JP2008003287A - パターン修正方法およびパターン修正装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】欠陥部における修正液の厚みを均一にすることが可能であり、修正時間が短いパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、白欠陥7の中央部に修正インク8を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板23を介して白欠陥7の真上からエアーを噴射し、白欠陥7における修正インク8の厚みを均一化する。したがって、エアー噴射ノズルを介して斜め上方からエアーを噴射していた従来に比べ、修正インク8の厚みをより均一化することができる。
【選択図】図4
【解決手段】このパターン修正方法では、白欠陥7の中央部に修正インク8を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板23を介して白欠陥7の真上からエアーを噴射し、白欠陥7における修正インク8の厚みを均一化する。したがって、エアー噴射ノズルを介して斜め上方からエアーを噴射していた従来に比べ、修正インク8の厚みをより均一化することができる。
【選択図】図4
Description
この発明はパターン修正方法およびパターン修正装置に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法およびパターン修正装置に関する。
液晶表示装置(LCD)の大型化、高精細化に伴い画素数も増大し、無欠陥で製造することは困難で、欠陥の発生確率も増加してきている。また、液晶表示装置の大型化に伴い画素サイズも大型化し、修正サイズも大きくなってきている。このような状況下において、歩留まり向上のために欠陥を修正するパターン修正装置が生産ラインに不可欠となってきている。
液晶表示装置に使用されるカラーフィルタは、図10(a)〜(c)に示すように、一定の周期で配置されたR(赤),G(緑),B(青)の画素70〜72を含む。カラーフィルタの製造工程において発生する欠陥には、白欠陥73、黒欠陥74、異物欠陥75などがある。白欠陥73とは、ある画素(図では71)に所定の色が付いていない欠陥である。黒欠陥74とは、画素に光の透過しない黒い部分ができる欠陥である。黒欠陥74の原因としては、ブラックマトリックス材料の画素部分へのはみ出し、ある画素の色が隣の画素にはみ出して色が混ざり合う混色、画素への異物の付着などがある。異物欠陥75とは、異物の付着によって生じた欠陥である。
白欠陥73を修正する装置としては、修正インクを塗布針によって塗布するものがある(たとえば、特許文献1参照)。黒欠陥74および異物欠陥75については、欠陥74,75をレーザで除去することによって四角形の白欠陥73に変え、この白欠陥73に修正インクを塗布する。
従来は、白欠陥73よりも大きめに塗布して修正していたが、最近の高精細化に伴い修正品位についても要求が厳しくなり、白欠陥73からはみ出しの無い修正が求められるようになってきた。この場合、白欠陥73からはみ出さないよう、白欠陥73の中心に修正インクを塗布して修正するが、塗布したインク量が少ない場合、白欠陥73の角部にインクが充填されない場合がある。再度同一箇所にインクを塗布した場合、逆にインク塗布量が多くなり過ぎて白欠陥73からインクがはみ出したり、修正箇所が正常部よりも色が濃くなり過ぎて修正品位が劣化する。
また、紫外線硬化性の修正インクをディスペンサによって白欠陥73に滴下し、斜め上方からエアーを噴射して修正インクをレベリングし、白欠陥73を覆っている修正インクに紫外線を照射して硬化させ、余分な修正インクを超音波洗浄によって除去する方法がある(たとえば、特許文献2参照)。
特開平9−236933号公報
特開平1−96601号公報
しかし、従来のパターン修正方法では、余分な修正インクを超音波洗浄によって除去する必要があるので、修正時間が長くなるという問題がある。
図11(a)は特許文献2の方法の変更例を示す平面図であり、図11(b)は図11(a)のXIB−XIB線断面図である。図11(a)(b)に示すように、カラーフィルタはガラス基板76の表面に格子状のブラックマトリクス77を形成し、ブラックマトリクス77で囲まれた四角形状の領域にR,G,Bの着色層を形成したものである。たとえば緑色(G)の着色層が形成された部分がG画素71となる。ここでは、G画素71にレーザによって形成された四角形の白欠陥73を修正するものとする。まず、白欠陥73の中央部に白欠陥73を充填するのに過不足のない量の修正インク78を塗布する。次に、エアー噴射ノズル79からエアーを噴射して修正インク78をレベリングする。この方法によれば、余分な修正インク78を洗浄して除去する必要がない。
