of the upper substrate 22, for example, an alkoxy group or a halogen atom is used. Examples thereof include hydrolyzable groups such as groups, amino groups and the like. Among these, when a plurality of first reactive groups are provided, it is preferable to include a hydrolyzable group. Thereby, in addition to the upper substrate 22, the first reactive groups can be bonded to each other, so that a network (network structure) by the first coupling agent can be formed on the upper substrate 22. Thus, the formed liquid repellent film 5 becomes dense. As a result, particularly high liquid repellency can be obtained and adhesion to the upper substrate 22 of the liquid repellent film 5 can be improved.

第1の官能基としては、例えば、フルオロアルキル基、アルキル基、ビニル基等を含むものが挙げられ、中でも、特に、フルオロアルキル基を含むものが好ましい。フルオロアルキル基を含む官能基は、特に優れた撥液性を有するものである。
また、撥液性を有する官能基の重量平均分子量は、200〜4000程度であるのが好ましく、1000〜2000程度であるのがより好ましい。
As a 1st functional group, what contains a fluoroalkyl group, an alkyl group, a vinyl group etc. is mentioned, for example, Especially, the thing containing a fluoroalkyl group is preferable. The functional group containing a fluoroalkyl group has particularly excellent liquid repellency.
Further, the weight average molecular weight of the functional group having liquid repellency is preferably about 200 to 4000, and more preferably about 1000 to 2000.

以上のことを考慮すると、第1の性化合物としては、上基板22の表面に水酸基が露出している構成である場合、例えば、フルオロアルキル基を含む官能基を備え、Si、Ti、Al、Zr等を有するカップリング剤を好適に用いることができるが、中でも、特に、フルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤を用いるのが好ましい。このようなシラン系カップリング剤は、安価であり入手が容易である。   In consideration of the above, as the first sex compound, when the hydroxyl group is exposed on the surface of the upper substrate 22, for example, the first sex compound includes a functional group including a fluoroalkyl group, and includes Si, Ti, Al, A coupling agent having Zr or the like can be preferably used, and among them, a silane coupling agent having a functional group containing a fluoroalkyl group is particularly preferable. Such a silane coupling agent is inexpensive and easily available.

ここで、フルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤は、一般式RSiX(4−n)(但し、Xは、加水分解によりシラノール基を生成する加水分解基、Rはフルオロアルキル基を含む官能基である。また、nは1〜3の整数であり、1または2の整数であるのが好ましい。)で表される。
この一般式において、Xとしては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ハロゲン基等が挙げられる。
Here, the silane coupling agent having a functional group containing a fluoroalkyl group is represented by the general formula R n SiX (4-n) (where X is a hydrolyzable group that generates a silanol group by hydrolysis, and R is fluoro. A functional group including an alkyl group, and n is an integer of 1 to 3, and preferably an integer of 1 or 2.
In this general formula, examples of X include a methoxy group, an ethoxy group, and a halogen group.

なお、複数個のR同士またはX同士は、互いに同じものであっても、異なるものであってもよい。
このようなフルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤の具体例としては、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
A plurality of Rs or Xs may be the same as or different from each other.
Specific examples of such a silane coupling agent having a functional group containing a fluoroalkyl group include tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltriethoxysilane, tridecafluoro-1,1,2, 2 tetrahydrooctyltrimethoxysilane, tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltrichlorosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane and the like.

また、上基板22の表面の撥液膜形成領域221への第1のカップリング剤の供給は、液相プロセスや気相プロセスのような各種プロセスにより行うことができるが、中でも、液相プロセスにより行うのが好ましい。液相プロセスによれば、第1のカップリング剤を含有する液状材料を調製し、この液状材料を撥液膜形成領域221に供給するという比較的簡単な工程により、第1のカップリング剤を上基板22上の撥液膜形成領域221に確実に供給することができる。   Further, the supply of the first coupling agent to the liquid repellent film forming region 221 on the surface of the upper substrate 22 can be performed by various processes such as a liquid phase process and a gas phase process. It is preferable to carry out. According to the liquid phase process, the first coupling agent is prepared by a relatively simple process of preparing a liquid material containing the first coupling agent and supplying the liquid material to the liquid repellent film forming region 221. The liquid repellent film forming region 221 on the upper substrate 22 can be reliably supplied.

液相プロセスとしては、例えば、インクジェット法等の液滴吐出法、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法のような各種塗布法が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、液滴吐出法を用いるのが好ましい。かかる方法によれば、比較的容易に、かつ優れた精度で、撥液膜形成領域221に液状材料を選択的に供給することができる。
以下では、フルオロアルキル基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤(以下、単に「シラン系カップリング剤」という。)を含有する液状材料を、インクジェット法により撥液膜形成領域221に供給して撥液膜5を形成する場合を一例に説明する。
Examples of the liquid phase process include various coating methods such as a droplet discharge method such as an ink jet method, a spin coating method, a casting method, and a micro gravure coating method, and one or more of these are combined. Can be used. Among these, it is preferable to use a droplet discharge method. According to this method, the liquid material can be selectively supplied to the liquid repellent film forming region 221 relatively easily and with excellent accuracy.
Hereinafter, a liquid material containing a silane coupling agent having a functional group containing a fluoroalkyl group (hereinafter simply referred to as “silane coupling agent”) is supplied to the liquid repellent film forming region 221 by an inkjet method. The case where the liquid repellent film 5 is formed will be described as an example.

(2AII−1) まず、シラン系カップリング剤を含有する液状材料を調整する。
シラン系カップリング剤を溶解する溶媒としては、各種のものが用いられるが、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンのような芳香族炭化水素系溶媒を用いることができる。
(2AII−2) 次に、インクジェット法により、液状材料を上基板22の表面の撥液膜形成領域221に供給する。
(2AII-1) First, a liquid material containing a silane coupling agent is prepared.
Various solvents are used as the solvent for dissolving the silane coupling agent. For example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, and cyclohexylbenzene can be used.
(2AII-2) Next, a liquid material is supplied to the liquid repellent film forming region 221 on the surface of the upper substrate 22 by an inkjet method.

(2AII−3) 次に、上基板22を、例えば、加熱することにより、シラン系カップリング剤の加水分解基を加水分解させ、生成したシラノール基と、上基板22の表面で露出する水酸基とを反応させて、シロキサン結合を形成させる。これにより、図2(a)に示すように、撥液膜形成領域221の形状に対応した撥液膜5が上基板22の表面に形成される。
そして、撥液膜5の表面には、撥液性を有する第1の官能基が露出することとなり、これにより撥液性を発揮する。
(2AII-3) Next, the upper substrate 22 is heated, for example, to hydrolyze the hydrolyzable group of the silane coupling agent, and the generated silanol group and the hydroxyl group exposed on the surface of the upper substrate 22 To form a siloxane bond. Thereby, as shown in FIG. 2A, the liquid repellent film 5 corresponding to the shape of the liquid repellent film forming region 221 is formed on the surface of the upper substrate 22.
Then, the first functional group having liquid repellency is exposed on the surface of the liquid repellent film 5, thereby exhibiting liquid repellency.

また、このとき、隣接するシラン系カップリング剤が有するシラノール基同士の間でもシロキサン結合が形成される。これにより、撥液膜5の密着性が向上する。
加熱の際の加熱温度は、50〜200℃程度であるのが好ましく、80〜150℃程度であるのがより好ましい。
加熱時間は、1〜50分程度であるのが好ましく、5〜20分程度であるのがより好ましい。
At this time, a siloxane bond is also formed between silanol groups of adjacent silane coupling agents. Thereby, the adhesiveness of the liquid repellent film 5 is improved.
The heating temperature at the time of heating is preferably about 50 to 200 ° C, and more preferably about 80 to 150 ° C.
The heating time is preferably about 1 to 50 minutes, and more preferably about 5 to 20 minutes.

[3A]乾燥剤膜形成工程(第2の工程)
次に、上基板22上の乾燥剤膜形成領域223に、図2(b)に示すように、乾燥剤膜4を形成する。
本発明の有機発光装置の製造方法では、乾燥剤膜4は、上基板22上の撥液膜形成領域221で取り囲まれる乾燥剤膜形成領域223に、乾燥剤を含有する液状材料を供給して、この液状材料を乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することにより形成される。
[3A] Desiccant film forming step (second step)
Next, as shown in FIG. 2B, the desiccant film 4 is formed in the desiccant film formation region 223 on the upper substrate 22.
In the method for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention, the desiccant film 4 supplies a liquid material containing a desiccant to the desiccant film forming region 223 surrounded by the liquid repellent film forming region 221 on the upper substrate 22. The liquid material is formed by drying (desolvent or dedispersion medium).

