JP2008014803A - 細胞電気生理センサとその製造方法 - Google Patents
細胞電気生理センサとその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008014803A JP2008014803A JP2006186412A JP2006186412A JP2008014803A JP 2008014803 A JP2008014803 A JP 2008014803A JP 2006186412 A JP2006186412 A JP 2006186412A JP 2006186412 A JP2006186412 A JP 2006186412A JP 2008014803 A JP2008014803 A JP 2008014803A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell
- holding chip
- hole
- plate
- cell holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
【解決手段】この目的を達成するため本発明は、上面から下面までを貫通する孔14を有するプレート12と、孔14にはめ込まれた細胞保持チップ15と、この細胞保持チップ15の上方に設けられた第一電極槽16と、細胞保持チップ15の下方に設けられた第二電極槽17とを備え、細胞保持チップ15は、第一電極槽16と第二電極槽17とを繋ぐ導通孔21を備え、細胞保持チップ15の外側面、またはプレート12に設けられた孔14の内壁面の少なくともいずれか一方には、凹凸が形成されているものとした。
これにより本発明は、細胞保持チップ15とプレート12との接触抵抗を増大させることができ、強固に固定できる。
【選択図】図2
Description
以下、本発明の実施の形態における細胞電気生理センサ9の構造について説明する。
本実施の形態と実施の形態1との構造の違いは、細胞保持チップ15の表面にシリコン酸化物からなる絶縁膜を形成した点である。また製造方法の違いは、細胞保持チップ15をプレート12の孔14に実装する前処理として、意図的に電圧を印加し、細胞保持チップ15とプレート12とを帯電させた点である。
本実施の形態と実施の形態1との違いは、図12に示すように、プレート12に設けられた孔14と細胞保持チップ15の側壁部15Bとを、下方に向かって先細くなる円柱台形とした点である。
本実施の形態と実施の形態1との違いは、図13に示すように、孔14の開口部32が、孔14の内部からプレート12の下面に向けて外方に広がるテーパ構造となるように形成した点である。
10 導入口
11 ウエル
12 プレート
13 流路基板
14 孔
15 細胞保持チップ
15A 底面板
15B 側壁部
16 第一電極槽
17 第二電極槽
18A 電解液
18B 電解液
19 第一電極
20 第二電極
21 導通孔
22 被験体細胞
23 基板
24A レジストマスク
24B レジストマスク
25 溝
26 第一凹凸
26A 凹部
26B 凸部
27 第二凹凸
28 接着剤
29 エッチングホール
30 エッチングホール
31 エッチングホール
Claims (12)
- 上面から下面までを貫通する孔を有するプレートと、
前記孔にはめ込まれた細胞保持チップと、
この細胞保持チップの上方に設けられた第一電極槽と、
前記細胞保持チップの下方に設けられた第二電極槽とを備え、
前記細胞保持チップは、
前記第一電極槽と前記第二電極槽とを繋ぐ導通孔を備え、
前記細胞保持チップの側面、または前記プレートに設けられた前記孔の内壁面の少なくとも一方には、
凹凸が形成されている細胞電気生理センサ。 - 前記凹凸は、
前記細胞保持チップの底面と平行方向に層状に形成されている請求項1に記載の細胞電気生理センサ。 - 前記凹凸は、
前記細胞保持チップの側壁の外周に沿って環状に形成されている請求項1または2に記載の細胞電気生理センサ。 - 前記細胞保持チップは、
シリコン、またはガラスの少なくともいずれか一つからなり、
前記プレートは、
樹脂、またはゴムの少なくともいずれか一つからなる請求項1から3のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサ。 - 前記プレートの前記孔と前記細胞保持チップの側壁とは、
円柱形である請求項1から4のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサ。 - 前記プレートの前記孔と前記細胞保持チップの側壁とは、
下方に向かって先細くなる円柱台形である請求項1から4のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサ。 - 前記プレートの前記孔は、
この孔の内部から前記プレートの表面に向けて外方に広がるテーパ構造の開口部を有する請求項1から6のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサ。 - 前記細胞保持チップの側面には、
正に帯電した絶縁層が形成されている請求項1から7のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサ。 - 前記絶縁層は、
シリコン酸化物またはシリコン窒化物のいずれか一方で形成された請求項8に記載の細胞電気整理センサの製造方法。 - 細胞保持チップの側面をドライエッチングして凹凸を形成し、
またプレートの上面から下面に向けて、内壁に凹凸を有する孔を形成し、
次に前記細胞保持チップと前記プレートとを正負逆に帯電させ、
前記孔に細胞保持チップを仮設置した後固定する細胞電気生理センサの製造方法。 - プレートの上面から下面に向けて、内壁に凹凸を有する孔を形成し、
またこの孔にはめ込む細胞保持チップの側面に絶縁層を形成し、
次にこの絶縁層と前記プレートとを正負逆に帯電させ、
前記孔に細胞保持チップを仮設置した後固定する細胞電気生理センサの製造方法。 - 前記細胞保持チップの側面に凹凸を形成する場合、
この凹凸は、
CF4、またはSF6、またはNF3、またはXeF2の少なくともいずれか一つからなる促進ガスと、
CHF3、またはC4F8の少なくとも一方からなるエッチングを抑制するガスとを交互に用いたドライエッチング加工で形成した請求項9から11のいずれか一つに記載の細胞電気生理センサの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006186412A JP4462242B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 細胞電気生理センサ |
PCT/JP2007/062887 WO2008004476A1 (fr) | 2006-07-06 | 2007-06-27 | Dispositif pour capteur cellulaire électrophysiologique, capteur cellulaire électrophysiologique utilisant le dispositif, et procédé de fabrication du dispositif pour capteur cellulaire électrophysiologique |
US12/301,307 US8445263B2 (en) | 2006-07-06 | 2007-06-27 | Device for cellular electrophysiology sensor, cellular electrophysiology sensor using the device, and method for manufacturing the cellular electrophysiology sensor device |