しかし、この方法では、白欠陥73の斜め上方からエアーを噴射するので、図12(a)(b)に示すように、修正インク78が白欠陥73の一方端部に偏ってしまい、白欠陥73全体に均一にレベリングすることができない。このため、画素71内にむらができたり、角部においてインク78の充填が不十分になってしまう。
それゆえに、この発明の主たる目的は、欠陥部における修正液の厚みを均一にすることが可能であり、修正時間が短いパターン修正方法およびパターン修正装置を提供することである。
この発明に係るパターン修正方法は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法において、欠陥部に修正液を塗布した後、欠陥部を含む範囲全体に欠陥部の真上から気体を噴射し、欠陥部における修正液の厚みを均一化することを特徴とする。
また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、塗布手段によって修正液が塗布された欠陥部を含む範囲全体に欠陥部の真上から気体を噴射し、欠陥部における修正液の厚みを均一化する気体噴射手段とを備えたことを特徴とする。
好ましくは、気体噴射手段は、表面が欠陥部を含む範囲に対向して配置され、裏面側から供給された気体を表面側から面状に噴射する噴射板を含む。
また好ましくは、噴射板は多孔質材料で形成されている。
また好ましくは、噴射板は、所定のピッチで配置された複数の貫通孔を含む。
また好ましくは、噴射板は、所定のピッチで配置された複数の貫通孔を含む。
また好ましくは、微細パターンはカラーフィルタの着色部であり、欠陥部は着色部の色が抜けた白欠陥であり、修正液は、着色部と同じ色の修正インクである。
この発明に係るパターン修正方法およびパターン修正装置では、欠陥部に修正液を塗布した後、欠陥部を含む範囲全体に欠陥部の真上から気体を噴射するので、斜め上方から気体を噴射していた従来に比べ、欠陥部における修正液の厚みを均一化することができる。また、余分な修正液を洗浄する必要がないので、修正時間の短縮化を図ることができる。
本願発明のパターン修正方法では、修正インクをレベリングするためのエアー噴射部の先端に噴射板を設け、噴射板の表面を所定の間隔を開けて基板の表面に並行に配置する。レベリング時は、修正インクが塗布された欠陥部に噴射板を介して面状に均一にエアーを吹き付ける。この場合、欠陥部よりも大きい面積に面状にエアーを噴射するため、欠陥部と噴射板の位置が若干ずれても修正インクの流れる方向に影響を与えることなく、安定したレベリングを行なうことができる。以下、本願発明のパターン修正方法を図面を用いて詳細に説明する。
図1(a)〜(e)は、この発明の一実施の形態によるパターン修正方法の一部を示す図である。このパターン修正方法の修正対象となる液晶表示装置のカラーフィルタは、図1(a)(b)に示すように、ガラス基板1の表面に格子状のブラックマトリクス2を形成し、ブラックマトリクス2で囲まれた四角形状の領域にR,G,Bの着色層を形成したものである。それぞれ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の着色層が形成された部分がR画素3、G画素4、B画素5となる。ここでは、カラーフィルタの製造工程においてB画素5に発生した異物欠陥6を修正するものとする。
異物欠陥6は、図2(a)(b)に示すように、カラーフィルタの製造工程においてガラス基板1の表面に異物10が付着した状態で着色層すなわち画素5が形成された場合に発生する。まず、異物欠陥6に断面が四角形状に整形されたレーザ光11を異物欠陥6に照射して除去する。これにより、図1(c)に示すように、四角形の白欠陥7が形成される。
次に、図1(d)(e)に示すように、白欠陥7の中央部に修正インク8を塗布する。すなわち図3(a)〜(c)に示すように、塗布針12の先端部に所定量の修正インク8を付着させた後、塗布針12の先端を白欠陥7の中央に接触させて、修正インク8を白欠陥7に塗布する。このとき、白欠陥7の体積分の修正インク8が塗布されるように、塗布針12の先端部のインク量を設定しておく。塗布された修正インク8は表面張力によって中央部が盛り上がった状態になるので、図1(e)に示すように、白欠陥7の角部には修正インク8が充填されない。そこで、修正インク8のレベリングを行なう。
図4(a)は修正インク8のレベリング方法を示す平面図であり、図4(b)は図4(a)のIVB−IVB線断面図である。図4(a)(b)において、修正インク8が塗布された白欠陥7の上方に、修正インク8のレベリングを行なうためのエアー噴射部20が配置される。エアー噴射部20は、円筒状のフレーム21を含む。フレーム21の上側の開口部は閉蓋されており、蓋部の中央には貫通孔が形成され、その貫通孔には継手22が嵌め込まれている。継手22は、たとえばチューブを介してエアー供給装置(図示せず)に接続される。また、フレームの下端面には円板状の噴射板23が嵌め込まれており、フレーム21の内壁と噴射板23で囲まれた部分はエアー室24を構成している。噴射板23は、多孔質材料で形成されており、画素5全体をカバーすることが可能な大きさの噴射面を有する。
エアー噴射部20は、駆動機構(図示せず)によって上下動可能に支持されており、レベリング時以外の期間は、修正インク8の塗布などの邪魔にならないように上方に移動され、レベリング時は、図4(a)(b)に示すように、修正インク8が塗布された白欠陥7の直ぐ上に配置される。このとき、噴射板23は、中心が白欠陥7の上方に位置するようにして、所定の間隔を開けてガラス基板1に並行に配置される。
レベリング時に、エアー供給装置からエアーが供給されると、エアー室24内のエアーは噴射板23の多数の微細孔を介して、基板1に対して面状に均一に噴射される。これにより、図5(a)(b)に示すように、白欠陥7に塗布された修正インク8の厚さが均一にレベリングされ、白欠陥7の角部にも修正インク8が充填される。最後に、白欠陥7に塗布された修正インク8に紫外線を照射して硬化させ、欠陥の修正を終了する。
この実施の形態では、白欠陥7の中央部に修正インク8を塗布した後、白欠陥7の真上からエアーを噴射するので、斜め上方からエアーを噴射していた従来に比べ、白欠陥7における修正インク8の厚みをより均一化することができる。また、余分な修正インク8を洗浄する必要がないので、修正時間の短縮化を図ることができる。また、白欠陥7よりも大きな領域に面状にエアーを噴射するため、白欠陥7と噴射板20の位置が若干ずれても修正インク8の流れる方向に影響を与えることなく、安定したレベリングを行なうことができる。
図6(a)〜(e)は、この実施の形態の変更例を示す図である。図6(a)において、この変更例では、B画素5と同程度の大きさの異物欠陥6がB画素5に発生したものとする。この場合は図6(b)に示すように、そのB画素5全体をレーザで除去して白欠陥7に変える。次いで図6(c)(d)に示すように、B画素5の長さ方向に複数回、塗布針12で修正インク8を塗布する。この場合でも、図4(a)(b)で示したエアー噴射部20を用いて修正インク8をレベリングすることにより、図6(e)に示すように、白欠陥7内における修正インク8の厚みを均一化することができる。
図7は、この実施の形態の他の変更例を示す断面図であって、図4(b)と対比される図である。図7を参照して、エアー噴射部25が図4(b)のエアー噴射部20と異なる点は、噴射板23が噴射板26で置換されている点である。噴射板26は、円板部材に所定のピッチで多数の微細な貫通孔26aを形成したものである。レベリング時にエアー供給装置(図示せず)からエアーが供給されると、エアー室24内のエアーは多数の貫通孔26aを介して白欠陥7に塗布された修正インク8に噴射される。この変更例でも、実施の形態と同じ効果が得られる。
なお、この実施の形態では、異物欠陥6にレーザ光を照射して四角形の白欠陥7に変換した場合について説明したが、図10(a)(b)で示した任意の形状の白欠陥73や黒欠陥74にレーザ光を照射して四角形の白欠陥7に変換しても同様に修正可能であることは言うまでもない。
また、この実施の形態では、塗布針12を用いて修正インク8を塗布したが、ディスペンサなどの他の方法で塗布してもよい。
図8は、図1〜図7で示したパターン修正方法を実行するためのパターン修正装置の構成を示す一部省略した斜視図である。図8において、パターン修正装置は、カラーフィルタ30の表面を観察する観察光学系31と、観察された画像を撮影するCCDカメラ32と、観察光学系31を介してカラーフィルタ30にレーザ光11を照射し欠陥部をカットするカット用レーザ部33と、修正インク8を塗布針12の先端部に付着させてカラーフィルタ30の欠陥部に塗布するインク塗布機構34と、欠陥部に塗布された修正インク8のレベリングを行なうレベリング機構35と、レベリングされた修正インク8に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射装置36と、パターン修正装置を操作するための操作パネル37と、装置全体を制御する制御用コンピュータ38とを備える。レベリング機構35は、図4(a)(b)に示したエアー噴射部20または図7に示したエアー噴射部25を含む。
さらに、その他に観察光学系31から紫外線照射装置36までを搭載してZ方向(垂直方向)に移動するZ軸テーブル39と、Z軸テーブル39を搭載してX方向(水平方向)に移動するX軸テーブル40と、カラーフィルタ30を搭載してX方向と直交するY方向(水平方向)に移動するY軸テーブル41などが設けられている。テーブル39〜41は、カラーフィルタ30に対して観察光学系31から紫外線照射装置36までを適切な位置に相対移動させるために設けられている。なお、修正インク8として熱硬化型のものを使用した場合は、紫外線照射装置36をハロゲンランプで置換すればよい。
また、図9は、インク塗布機構34の構成を示す斜視図である。図9において、インク塗布機構34は、修正インク8を塗布するための塗布針12と、塗布針12を垂直方向に駆動させるための駆動シリンダ51とを備える。塗布針12は、保持部材53を介して駆動シリンダ51の駆動軸52の先端部に設けられる。駆動シリンダ51は、Z軸テーブル39に固定される。