ここで、乾燥剤が主として粘着性または接着性を有する化合物で構成される場合、かかる乾燥剤を含有する液状材料を乾燥剤膜形成領域223に供給して乾燥することにより、この領域223に乾燥剤が付着して乾燥剤膜4が形成されることとなる。
また、乾燥剤が主として粘着性および接着性を有さない化合物で構成される場合、かかる乾燥剤および樹脂材料を含有する液状材料を乾燥剤膜形成領域223に供給して乾燥することにより、この領域223に樹脂材料により乾燥剤が担持された乾燥剤膜4が形成されることとなる。なお、液状材料中に含まれる樹脂材料としては、次工程[4A]で説明する樹脂材料と同様のものを用いることができる。
Here, when the desiccant is mainly composed of a sticky or adhesive compound, a liquid material containing such a desiccant is supplied to the desiccant film forming region 223 and dried to dry the region 223. The desiccant film 4 is formed by adhering the agent.
Further, when the desiccant is mainly composed of a compound having no tackiness and adhesiveness, the liquid material containing the desiccant and the resin material is supplied to the desiccant film forming region 223 and dried. The desiccant film 4 in which the desiccant is supported by the resin material in the region 223 is formed. In addition, as a resin material contained in a liquid material, the thing similar to the resin material demonstrated by the following process [4A] can be used.

そのため、乾燥剤が主として粘着性または接着性を有する化合物で構成される場合、または、粘着性および接着性を有さない化合物で構成される場合のいずれであっても、上基板22上の乾燥剤膜形成領域223に乾燥剤膜4を形成することができるが、乾燥剤膜は、主として前者で構成されているのが好ましい。これにより、乾燥剤以外の材料を乾燥剤膜4中に含有させる必要がないことから、乾燥剤膜4に優れた吸湿性を付与することができるとともに、乾燥剤自体が粘着性または接着性を有していることから、乾燥剤が上基板22上から剥がれ落ちることなく乾燥剤膜4を形成することができる。   Therefore, even if the desiccant is mainly composed of a compound having tackiness or adhesiveness, or the desiccant is composed of a compound having no tackiness and adhesiveness, the drying on the upper substrate 22 is performed. Although the desiccant film 4 can be formed in the agent film forming region 223, it is preferable that the desiccant film is mainly composed of the former. Thereby, since it is not necessary to contain materials other than the desiccant in the desiccant film 4, it is possible to impart excellent hygroscopicity to the desiccant film 4, and the desiccant itself has adhesiveness or adhesiveness. Therefore, the desiccant film 4 can be formed without the desiccant peeling off from the upper substrate 22.

このような乾燥剤膜4に用いられる乾燥剤としては、特に限定されないが、例えば、閉空間24内(雰囲気中)に含まれる水を、化学的に吸着(化学吸着)する乾燥剤や、物理的に吸着(物理吸着)する乾燥剤等が挙げられる。これらの中でも、化学吸着する乾燥剤であるのが好ましい。このような乾燥剤を用いることにより、たとえ閉空間24内の温度等の条件が変化したとしても、乾燥剤に吸着した水を脱離させることなく確実に担持することができる。
以上のことを考慮すると、乾燥剤としては、粘着性または接着性を有し、かつ、水を化学的に吸着する化合物が好適に用いられ、具体的には、下記化1の一般式で表される化合物等が好適に用いられる。
The desiccant used for the desiccant film 4 is not particularly limited. For example, a desiccant that chemically adsorbs (chemically adsorbs) water contained in the closed space 24 (in the atmosphere) And desiccants that adsorb (physically adsorb). Among these, a desiccant that chemisorbs is preferable. By using such a desiccant, even if conditions such as the temperature in the closed space 24 change, the water adsorbed on the desiccant can be reliably supported without being desorbed.
In consideration of the above, as the desiccant, a compound having tackiness or adhesiveness and chemically adsorbing water is preferably used. Specifically, the desiccant is represented by the general formula of the following chemical formula 1. And the like are preferably used.

Figure 2008016300
[式中、Rは、炭素数1以上のアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アシル基を表し、Mは、3価の金属元素を表し、nは、1以上の整数を表す。]
Figure 2008016300
[Wherein R represents an alkyl group having 1 or more carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or an acyl group, M represents a trivalent metal element, and n represents an integer of 1 or more. . ]

この化合物は、水分子と反応することにより化合物中のM−O結合が切断(加水分解)されて、2つの水酸基すなわち−OH結合が生成されることにより水を化学的に吸着する。
ここで、上記化1の一般式で表される化合物において、Rは、上述したように、炭素数1以上のアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アシル基を示す。
When this compound reacts with water molecules, the MO bond in the compound is cleaved (hydrolyzed), and two hydroxyl groups, that is, —OH bonds, are generated to chemically adsorb water.
Here, in the compound represented by the general formula of Chemical Formula 1, as described above, R represents an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, or acyl group having 1 or more carbon atoms.

アルキル基としては、直鎖状のものであっても環状のものであってもよく、具体的には、直鎖アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基およびプロピル基等が挙げられ、シクロアルキル基として、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボナン基およびアダマンタン基等が挙げられる。
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基およびブテニル基等が挙げられる。
The alkyl group may be linear or cyclic. Specifically, examples of the linear alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Examples of the alkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbonane group, an adamantane group, and the like.
As an alkenyl group, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, etc. are mentioned, for example.

アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。
複素環基としては、例えば、ピロール基、ピロリン基、ピラゾール基およびピラゾリン基等が挙げられる。
アシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基およびブチリル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group.
Examples of the heterocyclic group include a pyrrole group, a pyrroline group, a pyrazole group, and a pyrazoline group.
Examples of the acyl group include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.

また、上述したような置換基Rは、置換基内に含まれる水素原子の少なくとも一部が、他の元素によって置換されたものであってもよい。
Mは、3価の金属元素を表し、具体的には、Al、La、Y、Ga等が挙げられる。
したがって、具体例には、上記化1の一般式で表される化合物として、例えば、下記化2および下記化3で表される化合物等が挙げられる。
Further, the substituent R as described above may be one in which at least a part of the hydrogen atoms contained in the substituent is substituted with another element.
M represents a trivalent metal element, and specific examples thereof include Al, La, Y, and Ga.
Therefore, specific examples include, for example, compounds represented by the following chemical formulas 2 and 3 as the compounds represented by the general formula of the chemical formula 1 above.

Figure 2008016300
[式中、nは、1以上の整数を表す。]
Figure 2008016300
[Wherein n represents an integer of 1 or more. ]

Figure 2008016300
Figure 2008016300

なお、粘着性または接着性を有さず、水を物理吸着する乾燥剤としては、例えば、シリカゲルA型、シリカゲルB型、天然ゼオライト、合成ゼオライト、アロフェンおよびセピオナイト等が挙げられる。
また、粘着性または接着性を有さず、水を化学吸着する乾燥剤としては、例えば、酸化ナトリウム(NaO)、酸化カリウム(KO)、酸化カルシウム(CaO)のような金属酸化物、硫酸リチウム(LiSO)、硫酸ナトリウム(NaSO)、硫酸カルシウム(CaSO)のような硫酸塩、塩化カルシウム(CaCl)、塩化マグネシウム(MgCl)、塩化ストロンチウム(SrCl)のような金属ハロゲン化物、過塩素酸バリウム(Ba(ClO)、過塩素酸マグネシウム(Mg(ClO)のような過塩素酸塩等が挙げられる。
以上のような乾燥剤は、1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。また、粘着性または接着性を有するものと有さないものとを併用しても構わない。
Examples of the desiccant that does not have tackiness or adhesiveness and physically adsorb water include silica gel A type, silica gel B type, natural zeolite, synthetic zeolite, allophane, and sepionite.
Moreover, as a desiccant which does not have adhesiveness or adhesiveness and chemically adsorbs water, for example, metal oxides such as sodium oxide (Na 2 O), potassium oxide (KO 2 ), and calcium oxide (CaO) , Lithium sulfate (Li 2 SO 4 ), sodium sulfate (Na 2 SO 4 ), sulfates such as calcium sulfate (CaSO 4 ), calcium chloride (CaCl 2 ), magnesium chloride (MgCl 2 ), strontium chloride (SrCl 2) ), Metal halides such as barium perchlorate (Ba (ClO 4 ) 2 ), and perchlorates such as magnesium perchlorate (Mg (ClO 4 ) 2 ).
The above desiccant may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types. Moreover, you may use together what has adhesiveness or adhesiveness, and what does not have.