EP07767689.8A EP2037258A4 (en) | 2006-07-06 | 2007-06-27 | DEVICE FOR ELECTROPHYSIOLOGICAL CELLULAR SENSOR, ELECTROPHYSIOLOGICAL CELL SENSOR USING THE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE FOR ELECTROPHYSIOLOGICAL CELLULAR SENSOR |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006186412A JP4462242B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 細胞電気生理センサ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008014803A true JP2008014803A (ja) | 2008-01-24 |
JP2008014803A5 JP2008014803A5 (ja) | 2009-11-26 |
JP4462242B2 JP4462242B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=39071955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006186412A Expired - Fee Related JP4462242B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 細胞電気生理センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4462242B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010273654A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Canon Inc | 物体保持用シート、試験方法及び物体処理装置 |
JP2015508161A (ja) * | 2012-02-08 | 2015-03-16 | ウニヴェルジテート ロストック | 電気生理学的測定装置のための支持体、電気生理学的測定装置、および電気生理学的測定方法 |
-
2006
- 2006-07-06 JP JP2006186412A patent/JP4462242B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010273654A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Canon Inc | 物体保持用シート、試験方法及び物体処理装置 |
JP2015508161A (ja) * | 2012-02-08 | 2015-03-16 | ウニヴェルジテート ロストック | 電気生理学的測定装置のための支持体、電気生理学的測定装置、および電気生理学的測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4462242B2 (ja) | 2010-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6860674B2 (ja) | 電気化学センサおよび電気化学センサの形成方法 | |
JP5458887B2 (ja) | シリコン構造体およびセンサチップ | |
CN1308665C (zh) | 压力传感器及其制造方法 | |
AU2017237981A1 (en) | Wafer-scale assembly of insulator-membrane-insulator devices for nanopore sensing | |
EP2037258A1 (en) | Device for cellular electrophysiology sensor, cellular electrophysiology sensor using the device, and method for manufacturing the cellular electrophysiology sensor device | |
JP4784696B2 (ja) | 細胞電位測定デバイスとそれに用いる基板、細胞電位測定デバイス用基板の製造方法 | |
JP2005265758A (ja) | 細胞外電位測定デバイスおよびその製造方法 | |
JP4462242B2 (ja) | 細胞電気生理センサ | |
ATE488369T1 (de) | Piezoelektrischer aktuator, vorrichtung um flüssigkeit zu transportieren, verfahren um piezoelektrischen aktuator herzustellen | |
JP4868067B2 (ja) | 細胞電気生理センサ用チップとこれを用いた細胞電気生理センサ、および細胞電気生理センサ用チップの製造方法 | |
JP4125136B2 (ja) | 電気化学センサー用電極システム | |
JP4933656B1 (ja) | 電気化学計測チップ用電極装置 | |
JP4821470B2 (ja) | 細胞電気生理センサとその製造方法 | |
JP4742973B2 (ja) | 細胞電気生理測定デバイスおよびこれの製造方法 | |
JP4933657B1 (ja) | 電気化学計測チップ用電極装置 | |
US8966960B2 (en) | Measuring device | |
JP4462241B2 (ja) | 細胞電気生理センサとその製造方法 | |
US11346804B2 (en) | Microfabricated electrochemical gas sensor | |
US7833395B2 (en) | Electrode system for an electrochemical sensor | |
JP2010054210A (ja) | 静電容量型半導体物理量センサの製造方法及び静電容量型半導体物理量センサ | |
JP4817287B2 (ja) | 力学量センサの製造方法 | |
JP4830545B2 (ja) | 細胞電気生理センサの製造方法 | |
JP2010099038A (ja) | 細胞電気生理センサ | |
JP2007047111A (ja) | Memsデバイスおよびその製造方法 | |
JP2007198876A (ja) | 細胞電気生理センサおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090610 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090610 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20090714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091008 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20091008 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20091021 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |