JP2008004436A - Plasma display panel, and its manufacturing method - Google Patents

Plasma display panel, and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2008004436A
JP2008004436A JP2006174099A JP2006174099A JP2008004436A JP 2008004436 A JP2008004436 A JP 2008004436A JP 2006174099 A JP2006174099 A JP 2006174099A JP 2006174099 A JP2006174099 A JP 2006174099A JP 2008004436 A JP2008004436 A JP 2008004436A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
discharge
dielectric layer
sustain
side dielectric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006174099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yusuke Takada
祐助 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advanced PDP Development Center Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Advanced PDP Development Center Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advanced PDP Development Center Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Advanced PDP Development Center Corp
Priority to JP2006174099A priority Critical patent/JP2008004436A/en
Publication of JP2008004436A publication Critical patent/JP2008004436A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a panel capable of being driven at a low voltage, of achieving stable writing discharge, and of achieving high-efficiency sustaining discharge, and suitable for high definition. <P>SOLUTION: This plasma display panel is provided with: a first glass substrate 2 having a plurality of pairs of display electrodes 5 each comprising a scanning electrode 3 and a sustaining electrode 4 arranged thereon; and a second glass substrate 9 arranged oppositely to the first glass substrate interposing a discharge space 14, and having a plurality of data electrodes 10 arranged thereon in a direction crossing the display electrodes. The plasma display panel is structured such that a back-side dielectric layer 11 is formed on the second glass substrate to cover the data electrodes; projecting parts 16 are formed on the back-side dielectric layer to overlap the data electrodes in a plan view; and the smallest distance between the projecting parts and the display electrodes is set smaller than that between the display electrodes and the back-side dielectric layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a plasma display panel used for a large-screen, thin and lightweight display device and a method for manufacturing the same.

AC型として代表的な交流面放電型プラズマディスプレイパネル(以下、「パネル」ともいう)は、図13に示すような構成である。   An AC surface discharge type plasma display panel (hereinafter also referred to as a “panel”) representative of the AC type has a configuration as shown in FIG.

図13において、前面板1は、第1のガラス基板2の表面上に、面放電を行う走査電極103および維持電極104からなる表示電極対105を平行に配列して形成されている。走査電極103および維持電極104はそれぞれ、第1のガラス基板2の表面上に形成された透明電極103a、104aと、その上に形成された銀(Ag)とその結着材であるガラスフリット材料からなる母線103b、04bとで構成される。また、表示電極対105の間には光吸収層17が形成されている。そして表示電極対105を覆うように前面側誘電体層6が形成され、その上に保護膜7が形成されている。   In FIG. 13, the front plate 1 is formed on the surface of the first glass substrate 2 by arranging display electrode pairs 105 including scan electrodes 103 and sustain electrodes 104 that perform surface discharge in parallel. The scan electrode 103 and the sustain electrode 104 are respectively transparent electrodes 103a and 104a formed on the surface of the first glass substrate 2, silver (Ag) formed thereon, and a glass frit material that is a binder thereof. It is comprised with the bus-bars 103b and 04b which consist of. A light absorption layer 17 is formed between the display electrode pair 105. A front-side dielectric layer 6 is formed so as to cover the display electrode pair 105, and a protective film 7 is formed thereon.

背面板8は、第2のガラス基板9の表面上に、データ電極10を平行に配列して形成されており、その上が背面側誘電体層11で覆われている。そして、背面側誘電体層11の上に隔壁12が形成されている。隔壁12は、データ電極10に平行な方向に伸びて形成された縦隔壁12aと、それと直交する方向に形成された横隔壁12bとで形成された井桁形状をしている。隔壁12の側面と背面側誘電体層11の表面とには、データ電極10に対応して赤色(R)蛍光体層13r、緑色(G)蛍光体層13g、青色(B)蛍光体層13b(総称して「蛍光体層13」ともいう)が塗布形成されている。   The back plate 8 is formed by arranging data electrodes 10 in parallel on the surface of the second glass substrate 9, and the back plate 8 is covered with the back side dielectric layer 11. A partition wall 12 is formed on the back side dielectric layer 11. The barrier ribs 12 have a cross-beam shape formed by vertical barrier ribs 12a formed extending in a direction parallel to the data electrodes 10 and horizontal barrier ribs 12b formed in a direction orthogonal thereto. A red (R) phosphor layer 13r, a green (G) phosphor layer 13g, and a blue (B) phosphor layer 13b corresponding to the data electrode 10 are provided on the side surface of the barrier rib 12 and the surface of the back side dielectric layer 11. (Also collectively referred to as “phosphor layer 13”) is formed by coating.

そしてこのような前面板1と背面板8とが、表示電極対105とデータ電極10とがマトリックスを組むように対向させて配置されている。前面板1と背面板8との間隙には、放電空間14が形成される。そして、前面板1と背面板8との外周部はガラスフリットなどの封着材によって封着され(図示せず)、ネオン(Ne)とキセノン(Xe)の混合ガスからなる放電ガスが封入されている。放電ガスは、通常Xeの割合が6%のものが用いられ、約450Torr(約60kPa)の圧力で封入される。表示電極対105とデータ電極10とが立体交差する部分の放電空間14に、隔壁12によって区画された放電セル15が形成されている。   The front plate 1 and the back plate 8 are arranged so that the display electrode pair 105 and the data electrode 10 face each other so as to form a matrix. A discharge space 14 is formed in the gap between the front plate 1 and the back plate 8. And the outer peripheral part of the front board 1 and the back board 8 is sealed by sealing materials, such as glass frit (not shown), and the discharge gas which consists of mixed gas of neon (Ne) and xenon (Xe) is enclosed. ing. As the discharge gas, one having a Xe ratio of 6% is usually used, and sealed at a pressure of about 450 Torr (about 60 kPa). Discharge cells 15 defined by the barrier ribs 12 are formed in the discharge space 14 where the display electrode pair 105 and the data electrode 10 intersect three-dimensionally.

このような構成のパネルにおいて、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線でR、G、Bの各色の蛍光体層13を励起して発光させることによりカラー表示を行う。   In the panel having such a configuration, ultraviolet light is generated by gas discharge, and the phosphor layer 13 of each color of R, G, and B is excited by this ultraviolet light to emit light, thereby performing color display.

このパネルは、1フィールド期間を複数のサブフィールド(以下、「SF」と略記する)に分割し、発光させるSFの組み合わせによって階調表示を行う。各SFは初期化期間、書き込み期間および維持期間を有する。そして、画像データを表示するために、初期化期間、書き込み期間および維持期間のそれぞれで異なる信号波形を各電極に印加している。初期化期間には、例えば、正のパルス電圧をすべての走査電極103に印加し、走査電極103および維持電極104を覆う前面側誘電体層6上の保護膜7および蛍光体層13上に必要な壁電荷を蓄積する。書き込み期間では、すべての走査電極103に、順次負の走査パルスを印加する走査を行う。表示すべきデータがある場合、走査電極103を走査している間に、データ電極10に正のデータパルスを印加すると、走査電極103とデータ電極10との間で放電が起こり、走査電極103と維持電極104との間にも放電が起こる。このように書き込み放電が発生する。その結果、走査電極103上と維持電極104上の保護膜7の表面に壁電荷が形成される。   In this panel, one field period is divided into a plurality of subfields (hereinafter abbreviated as “SF”), and gradation display is performed by a combination of SFs to emit light. Each SF has an initialization period, a writing period, and a sustain period. In order to display the image data, different signal waveforms are applied to the respective electrodes in the initialization period, the writing period, and the sustain period. In the initialization period, for example, a positive pulse voltage is applied to all the scan electrodes 103 and is necessary on the protective film 7 and the phosphor layer 13 on the front-side dielectric layer 6 covering the scan electrodes 103 and the sustain electrodes 104. Accumulate wall charges. In the writing period, scanning in which negative scanning pulses are sequentially applied to all the scanning electrodes 103 is performed. When there is data to be displayed, if a positive data pulse is applied to the data electrode 10 while scanning the scan electrode 103, a discharge occurs between the scan electrode 103 and the data electrode 10, and the scan electrode 103 Discharge also occurs between the sustain electrodes 104. Thus, an address discharge occurs. As a result, wall charges are formed on the surface of the protective film 7 on the scan electrode 103 and the sustain electrode 104.

続く維持期間では、一定の期間、走査電極103と維持電極104との間に放電を維持するのに十分な電圧を印加する。これにより、書き込み期間にデータパルスが印加された放電セルでは、走査電極103と維持電極104との間に維持放電が発生して紫外線が発生する。発生した紫外線は、一定の期間、蛍光体層13を励起発光させる。書き込み期間においてデータパルスが印加されなかった放電セル15では、維持放電は発生せず蛍光体層13の励起発光は起こらない。   In the subsequent sustain period, a voltage sufficient to maintain the discharge is applied between the scan electrode 103 and the sustain electrode 104 for a certain period. As a result, in the discharge cell to which the data pulse is applied during the writing period, a sustain discharge is generated between the scan electrode 103 and the sustain electrode 104 and ultraviolet rays are generated. The generated ultraviolet light causes the phosphor layer 13 to emit light for a certain period. In the discharge cell 15 to which no data pulse is applied during the writing period, no sustain discharge occurs and excitation light emission of the phosphor layer 13 does not occur.

最近、このようなパネルにおいて、高効率化を図る目的で、Xe分圧を10%以上に上げる取り組みがなされている。しかし、Xe分圧を上げると放電開始電圧が上昇するため、書き込み期間の放電に大きな放電遅れが発生して書き込み動作が不安定になる、あるいは書き込み放電を安定化するためには書き込み期間に費やす時間を長く取る必要があるという課題がある。   Recently, in such a panel, efforts have been made to increase the Xe partial pressure to 10% or more for the purpose of improving efficiency. However, since the discharge start voltage increases when the Xe partial pressure is increased, a large discharge delay occurs in the discharge during the write period, and the write operation becomes unstable, or the write period is spent to stabilize the write discharge. There is a problem that it is necessary to take a long time.

これを解決するために、表示放電をする表示放電セル以外に、これと連通部によって繋がったアドレス放電セルを設けた構成のパネルが提案されている。そして、アドレス放電セル内のデータ電極上に嵩上げ誘電体層を設け、走査電極とデータ電極との間隔を実質的に狭くして書き込み放電を発生しやすくした構成としている。この構成により、アドレス放電セル内で速く発生するアドレス放電によりプライミング粒子(すなわち、放電の「起爆剤」)を発生させ、プライミング粒子が連通部を通して表示放電セル内に入って書き込み放電を発生させる。したがって、書き込み放電を安定にしながら、高効率化が可能となる。このような従来技術については、例えば特許文献1に記載されている。
特開2003−31131号公報
In order to solve this problem, there has been proposed a panel having a configuration in which address discharge cells connected to the display discharge cells that perform display discharge are connected to the display discharge cells. Then, a raised dielectric layer is provided on the data electrode in the address discharge cell, and the interval between the scan electrode and the data electrode is substantially narrowed to easily generate the write discharge. With this configuration, priming particles (that is, a “priming agent” of discharge) are generated by address discharge that occurs quickly in the address discharge cells, and the priming particles enter the display discharge cells through the communicating portion to generate address discharge. Therefore, high efficiency can be achieved while stabilizing the write discharge. Such a prior art is described in Patent Document 1, for example.
JP 2003-31131 A

しかし、このようなパネル構成では、表示放電セル以外にアドレス放電セルを設ける必要があるため、高精細化が困難となる、あるいは、表示輝度が低下するという課題が発生してしまう。   However, in such a panel configuration, since it is necessary to provide address discharge cells in addition to the display discharge cells, there is a problem that it becomes difficult to achieve high definition or display luminance is lowered.

また、パネル内の放電ガスのXe分圧を高くすると、維持放電の放電開始電圧が上昇して維持放電の放電電流が多く流れ、このため、表示電極対105のインピーダンスやパネル駆動回路の出力インピーダンスによる維持放電時の電圧降下が大きくなり、放電セル15に印加される電圧が低下して維持放電の輝度が低下する。この結果、表示画面の点灯率に応じて輝度が変化するという、いわゆるローディング現象が大きく発生するという課題が発生してしまう。   Further, when the Xe partial pressure of the discharge gas in the panel is increased, the discharge start voltage of the sustain discharge rises and a large discharge current of the sustain discharge flows. For this reason, the impedance of the display electrode pair 105 and the output impedance of the panel drive circuit As a result, the voltage drop during the sustain discharge increases, the voltage applied to the discharge cells 15 decreases, and the brightness of the sustain discharge decreases. As a result, there arises a problem that a so-called loading phenomenon occurs in which the luminance changes according to the lighting rate of the display screen.

本発明は、上述のような状況に鑑みなされたものであり、低電圧駆動が可能であり、安定した書き込み放電が実現でき、高効率の維持放電を実現する高精細化に適したパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and provides a panel suitable for high definition that can be driven at a low voltage, can realize stable writing discharge, and realizes highly efficient sustain discharge. The purpose is to do.

上記課題を解決するために、本発明の第1の構成のプラズマディスプレイパネルは、走査電極および維持電極からなる表示電極が複数対配置された第1のガラス基板と、前記第1のガラス基板と放電空間を挟んで対向配置され、前記表示電極と交差する方向にデータ電極が複数配置された第2のガラス基板とを備え、前記第2のガラス基板には、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層が設けられ、前記背面側誘電体層上には、平面視で、データ電極と重なるように突起部が設けられ、前記突起部と前記表示電極との最短距離は、前記表示電極と前記背面側誘電体層との最短距離よりも短くなるように構成されたことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a plasma display panel having a first configuration according to the present invention includes a first glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes including scan electrodes and sustain electrodes are arranged, and the first glass substrate, A second glass substrate disposed oppositely across the discharge space and having a plurality of data electrodes arranged in a direction intersecting the display electrode, and the second glass substrate has a back surface so as to cover the data electrode A side dielectric layer is provided, and a protrusion is provided on the back side dielectric layer so as to overlap the data electrode in plan view. The shortest distance between the protrusion and the display electrode is the display electrode. And the back-side dielectric layer is configured to be shorter than the shortest distance.

本発明の第2の構成のプラズマディスプレイパネルは、走査電極および維持電極からなる表示電極が複数対配置された第1のガラス基板と、前記第1のガラス基板と放電空間を挟んで対向配置され、前記表示電極と交差する方向にデータ電極が複数配置された第2のガラス基板とを備え、前記第2のガラス基板には、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層が設けられ、前記背面側誘電体層上には、平面視で、走査電極および維持電極の少なくとも一方とデータ電極とが重なる領域を含むように突起部が設けられたことを特徴とする。   A plasma display panel having a second configuration according to the present invention is provided with a first glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes including scan electrodes and sustain electrodes are arranged, and opposed to the first glass substrate across a discharge space. A second glass substrate on which a plurality of data electrodes are arranged in a direction intersecting with the display electrode, and the second glass substrate is provided with a back side dielectric layer so as to cover the data electrode, A protrusion is provided on the rear-side dielectric layer so as to include a region where at least one of the scan electrode and the sustain electrode and the data electrode overlap in a plan view.

上記課題を解決するために、本発明の第1の構成のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上にデータ電極を形成する工程と、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層を形成する工程と、前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、横隔壁に相当するパターンに形成する工程と、前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、縦隔壁に相当するパターンに形成する工程と、前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、突起部に相当するパターンに形成する工程と、前記横隔壁部、前記縦隔壁部、および前記突起部それぞれに相当するパターンに形成された、低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストそれぞれを現像、焼成することで、縦隔壁、横隔壁、および突起部を形成する工程と、前記背面側誘電体層の上面と、前記縦隔壁および前記横隔壁の側面とに蛍光体層を形成する工程とを有する。   In order to solve the above-described problem, a method of manufacturing a plasma display panel according to a first configuration of the present invention includes a step of forming a data electrode on a substrate and a back side dielectric layer so as to cover the data electrode. Forming a paste containing a low softening point glass frit and an organic binder on the back side dielectric layer in a pattern corresponding to a transverse partition; and a low softening point glass frit on the back side dielectric layer And a paste containing an organic binder in a pattern corresponding to vertical barrier ribs, and a paste containing a low softening point glass frit and an organic binder on the back-side dielectric layer in a pattern corresponding to a protrusion. And a low softening point glass frit and an organic binder formed in a pattern corresponding to each of the horizontal partition wall portion, the vertical partition wall portion, and the protruding portion. Each of the pastes is developed and fired to form a vertical barrier rib, a horizontal barrier rib, and a protrusion, and a phosphor layer is formed on the upper surface of the back-side dielectric layer and on the side surfaces of the vertical barrier rib and the horizontal barrier rib. Forming.

本発明の第2の構成のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上にデータ電極を形成する工程と、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層を形成する工程と、前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、横隔壁に相当するパターンを露光する工程と、前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、縦隔壁に相当するパターンを露光する工程と、前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、突起部に相当するパターンを露光する工程と、前記横隔壁部、前記縦隔壁部、および前記突起部それぞれに相当するパターンを露光されたそれぞれの感光性を有する材料を現像、焼成することで、縦隔壁、横隔壁、および突起部を形成する工程と、前記背面側誘電体層の上面と、前記縦隔壁および前記横隔壁の側面とに蛍光体層を形成する工程とを有する。   A method for manufacturing a plasma display panel having a second configuration according to the present invention includes a step of forming a data electrode on a substrate, a step of forming a back side dielectric layer so as to cover the data electrode, and the back side dielectric. A step of applying a photosensitive material on the layer and exposing a pattern corresponding to the horizontal barrier rib; and applying a photosensitive material on the back-side dielectric layer and exposing a pattern corresponding to the vertical barrier rib A step, a step of applying a photosensitive material on the back-side dielectric layer, and exposing a pattern corresponding to the protrusion, and the horizontal barrier rib, the vertical barrier rib, and the protrusion, respectively. Each of the photosensitive materials exposed to the pattern is developed and baked to form vertical barrier ribs, horizontal barrier ribs, and protrusions, an upper surface of the back-side dielectric layer, the vertical barrier ribs, and the Horizontal bulkhead And forming a phosphor layer on the surface.

本発明によれば、低電圧駆動が可能であり、安定した書き込み放電が実現でき、高効率の維持放電を実現する高精細化に適したパネルを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a panel suitable for high definition that can be driven at a low voltage, can realize a stable write discharge, and realize a highly efficient sustain discharge.

本発明の第1または第2の構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、前記背面側誘電体層上には、前記表示電極と前記データ電極とで形成される複数の放電セルを区画するように隔壁が設けられ、前記隔壁は、前記データ電極を挟み前記データ電極に平行に形成された複数のストライプ状の縦隔壁と、隣接する前記表示電極対の間に対応する位置に形成した前記ストライプ状の縦隔壁に交差するように設けられた横隔壁とを有する構成とすることができる。   In the plasma display panel having the first or second configuration of the present invention, a partition is provided on the back dielectric layer so as to partition a plurality of discharge cells formed by the display electrode and the data electrode. The barrier ribs are a plurality of striped vertical barrier ribs formed parallel to the data electrodes with the data electrode interposed therebetween, and the striped vertical barrier ribs formed at positions corresponding to the adjacent display electrode pairs. And a transverse partition provided so as to intersect with each other.

また、第1または第2の構成のプラズマディスプレイパネルにおいて、前記背面側誘電体層上には、前記表示電極と前記データ電極とで形成される複数の放電セルを区画するように隔壁が設けられ、前記隔壁は、前記データ電極を挟み前記データ電極に平行に形成した複数のストライプ状の縦隔壁と、隣接する前記表示電極対の間に対応する位置に形成した前記ストライプ状の縦隔壁に交差するように設けられた横隔壁とを有し、前記突起部は、前記横隔壁の側部に接続して形成された構成とすることができる。   In the plasma display panel having the first or second configuration, a partition is provided on the back dielectric layer so as to partition a plurality of discharge cells formed by the display electrode and the data electrode. The barrier ribs intersect a plurality of stripe-shaped vertical barrier ribs formed parallel to the data electrodes with the data electrode interposed therebetween, and the stripe-shaped vertical barrier ribs formed at positions corresponding to adjacent display electrode pairs. The projecting portion may be formed so as to be connected to a side portion of the lateral partition wall.

好ましくは、前記突起部は、その表面に、電子放出層が形成される。前記電子放出層は、酸化マグネシウム、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれた少なくとも一つの材料を含む構成とすることができる。前記材料は、微粒子であることが好ましい。   Preferably, the protrusion has an electron emission layer formed on a surface thereof. The electron emission layer may include at least one material selected from magnesium oxide, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal. The material is preferably fine particles.

本発明の第1の構成のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記ペーストの無機固形分比を30%〜50%とすることが好ましい。   In the manufacturing method of the plasma display panel of the 1st structure of this invention, it is preferable that the inorganic solid content ratio of the said paste shall be 30%-50%.

本発明の第2の構成のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記突起部を形成する工程の後に、前記突起部の表面に電子放出層を形成する電子放出層形成工程を有することが好ましい。   In the method for manufacturing a plasma display panel having the second configuration of the present invention, it is preferable that after the step of forming the protruding portion, an electron emitting layer forming step of forming an electron emitting layer on the surface of the protruding portion.

前記蛍光体層を形成する工程は、酸化マグネシウム、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料の微粒子を混合した蛍光体ペーストを、印刷法あるいはインクジェット法により塗布することにより行うことができる。   The step of forming the phosphor layer includes printing a phosphor paste in which fine particles of at least one material selected from magnesium oxide, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal are mixed. It can be performed by coating by an ink jet method.

以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネル(以下、パネルと略記する)およびその製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、本発明の実施の態様はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, a plasma display panel (hereinafter abbreviated as a panel) and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The embodiment of the present invention is not limited to this.

(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1におけるパネルの概略構成の一部を示す断面斜視図である。また、図2は同一部の断面図、図3は同側面から見た一部の断面図を示す。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional perspective view showing a part of a schematic configuration of a panel according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the same part, and FIG.

図1に示すように、前面板1と背面板8とが放電空間14を挟んで対向して配置されている。パネルは、前面板1と背面板8とがその端部で、封止フリット(図示せず)により封止され、その間に形成される放電空間14に放電ガスが封入されている。放電により紫外線を放射する放電ガスとして、例えば、ネオン(Ne)80%とキセノン(Xe)20%との混合ガスが、約400Torr(約53.3kPa)の圧力で封入されている。   As shown in FIG. 1, the front plate 1 and the back plate 8 are arranged to face each other with the discharge space 14 interposed therebetween. In the panel, the front plate 1 and the back plate 8 are sealed at their ends by a sealing frit (not shown), and a discharge gas is enclosed in a discharge space 14 formed therebetween. For example, a mixed gas of 80% neon (Ne) and 20% xenon (Xe) is sealed at a pressure of about 400 Torr (about 53.3 kPa) as a discharge gas that emits ultraviolet rays by discharge.

前面板1の第1のガラス基板2上には、走査電極3と維持電極4とで対をなすストライプ状の表示電極対5が、ピッチVの間隔で、複数対互いに平行に形成されている。表示電極対5は、走査電極3と維持電極4とが放電間隙Wgを挟んで並行に配置された構成である。なお、走査電極3は、幅広の透明電極3a、および導電性を高めるために、透明電極3aに重なるように形成された銀(Ag)等からなる幅狭の金属母線3bにより構成される。同様に、維持電極4は、幅広の透明電極4aと、それに重なるように形成された幅狭の金属母線4bとから構成される。   On the first glass substrate 2 of the front plate 1, a plurality of pairs of display electrodes 5 in the form of stripes, which are paired with the scanning electrodes 3 and the sustaining electrodes 4, are formed in parallel with each other at a pitch V interval. . The display electrode pair 5 has a configuration in which the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 are arranged in parallel with the discharge gap Wg interposed therebetween. The scanning electrode 3 includes a wide transparent electrode 3a and a narrow metal bus 3b made of silver (Ag) or the like formed so as to overlap the transparent electrode 3a in order to increase conductivity. Similarly, the sustain electrode 4 includes a wide transparent electrode 4a and a narrow metal bus 4b formed so as to overlap therewith.

そして、隣り合う表示電極対5の間にはそれぞれ発光時のコントラストを高めるための、ブラックストライプと呼称される帯状の光吸収層17が設けられている。そして、表示電極対5を覆うように前面側誘電体層6が形成され、前面側誘電体層6を覆うように酸化マグネシウム(MgO)などからなる保護膜7が形成されている。   A band-shaped light absorption layer 17 called a black stripe is provided between adjacent display electrode pairs 5 to increase the contrast during light emission. A front-side dielectric layer 6 is formed so as to cover the display electrode pair 5, and a protective film 7 made of magnesium oxide (MgO) is formed so as to cover the front-side dielectric layer 6.

他方、背面板8は、第2のガラス基板9の表面上に、表示電極対5に直交する方向(以下「垂直方向」という)に伸びるデータ電極10が平行に配列して形成され、それらを覆うように背面側誘電体層11が形成されている。そして、背面側誘電体層11の上には、隔壁12が形成されている。隔壁12は、垂直方向に伸びてストライプ状に形成された高さdの縦隔壁12aと、それと直交する方向(すなわち表示電極対5に平行な方向、以下「水平方向」という)に形成された、高さeの横隔壁12bとで形成された井桁形状をしている。縦隔壁12aは水平方向にピッチHで複数互いに平行に形成されている。   On the other hand, the back plate 8 is formed by arranging data electrodes 10 extending in a direction perpendicular to the display electrode pair 5 (hereinafter referred to as “vertical direction”) in parallel on the surface of the second glass substrate 9. A back side dielectric layer 11 is formed so as to cover. A partition wall 12 is formed on the back side dielectric layer 11. The partition wall 12 is formed in a vertical partition wall 12a having a height d formed in a stripe shape extending in the vertical direction and in a direction perpendicular to the vertical partition wall 12a (that is, a direction parallel to the display electrode pair 5, hereinafter referred to as “horizontal direction”). The cross girder is formed by a horizontal partition wall 12b having a height e. A plurality of vertical partition walls 12a are formed in parallel with each other at a pitch H in the horizontal direction.

そして、背面側誘電体層11上には突起16が、例えば、少なくともその一部分が、平面視で、走査電極14および/または維持電極15とデータ電極22とが重なる領域を含むように形成されている。図2に示すように、突起16の高さはcで、それらはともに、水平方向の幅がa、垂直方向の奥行きがf、放電セル15の境界から突起16の先端までの距離がbである。また、突起16のうち、走査電極3に近い側を突起16c、維持電極4に近い側を突起16uとする。   Then, the protrusion 16 is formed on the back-side dielectric layer 11 so that, for example, at least a part thereof includes a region where the scan electrode 14 and / or the sustain electrode 15 and the data electrode 22 overlap in a plan view. Yes. As shown in FIG. 2, the height of the projection 16 is c, and both of them are a horizontal width a, a vertical depth f, and a distance from the boundary of the discharge cell 15 to the tip of the projection 16 b. is there. Of the protrusions 16, the side close to the scanning electrode 3 is referred to as a protrusion 16 c and the side close to the sustain electrode 4 is referred to as a protrusion 16 u.

図1〜図3に示すパネルおいては、突起16c、16uが横隔壁12bと接続されて形成されている。従って、距離bは奥行きfに横隔壁12bの幅(Ws)の半分を加えた値となる。なお、縦隔壁12aの幅はWLである。 In the panel shown in FIGS. 1 to 3, the protrusions 16c and 16u are formed to be connected to the horizontal partition wall 12b. Accordingly, the distance b is a value obtained by adding half of the width (Ws) of the horizontal partition wall 12b to the depth f. The width of the vertical barrier rib 12a is W L.

隔壁12の側面と背面側誘電体層11の表面とには、蛍光体層13が形成されている。蛍光体の材料としては、R蛍光体層13rにY23:Euまたは(Y、Gd)BO3:Euを、G蛍光体層13gにZn2SiO4:Mnまたは(Y、Gd)BO3:Tbを、B蛍光体層13bにBaMgAl1017:EuまたはBaSrMgAl1017:Euを用いる。各色の蛍光体材料は、それぞれ2種類の蛍光体材料から1つの材料を単体で用いるか、あるいは2種類の蛍光体を混合して使用する。 A phosphor layer 13 is formed on the side surface of the partition wall 12 and the surface of the back side dielectric layer 11. Examples of the phosphor material include Y 2 O 3 : Eu or (Y, Gd) BO 3 : Eu for the R phosphor layer 13r and Zn 2 SiO 4 : Mn or (Y, Gd) BO for the G phosphor layer 13g. 3 : Tb is used, and BaMgAl 10 O 17 : Eu or BaSrMgAl 10 O 17 : Eu is used for the B phosphor layer 13b. As the phosphor material of each color, one material is used alone from two kinds of phosphor materials, or two kinds of phosphors are mixed and used.

このような前面板1と背面板8とは、表示電極対5とデータ電極10とがマトリックスを組むように対向配置されている。そして、データ電極10と表示電極対5とが交差する部分の放電空間14には、隔壁12で区画された放電セル15が形成されている。   The front plate 1 and the back plate 8 are opposed to each other so that the display electrode pair 5 and the data electrode 10 form a matrix. In the discharge space 14 where the data electrode 10 and the display electrode pair 5 intersect, discharge cells 15 partitioned by the barrier ribs 12 are formed.

そしてこのような構成のパネルにおいて、ガス放電により紫外線を発生させ、この発生した紫外線でR、G、Bの各色の蛍光体層13を励起して発光させることによりカラー表示を行う。   In the panel having such a configuration, an ultraviolet ray is generated by gas discharge, and the phosphor layer 13 of each color of R, G, and B is excited by the generated ultraviolet ray to emit light, thereby performing color display.

なお、図1および図3においては、パネルの構成をわかりやすく図示するための便宜上、前面板1と背面板8とは離間させて描いている。   In FIGS. 1 and 3, the front plate 1 and the back plate 8 are drawn apart from each other for convenience of illustration of the panel configuration.

また、上記構成においては、隔壁12の形状が井桁形状のものについて説明したが、これに限らずストライプ形状の隔壁であってもよい。また、隔壁12が井桁形状の場合には、突起16c、16uは、横隔壁12bに接続されて形成されていてもよいし、横隔壁12bと分離していてもよい。   Further, in the above-described configuration, the shape of the partition wall 12 is described as a cross-girder shape, but the present invention is not limited to this and may be a stripe-shaped partition wall. Further, when the partition wall 12 has a cross beam shape, the protrusions 16c and 16u may be formed connected to the horizontal partition wall 12b or may be separated from the horizontal partition wall 12b.

また、上記実施の形態1では、放電ガスとして、ネオン(Ne)80%およびキセノン(Xe)20%の混合ガスを約400Torrの圧力で封入する例を示したが、この放電ガスの混合比や封入圧力に限定するものではなく、パネルの駆動に実用上問題の起こらない混合比と封入圧力であればよい。たとえばXe100%の約760Torr(約101.3kPa)の放電ガスであってもよい。   In the first embodiment, an example in which a mixed gas of 80% neon (Ne) and 20% xenon (Xe) is sealed as a discharge gas at a pressure of about 400 Torr. The mixing pressure and the sealing pressure are not limited to the sealing pressure, and may be any mixing ratio and sealing pressure that do not cause a practical problem in driving the panel. For example, the discharge gas may be about 760 Torr (about 101.3 kPa) of Xe 100%.

つぎに、上記構成のパネルの製造方法の一例について、特に、上記構成の特徴である背面基板8に設けられる突起部16の形成方法を中心に説明する。従って、従来のPDPと同様にして作製される前面基板のユニットの製造方法については説明を省略する。   Next, an example of a method for manufacturing a panel having the above-described configuration will be described focusing on a method for forming the protrusion 16 provided on the back substrate 8 which is a feature of the above-described configuration. Therefore, description of the method for manufacturing the front substrate unit manufactured in the same manner as the conventional PDP will be omitted.

図4は、本発明の実施の形態1におけるパネルの背面板の製造プロセスフロー図である。左側に各工程の流れが示され、その右側には、各工程において背面基板21上に形成される要素の途中段階の断面が示される。   FIG. 4 is a manufacturing process flow diagram of the back plate of the panel in the first exemplary embodiment of the present invention. A flow of each process is shown on the left side, and a cross-section at an intermediate stage of elements formed on the back substrate 21 in each process is shown on the right side.

図4に示すように、まず、第2のガラス基板9を準備する(工程S1)。   As shown in FIG. 4, first, a second glass substrate 9 is prepared (step S1).

次に工程S2で、ガラス基板9にデータ電極10を形成する。具体的には、ガラス基板9に銀(Ag)ペーストを塗布し、フォトリソグラフ法によって幅150μmの銀(Ag)ラインを形成する。データ電極10を構成するガラス成分のうちの少なくとも1つの軟化点温度は590℃である。その銀(Ag)ラインを600℃で焼成、固化することで、データ電極10とする。   Next, the data electrode 10 is formed on the glass substrate 9 in step S2. Specifically, a silver (Ag) paste is applied to the glass substrate 9, and a silver (Ag) line having a width of 150 μm is formed by photolithography. The softening point temperature of at least one of the glass components constituting the data electrode 10 is 590 ° C. The silver (Ag) line is fired at 600 ° C. and solidified to form the data electrode 10.

次に工程S3で、背面側誘電体層11を形成する。背面側誘電体層11の材料としては、ZnO−B23−SiO2系の混合物、PbO−B23−SiO2系の混合物、PbO−B23−SiO2−Al23系の混合物、PbO−ZnO−B23−SiO2系の混合物、又はBi2O3−B23−SiO2系の混合物等を用いることができる。例えば、PbO−B23−SiO2系の混合物で、PbO:65wt%〜70wt%−B23:5wt%−SiO2:25wt%〜30wt%の組成を有し、軟化点温度580℃のものを用いる。そして上述のような材料をペースト状にし、データ電極10を覆うように第2のガラス基板9上に塗布する。 Next, the back side dielectric layer 11 is formed in process S3. The material of the back side dielectric layer 11 includes ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 based mixture, PbO—B 2 O 3 —SiO 2 based mixture, PbO—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O. A 3 system mixture, a PbO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 system mixture, a Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 system mixture, or the like can be used. For example, a PbO—B 2 O 3 —SiO 2 -based mixture having a composition of PbO: 65 wt% to 70 wt% —B 2 O 3 : 5 wt% —SiO 2 : 25 wt% to 30 wt%, and a softening point temperature of 580 Use the one at ° C. Then, the material as described above is made into a paste and applied onto the second glass substrate 9 so as to cover the data electrode 10.

塗布方法は特に限定されず、公知の塗布方法又は印刷方法を適用することができる。例えば、ロールコート法、スリットダイコート法、ドクターブレード法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等のいずれかを用いれば良い。   The coating method is not particularly limited, and a known coating method or printing method can be applied. For example, any one of a roll coating method, a slit die coating method, a doctor blade method, a screen printing method, and an offset printing method may be used.

ここで背面側誘電体層11のペースト塗布厚みは、5μm〜40μmであることが好ましい。背面側誘電体層11のペースト塗布厚みを5μm以上とすることにより、焼成後のデータ電極10に起因する背面側誘電体層11の表面の凹凸を緩和することができる。なお、背面側誘電体層11のペースト塗布厚みの最適値は、ペースト中の無機成分含有量に応じて異なる。   Here, the paste coating thickness of the back side dielectric layer 11 is preferably 5 μm to 40 μm. By setting the paste coating thickness of the back side dielectric layer 11 to 5 μm or more, unevenness on the surface of the back side dielectric layer 11 caused by the fired data electrode 10 can be reduced. Note that the optimum value of the paste application thickness of the back-side dielectric layer 11 varies depending on the inorganic component content in the paste.

次に、背面側誘電体層11のペーストを温度585℃で焼成、固化することで、背面側誘電体層11とする。このように、背面側誘電体層11の焼成温度はデータ電極10の軟化点温度(590℃以上)よりも低いので、背面側誘電体層11の焼成時におけるデータ電極10の変質や変形を抑制することができる。   Next, the back side dielectric layer 11 is made by baking and solidifying the paste of the back side dielectric layer 11 at a temperature of 585 ° C. As described above, the firing temperature of the back side dielectric layer 11 is lower than the softening point temperature (590 ° C. or higher) of the data electrode 10, so that the alteration and deformation of the data electrode 10 during the firing of the back side dielectric layer 11 are suppressed. can do.

次に、工程S4で突起部16のパターニングを行う。まず、突起部16の形成に用いるペーストとして、例えば、低軟化点ガラスフリットをベースにして、焼成の際の変形を抑制するためにアルミナ等のフィラーを含有させ、感光剤を含有させた有機バインダを混ぜたものを用いる。この感光性のペースト30を塗布し、乾燥させてから露光することで突起部16のパターニング(露光像としての)を行う。参考のため、図中のペースト30中にパターニングされた突起部16の形状を破線で示す。   Next, patterning of the protrusion 16 is performed in step S4. First, as a paste used for forming the protrusions 16, for example, an organic binder containing a photosensitive agent containing a filler such as alumina in order to suppress deformation during firing, based on a low softening point glass frit. Use a mixture of The photosensitive paste 30 is applied, dried and then exposed to pattern the projection 16 (as an exposure image). For reference, the shape of the protrusion 16 patterned in the paste 30 in the drawing is shown by a broken line.

続く工程S5で横隔壁12bのパターニングを行う。本実施形態では、突起部16は横隔壁12bにつながっており両者は一体に形成されるが、工程上、工程S4と工程S5とに分けて形成している。こうすることにより、背面側誘電体層11の表面からの高さが異なる突起部16と横隔壁12bとを形成することができる。   In the subsequent step S5, the horizontal partition 12b is patterned. In the present embodiment, the protrusion 16 is connected to the horizontal partition wall 12b, and both are integrally formed. However, in the process, the protrusion 16 is divided into the process S4 and the process S5. By doing so, it is possible to form the protrusions 16 and the horizontal barrier ribs 12b having different heights from the surface of the back-side dielectric layer 11.

横隔壁12bの形成には、突起部16と同じ材料のペーストが使用される。突起部16の形成工程と同様に、感光性のペースト31を塗布し、乾燥させてから露光することで横隔壁12bのパターニングを行う。参考のため、図中のペースト31中にパターニングされた横隔壁12bの形状を破線で示す。後の工程S7で現像したときに、突起部16及び横隔壁12bのパターンとして露光した部分が残ることになる。   For the formation of the horizontal barrier ribs 12b, a paste made of the same material as that of the protrusions 16 is used. Similar to the process of forming the protrusions 16, the horizontal partition wall 12 b is patterned by applying a photosensitive paste 31, drying it, and exposing it. For reference, the shape of the horizontal barrier rib 12b patterned in the paste 31 in the figure is indicated by a broken line. When developed in the subsequent step S7, exposed portions remain as patterns of the protrusions 16 and the horizontal partition walls 12b.

ここで、突起部16及び横隔壁12bの形成に使用されるペーストのベース材である低軟化点ガラスとしては、ZnO−B23−SiO2系の混合物、PbO−B23−SiO2系の混合物、PbO−B23−SiO2−Al23系の混合物、PbO−ZnO−B23−SiO2系の混合物、Bi2O3−B23−SiO2系の混合物等を用いることができる。例えば、PbO−B23−SiO2系の混合物で、PbO:65wt%〜70wt%−B23:5wt%−SiO2:25wt%〜30wt%の組成を有し、軟化点温度580℃のものを用いて、ペーストの低軟化点ガラスの材料とする。また、突起部16及び横隔壁12bのペーストの塗布方法として、ロールコート法、スリットダイコート法、ドクターブレード法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等の公知の方法を使用することができる。 Here, as the low softening point glass which is a base material of the paste used for forming the protrusions 16 and the horizontal barrier ribs 12b, a ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 based mixture, PbO—B 2 O 3 —SiO 2 is used. 2 type mixture, PbO—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 type mixture, PbO—ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 type mixture, Bi 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 type mixture Etc. can be used. For example, a PbO—B 2 O 3 —SiO 2 -based mixture having a composition of PbO: 65 wt% to 70 wt% —B 2 O 3 : 5 wt% —SiO 2 : 25 wt% to 30 wt%, and a softening point temperature of 580 A material having a low softening point glass of paste is used. Further, as a method for applying the paste on the protrusions 16 and the horizontal partition walls 12b, known methods such as a roll coating method, a slit die coating method, a doctor blade method, a screen printing method, and an offset printing method can be used.

次に、工程S6で、感光性のペースト32を塗布し、乾燥させてから露光することで縦隔壁12aのパターニングを行う。ペースト32に用いる材料も、突起部16及び横隔壁12bの形成に使用されるペーストと同じものを用いてもよいし、その材料組成を変えてもよい。その塗布形成方法は、例えば、ロールコート法、スリットダイコート法、ドクターブレード法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法等を用いることができる。   Next, in step S6, a photosensitive paste 32 is applied, dried and then exposed to pattern the vertical barrier ribs 12a. The material used for the paste 32 may be the same as the paste used for forming the protrusions 16 and the horizontal barrier ribs 12b, or the material composition may be changed. As the coating formation method, for example, a roll coating method, a slit die coating method, a doctor blade method, a screen printing method, an offset printing method, or the like can be used.

次に、工程S7で、突起部16、横隔壁12b及び縦隔壁12aの現像を行い、工程S8でこれらの焼成を行う。   Next, in step S7, the protrusions 16, the horizontal barrier ribs 12b, and the vertical barrier ribs 12a are developed, and these are fired in step S8.

更に工程S9で、背面側誘電体層11の表面と隔壁12の側面に蛍光体層13を形成する。蛍光体層13は、蛍光体ペーストの塗布、乾燥及び焼成によって形成される。このようにして、突起部16を有する構造の背面板2が作製される。   Further, in step S <b> 9, the phosphor layer 13 is formed on the surface of the back-side dielectric layer 11 and the side surfaces of the partition walls 12. The phosphor layer 13 is formed by applying a phosphor paste, drying and baking. In this way, the back plate 2 having a structure having the protrusions 16 is produced.

ここで、以上の工程においては、突起部16の形成に感光性のペーストを用いることから、現像された突起部16を焼成する際に、露光した形状に収縮(シュリンク)が発生し、その結果、図3、あるいは図4における工程S8、S9での断面図に示すように、突起部16において、ガラス基板9からの高さが他の部分に比べて高くなった頂点部27aが形成される。   Here, in the above process, since the photosensitive paste is used to form the protrusions 16, when the developed protrusions 16 are baked, shrinkage (shrink) occurs in the exposed shape, and as a result. As shown in the cross-sectional views in steps S8 and S9 in FIG. 3 or FIG. 4, the protrusions 16 are formed with apexes 27a whose height from the glass substrate 9 is higher than other portions. .

これは、感光性のペーストが一般には、ベース材と有機バインダの含有比率が、例えば50%対50%と、他の、例えば印刷などの方法で用いられるペーストと比較して、バインダー含有量が多くなっており、このことにより、焼成時にバインダーが焼失する際、現像された形状にシュリンクが発生するためである。   This is because a photosensitive paste generally has a base material / organic binder content ratio of, for example, 50% to 50%, and the binder content is higher than that of other pastes used in, for example, printing. This is because shrinkage occurs in the developed shape when the binder burns out during firing.

なお、隔壁12及び蛍光体層13の軟化点温度は550℃以下であり、そこで、隔壁12及び蛍光体層13を例えば焼成温度555℃で同時に焼成して形成するようにしてもよい。   The softening point temperatures of the barrier ribs 12 and the phosphor layers 13 are 550 ° C. or lower, and therefore, the barrier ribs 12 and the phosphor layers 13 may be simultaneously fired at a firing temperature of 555 ° C., for example.

また、突起部16、横隔壁12b及び縦隔壁12aの形成に際しては、上述したような、ガラス成分及び感光性有機成分を含む感光性ペーストを塗布して乾燥し、現像および焼成を行う工程を採用するのではなく、突起部16、横隔壁12b及び縦隔壁12aをそれぞれ、低軟化点ガラスフリットおよび有機バインダを含む非感光性ペーストを用いて形成することもできる。   Further, in forming the protrusions 16, the horizontal barrier ribs 12b, and the vertical barrier ribs 12a, a process of applying a photosensitive paste containing a glass component and a photosensitive organic component, drying, developing, and baking is performed as described above. Instead, the protrusions 16, the horizontal barrier ribs 12b, and the vertical barrier ribs 12a can be formed using a non-photosensitive paste containing a low softening point glass frit and an organic binder, respectively.

その場合は、まず、非感光性ペーストを突起部16の形状にパターンニング形成し、突起部16の形状にパターンニング形成された層の上に、非感光性ペーストを横隔壁12bの形状にパターンニング形成し、突起部16及び横隔壁12bの形状にパターンニング形成された層の上に非感光性ペーストを縦隔壁12aの形状にパターンニング形成する。   In that case, first, the non-photosensitive paste is patterned and formed in the shape of the protrusions 16, and the non-photosensitive paste is patterned in the shape of the horizontal barrier ribs 12b on the layer formed by patterning in the shape of the protrusions 16. Then, a non-photosensitive paste is patterned in the shape of the vertical barrier rib 12a on the layer formed in the shape of the protrusion 16 and the horizontal barrier rib 12b.

次に、突起部16、横隔壁12b及び縦隔壁12aの形状にパターンニング形成されたペーストを焼成する。後の工程は、感光性ペーストを用いた場合と同様である。   Next, the paste patterned in the shape of the protrusions 16, the horizontal barrier ribs 12b, and the vertical barrier ribs 12a is baked. The subsequent steps are the same as when the photosensitive paste is used.

なお上記における非感光性ペーストとしては、焼成によって、突起部16に頂点部27aが形成される程度に収縮(シュリンク)が発生するように、ペースト中の無機固形分の含有比率を調整することが望ましい。実験に基づく検討の結果、その無機固形分比としては30%〜70%の範囲が望ましいという知見を得た。   In addition, as the non-photosensitive paste in the above, it is possible to adjust the content ratio of the inorganic solid content in the paste so that the shrinkage (shrink) is generated to the extent that the apex portion 27a is formed in the protrusion 16 by firing. desirable. As a result of examination based on experiments, it was found that the inorganic solid content ratio is preferably in the range of 30% to 70%.

なお、非感光性ペーストをパターンニング形成するための方法としては、型押し法、ロールコータ法、サンドブラスト法等を用いることができる。   In addition, as a method for forming the non-photosensitive paste by patterning, an embossing method, a roll coater method, a sand blast method, or the like can be used.

つぎに、本実施の形態におけるパネルの駆動方法について説明する。図5は本実施の形態におけるパネルの電極配列図である。行方向にn本の走査電極SCN1〜SCNn(図1の走査電極3)およびn本の維持電極SUS1〜SUSn(図1の維持電極4)が交互に配列され、列方向にm本のデータ電極D1〜Dm(図1のデータ電極10)が配列されている。そして、1対の走査電極SCNiおよび維持電極SUSi(i=1〜n)と1つのデータ電極Dj(j=1〜m)とが交差した部分に、放電セルCij(図1の放電セル15)が形成され、放電セル15は放電空間14内に(m×n)個形成されている。   Next, a method for driving the panel in the present embodiment will be described. FIG. 5 is an electrode array diagram of the panel in the present embodiment. In the row direction, n scan electrodes SCN1 to SCNn (scan electrode 3 in FIG. 1) and n sustain electrodes SUS1 to SUSn (sustain electrode 4 in FIG. 1) are alternately arranged, and m data electrodes in the column direction. D1 to Dm (data electrode 10 in FIG. 1) are arranged. A discharge cell Cij (discharge cell 15 in FIG. 1) is formed at a portion where a pair of scan electrode SCNi and sustain electrode SUSi (i = 1 to n) and one data electrode Dj (j = 1 to m) intersect. And (m × n) discharge cells 15 are formed in the discharge space 14.

つぎに、パネルを駆動するための駆動波形とその動作について説明する。本実施の形態においては、1フィールドを10のSF(第1SF、第2SF、・・・、第10SF)に分割し、各SFはそれぞれ(1、2、3、6、11、18、30、44、60、80)の輝度重みを持つものとする。このように、後ろのSFほど輝度重みが大きく(輝度が高く)なるように構成している。ただし、SF数や各SFの輝度重みが上記の値に限定されるものではない。各SFは初期化期間、書き込み期間および維持期間を有する。   Next, a driving waveform for driving the panel and its operation will be described. In the present embodiment, one field is divided into 10 SFs (first SF, second SF,..., 10th SF), and each SF is (1, 2, 3, 6, 11, 18, 30, 44, 60, 80). In this way, the rear SF is configured such that the luminance weight is larger (the luminance is higher). However, the number of SFs and the luminance weight of each SF are not limited to the above values. Each SF has an initialization period, a writing period, and a sustain period.

図6は、本実施の形態におけるパネルの各電極に印加する駆動波形図であり、全セル初期化動作を行う初期化期間を有するSF(以下、「全セル初期化SF」と略記する)と選択初期化動作を行う初期化期間を有するSF(以下、「選択初期化SF」と略記する)に対する駆動波形図である。図6は、説明のため、第1SFを全セル初期化SF、第2SFを選択初期化SFとして示している。   FIG. 6 is a drive waveform diagram applied to each electrode of the panel in the present embodiment, and an SF having an initialization period for performing the all-cell initialization operation (hereinafter abbreviated as “all-cell initialization SF”). FIG. 6 is a drive waveform diagram for an SF having an initialization period for performing a selective initialization operation (hereinafter abbreviated as “selective initialization SF”). FIG. 6 shows the first SF as the all-cell initialization SF and the second SF as the selection initialization SF for the sake of explanation.

まず、全セル初期化SFの駆動波形とその動作について説明する。   First, the drive waveform and operation of the all-cell initialization SF will be described.

初期化期間の前半部では、維持電極SUS1〜SUSnと、データ電極D1〜Dmとを0(V)に保持し、走査電極SCN1〜SCNnに対して放電開始電圧以下となる電圧Vp(V)から放電開始電圧を超える電圧Vr(V)に向かって緩やかに上昇するランプ電圧を印加する。すると、走査電極SCN1〜SCNnを陽極とし、維持電極SUS1〜SUSnとデータ電極D1〜Dm上の走査電極に近い側の突起16cとをそれぞれ陰極とする微弱な初期化放電が発生する。このときの放電は陰極となる維持電極SUS1〜SUSnの表面が二次電子放出係数の大きい保護層7で覆われているため安定した放電となる。   In the first half of the initialization period, sustain electrodes SUS1 to SUSn and data electrodes D1 to Dm are held at 0 (V), and voltage Vp (V) that is equal to or lower than the discharge start voltage with respect to scan electrodes SCN1 to SCNn. A ramp voltage that gradually increases toward the voltage Vr (V) exceeding the discharge start voltage is applied. Then, weak initializing discharge is generated with scan electrodes SCN1 to SCNn as anodes and sustain electrodes SUS1 to SUSn and projections 16c on the side close to the scan electrodes on data electrodes D1 to Dm as cathodes. The discharge at this time is a stable discharge because the surfaces of the sustain electrodes SUS1 to SUSn serving as the cathode are covered with the protective layer 7 having a large secondary electron emission coefficient.

つづいて走査電極SCN1〜SCNnを陽極としデータ電極D1〜Dm上の背面側誘電体層11を陰極とする微弱な初期化放電が発生する。このときの放電は、維持電極SUS1〜SUSnを陰極とする放電で生じたプライミングが十分存在する状態で発生するために、二次電子放出係数の小さい蛍光体層13が塗布されているにもかかわらず安定した放電となる。   Subsequently, a weak initializing discharge is generated using scan electrodes SCN1 to SCNn as anodes and backside dielectric layer 11 on data electrodes D1 to Dm as cathodes. Since the discharge at this time occurs in a state where the priming generated by the discharge using the sustain electrodes SUS1 to SUSn as a cathode exists sufficiently, the phosphor layer 13 having a small secondary electron emission coefficient is applied. Stable discharge.

この放電は、走査電極SCN1〜SCNnと突起16cとの間で始まり、やがて走査電極SCN1〜SCNnとデータ電極D1〜Dm上の背面基板との間に放電が広がる。これは、走査電極SCN1〜SCNnと突起16cとの距離が、走査電極SCN1〜SCNnとデータ電極D1〜Dmとの距離よりも近いために起こる。このように、全セル初期化の動作は、全ての放電セルにおいて1回目の微弱な、しかし安定した初期化放電を発生し、走査電極SCN1〜SCNn上に負の壁電圧を蓄えるとともに維持電極SUS1〜SUSn上およびデータ電極D1〜Dm上の突起16cと背面側誘電体層11とに正の壁電圧を蓄える。ここで、電極上の壁電圧とは、電極を覆う背面側誘電体層11あるいは蛍光体層13上に蓄積した壁電荷により生じる電圧を表す。また、突起16c上にも背面側誘電体層11上と同極性の壁電荷が蓄積される。   This discharge starts between scan electrodes SCN1 to SCNn and protrusion 16c, and eventually spreads between scan electrodes SCN1 to SCNn and the back substrate on data electrodes D1 to Dm. This occurs because the distance between scan electrodes SCN1 to SCNn and protrusion 16c is shorter than the distance between scan electrodes SCN1 to SCNn and data electrodes D1 to Dm. As described above, the all-cell initializing operation generates the first weak but stable initializing discharge in all the discharge cells, accumulates negative wall voltage on the scan electrodes SCN1 to SCNn, and maintains the sustain electrode SUS1. A positive wall voltage is stored in the protrusion 16c and the back side dielectric layer 11 on SUSn and on the data electrodes D1 to Dm. Here, the wall voltage on the electrode represents a voltage generated by wall charges accumulated on the back side dielectric layer 11 or the phosphor layer 13 covering the electrode. Further, wall charges having the same polarity as that on the back-side dielectric layer 11 are also accumulated on the protrusions 16c.

初期化期間の後半部では、維持電極SUS1〜SUSnを正の電圧Vh(V)に保ち、走査電極SCN1〜SCNnに電圧Vg(V)から電圧Va(V)に向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加する。すると、全ての放電セルにおいて、走査電極SCN1〜SCNnを陰極とし維持電極SUS1〜SUSnおよびデータ電極D1〜Dmと突起16cを陽極とする2回目の微弱な初期化放電を起こす。そして、走査電極SCN1〜SCNn上の壁電圧および維持電極SUS1〜SUSn上の壁電圧が弱められ、データ電極D1〜Dm上の突起16cと背面側誘電体層11との壁電圧も書き込み動作に適した値に調整される。このように、全セル初期化SFの初期化動作は全ての放電セルにおいて初期化放電させる全セル初期化動作である。   In the latter half of the initialization period, sustain electrodes SUS1 to SUSn are maintained at positive voltage Vh (V), and ramp voltage gradually decreases from voltage Vg (V) to voltage Va (V) at scan electrodes SCN1 to SCNn. Apply. Then, in all the discharge cells, a second weak initializing discharge is generated with scan electrodes SCN1 to SCNn as cathodes and sustain electrodes SUS1 to SUSn and data electrodes D1 to Dm and protrusions 16c as anodes. Then, the wall voltage on scan electrodes SCN1 to SCNn and the wall voltage on sustain electrodes SUS1 to SUSn are weakened, and the wall voltage between protrusion 16c on data electrodes D1 to Dm and back-side dielectric layer 11 is also suitable for the write operation. Adjusted to the desired value. As described above, the initialization operation of the all-cell initialization SF is an all-cell initialization operation in which initialization discharge is performed in all discharge cells.

次に図7A〜7Dを用いて、本実施の形態におけるパネル内の壁電荷の挙動を模式的に説明する。図7Aは初期化後の壁電荷の様子を示し、図7Bは書き込み期間における書き込み放電発生後の壁電荷の様子を示す。そして、図7Cは維持期間において、走査電極に1発目以降の正の維持パルス電圧Vmが印加されて維持放電が発生した後の壁電荷の様子、図7Dは同じく、維持電極に1発目以降の正の維持パルス電圧Vmが印加されて維持放電が発生した後の壁電荷の様子を示す。   Next, with reference to FIGS. 7A to 7D, the behavior of the wall charges in the panel in this embodiment will be schematically described. FIG. 7A shows the state of wall charges after initialization, and FIG. 7B shows the state of wall charges after occurrence of a write discharge in the write period. 7C shows a state of wall charges after the first and subsequent positive sustain pulse voltages Vm are applied to the scan electrodes during the sustain period, and FIG. 7D similarly shows the first charge on the sustain electrodes. The state of wall charges after the subsequent sustain discharge is generated by applying the positive sustain pulse voltage Vm is shown.

全セル初期化SFの初期化後に蓄積される壁電荷は、図7Aのようになる。初期化後には、走査電極3の上には負の壁電荷が蓄積され、走査電極3に近い側の突起16cの上とデータ電極上には正の壁電荷が蓄積されている。そして、維持電極4の上(厳密には、維持電極4を覆う誘電体層6を覆う保護膜7上の、維持電極4に対応する領域付近、であるが、便宜上、このようにも表現する。以下、同様である。)には正の壁電荷が蓄積されている。   The wall charges accumulated after the initialization of the all-cell initialization SF are as shown in FIG. 7A. After the initialization, negative wall charges are accumulated on the scan electrodes 3, and positive wall charges are accumulated on the protrusions 16c on the side close to the scan electrodes 3 and on the data electrodes. And on the sustain electrode 4 (strictly speaking, in the vicinity of the region corresponding to the sustain electrode 4 on the protective film 7 covering the dielectric layer 6 covering the sustain electrode 4, this is also expressed in this manner for convenience. The same applies hereinafter.) Positive wall charges are accumulated.

つづく書き込み期間では、走査電極3を一旦Vs(V)に保持し、維持電極4を正の電圧Vh2(V)に保持する。つぎに、データ電極10のうち、1行目に表示すべき放電セルのデータ電極10に正の書き込みパルス電圧Vw(V)を印加するとともに、1行目の走査電極3に走査パルス電圧Vb(V)を印加する。このとき、データ電極10と走査電極3との交差部の電圧は、外部印加電圧(Vw−Vb)(V)にデータ電極10上の突起16cの壁電圧および走査電極3上の壁電圧の大きさが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、データ電極10上の突起16cと走査電極3との間でトリガー放電20が発生する。そして、このトリガー放電20で生成される高密度の電子やイオンにより、走査電極3とデータ電極10との間に放電21が起こり、走査電極3と維持電極4との間にも主放電22が起こって書き込み放電が行われる。   In the subsequent writing period, the scan electrode 3 is temporarily held at Vs (V), and the sustain electrode 4 is held at the positive voltage Vh2 (V). Next, a positive write pulse voltage Vw (V) is applied to the data electrode 10 of the discharge cell to be displayed in the first row of the data electrode 10, and the scan pulse voltage Vb ( V) is applied. At this time, the voltage at the intersection of the data electrode 10 and the scan electrode 3 is the magnitude of the wall voltage of the protrusion 16c on the data electrode 10 and the wall voltage on the scan electrode 3 to the externally applied voltage (Vw−Vb) (V). Is added and exceeds the discharge start voltage. Then, a trigger discharge 20 is generated between the projection 16 c on the data electrode 10 and the scanning electrode 3. A high-density electron or ion generated by the trigger discharge 20 causes a discharge 21 between the scan electrode 3 and the data electrode 10, and a main discharge 22 also occurs between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. It happens and an address discharge is performed.

この結果、図7Bに示すように、走査電極3上に正の壁電圧が蓄積され、維持電極4上に負の壁電圧が蓄積される。走査電極3に近い側の突起16c上と背面側誘電体層11上には負の壁電荷が蓄積される。このようにして、1行目に表示すべき放電セルで書き込み放電を起こして各電極上に壁電圧を蓄積する書き込み動作が行われる。一方、正の書き込みパルス電圧Vw(V)を印加しなかったデータ電極10と走査電極3との交差部の電圧は放電開始電圧を超えないので、書き込み放電は発生しない。以上の書き込み動作をn行目の放電セルに至るまで順次行い、書き込み期間が終了する。   As a result, as shown in FIG. 7B, a positive wall voltage is accumulated on the scan electrode 3, and a negative wall voltage is accumulated on the sustain electrode 4. Negative wall charges are accumulated on the protrusions 16 c on the side close to the scan electrode 3 and on the back-side dielectric layer 11. In this way, an address operation is performed in which an address discharge is caused in the discharge cells to be displayed in the first row and a wall voltage is accumulated on each electrode. On the other hand, since the voltage at the intersection of the data electrode 10 and the scan electrode 3 to which the positive write pulse voltage Vw (V) is not applied does not exceed the discharge start voltage, no write discharge occurs. The above address operation is sequentially performed until the discharge cell in the nth row, and the address period ends.

このトリガー放電20の放電開始電圧は、従来の突起16cがない構造における書き込み放電の開始電圧よりも低くすることができる。その理由は、走査電極3と突起16cとの距離が、走査電極3と背面側誘電体層11との距離よりも、突起16cの高さC(図3参照)だけ近くなり、それに対応して放電開始電圧が低くなるためである。したがって、正の書き込みパルス電圧Vwの設定電圧を低くすることができる。特にパネルに高Xe分圧の放電ガスを充填した場合には、従来構造のパネルよりも書き込みパルス電圧Vwの設定電圧を低くできるので、高Xeにより上昇する放電開始電圧を相殺することが可能となり、駆動用のドライバICのコストアップを抑制できるという効果を有する。   The discharge start voltage of the trigger discharge 20 can be made lower than the write discharge start voltage in the conventional structure without the protrusion 16c. The reason is that the distance between the scanning electrode 3 and the protrusion 16c is closer to the height C (see FIG. 3) of the protrusion 16c than the distance between the scanning electrode 3 and the back-side dielectric layer 11, correspondingly. This is because the discharge start voltage is lowered. Therefore, the set voltage of the positive write pulse voltage Vw can be lowered. In particular, when the panel is filled with a discharge gas having a high Xe partial pressure, the set voltage of the write pulse voltage Vw can be made lower than that of a panel having a conventional structure. This has the effect of suppressing an increase in the cost of the driver IC for driving.

つづく維持期間では、まず、維持電極3と、データ電極10とを0(V)に戻し、走査電極3に正の維持パルス電圧Vm(V)を印加する。この維持パルス電圧Vm(V)は、突起16cがない従来構造パネルにおいては維持放電が発生しないような低い電圧に設定する。このとき、書き込み放電を起こした放電セルにおいては、走査電極3上と維持電極4上との間の電圧は維持パルス電圧Vm(V)に走査電極3上および維持電極4上の壁電圧の大きさが加算されたものとなる。また、走査電極3上と突起16c上との間の電圧は維持パルス電圧Vm(V)に走査電極3上および突起16c上の壁電圧の大きさに書き込みパルス電圧Vw(V)が加算されたものとなる。   In the subsequent sustain period, first, sustain electrode 3 and data electrode 10 are returned to 0 (V), and positive sustain pulse voltage Vm (V) is applied to scan electrode 3. The sustain pulse voltage Vm (V) is set to a low voltage that does not generate a sustain discharge in the conventional structure panel having no protrusion 16c. At this time, in the discharge cell in which the write discharge has occurred, the voltage between scan electrode 3 and sustain electrode 4 is set to sustain pulse voltage Vm (V), which is the magnitude of the wall voltage on scan electrode 3 and sustain electrode 4. Will be added. The voltage between the scan electrode 3 and the protrusion 16c is the sustain pulse voltage Vm (V), and the write pulse voltage Vw (V) is added to the magnitude of the wall voltage on the scan electrode 3 and the protrusion 16c. It will be a thing.

そして、突起16cを適切な構造とすることにより、走査電極3上と維持電極4上との間で放電が始まる前に、走査電極3上と突起16c上との間で図7Cに示すトリガー放電20を起こさせることができる。これは、走査電極3上の前面側誘電体層6の表面とデータ電極10上の背面側誘電体層11の表面との距離を、データ電極10上の突起16cの存在により、従来構造よりも近づけた構造としたことによるものである。走査電極3上と突起16c上との間で起こったトリガー放電20により生成された高密度電子とイオンとにより、走査電極3と維持電極4との間でも主放電22が起こる。   Then, by making the protrusion 16c have an appropriate structure, the trigger discharge shown in FIG. 7C is performed between the scan electrode 3 and the protrusion 16c before the discharge starts between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. 20 can be awakened. This is because the distance between the surface of the front-side dielectric layer 6 on the scan electrode 3 and the surface of the back-side dielectric layer 11 on the data electrode 10 is made larger than in the conventional structure due to the presence of the protrusion 16c on the data electrode 10. This is due to the close structure. A main discharge 22 occurs between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 due to the high-density electrons and ions generated by the trigger discharge 20 that occurs between the scan electrode 3 and the protrusion 16c.

そして、走査電極3と維持電極4との間の維持放電の結果、図7Cに示すように、走査電極3上に負の壁電圧が蓄積され、維持電極4上に正の壁電圧が蓄積される。このときデータ電極10上の突起16cにも正の壁電圧が蓄積される。書き込み期間において書き込み放電が起きなかった放電セルでは維持放電は発生せず、初期化期間の終了時における壁電圧状態が保持される。つづいて、走査電極3を0(V)に戻し、維持電極4に正の維持パルス電圧Vm(V)を印加する。すると、維持放電を起こした放電セルでは、維持電極4上と突起16u上との間の電圧が維持パルス電圧Vm(V)に維持電極4上の壁電圧の大きさが加わり放電開始電圧を超えて、図7Dのようにトリガー放電20が開始される。これは、1発目の維持放電によってプライミングが発生されたために放電セル内の放電開始電圧が低下することと、維持電極4と突起16uとの距離が近いために起こる。このトリガー放電20により生成される高密度の電子とイオンとにより、維持パルス電圧Vm(V)が低いために放電が発生していなかった走査電極SUSiと維持電極SUSiとの間にも放電が広がり主放電22が起こり維持放電となる。この維持放電により、図7Dに示すように、維持電極4上に負の壁電圧が蓄積され走査電極3上に正の壁電圧が蓄積される。   As a result of the sustain discharge between scan electrode 3 and sustain electrode 4, as shown in FIG. 7C, a negative wall voltage is accumulated on scan electrode 3, and a positive wall voltage is accumulated on sustain electrode 4. The At this time, a positive wall voltage is also accumulated in the protrusion 16c on the data electrode 10. In the discharge cells in which no address discharge has occurred during the address period, no sustain discharge occurs, and the wall voltage state at the end of the initialization period is maintained. Subsequently, scan electrode 3 is returned to 0 (V), and positive sustain pulse voltage Vm (V) is applied to sustain electrode 4. Then, in the discharge cell in which the sustain discharge has occurred, the voltage between the sustain electrode 4 and the protrusion 16 u exceeds the discharge start voltage by adding the magnitude of the wall voltage on the sustain electrode 4 to the sustain pulse voltage Vm (V). Thus, the trigger discharge 20 is started as shown in FIG. 7D. This occurs because priming is generated by the first sustain discharge, so that the discharge start voltage in the discharge cell decreases and the distance between the sustain electrode 4 and the protrusion 16u is short. Due to the high-density electrons and ions generated by the trigger discharge 20, the discharge spreads between the scan electrode SUSi and the sustain electrode SUSi where no discharge has occurred because the sustain pulse voltage Vm (V) is low. The main discharge 22 occurs and becomes a sustain discharge. Due to this sustain discharge, as shown in FIG. 7D, a negative wall voltage is accumulated on sustain electrode 4 and a positive wall voltage is accumulated on scan electrode 3.

以降同様に、走査電極3と維持電極4とに交互に維持パルス電圧Vm(V)を印加することにより、書き込み期間において書き込み放電を起こした放電セルでは維持放電が継続して行われる。なお、維持期間の最後には走査電極3と維持電極4との間に、いわゆる細幅パルスを印加して、データ電極10上の突起16cと背面側誘電体層11とに正の壁電荷を残したまま、走査電極3および維持電極4上の壁電圧を消去している。こうして維持期間における維持動作が終了する。   Thereafter, similarly, by applying the sustain pulse voltage Vm (V) alternately to the scan electrode 3 and the sustain electrode 4, the sustain discharge is continuously performed in the discharge cells that have caused the address discharge in the address period. At the end of the sustain period, a so-called narrow pulse is applied between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 so that positive wall charges are applied to the protrusions 16 c on the data electrode 10 and the back-side dielectric layer 11. While remaining, the wall voltage on the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is erased. Thus, the maintenance operation in the maintenance period is completed.

つづいて、選択初期化SFの駆動波形とその動作について、再度、図6を用いて説明する。   Next, the drive waveform and operation of the selection initialization SF will be described again with reference to FIG.

初期化期間では、維持電極SUS1〜SUSnをVh(V)に保持し、データ電極D1〜Dmを0(V)に保持し、走査電極SCN1〜SCNnにVq(V)からVa(V)に向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加する。すると前のSFの維持期間で維持放電を行った放電セルでは、微弱な初期化放電が発生し、走査電極SCNi上および維持電極SUSi上の壁電圧が弱められ、データ電極Dk上の突起16c上と背面側誘電体層11上の壁電圧も書き込み動作に適した値に調整される。一方、前のSFで書き込み放電および維持放電を行わなかった放電セルについては放電することはなく、前のSFの初期化期間終了時における壁電荷状態がそのまま保たれる。このように、選択初期化SFの初期化動作は前のSFで維持放電を行った放電セルにおいて初期化放電させる選択初期化動作である。選択初期化後の壁電荷の様子は、図7Aとなる。   In the initialization period, sustain electrodes SUS1 to SUSn are held at Vh (V), data electrodes D1 to Dm are held at 0 (V), and scan electrodes SCN1 to SCNn are moved from Vq (V) to Va (V). Apply a ramp voltage that falls slowly. Then, in the discharge cell in which the sustain discharge is performed in the sustain period of the previous SF, a weak initializing discharge is generated, the wall voltage on the scan electrode SCNi and the sustain electrode SUSi is weakened, and on the protrusion 16c on the data electrode Dk. The wall voltage on the back side dielectric layer 11 is also adjusted to a value suitable for the write operation. On the other hand, the discharge cells in which the address discharge and the sustain discharge were not performed in the previous SF are not discharged, and the wall charge state at the end of the initialization period of the previous SF is maintained as it is. As described above, the initializing operation of the selective initializing SF is a selective initializing operation in which initializing discharge is performed in the discharge cells that have undergone sustain discharge in the previous SF. The state of wall charges after selective initialization is shown in FIG. 7A.

書き込み期間および維持期間については全セル初期化SFの書き込み期間および維持期間と同様であるため説明を省略する。   The write period and the sustain period are the same as the write period and the sustain period of the all-cell initialization SF, and thus description thereof is omitted.

上述のように、本発明の一実施の形態のパネルによれば、最低維持パルス電圧だけでなく、書き込み電圧Vwや走査パルス電圧(Vs−Vb)などの駆動電圧の低電圧化が可能となる。これは、走査電極3と突起16cとの距離、あるいは維持電極4と突起16uまでの距離が短い構成とすることができるため、駆動時にこれらの間で先にトリガー放電20が発生し、これにより他の場所に放電が誘発されるためであると考えられる。すなわち、トリガー放電20により生成された高密度の電子とイオンとが、走査電極3とデータ電極10間との放電や、走査電極3と維持電極4間との放電の開始電圧を低下させ、もって、書き込み放電や維持放電のための設定電圧を低くできるという効果が得られるものと考えられる。   As described above, according to the panel of the embodiment of the present invention, not only the minimum sustain pulse voltage but also the drive voltage such as the write voltage Vw and the scan pulse voltage (Vs−Vb) can be lowered. . This is because the distance between the scan electrode 3 and the protrusion 16c or the distance between the sustain electrode 4 and the protrusion 16u can be made short, so that the trigger discharge 20 is first generated between them during driving. It is thought that this is because discharge is induced elsewhere. That is, the high-density electrons and ions generated by the trigger discharge 20 reduce the starting voltage of the discharge between the scan electrode 3 and the data electrode 10 and the discharge between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. It is considered that the effect that the set voltage for the write discharge and the sustain discharge can be lowered can be obtained.

さらに、走査電極3と維持電極4との間で発生する維持放電が従来構造パネルよりも低い電圧で行われるために、発光効率の向上が図れると考えられる。これは、維持パルス電圧Vmが低くなり、放電セル15内の電界により加速される電子エネルギーが低下するためと考えられる。加速電子エネルギーが低くなると、電子とXe原子との衝突の際の電離過確率が低下して、その反対に紫外線発光準位への励起確立が増加する。したがって、少ない投入電気エネルギーによって、より多い紫外線発光量が得られると考えられる。そのため、高発光効率が得られると考えられる。   Furthermore, since the sustain discharge generated between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is performed at a voltage lower than that of the conventional structure panel, it is considered that the light emission efficiency can be improved. This is presumably because the sustain pulse voltage Vm decreases and the electron energy accelerated by the electric field in the discharge cell 15 decreases. When the acceleration electron energy is lowered, the ionization probability at the time of collision between the electron and the Xe atom is lowered, and on the contrary, the establishment of excitation to the ultraviolet light emission level is increased. Therefore, it is considered that a larger amount of ultraviolet light emission can be obtained with less input electric energy. Therefore, it is considered that high luminous efficiency can be obtained.

以上のように、突起部16c、16uを設けることにより、初期化期間、書き込み期間、維持期間のそれぞれにおいて、初期化放電やトリガー放電20を発生させるために必要な電圧を、低下させることが可能となる。   As described above, by providing the protrusions 16c and 16u, it is possible to reduce the voltage necessary for generating the initialization discharge and the trigger discharge 20 in each of the initialization period, the writing period, and the sustain period. It becomes.

また、主放電22が発生する空間に対応する背面板8の突起16c、16u以外の部分は背面側誘電体層11の蛍光体層13であるので、前面側誘電体層6との距離は縦隔壁12aにより確保されており、放電空間を十分に大きく取ることができる。このために、主放電22で発生する電子やイオンが蛍光体層13表面で冷やされることが少なく、主放電22の発光効率を高くすることができる。   Further, since the portion other than the protrusions 16c and 16u of the back plate 8 corresponding to the space where the main discharge 22 is generated is the phosphor layer 13 of the back side dielectric layer 11, the distance from the front side dielectric layer 6 is vertical. The partition 12a secures the discharge space sufficiently large. For this reason, electrons and ions generated in the main discharge 22 are hardly cooled on the surface of the phosphor layer 13, and the light emission efficiency of the main discharge 22 can be increased.

さらに、本実施の形態の構成によれば、放電開始電圧を決定するトリガー放電が発生する部位と、主放電22が発生する部位とが分離することとなるので、突起16の形状を適当にすることで、放電開始電圧は低く維持したままで、背面側誘電体層11上の蛍光体層13と前面側誘電体層6との距離を従来より広くすることが可能であり、もって、維持放電の発光効率を向上させることができる。   Furthermore, according to the configuration of the present embodiment, the portion where the trigger discharge for determining the discharge start voltage is generated is separated from the portion where the main discharge 22 is generated. Thus, it is possible to make the distance between the phosphor layer 13 on the back-side dielectric layer 11 and the front-side dielectric layer 6 wider than in the past while maintaining the discharge start voltage low. The luminous efficiency of can be improved.

このように、本実施の形態では、維持パルス電圧の低電圧化と高効率化が同時に得られている。このため、低消費電力化が図られるという効果を有する。そして、維持放電を行う放電セル以外に補助的なセルを設けることがないので、高精細化に適している。   Thus, in the present embodiment, the sustain pulse voltage can be lowered and the efficiency can be improved at the same time. For this reason, the power consumption can be reduced. Further, since no auxiliary cell is provided other than the discharge cell that performs the sustain discharge, it is suitable for high definition.

なお、従来、初期化電圧の上昇時には、二次電子放出係数が保護層7よりも低いデータ電極10側(すなわち蛍光体層13側)がカソードとなる放電が行われることとなるため、初期化放電の開始電圧は高くなり、その結果、放電を微弱かつ安定に過不足なく発生させることは容易ではなかったのに対し、本実施の形態の構造によれば、カソードとなるデータ電極10側に突起部16が設けられており、このことで従来の構造に比べ、初期化放電の放電開始電圧を低電圧化することができ、放電の微弱かつ安定化を比較的容易に行うことが可能となるという効果も有する。   Conventionally, when the initialization voltage is increased, discharge is performed in which the data electrode 10 side (that is, the phosphor layer 13 side) whose secondary electron emission coefficient is lower than that of the protective layer 7 is used as the cathode. The discharge starting voltage is increased, and as a result, it has not been easy to generate the discharge weakly and stably without excess or deficiency. On the other hand, according to the structure of the present embodiment, the data electrode 10 serving as the cathode The protrusion 16 is provided, which makes it possible to lower the discharge start voltage of the initializing discharge as compared with the conventional structure, and makes it possible to weaken and stabilize the discharge relatively easily. It also has the effect of becoming.

つぎに、試作したパネルを用いて行った実験結果について説明する。
(実験1)
背面板8の突起16c、16uの寸法のみを2種類変えた試料番号1、2のパネルを試作した。あわせて、突起16c、16uのない従来構造の比較パネルも試作した。放電セル15のサイズは水平方向のピッチ幅Hが300μmで、垂直方向のピッチ幅Vが675μmである。表1には、作製したパネルに用いた背面板の突起16c、16uの各寸法を示す。
Next, the results of experiments performed using the prototype panel will be described.
(Experiment 1)
Panels of sample numbers 1 and 2 in which only two types of dimensions of the protrusions 16c and 16u of the back plate 8 were changed were manufactured. In addition, a comparative panel having a conventional structure without protrusions 16c and 16u was also prototyped. The discharge cells 15 have a horizontal pitch width H of 300 μm and a vertical pitch width V of 675 μm. Table 1 shows the dimensions of the protrusions 16c and 16u of the back plate used in the manufactured panel.

Figure 2008004436
Figure 2008004436

突起16c、16uの水平方向の幅をa、その垂直方向の幅をf、高さをcとし、縦隔壁12aの高さをd、横隔壁12bの高さをeとしている。縦隔壁12aの幅WLおよび横隔壁12bの幅WSはともに35μmである。試料番号1は、突起16c、16uの幅aが35μm、放電セル境界から突起先端までの距離bが90μm、高さcが50μmであり、縦隔壁12aの高さdが105μm、横隔壁12bの高さeが85μmである。試料2はaが50μm、bが150μm、cが90μmであり、縦隔壁12aの高さdは135μm、横隔壁12bの高さeは115μmである。背面側誘電体層11の厚みは試料番号1、2ともに12μm、データ電極は幅が100μm、厚みが3μmである。表面板1は、試料番号1、2ともに同じものを用いている。 The horizontal width of the protrusions 16c and 16u is a, the vertical width is f, the height is c, the vertical partition 12a is d, and the horizontal partition 12b is e. Both the width W L of the vertical partition 12a and the width W S of the horizontal partition 12b are 35 μm. In sample No. 1, the width a of the protrusions 16c and 16u is 35 μm, the distance b from the discharge cell boundary to the tip of the protrusion is 90 μm, the height c is 50 μm, the height d of the vertical partition 12a is 105 μm, and the horizontal partition 12b The height e is 85 μm. In sample 2, a is 50 μm, b is 150 μm, c is 90 μm, the height d of the vertical partition 12a is 135 μm, and the height e of the horizontal partition 12b is 115 μm. The back-side dielectric layer 11 has a thickness of 12 μm for both sample numbers 1 and 2, and the data electrode has a width of 100 μm and a thickness of 3 μm. The same surface plate 1 is used for both sample numbers 1 and 2.

維持電極対は銀電極を用いて作製した。その寸法は、走査電極3と維持電極4ともに幅が80μmで厚みは4μm、その両者の間隔すなわち放電間隙は90μmである。また、前面側誘電体層6の厚みは35μmである。   The sustain electrode pair was prepared using a silver electrode. The scan electrode 3 and the sustain electrode 4 have a width of 80 μm and a thickness of 4 μm, and the distance between them, that is, the discharge gap is 90 μm. The thickness of the front-side dielectric layer 6 is 35 μm.

以上の背面板8と前面板1とを対向させた上でその周縁部で封着し、その後、Ne−Xe(20%)の放電ガスを約400Torrの圧力で封入して、試料番号1、2のパネルを試作した。パネルサイズは対角方向が13インチで、画素数は、水平方向に600列、垂直方向に200行で構成している。   The back plate 8 and the front plate 1 are opposed to each other and sealed at the periphery thereof, and then a Ne—Xe (20%) discharge gas is sealed at a pressure of about 400 Torr. 2 panels were prototyped. The panel size is 13 inches in the diagonal direction, and the number of pixels is 600 columns in the horizontal direction and 200 rows in the vertical direction.

試作したパネルを、上述した図6に示す駆動波形を用いて駆動して、最低維持電圧と、発光効率とを測定した。各駆動電圧条件は、Vp=215〜260(V)、Vr=250(V)、Vg=210〜260(V)、Vs=10(V)、Va=150(V)、Vb=140(V)、Vw=80(V)、Vq=180(V)、Vh=210(V)、Vh2=220(V)である。   The prototype panel was driven using the drive waveform shown in FIG. 6 described above, and the minimum sustain voltage and the light emission efficiency were measured. Each drive voltage condition is Vp = 215-260 (V), Vr = 250 (V), Vg = 210-260 (V), Vs = 10 (V), Va = 150 (V), Vb = 140 (V ), Vw = 80 (V), Vq = 180 (V), Vh = 210 (V), Vh2 = 220 (V).

図8はパネルの維持電圧Vmを変えたときの発光効率を示す図である。図8中、三角印は試料番号2のパネルの値を示し、丸印は比較パネルの値を示す。維持パルス電圧Vmが低くなると正常に点灯しなくなる。正常に点灯する最低の維持パルス電圧を最低維持電圧と呼ぶと、比較パネルの最低維持電圧が260(V)であるのに対し、試料番号2のパネルの最低維持放電電圧が215(V)と45(V)低くなっている。また、発光効率に関しては、比較パネルがVm=320(V)のとき発光効率が2.52(lm/W)であるのに対して、試料2はVm=270(V)のとき発光効率が2.96(lm/W)と、17.5%、発光効率が向上していることがわかる。   FIG. 8 is a diagram showing the light emission efficiency when the sustain voltage Vm of the panel is changed. In FIG. 8, the triangle mark indicates the value of the panel of sample number 2, and the circle mark indicates the value of the comparison panel. When the sustain pulse voltage Vm is lowered, it does not light normally. When the lowest sustain pulse voltage that normally lights up is called the minimum sustain voltage, the minimum sustain voltage of the comparative panel is 260 (V), whereas the minimum sustain discharge voltage of the panel of sample number 2 is 215 (V). 45 (V) lower. Regarding the luminous efficiency, the luminous efficiency is 2.52 (lm / W) when the comparative panel is Vm = 320 (V), whereas the luminous efficiency of Sample 2 is luminous when Vm = 270 (V). It can be seen that the luminous efficiency is improved to 2.96 (lm / W), 17.5%.

(実施の形態2)
本発明の実施の形態2におけるPDPの前面基板および背面基板の構造は、基本的には図1〜図3に示した実施の形態1と同様であるが、図1〜図3に示した実施の形態1と比較して、走査電極3と維持電極4との距離を長くとってAC駆動を行う、いわゆる長ギャップ放電を採用したものである点が相違する。
(Embodiment 2)
The structure of the front substrate and the rear substrate of the PDP in the second embodiment of the present invention is basically the same as that in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, but the implementation shown in FIGS. Compared to the first embodiment, a difference is that a so-called long gap discharge is employed in which AC driving is performed with a longer distance between the scanning electrode 3 and the sustaining electrode 4.

本実施の形態のPDPにおける長ギャップ放電を行うための駆動に関して、以下に説明する。なお実施の形態1において説明した構成と共通なものには同じ符号を用いて説明する。   The drive for performing long gap discharge in the PDP of the present embodiment will be described below. Note that the same components as those described in Embodiment 1 are described using the same reference numerals.

一般的なAC型PDPと同様、1フィールド期間を2進法に基づいた発光期間の重みを持った複数のサブフィールドに分割し、発光させるサブフィールドの組み合わせによって階調表示を行う。各サブフィールドは初期化期間、アドレス期間及び維持期間からなる。   Similar to a general AC type PDP, one field period is divided into a plurality of subfields having a light emission period weight based on the binary system, and gradation display is performed by a combination of subfields to emit light. Each subfield includes an initialization period, an address period, and a sustain period.

図9は、本発明の実施の形態2によるPDPを駆動するための駆動波形の一例を示す波形図である。図9における(Xi)は、走査電極3に印加する電圧波形を示す。(Yi)は、維持電極4に印加する電圧波形を示す。(Ak)は、データ電極10に印加する電圧波形を示す。(Id)は、放電によって流れる電流波形を示す。(Xi)において、破線はデータ電極10上の蛍光体層13及び走査電極3上の前面側誘電体層6及び保護膜7に発生した壁電圧を示す。また、(Yi)において、破線はデータ電極10上の背面側誘電体層11及び蛍光体層13に発生した壁電圧、又は維持電極4上の前面側誘電体層6及び保護膜7に発生した壁電圧を示す。これらの壁電圧は、発生した放電に応じて保護膜13または蛍光体層28上に蓄積される壁電荷によって生じたものである。図9に示すように、印加電圧(Xi)(実線)と壁電圧(破線)との差が、それぞれの電極間の放電空間に加わる電圧を表すことになる。   FIG. 9 is a waveform diagram showing an example of a drive waveform for driving the PDP according to the second embodiment of the present invention. (Xi) in FIG. 9 shows a voltage waveform applied to the scan electrode 3. (Yi) indicates a voltage waveform applied to the sustain electrode 4. (Ak) indicates a voltage waveform applied to the data electrode 10. (Id) indicates a current waveform flowing by discharge. In (Xi), broken lines indicate wall voltages generated in the phosphor layer 13 on the data electrode 10 and the front-side dielectric layer 6 on the scan electrode 3 and the protective film 7. Further, in (Yi), the broken line is generated in the wall voltage generated in the back side dielectric layer 11 and the phosphor layer 13 on the data electrode 10 or in the front side dielectric layer 6 and the protective film 7 on the sustain electrode 4. Indicates wall voltage. These wall voltages are generated by wall charges accumulated on the protective film 13 or the phosphor layer 28 in accordance with the generated discharge. As shown in FIG. 9, the difference between the applied voltage (Xi) (solid line) and the wall voltage (broken line) represents the voltage applied to the discharge space between the electrodes.

次に、各期間における印加電圧波形と放電の状態について説明する。初期化期間の前半には、走査電極3及び維持電極4の電圧(Xi)、(Yi)として、データ電極10の電位(Ak)に対して下降する傾斜電圧が印加され、走査電極3とデータ電極10との間、及び、維持電極4とデータ電極10との間で微弱な放電を起こす。この放電によって、走査電極3と維持電極4との間、及び維持電極4とデータ電極10との間に、後に続く動作のための初期電荷が形成される。ここで走査電極3及び維持電極4に、データ電極10の電位(Ak)に対して下降する電圧を印加するのは、二次電子放射係数が比較的大きい保護膜7を陰極とすることによって放電開始を容易にするためである。   Next, an applied voltage waveform and a discharge state in each period will be described. In the first half of the initialization period, a ramp voltage that decreases with respect to the potential (Ak) of the data electrode 10 is applied as the voltages (Xi) and (Yi) of the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. Weak discharge occurs between the electrode 10 and between the sustain electrode 4 and the data electrode 10. By this discharge, an initial charge for subsequent operation is formed between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 and between the sustain electrode 4 and the data electrode 10. Here, the voltage that falls with respect to the potential (Ak) of the data electrode 10 is applied to the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 because the protective film 7 having a relatively large secondary electron emission coefficient is used as a cathode. This is to facilitate the start.

初期化期間の中間には、走査電極3及び維持電極4に、データ電極10の電位(Ak)に対して比較的振幅の大きな上昇する傾斜電圧を印加し、走査電極3とデータ電極10との間、及び、維持電極4とデータ電極10との間で放電を起こす。この結果、走査電極3及び維持電極4上の保護膜7には負電荷が蓄積される。   In the middle of the initialization period, a ramp voltage having a relatively large amplitude with respect to the potential (Ak) of the data electrode 10 is applied to the scan electrode 3 and the sustain electrode 4, and the scan electrode 3 and the data electrode 10 are Discharge occurs between the sustain electrodes 4 and the data electrodes 10. As a result, negative charges are accumulated in the protective film 7 on the scan electrodes 3 and the sustain electrodes 4.

初期化期間の後半には、データ電極10に対して下降する傾斜電圧を走査電極3に印加し、走査電極3とデータ電極10との間で放電を起こす。この結果、走査電極3上の保護膜7表面の負電荷が調整される。   In the latter half of the initialization period, a ramp voltage that decreases with respect to the data electrode 10 is applied to the scan electrode 3 to cause a discharge between the scan electrode 3 and the data electrode 10. As a result, the negative charge on the surface of the protective film 7 on the scan electrode 3 is adjusted.

傾斜電圧を印加している間、持続的に放電電流が流れ、走査電極3とデータ電極10との間には放電維持電圧Vs程度の電圧が常に加わっている。したがって、初期化期間が終了した時点においては、印加電圧と壁電圧との差はその放電空間の放電維持電圧Vsにほぼ等しい。図9において、初期化期間の終了時に、走査電極3とデータ電極4との間に加わる電圧をVsx-aと表している。 While the ramp voltage is applied, a discharge current continuously flows, and a voltage of about the discharge sustain voltage Vs is always applied between the scan electrode 3 and the data electrode 10. Therefore, at the end of the initialization period, the difference between the applied voltage and the wall voltage is substantially equal to the discharge sustain voltage Vs of the discharge space. In FIG. 9, the voltage applied between the scan electrode 3 and the data electrode 4 at the end of the initialization period is represented as Vsxa .

アドレス期間には、走査電極3にバイアス電圧Vabを加えて、選択された放電セルのみで放電が起こるようにする。放電セルの選択は、走査電極3に順次負極性のパルスを印加することによって行う。表示データがある場合、走査電極3を走査している間に、データ電極10に正極性のデータパルス電圧Vaが印加される。これによって時間t1では、走査電極3とデータ電極10との間に電圧Vsx-a+Vaが印加され、両電極間で放電が開始する。ここで、Vsx-aは、前述したように走査電極3とデータ電極10との間の放電維持電圧にほぼ等しいので、比較的小さな電圧Vaで放電を開始することができる。 In the address period, a bias voltage Vab is applied to the scan electrode 3 so that discharge occurs only in the selected discharge cell. A discharge cell is selected by sequentially applying negative pulses to the scan electrode 3. When there is display data, a positive data pulse voltage Va is applied to the data electrode 10 while scanning the scan electrode 3. Accordingly, at time t1, the voltage Vs xa + Va is applied between the scan electrode 3 and the data electrode 10, and discharge is started between the two electrodes. Here, since Vs xa is substantially equal to the discharge sustain voltage between the scan electrode 3 and the data electrode 10 as described above, the discharge can be started with a relatively small voltage Va.

アドレス期間において、維持電極4には走査電極3に対して正極性の電圧が加わっているので、走査電極3とデータ電極10との間で生じた上記の放電は維持電極4の方向へと伸展し、時間t2では維持電極4とデータ電極10との間でも放電が発生する。以上の結果、走査電極3上の保護膜7に蓄積される電荷の極性は、維持電極4上の保護膜7に蓄積される電荷の極性と逆になる。   In the address period, since the positive voltage is applied to the sustain electrode 4 with respect to the scan electrode 3, the discharge generated between the scan electrode 3 and the data electrode 10 extends toward the sustain electrode 4. At time t2, discharge occurs between the sustain electrode 4 and the data electrode 10. As a result, the polarity of the charge accumulated in the protective film 7 on the scan electrode 3 is opposite to the polarity of the charge accumulated in the protective film 7 on the sustain electrode 4.

また、表示データがない場合は、走査電極3とデータ電極10との間に放電が発生せず、走査電極3と維持電極4との上の保護膜7に蓄積された電荷は、ほぼ初期化期間終了時のまま保持される。   When there is no display data, no discharge is generated between the scan electrode 3 and the data electrode 10, and the charge accumulated in the protective film 7 on the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is substantially initialized. Retained at the end of the period.

維持期間には、走査電極3と維持電極4に交互に振幅Vsusの維持パルス電圧を印加する。維持パルス電圧は、時間t3において維持電極4とデータ電極10との間で維持電極4を陰極側とする放電が開始するような位相で印加される。このとき、走査電極3には維持電極4に対して正極性の電圧が加わっているので、維持電極4とデータ電極10との間で生じた上記の放電は走査電極3の方向へ伸展し、時間t4には走査電極3とデータ電極10との間でも放電が発生する。その結果、走査電極3及び維持電極4の上の保護膜7に蓄積される電荷の極性は逆転する。   In the sustain period, a sustain pulse voltage having an amplitude Vsus is alternately applied to scan electrode 3 and sustain electrode 4. The sustain pulse voltage is applied at a phase such that a discharge with the sustain electrode 4 as the cathode side starts between the sustain electrode 4 and the data electrode 10 at time t3. At this time, since the positive voltage is applied to the scan electrode 3 with respect to the sustain electrode 4, the discharge generated between the sustain electrode 4 and the data electrode 10 extends in the direction of the scan electrode 3, At time t4, a discharge is also generated between the scan electrode 3 and the data electrode 10. As a result, the polarity of charges accumulated in the protective film 7 on the scan electrodes 3 and the sustain electrodes 4 is reversed.

維持期間は以上の動作が交互に繰り返され、そのサブフィールドの重みに応じた回数の放電発光が行われる。   During the sustain period, the above operations are alternately repeated, and discharge light emission is performed a number of times according to the weight of the subfield.

次に、走査電極3とデータ電極10との間、及び、維持電極4とデータ電極10との間の一方で開始した放電が他方へ伸展する原理について、図10A〜10Fを参照しながら詳細に説明する。   Next, the principle that the discharge started on one side between the scan electrode 3 and the data electrode 10 and between the sustain electrode 4 and the data electrode 10 extends to the other side will be described in detail with reference to FIGS. 10A to 10F. explain.

図10A〜10Fは、本実施形態のPDPの維持期間における印加電圧と壁電荷及び放電プラズマの様子を模式的に示す断面図である。図10A〜10Fにおいては、放電空間における放電の範囲が模式的に楕円(又は長円)で描かれている。   10A to 10F are cross-sectional views schematically showing the applied voltage, wall charges, and discharge plasma during the sustain period of the PDP of the present embodiment. 10A to 10F, the discharge range in the discharge space is schematically drawn as an ellipse (or an ellipse).

図10Aは、維持期間の時間t3(図9参照)における壁電荷と印加電圧を示す。時間t3では、走査電極3に外部維持電圧Vsusが印加され、維持電極4は接地される。アドレス期間において、維持電極4上の保護膜7上には負極性の壁電荷が蓄積しているので、維持電極4とデータ電極10との間には維持電極4を負極とする電圧が加わり、放電が開始する。走査電極3とデータ電極10との間にもVsus程度の電圧が加わるが、蛍光体層13を陰極とする極性なので、放電は開始しない。なお、データ電極10上の蛍光体層13上には、正極性の壁電荷が蓄積されている。これはアドレス期間において維持電極4に大きな正電圧が加わっているのに対して、電位の低いデータ電極10が正電荷を引き寄せるからである。   FIG. 10A shows wall charge and applied voltage at time t3 (see FIG. 9) of the sustain period. At time t3, external sustain voltage Vsus is applied to scan electrode 3, and sustain electrode 4 is grounded. In the address period, since negative wall charges are accumulated on the protective film 7 on the sustain electrode 4, a voltage having the sustain electrode 4 as a negative electrode is applied between the sustain electrode 4 and the data electrode 10, Discharge starts. Although a voltage of about Vsus is also applied between the scan electrode 3 and the data electrode 10, the discharge does not start because the polarity is such that the phosphor layer 13 is a cathode. Note that positive wall charges are accumulated on the phosphor layer 13 on the data electrode 10. This is because a large positive voltage is applied to the sustain electrode 4 in the address period, whereas the data electrode 10 having a low potential attracts positive charges.

図10Bは、維持電極4とデータ電極10との間で放電が開始した状態を示す。維持電極4とデータ電極10との間で放電が開始すると、多量の正電荷及び負電荷が発生し、それぞれ維持電極4及びデータ電極10の方向へ引き寄せられ壁電荷を形成する。壁電荷によって生じた壁電圧は、維持電極4とデータ電極10との間にかかる電圧を打ち消して放電を停止させるように働く。   FIG. 10B shows a state where discharge has started between the sustain electrode 4 and the data electrode 10. When a discharge is started between the sustain electrode 4 and the data electrode 10, a large amount of positive charges and negative charges are generated and are drawn toward the sustain electrode 4 and the data electrode 10 to form wall charges. The wall voltage generated by the wall charge works to cancel the voltage applied between the sustain electrode 4 and the data electrode 10 and stop the discharge.

維持電極4上の保護層7および前面側誘電体層6と、データ電極10上の蛍光体層13とを比較すると、後者の方が小さい誘電率を有するので、壁電荷の蓄積はデータ電極10側で速く進行する。その結果、放電の陽極端は負電荷を流し込める蛍光体層表面を求めて移動することになる。その移動方向は、正の外部維持電圧Vsusが印加されている走査電極3の方向となる。   Comparing the protective layer 7 and the front-side dielectric layer 6 on the sustain electrode 4 with the phosphor layer 13 on the data electrode 10, the latter has a smaller dielectric constant, so that the wall charges are accumulated in the data electrode 10. Go fast on the side. As a result, the anode end of the discharge moves in search of the phosphor layer surface into which negative charges can flow. The moving direction is the direction of the scan electrode 3 to which the positive external sustain voltage Vsus is applied.

図10Cは放電の陽極端が移動している状態を示す。放電の陽極端は蛍光体層13の上に蓄積された正電荷を打ち消しながら、走査電極3の方向へと伸展していく。   FIG. 10C shows a state where the anode end of the discharge is moving. The anode end of the discharge extends toward the scanning electrode 3 while canceling out the positive charge accumulated on the phosphor layer 13.

図10Dは時間t4(図9参照)において、放電の陽極端(長円の右端部)が走査電極3上に到達した様子を示す。このとき、走査電極3とデータ電極10との間から維持電極4とデータ電極10との間を結ぶように陽光柱放電が形成され、多量の紫外線が放射される。   FIG. 10D shows a state where the anode end (the right end of the ellipse) of the discharge has reached the scan electrode 3 at time t4 (see FIG. 9). At this time, a positive column discharge is formed between the scan electrode 3 and the data electrode 10 so as to connect the sustain electrode 4 and the data electrode 10, and a large amount of ultraviolet rays are emitted.

図10Eは放電が停止する直前の状態を示す。放電は走査電極3とデータ電極10との間において、走査電極3上の保護層7上に負極性の壁電荷を、またデータ電極10上の蛍光体層13上に正極性の壁電荷を形成する。これによって、維持放電が発生したことが走査電極3とデータ電極10との間の壁電荷として記憶される。   FIG. 10E shows a state immediately before the discharge stops. The discharge forms a negative wall charge on the protective layer 7 on the scan electrode 3 and a positive wall charge on the phosphor layer 13 on the data electrode 10 between the scan electrode 3 and the data electrode 10. To do. As a result, the occurrence of the sustain discharge is stored as wall charges between the scan electrode 3 and the data electrode 10.

図10Fは、保護層7上及び蛍光体層13上に壁電荷が蓄積した結果、放電が停止した状態を示す。正の外部維持電圧Vsusが印加された走査電極3上の保護層7には負電荷が蓄積され、維持電極4上の保護層7及び蛍光体層13には正電荷が蓄積されている。これは、時間t3における壁電荷の分布(図10A参照)を走査電極3、維持電極4について逆転させたものに相当する。   FIG. 10F shows a state in which the discharge is stopped as a result of the accumulation of wall charges on the protective layer 7 and the phosphor layer 13. Negative charges are accumulated in the protective layer 7 on the scan electrode 3 to which the positive external sustain voltage Vsus is applied, and positive charges are accumulated in the protective layer 7 and the phosphor layer 13 on the sustain electrode 4. This corresponds to a case where the wall charge distribution (see FIG. 10A) at time t3 is reversed with respect to scan electrode 3 and sustain electrode 4.

したがって、図10Fの状態で、維持電極4に正の外部維持電圧Vsusを印加し、走査電極3を接地する(図9中の時間t5)と、時間t3において走査電極14と維持電極15とを入れ替えた状態となり、同様の維持放電を繰り返すことができる。   Therefore, when the positive external sustain voltage Vsus is applied to the sustain electrode 4 and the scan electrode 3 is grounded (time t5 in FIG. 9) in the state of FIG. 10F, the scan electrode 14 and the sustain electrode 15 are connected at time t3. It becomes the replaced state, and the same sustain discharge can be repeated.

ここで、前回の放電状態は、放電の陽極端が到達した側の対向放電空間の壁電荷として記憶されている。たとえば、ある回の放電が維持電極4とデータ電極10との間に到達して終了したとすると、次の回の放電は維持電極4とデータ電極10との間で開始し、走査電極3とデータ電極10との間に到達することによって完了する。放電終了時、放電が開始した側の対向放電空間の壁電圧は、図10Aまたは図10Fに示すようにほとんど消去されており、前回の放電状態を記憶していない。   Here, the previous discharge state is stored as the wall charge of the counter discharge space on the side where the anode end of the discharge has reached. For example, if a certain discharge reaches between the sustain electrode 4 and the data electrode 10 and ends, the next discharge starts between the sustain electrode 4 and the data electrode 10, and the scan electrode 3 It is completed by reaching between the data electrodes 10. At the end of the discharge, the wall voltage in the counter discharge space on the side where the discharge has started is almost erased as shown in FIG. 10A or FIG. 10F, and the previous discharge state is not stored.

上記のように、走査電極3とデータ電極10との間の放電、及び、維持電極4とデータ電極10との間の放電を交互に繰り返すことによって維持放電を行うAC型PDPにおいて、走査電極3と維持電極4との距離を長くすると発光効率は上昇することが知られている。しかし、その反面、放電開始電圧が高くなり、より高い電圧の駆動パルスが必要になる。特に、キセノン分圧が高い放電ガスを使用するときには、維持放電のための駆動パルスの電圧を高くしないとアドレスが不安定になる。   As described above, in the AC type PDP that performs the sustain discharge by alternately repeating the discharge between the scan electrode 3 and the data electrode 10 and the discharge between the sustain electrode 4 and the data electrode 10, the scan electrode 3 It is known that the luminous efficiency increases when the distance between the electrode and the sustain electrode 4 is increased. However, on the other hand, the discharge start voltage becomes high, and a higher voltage drive pulse is required. In particular, when a discharge gas having a high xenon partial pressure is used, the address becomes unstable unless the voltage of the drive pulse for sustain discharge is increased.

しかしながら本発明の一実施形態のPDPにおいては、突起部16が形成され、このことにより走査電極3及び維持電極4とデータ電極10との放電距離(空間距離)が短くなり、その分だけ放電開始電圧が低くなる。したがって、発光効率を高めるために走査電極3と維持電極4との距離を長くした場合でも、比較的低い電圧の駆動パルスで維持放電を行わせることが可能となる。これにより、高効率化と低消費電力とを両立させることが可能になる。   However, in the PDP according to the embodiment of the present invention, the protrusions 16 are formed, which shortens the discharge distance (spatial distance) between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 and the data electrode 10, and starts discharge accordingly. The voltage is lowered. Therefore, even when the distance between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is increased in order to increase the light emission efficiency, the sustain discharge can be performed with the drive pulse having a relatively low voltage. This makes it possible to achieve both high efficiency and low power consumption.

上述した長ギャップ放電のPDPにおける、維持期間に関する突起部16による効果について、再度、説明する。すなわち、長ギャップ放電の場合、維持パルスを印加して放電維持する際に、走査電極3と維持電極4との間隙と比べて距離の短い、表示電極5の一方の電極である走査電極3とデータ電極10との間、もしくは表示電極5の一方の電極である維持電極4とデータ電極10との間で放電(トリガー放電)が開始され、その後、表示電極5の他方の電極の方に放電が伸展することとなるので、走査電極3と維持電極4との間隙が大きいにもかかわらず、放電開始のための印加電圧を低く抑制した状態で維持放電を行わせることができる。   The effect of the protrusion 16 relating to the sustain period in the above-described long gap discharge PDP will be described again. That is, in the case of the long gap discharge, when the sustain pulse is applied and the discharge is maintained, the distance between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is shorter than the gap between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. A discharge (trigger discharge) is started between the data electrode 10 or between the sustain electrode 4 and the data electrode 10, which is one of the display electrodes 5, and then discharged toward the other electrode of the display electrode 5. Therefore, the sustain discharge can be performed in a state where the applied voltage for starting the discharge is kept low, even though the gap between the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 is large.

また、初期化期間についても、以下のような効果が得られる。すなわち、従来、初期化電圧の上昇時には、二次電子放出係数が保護層7よりも低いデータ電極10側(すなわち蛍光体層13側)がカソードとなる放電が行われることとなるため、初期化放電の開始電圧は高くなり、その結果、放電を微弱かつ安定に過不足なく発生させることは容易ではなくなかった。これに対して、カソードとなるデータ電極10側に突起部16が設けられていると、初期化放電の放電開始電圧を低電圧化することができ、放電の微弱かつ安定化を従来の構造に比べ、比較的容易に行うことが可能となる。   In addition, the following effects can be obtained with respect to the initialization period. That is, conventionally, when the initialization voltage is increased, the discharge is performed in which the data electrode 10 side (that is, the phosphor layer 13 side) whose secondary electron emission coefficient is lower than that of the protective layer 7 is the cathode. As a result, the discharge starting voltage is increased, and as a result, it has not been easy to generate the discharge weakly and stably without excess or deficiency. On the other hand, if the protrusion 16 is provided on the data electrode 10 side serving as the cathode, the discharge start voltage of the initializing discharge can be lowered, and the discharge is weak and stabilized in the conventional structure. In comparison, it can be performed relatively easily.

さらに、アドレス期間についても、以下のような効果が得られる。すなわち、データ電極10側に突起部16が設けられていると、アドレス放電開始電圧を低電圧化することができる。この場合も、突起部16の先端に二次電子放出材料の層を形成することで、さらに低電圧化が可能である。   Further, the following effects can be obtained with respect to the address period. That is, if the protrusion 16 is provided on the data electrode 10 side, the address discharge start voltage can be lowered. Also in this case, the voltage can be further reduced by forming a layer of the secondary electron emission material at the tip of the protrusion 16.

また、キセノン分圧を高く設定した放電ガスを使用し、放電空間中にキセノンを多量に存在させることにより、高い発光効率を得ることが可能となるが、この場合、高キセノン分圧により各放電開始電圧が上昇してしまうという問題が発生する場合があった。しかしながらそのような場合においても上述した本発明の一実施の形態によるPDPによれば、、データ電極10側に突起部16が設けられているので、高キセノン分圧による放電開始電圧の上昇という問題の発生を抑制することが可能である。   In addition, by using a discharge gas with a high xenon partial pressure and a large amount of xenon in the discharge space, it is possible to obtain high luminous efficiency. There was a case where the problem that the starting voltage would increase occurred. However, even in such a case, according to the PDP according to the embodiment of the present invention described above, since the protrusion 16 is provided on the data electrode 10 side, there is a problem that the discharge start voltage increases due to a high xenon partial pressure. Can be suppressed.

(実施の形態3)
図11は、本発明の実施の形態3におけるパネルの一部の断面図を示す。実施の形態1および2と異なる点は、突起16c、16u上が電子放出層51で覆われていることである。電子放出層51の材料としてMgOを用いると、二次電子放出係数が大きく、かつ、イオン衝撃に対しても耐性が高いので好ましい。このように、電子放出層51を突起16c、16u上に形成することにより、走査電極3や維持電極4上の前面側誘電体層6(保護層7)に対してデータ電極10が負にバイアスされる際のトリガー放電の放電開始電圧を下げることができる。これは、前面側誘電体層6(保護層7)と突起16cあるいは16uとの間に前駆放電は起こり、発生した正イオンが電界により移動して電子放出層51に衝突する際に二次電子を放出するため、この間の放電開始電圧が低下することによる。
(Embodiment 3)
FIG. 11 is a cross-sectional view of a part of the panel according to Embodiment 3 of the present invention. The difference from the first and second embodiments is that the projections 16 c and 16 u are covered with the electron emission layer 51. It is preferable to use MgO as the material of the electron emission layer 51 because it has a large secondary electron emission coefficient and high resistance to ion bombardment. Thus, by forming the electron emission layer 51 on the protrusions 16c and 16u, the data electrode 10 is negatively biased with respect to the front-side dielectric layer 6 (protective layer 7) on the scan electrode 3 and the sustain electrode 4. It is possible to lower the discharge start voltage of the trigger discharge when being performed. This is because when a precursor discharge occurs between the front-side dielectric layer 6 (protective layer 7) and the protrusion 16c or 16u, and the generated positive ions move due to an electric field and collide with the electron emission layer 51, secondary electrons are generated. This is because the discharge start voltage decreases during this period.

また、電子放出層51の材料としては、MgO以外に、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料を用いても同様の効果が得られることを確認した。この場合にも、走査電極3や維持電極4上の前面側誘電体層6(保護層7)に対してデータ電極10が負にバイアスされる際のトリガー放電の放電開始電圧を下げることができる。この場合は、電子放出層51の表面から電界印加による電子放出が起こり、トリガー放電の発生電圧を下げることができる。   Further, as the material of the electron emission layer 51, the same effect can be obtained even when at least one material selected from AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal is used in addition to MgO. It was confirmed. Also in this case, the discharge start voltage of the trigger discharge when the data electrode 10 is negatively biased with respect to the front-side dielectric layer 6 (protective layer 7) on the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 can be lowered. . In this case, electron emission by applying an electric field occurs from the surface of the electron emission layer 51, and the generation voltage of the trigger discharge can be lowered.

上記のような構成とすることにより、全セル初期化期間の前半部において、走査電極3と突起16cとの間の微弱な放電が起こり易くなる。このため、初期化期間における初期化放電不良が原因で起こる異常放電を抑制することができるという効果を有する。また、維持期間における、走査電極3と突起16cとの間や、維持電極4と突起16uとの間のトリガー放電がより低い電圧で発生するため、最低維持電圧を下げることができるという効果を有する。これにより、低電圧で維持放電が発生できるため、前に説明したように、発光効率が向上するという効果を得ることができる。   With the above configuration, a weak discharge is easily generated between the scan electrode 3 and the protrusion 16c in the first half of the all-cell initializing period. For this reason, it has the effect that the abnormal discharge which arises due to the initialization discharge defect in the initialization period can be suppressed. In addition, since the trigger discharge between the scan electrode 3 and the protrusion 16c or between the sustain electrode 4 and the protrusion 16u occurs at a lower voltage in the sustain period, the minimum sustain voltage can be lowered. . Thereby, since a sustain discharge can be generated at a low voltage, the effect of improving the light emission efficiency can be obtained as described above.

次に、上述した構成の製造方法について説明する。基本的には図4を用いて説明した製造方法と共通するものであり、その相違点のみを説明する。   Next, the manufacturing method of the structure mentioned above is demonstrated. This is basically the same as the manufacturing method described with reference to FIG. 4, and only the differences will be described.

すなわち、図4の工程S8により突起部16を形成した後に、例えば、電子ビーム蒸着法、RFスパッタ法、イオンビームスパッタ法のいずれか一つの物理蒸着法あるいはCVD法などを用いて、MgO、AlN、GaN、SiC、ダイヤアモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料を蒸着することにより突起部16の上面に電子放出層51を形成すればよい。   That is, after the protrusion 16 is formed in step S8 of FIG. 4, for example, any one of the physical vapor deposition method or the CVD method using an electron beam vapor deposition method, an RF sputtering method, or an ion beam sputtering method is used. The electron emission layer 51 may be formed on the upper surface of the protrusion 16 by vapor-depositing at least one material selected from GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal.

あるいは別の方法としては、突起部16を形成した後に、MgO、AlN、GaN、SiC、ダイヤアモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料の微粒子を含むペーストを用いて塗布し、乾燥させることにより電子放出層51を形成すればよい。   Alternatively, as another method, after forming the protrusion 16, a paste containing fine particles of at least one material selected from MgO, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal is used. The electron emission layer 51 may be formed by applying and drying.

その後、工程S9で蛍光体層13の塗布を行っても、突起16が背面側誘電体層11の表面よりも突出しているので、突起16上に塗布された蛍光体ペーストはほとんど流れ落ちて、電子放出層51の上には蛍光体粒子サイズ程度の極薄い蛍光体層13しか残らない。従って、前述した電子放出層51が蛍光体層13の表面に現れる。そしてこの状態は蛍光体焼成後も保たれるので、その結果、電子放出層51は電子放出の働きをすることができる。   After that, even if the phosphor layer 13 is applied in step S9, the protrusions 16 protrude beyond the surface of the back-side dielectric layer 11, so that the phosphor paste applied on the protrusions 16 almost flows down, and the electrons Only an extremely thin phosphor layer 13 of the size of phosphor particles remains on the emission layer 51. Therefore, the electron emission layer 51 described above appears on the surface of the phosphor layer 13. This state is maintained even after the phosphor is fired. As a result, the electron emission layer 51 can function as an electron emission.

また、別の方法としては以下の方法を挙げることができる。すなわち、図4における工程S9の蛍光体層形成での蛍光体塗布の際に、蛍光体ペーストとして、MgO、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料の微粒子を混合させた蛍光体ペーストを用いる。このような蛍光体ペーストを用いて蛍光体層塗布を行うと、突起16上に塗布された蛍光体ペーストはそのほとんど流れ落ちて、電子放出層51の上には蛍光体粒子サイズ程度の極薄い蛍光体層しか残らない。そして、突起16上に残った蛍光体層の中に含まれる上述した材料の微粒子が蛍光体層(極薄)の表面に現れて電子放出層51を形成することとなる。   Moreover, the following method can be mentioned as another method. That is, at the time of applying the phosphor in forming the phosphor layer in step S9 in FIG. 4, at least one selected from MgO, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal as the phosphor paste. A phosphor paste in which fine particles of two materials are mixed is used. When the phosphor layer is applied using such a phosphor paste, most of the phosphor paste applied on the protrusions 16 flows down, and an ultrathin fluorescence of the size of the phosphor particles is formed on the electron emission layer 51. Only the body layer remains. Then, the fine particles of the above-mentioned material contained in the phosphor layer remaining on the protrusion 16 appear on the surface of the phosphor layer (ultra thin) to form the electron emission layer 51.

(実施の形態4)
図12は、本発明の実施の形態4におけるパネルの一部の断面図を示す。実施の形態1と異なる点は、突起16c、16u上が横隔壁12bと分離していることである。図12では、突起16c、16uをそれぞれ走査電極3、維持電極4と対向する位置に配置している。このような構成とすることにより、突起の高さcを高くすることなく、突起16cと走査電極3の距離、突起16uと維持電極4との距離を近づける、すなわち、トリガー放電の発生電圧を下げることができる。
(Embodiment 4)
FIG. 12 is a cross-sectional view of a part of the panel according to Embodiment 4 of the present invention. The difference from the first embodiment is that the protrusions 16c and 16u are separated from the horizontal partition wall 12b. In FIG. 12, the protrusions 16 c and 16 u are arranged at positions facing the scan electrode 3 and the sustain electrode 4, respectively. With this configuration, the distance between the protrusion 16c and the scanning electrode 3 and the distance between the protrusion 16u and the sustain electrode 4 are reduced without increasing the height c of the protrusion, that is, the trigger discharge voltage is lowered. be able to.

また、この構成の製造方法としては、実施の形態1において説明した方法に対して、パターン形成のためのマスク、スクリーン版などを変更するだけで良い。   Further, as a manufacturing method of this configuration, it is only necessary to change a mask for forming a pattern, a screen plate and the like with respect to the method described in the first embodiment.

本実施の形態によるパネルにおいても、同様に、維持パルス電圧の低電圧化と高効率化が同時に得られる。このため、低消費電力化が図れるという効果を有する。そして、維持放電を行う放電セル以外に補助的なセルを設けることがないので、高精細化に適している。   Similarly, in the panel according to the present embodiment, the sustain pulse voltage can be lowered and the efficiency can be improved at the same time. For this reason, there is an effect that power consumption can be reduced. Further, since no auxiliary cell is provided other than the discharge cell that performs the sustain discharge, it is suitable for high definition.

なお、以上の実施の形態1から4においては、背面側誘電体層11上には、平面視で、データ電極10と重なるように突起部16を設け、且つ突起部16と表示電極対5との最短距離は、表示電極対5と背面側誘電体層11との最短距離よりも短くなるように構成している。すなわち、表示電極3と突起部16cとの最短距離は表示電極3と背面側誘電体層11との最短距離よりも短くなるように構成し、また、維持電極4と突起部16uとの最短距離は、維持電極4と背面側誘電体層11との最短距離よりも短くなるように構成しており、その具体的な構成の一例として、平面視で、走査電極3および維持電極4の少なくとも一方とデータ電極10とが重なる領域を含むように突起部16を設けた構成を示している。   In the above first to fourth embodiments, the protrusion 16 is provided on the back-side dielectric layer 11 so as to overlap the data electrode 10 in plan view, and the protrusion 16 and the display electrode pair 5 Is configured to be shorter than the shortest distance between the display electrode pair 5 and the back-side dielectric layer 11. That is, the shortest distance between the display electrode 3 and the protrusion 16c is configured to be shorter than the shortest distance between the display electrode 3 and the back-side dielectric layer 11, and the shortest distance between the sustain electrode 4 and the protrusion 16u. Is configured to be shorter than the shortest distance between the sustain electrode 4 and the back-side dielectric layer 11, and as an example of a specific configuration thereof, at least one of the scan electrode 3 and the sustain electrode 4 in plan view. In this configuration, the protrusion 16 is provided so as to include a region where the data electrode 10 and the data electrode 10 overlap.

しかしながら本発明の効果は、上述した構成に限るものではなく、前述したように、平面視で、データ電極と重なるように突起部を設け、且つ前記突起部と前記表示電極対との最短距離は、前記表示電極対と前記背面側誘電体層との最短距離よりも短くなるように構成したものであれば同様に得られることは明らかである。   However, the effect of the present invention is not limited to the above-described configuration. As described above, a projection is provided so as to overlap the data electrode in a plan view, and the shortest distance between the projection and the display electrode pair is It is obvious that the same structure can be obtained as long as it is configured to be shorter than the shortest distance between the display electrode pair and the back-side dielectric layer.

本発明のプラズマディスプレイパネルは、高効率でかつ低電圧駆動が可能な、低消費電力化を図られるプラズマディスプレイパネルを実現する上で有用である。   The plasma display panel of the present invention is useful for realizing a plasma display panel that can be driven with high efficiency and can be driven at a low voltage, and can achieve low power consumption.

本発明の実施の形態1によるプラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す断面斜視図Sectional perspective view which shows a part of schematic structure of the plasma display panel by Embodiment 1 of this invention 同プラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す平面図The top view which shows a part of schematic structure of the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す断面図Sectional drawing which shows a part of schematic structure of the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネルの背面板の製造プロセスを示す流れ図Flow chart showing the manufacturing process of the back plate of the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネルの電極配列図Electrode arrangement of the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネルの各電極に印加する駆動波形の一例を示す波形図Waveform diagram showing an example of a driving waveform applied to each electrode of the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動を模式的に示す断面図Sectional view schematically showing the behavior of wall charges in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の他の状態を模式的に示す断面図Sectional drawing which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す断面図Sectional drawing which shows typically another state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す断面図Sectional drawing which shows typically another state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネルの維持電圧Vmを変えたときの発光効率を示す図The figure which shows luminous efficiency when maintaining voltage Vm of the same plasma display panel is changed 本発明の実施の形態2によるプラズマディスプレイパネルを駆動するための駆動波形の一例を示す波形図Waveform diagram showing an example of a driving waveform for driving the plasma display panel according to the second embodiment of the present invention 本発明の実施の形態2によるプラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動を模式的に示す図The figure which shows typically the behavior of the wall charge in the plasma display panel by Embodiment 2 of this invention. 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の他の状態を模式的に示す図The figure which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the same plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す図The figure which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す図The figure which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す図The figure which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 同プラズマディスプレイパネル内の壁電荷の挙動の更に他の状態を模式的に示す図The figure which shows typically the other state of the behavior of the wall charge in the plasma display panel 本発明の実施の形態3によるプラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す断面図Sectional drawing which shows a part of schematic structure of the plasma display panel by Embodiment 3 of this invention 本発明の実施の形態4によるプラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す断面図Sectional drawing which shows a part of schematic structure of the plasma display panel by Embodiment 4 of this invention 従来のプラズマディスプレイパネルの概略構成の一部を示す断面斜視図Sectional perspective view showing a part of a schematic configuration of a conventional plasma display panel

符号の説明Explanation of symbols

1 前面板
2 第1のガラス基板
3 走査電極
3a 透明電極
3b 金属母線
4 維持電極
4a 透明電極
4b 金属母線
5 表示電極対
6 前面側誘電体層
7 保護膜
8 背面板
9 第2のガラス基板
10 データ電極
11 背面側誘電体層
12 隔壁
12a 縦隔壁
12b 横隔壁
13、13r、13g、13b 蛍光体層
14 放電空間
15 放電セル
16、16c、16u 突起
17 光吸収層
51 電子放出層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front plate 2 1st glass substrate 3 Scan electrode 3a Transparent electrode 3b Metal bus 4 Maintenance electrode 4a Transparent electrode 4b Metal bus 5 Display electrode pair 6 Front side dielectric layer 7 Protective film 8 Back plate 9 2nd glass substrate 10 Data electrode 11 Back side dielectric layer 12 Partition 12a Vertical partition 12b Horizontal partition 13, 13r, 13g, 13b Phosphor layer 14 Discharge space 15 Discharge cell 16, 16c, 16u Protrusion 17 Light absorption layer 51 Electron emission layer

Claims (12)

走査電極および維持電極からなる表示電極が複数対配置された第1のガラス基板と、
前記第1のガラス基板と放電空間を挟んで対向配置され、前記表示電極と交差する方向にデータ電極が複数配置された第2のガラス基板とを備え、
前記第2のガラス基板には、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層が設けられ、
前記背面側誘電体層上には、平面視で、データ電極と重なるように突起部が設けられ、
前記突起部と前記表示電極との最短距離は、前記表示電極と前記背面側誘電体層との最短距離よりも短くなるように構成されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
A first glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes including scan electrodes and sustain electrodes are arranged;
A second glass substrate disposed opposite to the first glass substrate with a discharge space interposed therebetween, and a plurality of data electrodes disposed in a direction intersecting the display electrode,
The second glass substrate is provided with a back side dielectric layer so as to cover the data electrode,
On the back side dielectric layer, a projection is provided so as to overlap the data electrode in plan view,
The plasma display panel characterized in that the shortest distance between the projection and the display electrode is shorter than the shortest distance between the display electrode and the back-side dielectric layer.
走査電極および維持電極からなる表示電極が複数対配置された第1のガラス基板と、
前記第1のガラス基板と放電空間を挟んで対向配置され、前記表示電極と交差する方向にデータ電極が複数配置された第2のガラス基板とを備え、
前記第2のガラス基板には、前記データ電極を覆うように背面側誘電体層が設けられ、
前記背面側誘電体層上には、平面視で、走査電極および維持電極の少なくとも一方とデータ電極とが重なる領域を含むように突起部が設けられたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
A first glass substrate on which a plurality of pairs of display electrodes including scan electrodes and sustain electrodes are arranged;
A second glass substrate disposed opposite to the first glass substrate with a discharge space interposed therebetween, and a plurality of data electrodes disposed in a direction intersecting the display electrode,
The second glass substrate is provided with a back side dielectric layer so as to cover the data electrode,
A plasma display panel, wherein a protrusion is provided on the back-side dielectric layer so as to include a region where at least one of the scan electrode and the sustain electrode and the data electrode overlap in a plan view.
前記背面側誘電体層上には、前記表示電極と前記データ電極とで形成される複数の放電セルを区画するように隔壁が設けられ、
前記隔壁は、前記データ電極を挟み前記データ電極に平行に形成された複数のストライプ状の縦隔壁と、隣接する前記表示電極対の間に対応する位置に形成した前記ストライプ状の縦隔壁に交差するように設けられた横隔壁とを有する請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネル。
On the back side dielectric layer, a partition is provided so as to partition a plurality of discharge cells formed by the display electrode and the data electrode,
The barrier ribs intersect a plurality of striped vertical barrier ribs formed parallel to the data electrodes with the data electrode interposed therebetween, and the striped vertical barrier ribs formed at positions corresponding to adjacent display electrode pairs. The plasma display panel according to claim 1, further comprising a horizontal barrier rib provided so as to perform.
前記背面側誘電体層上には、前記表示電極と前記データ電極とで形成される複数の放電セルを区画するように隔壁が設けられ、
前記隔壁は、前記データ電極を挟み前記データ電極に平行に形成した複数のストライプ状の縦隔壁と、隣接する前記表示電極対の間に対応する位置に形成した前記ストライプ状の縦隔壁に交差するように設けられた横隔壁とを有し、
前記突起部は、前記横隔壁の側部に接続して形成された請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネル。
On the back side dielectric layer, a partition is provided so as to partition a plurality of discharge cells formed by the display electrode and the data electrode,
The barrier ribs intersect a plurality of stripe-shaped vertical barrier ribs formed parallel to the data electrodes with the data electrode interposed therebetween, and the stripe-shaped vertical barrier ribs formed at positions corresponding to adjacent display electrode pairs. A transverse partition provided as
The plasma display panel according to claim 1, wherein the protrusion is formed to be connected to a side portion of the horizontal barrier rib.
前記突起部は、その表面に、電子放出層が形成された請求項1、2、4のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。   The plasma display panel according to claim 1, wherein an electron emission layer is formed on a surface of the protrusion. 前記電子放出層が、酸化マグネシウム、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれた少なくとも一つの材料を含む請求項5に記載のプラズマディスプレイパネル。   The plasma display panel according to claim 5, wherein the electron emission layer includes at least one material selected from magnesium oxide, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal. 前記材料が、微粒子である請求項6に記載のプラズマディスプレイパネル。   The plasma display panel according to claim 6, wherein the material is fine particles. 基板上にデータ電極を形成するステップと、
前記データ電極を覆うように背面側誘電体層を形成するステップと、
前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、横隔壁に相当するパターンに形成するステップと、
前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、縦隔壁に相当するパターンに形成するステップと、
前記背面側誘電体層上に低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストを、突起部に相当するパターンに形成するステップと、
前記横隔壁部、前記縦隔壁部、および前記突起部それぞれに相当するパターンに形成された、低軟化点ガラスフリットと有機バインダとを含むペーストそれぞれを現像、焼成することで、縦隔壁、横隔壁、および突起部を形成するステップと、
前記背面側誘電体層の上面と、前記縦隔壁および前記横隔壁の側面とに蛍光体層を形成するステップとを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Forming a data electrode on the substrate;
Forming a backside dielectric layer to cover the data electrode;
Forming a paste containing a low softening point glass frit and an organic binder on the back-side dielectric layer in a pattern corresponding to a transverse partition;
Forming a paste containing a low softening point glass frit and an organic binder on the back side dielectric layer in a pattern corresponding to a vertical partition;
Forming a paste containing a low softening point glass frit and an organic binder on the back-side dielectric layer in a pattern corresponding to the protrusions;
By developing and baking each paste including a low softening point glass frit and an organic binder formed in a pattern corresponding to each of the horizontal barrier ribs, the vertical barrier ribs, and the protrusions, the vertical barrier ribs and the horizontal barrier ribs are developed. And forming the protrusions;
A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: forming a phosphor layer on an upper surface of the back-side dielectric layer and side surfaces of the vertical barrier rib and the horizontal barrier rib.
前記ペーストの無機固形分比を30%〜50%とする請求項8に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 8, wherein an inorganic solid content ratio of the paste is 30% to 50%. 基板上にデータ電極を形成する工程と、
前記データ電極を覆うように背面側誘電体層を形成する工程と、
前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、横隔壁に相当するパターンを露光する工程と、
前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、縦隔壁に相当するパターンを露光する工程と、
前記背面側誘電体層上に感光性を有する材料を塗布し、突起部に相当するパターンを露光する工程と、
前記横隔壁部、前記縦隔壁部、および前記突起部それぞれに相当するパターンを露光されたそれぞれの感光性を有する材料を現像、焼成することで、縦隔壁、横隔壁、および突起部を形成する工程と、
前記背面側誘電体層の上面と、前記縦隔壁および前記横隔壁の側面とに蛍光体層を形成する工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Forming a data electrode on the substrate;
Forming a back side dielectric layer so as to cover the data electrode;
Applying a photosensitive material on the back-side dielectric layer and exposing a pattern corresponding to the transverse barrier ribs;
Applying a photosensitive material on the back-side dielectric layer and exposing a pattern corresponding to the vertical partition;
Applying a photosensitive material on the back side dielectric layer and exposing a pattern corresponding to the protrusion; and
The vertical barrier ribs, the horizontal barrier ribs, and the protrusions are formed by developing and baking the respective photosensitive materials exposed to the patterns corresponding to the horizontal barrier ribs, the vertical barrier ribs, and the protrusions. Process,
A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: forming a phosphor layer on an upper surface of the back-side dielectric layer and side surfaces of the vertical barrier rib and the horizontal barrier rib.
前記突起部を形成する工程の後に、前記突起部の表面に電子放出層を形成する電子放出層形成工程を有する請求項8または10に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 8, further comprising an electron emission layer forming step of forming an electron emission layer on a surface of the protrusion after the step of forming the protrusion. 前記蛍光体層を形成する工程は、酸化マグネシウム、AlN、GaN、SiC、ダイヤモンド、アルカリ金属、アルカリ土類金属の中から選ばれる少なくとも一つの材料の微粒子を混合した蛍光体ペーストを、印刷法あるいはインクジェット法により塗布することにより行う請求項11に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。   The step of forming the phosphor layer includes printing a phosphor paste in which fine particles of at least one material selected from magnesium oxide, AlN, GaN, SiC, diamond, alkali metal, and alkaline earth metal are mixed. The manufacturing method of the plasma display panel of Claim 11 performed by apply | coating by the inkjet method.
JP2006174099A 2006-06-23 2006-06-23 Plasma display panel, and its manufacturing method Pending JP2008004436A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006174099A JP2008004436A (en) 2006-06-23 2006-06-23 Plasma display panel, and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006174099A JP2008004436A (en) 2006-06-23 2006-06-23 Plasma display panel, and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008004436A true JP2008004436A (en) 2008-01-10

Family

ID=39008649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006174099A Pending JP2008004436A (en) 2006-06-23 2006-06-23 Plasma display panel, and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008004436A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009011081A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-22 Panasonic Corporation Plasma display panel
CN101807503A (en) * 2009-02-13 2010-08-18 三星Sdi株式会社 Plasma display

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000323038A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Hitachi Ltd Plasma display device and manufacture thereof
JP2001093425A (en) * 1999-09-28 2001-04-06 Dainippon Printing Co Ltd Plasma display panel and method for forming barrier rib
JP2003031130A (en) * 2001-07-13 2003-01-31 Pioneer Electronic Corp Plasma display panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000323038A (en) * 1999-05-10 2000-11-24 Hitachi Ltd Plasma display device and manufacture thereof
JP2001093425A (en) * 1999-09-28 2001-04-06 Dainippon Printing Co Ltd Plasma display panel and method for forming barrier rib
JP2003031130A (en) * 2001-07-13 2003-01-31 Pioneer Electronic Corp Plasma display panel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009011081A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-22 Panasonic Corporation Plasma display panel
JP5028487B2 (en) * 2007-07-13 2012-09-19 パナソニック株式会社 Plasma display panel
CN101807503A (en) * 2009-02-13 2010-08-18 三星Sdi株式会社 Plasma display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4880472B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JPH0737510A (en) Plasma display panel
KR100744325B1 (en) Plasma display panel
JP4110234B2 (en) Plasma display panel and driving method thereof
JP2006140144A (en) Plasma display panel
JP4546502B2 (en) Plasma display panel and method for forming partition of plasma display panel
JP2006216525A (en) Plasma display device, plasma display panel, and method for production thereof
JP4212184B2 (en) Plasma display device
JP2008004436A (en) Plasma display panel, and its manufacturing method
KR100378618B1 (en) Plasma Display Panel
KR100696532B1 (en) Plasma display panel and display apparatus
JP2001318645A (en) Method for driving ac-type plasma display panel
JP4409470B2 (en) Plasma display panel
US20090146568A1 (en) Plasma display panel
KR100400667B1 (en) A display apparatus using gas discharge
JP2005317321A (en) Plasma display panel
JP2004087356A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
KR100453161B1 (en) Plasma Display Panel and Driving Method Thereof and Fabricating Method of lower Plate Thereof
KR100278785B1 (en) Manufacturing method of bulkhead of plasma display panel
KR100718995B1 (en) Plasma Display Panel Including Barrier and Method for Manufacturing Plasma Display Panel
JP2007157485A (en) Plasma display panel and manufacturing method of the same
KR100697015B1 (en) The plasma display panel and the manufacturing methode of the same
JP2005005261A (en) Plasma display panel and manufacturing method of the same
KR100525890B1 (en) Plasma display panel
JP2007080679A (en) Gas discharge display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110704

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110906

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120207