液状材料中における乾燥剤の含有量は、100〜10000mg/L程度であるのが好ましく、300〜5000mg/L程度であるのがより好ましい。乾燥剤の含有量が前記範囲より少ない場合には、乾燥剤膜4を十分な厚さで形成するのが困難になり、得られる乾燥剤膜4における乾燥剤としての効果が不足するおそれがある。また、乾燥剤の含有量が前記範囲より多い場合には、液状材料の塗布性が不良となり、乾燥剤膜を均一な厚さで形成するのが困難となるおそれがある。   The content of the desiccant in the liquid material is preferably about 100 to 10000 mg / L, and more preferably about 300 to 5000 mg / L. When the content of the desiccant is less than the above range, it becomes difficult to form the desiccant film 4 with a sufficient thickness, and the resulting desiccant film 4 may have insufficient effects as a desiccant. . Moreover, when there is more content of a desiccant than the said range, there exists a possibility that the applicability | paintability of a liquid material may become poor and it may become difficult to form a desiccant film with uniform thickness.

これら乾燥剤を含有する液状材料を調製するための溶媒または分散媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。
この液状材料の上基板22上の乾燥剤膜形成領域223への供給方法および乾燥の方法は、前記工程[1A]における正孔輸送層形成工程で説明したのと同様である。
Examples of the solvent or dispersion medium for preparing the liquid material containing the desiccant include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, heptane, and cyclohexane. Is mentioned.
The method for supplying the liquid material to the desiccant film formation region 223 on the upper substrate 22 and the method for drying are the same as described in the hole transport layer forming step in the step [1A].

液状材料の塗布量は、1.0〜10.0μL/cm程度であるのが好ましく、2.0〜4.0μL/cm程度であるのがより好ましい。これにより、乾燥効果に優れた乾燥剤膜4を、上基板22上に形成することができる。
乾燥温度は100〜250℃程度であるのが好ましく、150〜200℃程度であるのがより好ましい。
The coating amount of the liquid material is preferably in the range of about 1.0~10.0μL / cm 2, more preferably about 2.0~4.0μL / cm 2. Thereby, the desiccant film 4 excellent in the drying effect can be formed on the upper substrate 22.
The drying temperature is preferably about 100 to 250 ° C, and more preferably about 150 to 200 ° C.

乾燥時間は、5〜120分程度であるのが好ましく、10〜40分程度であるのがより好ましい。
本実施形態では、乾燥剤膜4は、図1に示すように、乾燥剤膜4の下面が有機EL素子3の上面(陰極の有機半導体層側とは反対側の面)と接しないように、その厚さが設定される場合について説明したが、有機EL素子3の上面と接するように、その厚さが設定されていてもよい。かかる構成とすることにより、有機EL装置1aの厚さが薄くなるとともに、有機EL素子3の駆動時において、この素子で生じた熱を、乾燥剤膜4および上基板22を伝導させて、有機EL装置1aの外部に効率よく放熱させることができるという利点も得られる。
The drying time is preferably about 5 to 120 minutes, and more preferably about 10 to 40 minutes.
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the desiccant film 4 is such that the lower surface of the desiccant film 4 is not in contact with the upper surface of the organic EL element 3 (surface opposite to the organic semiconductor layer side of the cathode). Although the case where the thickness is set has been described, the thickness may be set so as to be in contact with the upper surface of the organic EL element 3. With this configuration, the thickness of the organic EL device 1a is reduced, and at the time of driving the organic EL element 3, the heat generated by this element is conducted through the desiccant film 4 and the upper substrate 22 to form the organic EL element 1a. There is also an advantage that heat can be efficiently radiated to the outside of the EL device 1a.

なお、乾燥剤膜4の下面が有機EL素子3の上面と接する構成とする場合、撥液膜5は、その厚さが乾燥剤膜4の厚さよりも薄く設定される。これにより、乾燥剤膜4の下面を有機EL素子3の上面に確実に接触させることができる。
具体的には、乾燥剤膜4の厚さは1.0〜6.0μm程度であるのが好ましく、2.0〜4.0μm程度であるのがより好ましい。
When the lower surface of the desiccant film 4 is in contact with the upper surface of the organic EL element 3, the liquid repellent film 5 is set thinner than the thickness of the desiccant film 4. Thereby, the lower surface of the desiccant film 4 can be reliably brought into contact with the upper surface of the organic EL element 3.
Specifically, the thickness of the desiccant film 4 is preferably about 1.0 to 6.0 μm, and more preferably about 2.0 to 4.0 μm.

上述したような形成工程で乾燥剤膜4を形成することにより、上基板22にザグリ加工のような特別な加工を施して、凹部を形成することなく、上基板22の表面に乾燥剤膜4を形成し得る。そのため、前記撥液膜形成工程[2A]で示したように、上基板22の表面に施す工程を簡易なものとすることができ、製造コストの低減を図ることができる。
また、本発明の有機発光素子の製造方法によれば、撥液膜形成領域221に撥液膜5を形成することにより、この撥液膜5によって、乾燥剤を含有する液状材料が乾燥剤膜形成領域223からはみ出てしまうのを防止し得ることから、乾燥剤膜4を、撥液膜形成領域221の内側に、所定の厚さで、確実に形成することができる。したがって、有機EL装置1a(閉空間24)内に残存または浸入した水分を、効率よく除去し得る乾燥剤膜4を形成することができる。さらに、たとえ封止部23が乾燥剤膜4により変質・劣化し易い材料で構成されていたとしても、乾燥剤膜4と封止部23とを、互いに接触することなく形成することができることから、これら同士が接触することによる乾燥剤膜4の変質・劣化を確実に防止することができる。
By forming the desiccant film 4 in the formation process as described above, the upper substrate 22 is subjected to a special process such as a counterbore process, and the desiccant film 4 is formed on the surface of the upper substrate 22 without forming a recess. Can be formed. Therefore, as shown in the liquid repellent film forming step [2A], the step applied to the surface of the upper substrate 22 can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.
In addition, according to the method for manufacturing an organic light emitting device of the present invention, the liquid repellent film 5 is formed in the liquid repellent film forming region 221, so that the liquid repellent film 5 allows the liquid material containing the desiccant to be the desiccant film. Since it can be prevented from protruding from the formation region 223, the desiccant film 4 can be reliably formed at a predetermined thickness inside the liquid repellent film formation region 221. Therefore, it is possible to form the desiccant film 4 that can efficiently remove the water remaining or entering the organic EL device 1a (closed space 24). Furthermore, even if the sealing part 23 is made of a material that is easily altered or deteriorated by the desiccant film 4, the desiccant film 4 and the sealing part 23 can be formed without contacting each other. The deterioration / deterioration of the desiccant film 4 due to the contact between them can be reliably prevented.

[4A]封止部形成工程(第3の工程)
次に、図2(d)に示すように、基板21、上基板22同士をこれらの縁部で封止する封止部23を形成することにより、基板21と上基板22とを貼り合せる。
本実施形態では、封止部23は、前述したような封止材231とギャップ材232とで構成されるが、以下では、封止材231を樹脂材料で構成する場合を一例に、封止部23を形成する工程について説明する。
[4A] Sealing part forming step (third step)
Next, as shown in FIG. 2 (d), the substrate 21 and the upper substrate 22 are bonded together by forming a sealing portion 23 that seals the substrate 21 and the upper substrate 22 at their edges.
In the present embodiment, the sealing portion 23 is configured by the sealing material 231 and the gap material 232 as described above, but in the following, a case where the sealing material 231 is configured by a resin material is taken as an example. A process for forming the portion 23 will be described.

(4A−1) まず、図2(c)に示すように、上基板22の封止部形成領域222に、ギャップ材232を含有する樹脂材料(封止材231)を供給する。
この製造方法では、前記工程[2A]において、撥液膜形成領域221に撥液膜5が形成されている。そのため、この撥液膜5により、封止部形成領域222に供給された樹脂材料がこの領域222からはみ出てしまうのを好適に防止し得ることから、次工程(4A−2)において、封止部23を、所定のパターンおよび厚さで確実に形成することができる。
(4A-1) First, as shown in FIG. 2C, a resin material (sealing material 231) containing the gap material 232 is supplied to the sealing portion forming region 222 of the upper substrate 22.
In this manufacturing method, the liquid repellent film 5 is formed in the liquid repellent film forming region 221 in the step [2A]. Therefore, the liquid repellent film 5 can suitably prevent the resin material supplied to the sealing portion forming region 222 from protruding from the region 222. Therefore, in the next step (4A-2), sealing is performed. The portion 23 can be reliably formed with a predetermined pattern and thickness.

(4A−2) 次に、図2(d)に示すように、基板21と上基板22とを、それぞれ、乾燥剤膜4を形成した側と、有機EL素子3を形成した側とを対向させて、樹脂材料(封止材231)を介在させた状態で貼り合わせ、この樹脂材料を固化させる(乾燥する)ことにより貼り合わせる。ここで、樹脂材料にはギャップ材232が含まれている。そのため、このギャップ材232により基板21と上基板22との離間距離を規定し得ることから、ギャップ材232の大きさを設定することにより、所望の厚さの封止部23を形成することができる。
なお、この封止部形成工程[4A]は、水分を極力除いた不活性ガス(例えばドライ窒素)やドライエアによるドライ雰囲気で行うのが好ましい。これにより、この封止工程に、有機EL装置1a(閉空間24)への水分の侵入を確実に防止することができる。
(4A-2) Next, as shown in FIG.2 (d), the board | substrate 21 and the upper board | substrate 22 respectively oppose the side in which the desiccant film | membrane 4 was formed, and the side in which the organic EL element 3 was formed. Then, bonding is performed with the resin material (sealing material 231) interposed, and the resin material is solidified (dried) to be bonded. Here, the resin material includes a gap material 232. Therefore, since the gap material 232 can define the separation distance between the substrate 21 and the upper substrate 22, the sealing portion 23 having a desired thickness can be formed by setting the size of the gap material 232. it can.
In addition, it is preferable to perform this sealing part formation process [4A] in the dry atmosphere by inert gas (for example, dry nitrogen) or dry air from which moisture was removed as much as possible. Thereby, the penetration | invasion of the water | moisture content to the organic EL apparatus 1a (closed space 24) can be reliably prevented in this sealing process.

以上のような工程を経て、有機EL装置1aが形成される。
このような製造方法では、上基板22に凹(ザグリ)部を形成するザグリ加工のような特別な加工を施すことなく、上基板22の表面(平坦な面)に乾燥剤膜4を形成し得るすなわち乾燥剤を担持し得るので、上基板22に施す加工が簡易なものとなる。したがって、有機EL装置の生産性の向上および製造コストの低減を図ることができる。
Through the steps as described above, the organic EL device 1a is formed.
In such a manufacturing method, the desiccant film 4 is formed on the surface (flat surface) of the upper substrate 22 without performing a special process such as a counterbore process that forms a concave (counterbore) portion on the upper substrate 22. That is, since the desiccant can be carried, the processing applied to the upper substrate 22 is simplified. Therefore, the productivity of the organic EL device can be improved and the manufacturing cost can be reduced.

なお、本実施形態では、乾燥剤膜4を有機EL素子3の形状に対応するように形成する場合について説明したが、このような場合に限定されず、本実施形態で説明した乾燥剤膜4を分割した形態のものであってもよい。このような形態の乾燥剤膜は、分割された乾燥剤膜を形成する領域の外側を取り囲むように上基板22上に撥液性を付与することにより形成される。   In the present embodiment, the case where the desiccant film 4 is formed so as to correspond to the shape of the organic EL element 3 has been described. However, the present invention is not limited to such a case, and the desiccant film 4 described in the present embodiment. May be divided. The desiccant film having such a form is formed by providing liquid repellency on the upper substrate 22 so as to surround the outside of the region where the divided desiccant film is formed.

<<第2の構成>>
次に、有機EL装置の第2の構成について説明する。
以下、有機EL装置の第2の構成について、前記第1の構成との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図5は、本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機EL装置の第2の構成を示した模式図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図5中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<< Second Configuration >>
Next, a second configuration of the organic EL device will be described.
Hereinafter, the second configuration of the organic EL device will be described with a focus on differences from the first configuration, and description of similar matters will be omitted.
FIG. 5 is a schematic diagram (longitudinal sectional view) showing a second configuration of the organic EL device obtained by applying the method for manufacturing the organic light emitting device of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 5 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

図5に示す有機EL装置1bは、封止部23の構成が異なる以外は、前記第1実施形態の有機EL装置1aと同様である。
すなわち、封止材231およびギャップ材232で構成される第1の封止部23aと、ギャップ材232を含まず封止材231で構成され、第1の封止部23aの有機EL素子3と反対側に接触して設けられた第2の封止部23bを備える以外は、前記第1実施形態の有機EL装置1aと同様である。
The organic EL device 1b shown in FIG. 5 is the same as the organic EL device 1a of the first embodiment except that the configuration of the sealing portion 23 is different.
That is, the first sealing portion 23a configured by the sealing material 231 and the gap material 232, and the organic EL element 3 of the first sealing portion 23a configured by the sealing material 231 without including the gap material 232 The organic EL device 1a is the same as that of the first embodiment except that the second sealing portion 23b provided in contact with the opposite side is provided.

ここで、第1の封止部23aは、前記第1の構成で説明した封止部23と同様の構成となっており、第2の封止部23bは、封止部23からギャップ材232を省略した構成となっている。換言すれば、前記第1の構成で説明した封止部23の外周部を封止材231で取り囲んだ構成となっている。
この有機EL装置1bでは、前記第1実施形態の有機EL装置1aで説明したのと同様の作用・効果が得られる。
Here, the first sealing portion 23 a has the same configuration as the sealing portion 23 described in the first configuration, and the second sealing portion 23 b extends from the sealing portion 23 to the gap material 232. Is omitted. In other words, the outer peripheral portion of the sealing portion 23 described in the first configuration is surrounded by the sealing material 231.
In this organic EL device 1b, the same operation and effect as described in the organic EL device 1a of the first embodiment can be obtained.

なお、封止部23をかかる構成とすることは、ギャップ材232が主として乾燥剤により構成されている場合に適用するのが特に効果的である。すなわち、第1の封止部23aの外側を第2の封止部23bで封止する構成とすることにより、第2の封止部23bを介して有機EL装置1bの外側から閉空間24内に水分が浸入するのが好適に防止または抑制し得るとともに、仮に水分が第2の封止部23bを透過(通過)したとしても、第1の封止部23内に含まれる乾燥剤(ギャップ材232)により水分を確実に捕捉する(吸着させる)ことができる。   In addition, it is especially effective to apply the sealing portion 23 to such a configuration when the gap material 232 is mainly composed of a desiccant. That is, the outside of the first sealing portion 23a is sealed with the second sealing portion 23b, so that the inside of the closed space 24 is formed from the outside of the organic EL device 1b via the second sealing portion 23b. It is possible to suitably prevent or suppress the ingress of moisture into the water, and even if moisture permeates (passes through) the second sealing portion 23b, the desiccant (gap) contained in the first sealing portion 23 Moisture can be reliably captured (adsorbed) by the material 232).

次に、図5に示す有機EL装置の第2の構成の製造方法、すなわち本発明の有機発光装置の製造方法について説明する。
以下、第2の構成の製造方法について、前記第1の構成の製造方法との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図6は、図5に示す有機EL装置の第2の構成を製造する方法を説明するための図(斜視図)である。なお、以下の説明では、図6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
Next, a manufacturing method of the second configuration of the organic EL device shown in FIG. 5, that is, a manufacturing method of the organic light emitting device of the present invention will be described.
Hereinafter, the manufacturing method of the second configuration will be described with a focus on differences from the manufacturing method of the first configuration, and description of the same matters will be omitted.
FIG. 6 is a view (perspective view) for explaining a method of manufacturing the second configuration of the organic EL device shown in FIG. In the following description, the upper side in FIG. 6 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

有機EL装置の第2の構成の製造方法は、前記第1の構成の製造方法と同様に、[1B]有機EL素子形成工程と、[2B]撥液膜形成工程と、[3B]乾燥剤膜形成工程と、[4B]封止部形成工程とを有しており、封止部形成工程[4B]において、基板21と上基板22との間に第1の封止部23aを形成した後、この第1の封止部23bの有機EL素子3と反対側に、第2の封止部23bを形成する以外は、前記第1の構成の製造方法で説明したのと同様である。   The manufacturing method of the second configuration of the organic EL device is similar to the manufacturing method of the first configuration, [1B] organic EL element forming step, [2B] liquid repellent film forming step, and [3B] desiccant. A film forming step and a [4B] sealing portion forming step. In the sealing portion forming step [4B], the first sealing portion 23a is formed between the substrate 21 and the upper substrate 22. Thereafter, the second sealing portion 23b is formed on the opposite side of the first sealing portion 23b from the organic EL element 3, and is the same as described in the manufacturing method of the first configuration.

以下、この封止部形成工程[4B]について説明する。
[4B]封止部形成工程
(4B−1) まず、図6(a)に示すように、上基板22の封止部形成領域222に、その縁部で上基板22の表面が露出するようにギャップ材232を含有する樹脂材料(封止材231)を供給する。
Hereinafter, this sealing part formation process [4B] is demonstrated.
[4B] Sealing Part Formation Step (4B-1) First, as shown in FIG. 6A, the surface of the upper substrate 22 is exposed at the edge of the sealing part forming region 222 of the upper substrate 22. A resin material (sealing material 231) containing the gap material 232 is supplied.

(4B−2) 次に、図6(b)に示すように、基板21と上基板22とを、それぞれ、乾燥剤膜4を形成した側、有機EL素子3を形成した側を対向させて、前記樹脂材料を介在させた状態で貼り合わせた後、この樹脂材料を固化して(乾燥させて)、第1の封止部23aを形成することにより接合する。
(4B−3) 次に、図6(c)に示すように、基板21と上基板22との縁部に形成された第1の封止部23aの有機EL素子3と反対側を、すなわち第1の封止部23aを取り囲むようにして、ギャップ材232を含有しない樹脂材料(封止材231)を供給した後、この樹脂材料を固化して(乾燥させて)、第2の封止部23bを形成する。
(4B-2) Next, as shown in FIG.6 (b), the board | substrate 21 and the upper board | substrate 22 are made to respectively oppose the side in which the desiccant film | membrane 4 was formed, and the side in which the organic EL element 3 was formed. After bonding together with the resin material interposed, the resin material is solidified (dried) and bonded by forming the first sealing portion 23a.
(4B-3) Next, as shown in FIG. 6C, the side opposite to the organic EL element 3 of the first sealing portion 23a formed at the edge portion of the substrate 21 and the upper substrate 22, that is, After the resin material not containing the gap material 232 (sealing material 231) is supplied so as to surround the first sealing portion 23a, the resin material is solidified (dried), and the second sealing is performed. A portion 23b is formed.

以上のような工程を経ることにより、第1の封止部23aと第2の封止部23bとで構成される封止部23が形成される。
封止部23をかかる構成とすることにより、第2の封止部23bにより有機EL装置1bの外側から閉空間24内に水分が浸入するのを好適に防止または抑制することができる。さらに、たとえ第2の封止部23bを水分が通過(透過)したとしても、第1の封止部23内に含まれる乾燥剤に水分を確実に吸着(捕捉)させることができる。
By passing through the above processes, the sealing part 23 comprised by the 1st sealing part 23a and the 2nd sealing part 23b is formed.
By adopting such a configuration for the sealing portion 23, it is possible to suitably prevent or suppress moisture from entering the closed space 24 from the outside of the organic EL device 1b by the second sealing portion 23b. Furthermore, even if moisture passes (permeates) through the second sealing portion 23b, the moisture can be reliably adsorbed (captured) by the desiccant contained in the first sealing portion 23.

<<第3の構成>>
次に、有機EL装置の第3の構成について説明する。
以下、有機EL装置の第3の構成について、前記第1の構成との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図7は、本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機EL装置の第3の構成を示した模式図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図7中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<< Third Configuration >>
Next, a third configuration of the organic EL device will be described.
Hereinafter, the third configuration of the organic EL device will be described with a focus on differences from the first configuration, and description of similar matters will be omitted.
FIG. 7 is a schematic view (longitudinal sectional view) showing a third configuration of the organic EL device obtained by applying the method for manufacturing the organic light emitting device of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 7 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

図7に示す有機EL装置1cは、封止材231が樹脂材料で構成され、上基板22の封止部形成領域222に、樹脂材料(封止材231)に対して親和性を有する樹脂親和膜6が形成されている以外は、前記第1実施形態の有機EL装置1aと同様である。
この有機EL装置1cでは、前記第1実施形態の有機EL装置と同様の作用・効果が得られる。
In the organic EL device 1c shown in FIG. 7, the sealing material 231 is made of a resin material, and the resin affinity having an affinity for the resin material (sealing material 231) is formed in the sealing portion forming region 222 of the upper substrate 22. The organic EL device 1a is the same as that of the first embodiment except that the film 6 is formed.
In this organic EL device 1c, the same operation and effect as the organic EL device of the first embodiment can be obtained.

また、この有機EL装置1cでは、上基板22上の封止部形成領域222に、樹脂親和膜6が形成されていることから、上基板22と封止部23(樹脂材料)との密着性が向上することとなる。そのため、上基板22が、封止材231との密着性が低い材料(例えば、金属材料)で構成される場合であっても、樹脂親和膜6を介して封止部23を上基板22に密着性よく固定(固着)することができる。これにより、上基板22と封止部23との界面における密閉性が向上して、有機EL装置1c(閉空間24)内への水分の浸入をより好適に防止または抑制することができる。   Moreover, in this organic EL device 1c, since the resin affinity film 6 is formed in the sealing portion forming region 222 on the upper substrate 22, the adhesion between the upper substrate 22 and the sealing portion 23 (resin material). Will be improved. Therefore, even if the upper substrate 22 is made of a material having low adhesion to the sealing material 231 (for example, a metal material), the sealing portion 23 is attached to the upper substrate 22 via the resin affinity film 6. It can be fixed (fixed) with good adhesion. Thereby, the airtightness in the interface of the upper board | substrate 22 and the sealing part 23 improves, and the penetration | invasion of the water | moisture content in the organic EL apparatus 1c (closed space 24) can be prevented or suppressed more suitably.

次に、図7に示す有機EL装置の第3の構成の製造方法、すなわち本発明の有機発光装置の製造方法について説明する。
以下、第3の構成の製造方法について、第1の構成の製造方法との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
有機EL装置の第3の構成を製造する方法は、[1C]有機EL素子形成工程と、[2C]撥液膜形成工程と、[3C]樹脂親和膜形成工程と、[4C]乾燥剤膜形成工程と、[5C]封止部形成工程とを有しており、樹脂親和膜形成工程[3C]において、上基板22上の封止部形成領域222に、樹脂親和膜6を形成して、樹脂材料に対する親和性を付与する以外は、前記第1の構成の製造方法で説明したのと同様である。すなわち、封止部形成工程[5C](第3の工程)に先立って、樹脂親和膜形成工程[3C]を有する以外は、前記第1の構成の製造方法で説明したのと同様である。
Next, a manufacturing method of the third configuration of the organic EL device shown in FIG. 7, that is, a manufacturing method of the organic light emitting device of the present invention will be described.
Hereinafter, the manufacturing method of the third configuration will be described with a focus on differences from the manufacturing method of the first configuration, and description of similar matters will be omitted.
The method of manufacturing the third configuration of the organic EL device includes the [1C] organic EL element forming step, the [2C] liquid repellent film forming step, the [3C] resin affinity film forming step, and the [4C] desiccant film. And a [5C] sealing portion forming step. In the resin affinity film forming step [3C], the resin affinity film 6 is formed in the sealing portion forming region 222 on the upper substrate 22. The method is the same as that described in the manufacturing method of the first configuration, except that the resin material is given affinity. That is, it is the same as that described in the manufacturing method of the first configuration, except that the resin affinity film forming step [3C] is provided prior to the sealing portion forming step [5C] (third step).

以下、樹脂親和膜形成工程[3C]について説明する。
[3C]樹脂親和膜形成工程
上基板22の封止部材形成領域222に、樹脂親和膜6を形成して樹脂材料に対する親和性を付与する。
なお、本明細書において、「樹脂材料との親和性を有する」とは、樹脂材料との反応性または相互作用が高いことを言う。
Hereinafter, the resin affinity film forming step [3C] will be described.
[3C] Resin affinity film forming step The resin affinity film 6 is formed in the sealing member forming region 222 of the upper substrate 22 to impart affinity to the resin material.
In the present specification, “having affinity with a resin material” means that the reactivity or interaction with the resin material is high.

この封止部形成領域222への樹脂材料に対する親和性の付与は、上基板22上の封止部形成領域222に、樹脂材料に対して親和性を有する樹脂親和膜6を形成することにより行うことができる。
このような樹脂親和膜6は、例えば、上基板22上の封止部形成領域222に、樹脂材料に対して親和性を有するカップリング剤を化学的に結合させることにより形成することができる。
The sealing portion forming region 222 is given affinity for the resin material by forming the resin affinity film 6 having affinity for the resin material in the sealing portion forming region 222 on the upper substrate 22. be able to.
Such a resin affinity film 6 can be formed by, for example, chemically coupling a coupling agent having affinity for the resin material to the sealing portion forming region 222 on the upper substrate 22.

以下、樹脂材料に対して親液性を有するカップリング剤を用いて樹脂親和膜6を形成する方法について説明する。
この方法では、撥液性を有するカップリング剤に代えて、樹脂材料に対して親和性を有するカップリング剤を用い、この親和性を有するカップリング剤を封止部形成領域222に供給して、上基板22上のこの領域222に樹脂親和膜6を形成する以外は、前記工程[2A]で説明したIIの方法と同様である。
Hereinafter, a method for forming the resin affinity film 6 using a coupling agent having a lyophilic property to the resin material will be described.
In this method, instead of the coupling agent having liquid repellency, a coupling agent having affinity for the resin material is used, and the coupling agent having this affinity is supplied to the sealing portion forming region 222. The method II is the same as that described in the step [2A] except that the resin affinity film 6 is formed in this region 222 on the upper substrate 22.

かかる方法において、樹脂材料に対して親和性を有するカップリング剤としては、樹脂材料に対して親和性を有する官能基と、上基板22と結合する反応性基とを有するものが好適に用いられる。
このような化合物を上基板22の表面の封止部形成領域222に供給すると、化合物の反応性基が上基板22に結合する。これにより、樹脂親和膜6を封止部形成領域222に密着性よく形成することができる。
In such a method, as the coupling agent having affinity for the resin material, one having a functional group having affinity for the resin material and a reactive group that binds to the upper substrate 22 is preferably used. .
When such a compound is supplied to the sealing portion forming region 222 on the surface of the upper substrate 22, the reactive group of the compound is bonded to the upper substrate 22. Thereby, the resin affinity film 6 can be formed in the sealing portion forming region 222 with good adhesion.

なお、ここでは、樹脂材料に対して親和性を有するカップリング剤を「第2のカップリング剤」、この化合物が有する樹脂材料に対して親和性を有する官能基および上基板と結合する反応性基を、それぞれ、「第2の官能基」および「第2の反応性基」と言う場合がある。
第2の反応性基は、前述した第1の反応性基と同一のものが挙げられ、この第2の反応性基も、第2のカップリング剤に複数含まれるのが好ましく、上基板22がその表面に水酸基を露出する構成である場合、加水分解基を含むものであるのが好ましい。
Here, the coupling agent having an affinity for the resin material is referred to as “second coupling agent”, the functional group having an affinity for the resin material of this compound, and the reactivity to bind to the upper substrate. The groups may be referred to as “second functional group” and “second reactive group”, respectively.
The second reactive group may be the same as the first reactive group described above, and it is preferable that a plurality of the second reactive groups are included in the second coupling agent. Is a structure in which a hydroxyl group is exposed on the surface thereof, it preferably contains a hydrolyzable group.

第2の官能基としては、特に限定されないが、例えば、樹脂材料(封止材231)が主としてエポキシ系樹脂で構成される場合、例えば、イミダゾール基やトリアゾール基のようなアゾール基、アミノ基、エポキシ基およびビニル基等を含むものが挙げられ、これらの中でも、特に、アミノ基またはアゾール基を含むものであるのが好ましい。これらの基を含む官能基は、エポキシ系樹脂に対して特に優れた親和性(反応性、相互作用)を有するものであることから、第2のカップリング剤は、封止部23に対して優れた密着性を示すものとなる。   The second functional group is not particularly limited. For example, when the resin material (sealing material 231) is mainly composed of an epoxy resin, for example, an azole group such as an imidazole group or a triazole group, an amino group, Examples include those containing an epoxy group and a vinyl group. Among these, those containing an amino group or an azole group are particularly preferable. Since the functional group containing these groups has particularly excellent affinity (reactivity, interaction) for the epoxy resin, the second coupling agent is used for the sealing portion 23. It exhibits excellent adhesion.

また、樹脂材料(封止材231)が主としてアクリル系樹脂で構成される場合、第2の官能基としては、特に、リン酸基を含むものを選択するのが好ましい。この基を含む官能基は、アクリル系樹脂に対して特に優れた親和性を有するものであることから、第2のカップリング剤は、封止部23に対して優れた密着性を示すものとなる。
また、第2の官能基の重量平均分子量は、200〜4000程度であるのが好ましく、1000〜2000程度であるのがより好ましい。
Further, when the resin material (sealing material 231) is mainly composed of an acrylic resin, it is particularly preferable to select a material containing a phosphate group as the second functional group. Since the functional group containing this group has particularly excellent affinity for the acrylic resin, the second coupling agent has excellent adhesion to the sealing portion 23. Become.
Moreover, it is preferable that the weight average molecular weight of a 2nd functional group is about 200-4000, and it is more preferable that it is about 1000-2000.

以上のことを考慮すると、前記封止材231がエポキシ系樹脂で構成される場合、第2のカップリング剤としては、アミノ基またはアゾール基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤を用いるのが好ましい。
このようなアミノ基またはアゾール基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤の具体例は、アミノ基を含むものとして、例えば、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、アゾール基を含むものとして、例えば、PA−2(日鉱マテリアル社製)、IS−1000(日鉱マテリアル社製)、IM−1000(日鉱マテリアル社製)等に含まれるものが挙げられる。
Considering the above, when the sealing material 231 is made of an epoxy resin, a silane coupling agent having a functional group containing an amino group or an azole group is used as the second coupling agent. Is preferred.
Specific examples of such a silane coupling agent having a functional group containing an amino group or an azole group include N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane, N- 2 (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, etc. are mentioned, and those containing an azole group include, for example, PA-2 (manufactured by Nikko Materials), IS-1000 (Nikko Materials). And those included in IM-1000 (manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.).

また、樹脂材料(封止材231)が主としてアクリル系樹脂で構成される場合、第2のカップリング剤としては、リン酸基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤を用いるのが好ましい。
このようなリン酸基を含む官能基を備えるシラン系カップリング剤の具体例は、例えば、F−100(電気化学工業社製)等に含まれるものが挙げられる。
When the resin material (sealing material 231) is mainly composed of an acrylic resin, it is preferable to use a silane coupling agent having a functional group containing a phosphate group as the second coupling agent.
Specific examples of such a silane coupling agent having a functional group containing a phosphate group include those contained in F-100 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

また、第2のカップリング剤を封止部形成領域222に供給する方法としては、第1のカップリング剤を撥液膜形成領域221に供給する方法で説明したのと同様のものを用いることができる。
以上のようにして、上基板(基材)22上にレジスト層のようなバンクを設けることなく、上基板22の表面の2つの領域である撥液膜形成領域221および封止部形成領域222に、それぞれ、撥液膜5および樹脂親和膜6を形成することができ、膜形成に要する時間および製造コストの削減を図ることができる。
Further, as a method of supplying the second coupling agent to the sealing portion forming region 222, the same method as described in the method of supplying the first coupling agent to the liquid repellent film forming region 221 is used. Can do.
As described above, the liquid repellent film forming region 221 and the sealing portion forming region 222 which are two regions on the surface of the upper substrate 22 are provided without providing a bank such as a resist layer on the upper substrate (base material) 22. In addition, the liquid repellent film 5 and the resin affinity film 6 can be formed, respectively, and the time required for film formation and the manufacturing cost can be reduced.

なお、前記撥液膜形成工程[2C]と、前記親液性膜形成工程[3C]との順序は、前述した場合に限定されず、前記工程[2C]と前記工程[3C]とをほぼ同時に行うようにしてもよいし、前記工程[2C]に先立って、前記工程[3C]を行うようにしてもよい。
かかる構成とすることにより、後工程である封止部形成工程[5C]において、上基板22の封止部形成領域222に樹脂親和膜6が形成されているので、この領域222に、樹脂材料を主材料とする封止部23を密着性よく形成することができる。
The order of the liquid repellent film forming step [2C] and the lyophilic film forming step [3C] is not limited to the above-described case, and the steps [2C] and [3C] are almost the same. The step [3C] may be performed prior to the step [2C].
With this configuration, the resin affinity film 6 is formed in the sealing portion forming region 222 of the upper substrate 22 in the sealing portion forming step [5C], which is a subsequent step. Can be formed with good adhesion.

この第3の構成の製造方法では、第1の構成の製造方法と同様の作用・効果が得られる。
また、この第3の構成の製造方法では、上基板22上の封止部形成領域222に樹脂親和膜6が形成されていることにより、たとえ、上基板22が、封止材231との密着性が低い材料(例えば、金属材料)で構成されている場合であっても、上基板22に封止部23を密着性よく固定することができる。その結果、上基板22と封止部23との界面の密閉性が高くなり、有機EL装置1c(閉空間24)内への水分の浸入が好適に防止または抑制された有機EL装置を得ることができる。
In the manufacturing method of the third configuration, the same operation and effect as the manufacturing method of the first configuration can be obtained.
In the manufacturing method of the third configuration, since the resin affinity film 6 is formed in the sealing portion forming region 222 on the upper substrate 22, the upper substrate 22 is in close contact with the sealing material 231. Even if it is a case where it consists of material (for example, metal material) with low property, the sealing part 23 can be fixed to the upper board | substrate 22 with sufficient adhesiveness. As a result, the hermeticity of the interface between the upper substrate 22 and the sealing portion 23 is improved, and an organic EL device in which moisture permeation into the organic EL device 1c (closed space 24) is suitably prevented or suppressed is obtained. Can do.

<電子機器>
このような有機EL装置(本発明の有機発光装置)1a、1bは、各種の電子機器に組み込むことができる。
図8は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
<Electronic equipment>
Such organic EL devices (organic light-emitting devices of the present invention) 1a and 1b can be incorporated into various electronic devices.
FIG. 8 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.

この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ1100において、表示ユニット1106が前述の有機EL装置1a〜1eを備えている。
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display. The display unit 1106 is rotatable with respect to the main body 1104 via a hinge structure. It is supported by.
In the personal computer 1100, the display unit 1106 includes the organic EL devices 1a to 1e described above.

図9は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、表示部を備えている。
携帯電話機1200において、この表示部が前述の有機EL装置1a〜1eを備えている。
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204 and a mouthpiece 1206, and a display unit.
In the mobile phone 1200, the display unit includes the organic EL devices 1a to 1e described above.

図10は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
FIG. 10 is a perspective view showing the configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ1300において、この表示部が前述の有機EL装置1a〜1eを備えている。
A display unit is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD, and functions as a finder that displays an object as an electronic image.
In the digital still camera 1300, the display unit includes the organic EL devices 1a to 1e described above.

ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A circuit board 1308 is installed inside the case. The circuit board 1308 is provided with a memory that can store (store) an imaging signal.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side of the case 1302 (on the back side in the illustrated configuration).
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308.

また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。   In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the data communication input / output terminal 1314 as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

なお、本発明の電子機器は、図10のパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、図9の携帯電話機、図8のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。また、本発明の電子機器は、表示機能を有しない発光機能のみを有するものであってもよい。   In addition to the personal computer (mobile personal computer) in FIG. 10, the mobile phone in FIG. 9, and the digital still camera in FIG. 8, the electronic apparatus of the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation system, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV Monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers and automatic ticket vending machines for financial institutions), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiographs, ultrasound diagnostic devices, internal Endoscopic display device), fish finder, various measuring instruments Instruments (e.g., gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, various monitors, and a projection display such as a projector. The electronic device of the present invention may have only a light emitting function that does not have a display function.

以上、本発明の有機発光装置の製造方法、有機発光装置および電子機器を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、本発明の有機発光装置の製造方法では、必要に応じて、1以上の任意の目的の工程を追加してもよい。
また、本発明の有機発光装置は、各前記実施形態のうち任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。
As mentioned above, although the manufacturing method of the organic light-emitting device, organic light-emitting device, and electronic device of this invention were demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to these.
For example, in the method for manufacturing an organic light-emitting device of the present invention, one or more optional steps may be added as necessary.
Moreover, the organic light-emitting device of the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above-described embodiments.

また、本発明の有機発光装置は、上基板側から光を取り出す構成(トップエミッション型)であってもよい。この場合には、上基板の材料として、透光性を有する材料が用いられる。
さらに、本発明の有機発光装置の各部の構成は、同様の機能を発揮し得る任意のものと置換することができ、あるいは、任意の構成のものを付加することもできる。
Further, the organic light emitting device of the present invention may be configured to extract light from the upper substrate side (top emission type). In this case, a material having translucency is used as the material of the upper substrate.
Furthermore, the structure of each part of the organic light-emitting device of the present invention can be replaced with an arbitrary one that can exhibit the same function, or an arbitrary structure can be added.

本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機エレクトロルミネッセンス装置の第1の構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the 1st structure of the organic electroluminescent apparatus obtained by applying the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. 本発明の有機発光装置の製造方法により有機EL装置の第1の構成を製造する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method to manufacture the 1st structure of an organic electroluminescent apparatus with the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. 本発明の有機発光装置の製造方法で用いられるプラズマ重合装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the plasma polymerization apparatus used with the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. プラズマ重合によって撥液膜を成膜する際に用いられるマスクを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mask used when forming a liquid repellent film | membrane by plasma polymerization. 本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機エレクトロルミネッセンス装置の第2の構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the 2nd structure of the organic electroluminescent apparatus obtained by applying the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. 本発明の有機発光装置の製造方法により有機EL装置の第2の構成を製造する方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method to manufacture the 2nd structure of an organic electroluminescent apparatus with the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. 本発明の有機発光装置の製造方法を適用して得られた有機エレクトロルミネッセンス装置の第3の構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the 3rd structure of the organic electroluminescent apparatus obtained by applying the manufacturing method of the organic light-emitting device of this invention. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus of the present invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1a、1b、1c……有機EL装置 2……ケーシング 21……基板 22……上基板 221……撥液膜形成領域 222……封止部形成領域 223……乾燥剤膜形成領域 23……封止部 23a……第1の封止部 23b……第2の封止部 231……封止材 232……ギャップ材 24……閉空間 3……有機EL素子 31……陽極 32……有機半導体層 33……陰極 4……乾燥剤膜 5……撥液膜 6……樹脂親和膜 100……プラズマ重合装置 101……真空ポンプ 102……ガス供給管 103……真空チャンバ 104……電極 105……ヘッド 106……高周波電源 107……上壁 108……マスク 109……第1の部分 110……第2の部分 111……梁部 1100……パーソナルコンピュータ 1102……キーボード 1104……本体部 1106……表示ユニット 1200……携帯電話機 1202……操作ボタン 1204……受話口 1206……送話口 1300……ディジタルスチルカメラ 1302……ケース(ボディー) 1304……受光ユニット 1306……シャッタボタン 1308……回路基板 1312……ビデオ信号出力端子 1314……データ通信用の入出力端子 1430……テレビモニタ 1440……パーソナルコンピュータ   1a, 1b, 1c ... Organic EL device 2 ... Casing 21 ... Substrate 22 ... Upper substrate 221 ... Liquid repellent film forming region 222 ... Sealing portion forming region 223 ... Desiccant film forming region 23 ... Sealing portion 23a …… First sealing portion 23b …… Second sealing portion 231 …… Sealing material 232 …… Gap material 24 …… Closed space 3 …… Organic EL element 31 …… Anode 32 …… Organic semiconductor layer 33 ... Cathode 4 ... Desiccant film 5 ... Liquid repellent film 6 ... Resin affinity film 100 ... Plasma polymerization apparatus 101 ... Vacuum pump 102 ... Gas supply pipe 103 ... Vacuum chamber 104 ... Electrode 105... Head 106... High-frequency power source 107... Upper wall 108... Mask 109... First part 110 ... Second part 111. …… Keyboard 1104 …… Main body 1106 …… Display unit 1200 …… Mobile phone 1202 …… Operation buttons 1204 …… Earpiece 1206 …… Speaker 1300 …… Digital still camera 1302 …… Case (body) 1304 …… Light receiving unit 1306 …… Shutter button 1308 …… Circuit board 1312 …… Video signal output terminal 1314 …… Input / output terminal for data communication 1430 …… TV monitor 1440 …… Personal computer

Claims (14)

互いに対向する一対の基板と、該一対の基板同士の間に閉空間が形成されるように、前記一対の基板同士を封止する封止部とを備えるケーシングと、
前記一対の基板のうち、一方の基板の前記閉空間側に設けられ、主として有機発光材料で構成される有機発光層を備える有機発光素子と、
前記一対の基板のうち、他方の基板の前記閉空間側に設けられ、主として乾燥剤で構成される乾燥剤膜とを有する有機発光装置の製造方法であって、
前記閉空間内における前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記乾燥剤膜を形成しない第1の領域に、撥液性を付与し、撥液膜を形成する第1の工程と、
前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記乾燥剤膜を形成する第2の領域に、前記乾燥剤を含有する液状材料を供給して、該液状材料を、前記撥液膜により前記第2の領域に保持した状態で乾燥することにより、前記乾燥剤膜を形成する第2の工程と、
前記有機発光素子が形成された前記一方の基板と、前記乾燥剤膜が形成された前記他方の基板とを、前記有機発光素子と前記乾燥剤膜とが対向するようにして前記封止部を形成することにより貼り合せる第3の工程とを有することを特徴とする有機発光装置の製造方法。
A casing provided with a pair of substrates facing each other and a sealing portion for sealing the pair of substrates so that a closed space is formed between the pair of substrates;
Of the pair of substrates, an organic light emitting element including an organic light emitting layer that is provided on the closed space side of one of the substrates and is mainly composed of an organic light emitting material;
Among the pair of substrates, a manufacturing method of an organic light emitting device having a desiccant film provided on the closed space side of the other substrate and mainly composed of a desiccant,
A first step of providing liquid repellency and forming a liquid repellent film on the first region of the other substrate in the closed space where the desiccant film is not formed on the surface on the closed space side;
A liquid material containing the desiccant is supplied to a second region for forming the desiccant film on the surface of the other substrate on the closed space side, and the liquid material is supplied to the second region by the liquid repellent film. A second step of forming the desiccant film by drying in a state of being held in the region of 2,
The one substrate on which the organic light emitting element is formed and the other substrate on which the desiccant film is formed are arranged so that the organic light emitting element and the desiccant film face each other. And a third step of bonding by forming the organic light-emitting device.
前記第1の領域は、前記第2の領域の外周部分である請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic light-emitting device according to claim 1, wherein the first region is an outer peripheral portion of the second region. 前記第1の工程において、前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記第1の領域に、撥液性を有する化合物を主材料とする撥液膜を、プラズマ重合法を用いて形成することにより撥液性を付与する請求項1または2に記載の有機発光装置の製造方法。   In the first step, a liquid repellent film containing a liquid repellent compound as a main material is formed in the first region of the surface of the other substrate on the closed space side using a plasma polymerization method. The manufacturing method of the organic light-emitting device of Claim 1 or 2 which provides liquid repellency by this. 前記第3の工程において、前記封止部は、前記一方の基板と前記他方の基板との間に供給された樹脂材料を固化させることにより形成される請求項1ないし3のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。   4. The method according to claim 1, wherein in the third step, the sealing portion is formed by solidifying a resin material supplied between the one substrate and the other substrate. 5. Manufacturing method of organic light-emitting device. 前記第3の工程に先立って、前記他方の基板の前記封止部を形成する領域に、前記樹脂材料に対して親和性を有する化合物を主材料とする樹脂親和膜を形成することにより前記樹脂材料に対する親和性を付与する請求項4に記載の有機発光装置の製造方法。   Prior to the third step, the resin is formed by forming a resin affinity film mainly composed of a compound having affinity for the resin material in a region where the sealing portion of the other substrate is formed. The manufacturing method of the organic light-emitting device of Claim 4 which provides affinity with material. 前記樹脂材料は、ギャップ材を含み、該ギャップ材により前記封止部の厚さが規定される請求項4または5に記載の有機発光装置の製造方法。   The method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 4, wherein the resin material includes a gap material, and the thickness of the sealing portion is defined by the gap material. 前記ギャップ材は、粒子で構成される請求項6に記載の有機発光装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 6, wherein the gap material is composed of particles. 前記ギャップ材は、主として乾燥剤で構成される請求項6または7に記載の有機発光装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 6, wherein the gap material is mainly composed of a desiccant. 前記第3の工程において、前記封止部は、前記一方の基板と前記他方の基板との間に供給された前記ギャップ材を含む第1の樹脂材料を固化させた後、固化した前記第1の樹脂材料の前記有機発光素子と反対側に、前記ギャップ材を含まない第2の樹脂材料を供給して固化させることにより形成される請求項8に記載の有機発光装置の製造方法。   In the third step, the sealing portion solidifies the first resin material including the gap material supplied between the one substrate and the other substrate, and then solidifies the first resin material. The method of manufacturing an organic light emitting device according to claim 8, wherein the second resin material not including the gap material is supplied and solidified on the opposite side of the resin material to the organic light emitting element. 前記第3の工程において、前記封止部は、前記他方の基板の前記閉空間側の面の前記第1の領域に前記撥液膜が形成されていることにより、前記乾燥剤膜と離間して形成される請求項1ないし9のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。   In the third step, the sealing portion is separated from the desiccant film by forming the liquid repellent film in the first region of the surface of the other substrate on the closed space side. A method for manufacturing an organic light emitting device according to claim 1, wherein the organic light emitting device is formed. 前記第3の工程において、前記乾燥剤膜と前記発光素子とを接触させる請求項1ないし10のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。   The manufacturing method of the organic light-emitting device according to claim 1, wherein in the third step, the desiccant film and the light-emitting element are brought into contact with each other. 前記封止部は、雰囲気の温度を40℃とした時の水蒸気透過度(JIS K 7129に規定)が、10[g/m・day・90%RH]以下である請求項1ないし11のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法。 The water vapor permeability (specified in JIS K 7129) when the temperature of the atmosphere is 40 ° C. is 10 [g / m 2 · day · 90% RH] or less. The manufacturing method of the organic light-emitting device in any one. 請求項1ないし12のいずれかに記載の有機発光装置の製造方法で製造されたことを特徴とする有機発光装置。   An organic light-emitting device manufactured by the method for manufacturing an organic light-emitting device according to claim 1. 請求項13に記載の有機発光装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the organic light-emitting device according to claim 13.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012023038A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Samsung Mobile Display Co Ltd Organic light-emitting apparatus and method of manufacturing the same
CN104201295A (en) * 2014-09-16 2014-12-10 深圳市华星光电技术有限公司 OLED (organic LED) packaging method and OLED structure
CN104241332A (en) * 2014-09-30 2014-12-24 深圳市华星光电技术有限公司 White-light OLED (organic light-emitting diode) display and packaging method thereof

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0933711A (en) * 1995-07-14 1997-02-07 Canon Inc Selective water-repelling treatment for substrate, substrate provided with light-shielding member, and color filter substrate for imaging element
JP2000100558A (en) * 1998-09-18 2000-04-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Luminescent device
JP2000100561A (en) * 1998-09-21 2000-04-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Organic electroluminescent element
JP2000311782A (en) * 1999-04-27 2000-11-07 Nec Corp Organic el display, and manufacture thereof
JP2002093573A (en) * 2000-09-14 2002-03-29 Nisshin Steel Co Ltd Insulating sealing component for organic el device
JP2002208478A (en) * 2000-12-23 2002-07-26 Lg Philips Lcd Co Ltd Electroluminescent element
JP2003264061A (en) * 2002-03-07 2003-09-19 Futaba Corp Organic el element
JP2005209412A (en) * 2004-01-20 2005-08-04 Sanyo Electric Co Ltd Light-emitting device
JP2005209633A (en) * 2003-12-26 2005-08-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and method for manufacturing display device
JP2005320404A (en) * 2004-05-07 2005-11-17 Nagase Chemtex Corp Adhesive composition for sealing electronic component and manufacturing method of organic electroluminescence device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0933711A (en) * 1995-07-14 1997-02-07 Canon Inc Selective water-repelling treatment for substrate, substrate provided with light-shielding member, and color filter substrate for imaging element
JP2000100558A (en) * 1998-09-18 2000-04-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Luminescent device
JP2000100561A (en) * 1998-09-21 2000-04-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Organic electroluminescent element
JP2000311782A (en) * 1999-04-27 2000-11-07 Nec Corp Organic el display, and manufacture thereof
JP2002093573A (en) * 2000-09-14 2002-03-29 Nisshin Steel Co Ltd Insulating sealing component for organic el device
JP2002208478A (en) * 2000-12-23 2002-07-26 Lg Philips Lcd Co Ltd Electroluminescent element
JP2003264061A (en) * 2002-03-07 2003-09-19 Futaba Corp Organic el element
JP2005209633A (en) * 2003-12-26 2005-08-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device and method for manufacturing display device
JP2005209412A (en) * 2004-01-20 2005-08-04 Sanyo Electric Co Ltd Light-emitting device
JP2005320404A (en) * 2004-05-07 2005-11-17 Nagase Chemtex Corp Adhesive composition for sealing electronic component and manufacturing method of organic electroluminescence device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012023038A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Samsung Mobile Display Co Ltd Organic light-emitting apparatus and method of manufacturing the same
US9105870B2 (en) 2010-07-12 2015-08-11 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting apparatus and method of manufacturing the same
CN104201295A (en) * 2014-09-16 2014-12-10 深圳市华星光电技术有限公司 OLED (organic LED) packaging method and OLED structure
US9614176B2 (en) 2014-09-16 2017-04-04 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Encapsulation method of OLED and a structure of OLED
CN104241332A (en) * 2014-09-30 2014-12-24 深圳市华星光电技术有限公司 White-light OLED (organic light-emitting diode) display and packaging method thereof

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