また、インク塗布機構34は、水平に設けられた回転テーブル54と、回転テーブル54上に円周方向に順次配置された4つのインクタンク55、洗浄装置56およびエアパージ装置57とを備える。回転テーブル54にはインク塗布時に塗布針12を通過させるための切欠部58が形成され、回転テーブル54の中心部には回転軸59が立設されている。4つのインクタンク55には、それぞれRGBおよび黒の修正インク8が注入されている。洗浄装置56には、塗布針12を洗浄するための洗浄液が貯えられている。エアパージ装置57は、小穴に挿入された塗布針12にエアーを噴射して塗布針12に付着した洗浄液などを吹き飛ばす。
さらに、インク塗布機構34は、回転テーブル54の回転軸59を回転させるためのモータ60と、回転軸59とともに回転するインデックス板61と、インデックス板61を介して回転テーブル54の回転位置を検出するためのインデックス用センサ62と、インデックス板61を介して回転テーブル54の回転位置が原点に復帰したことを検出する原点復帰用センサ63とを備える。モータ60は、センサ62,63の出力に基づいて制御され、回転テーブル54を回転させて切欠部58、4つのインクタンク55、洗浄装置56およびエアパージ装置57のうちのいずれかを塗布針12の下方に位置させる。
次に、インク塗布機構34の動作について説明する。まず、Z軸テーブル39、X軸テーブル40およびY軸テーブル41を駆動させて塗布針12をカラーフィルタ30の白欠陥7の上方の所定の位置に位置させる。次いで回転テーブル54を回転させて、白欠陥7に塗布すべき色の修正インク8が貯えられたインクタンク55を塗布針12の下方に位置させ、駆動シリンダ51によって塗布針12を上下させ、塗布針12の先端部に修正インク8を付着させる。
次に、回転テーブル54を回転させて切欠部58を塗布針12の下に位置させ、駆動シリンダ51によって塗布針12を下降させて塗布針12の先端をカラーフィルタ30の白欠陥7に接触させ、修正インク8を白欠陥7に塗布する。
インク塗布終了後は、塗布針12の下方に洗浄装置56を位置させ、針12を上下させて針12を洗浄した後、針12の下方にエアパージ装置57を位置させ、針12を上下させて針12に付着した洗浄液を吹き飛ばす。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1,76 ガラス基板、2,77 ブラックマトリクス、3,70 R画素、4,71 G画素、5,72 B画素、6,75 異物欠陥、7,73 白欠陥、8,78 修正インク、10 異物、11 レーザ光、12 塗布針、20,25 エアー噴射部、21 フレーム、22 継手、23,26 噴射板、24 エアー室、30 カラーフィルタ、31 観察光学系、32 CCDカメラ、33 カット用レーザ部、34 インク塗布機構、35 レベリング機構、36 紫外線照射装置、37 操作パネル、38 制御用コンピュータ、39 Z軸テーブル、40 X軸テーブル、41 Y軸テーブル、51 駆動シリンダ、52 駆動軸、53 保持部材、54 回転テーブル、55 インクタンク、56 洗浄装置、57 エアパージ装置、58 切欠部、59 回転軸、60 モータ、61 インデックス板、62 インデックス用センサ、63 原点復帰用センサ、74 黒欠陥、79 エアー噴射ノズル。
Claims (6)
- 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法において、
前記欠陥部に修正液を塗布した後、前記欠陥部を含む範囲全体に前記欠陥部の真上から気体を噴射し、前記欠陥部における前記修正液の厚みを均一化することを特徴とする、パターン修正方法。 - 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、
前記欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、
前記塗布手段によって前記修正液が塗布された前記欠陥部を含む範囲全体に前記欠陥部の真上から気体を噴射し、前記欠陥部における前記修正液の厚みを均一化する気体噴射手段とを備えたことを特徴とする、パターン修正装置。 - 前記気体噴射手段は、表面が前記欠陥部を含む範囲に対向して配置され、裏面側から供給された前記気体を前記表面側から面状に噴射する噴射板を含むことを特徴とする、請求項2に記載のパターン修正装置。
- 前記噴射板は多孔質材料で形成されていることを特徴とする、請求項3に記載のパターン修正装置。
- 前記噴射板は、所定のピッチで配置された複数の貫通孔を含むことを特徴とする、請求項3に記載のパターン修正装置。
- 前記微細パターンはカラーフィルタの画素であり、
前記欠陥部は前記画素の色が抜けた白欠陥であり、
前記修正液は、前記画素と同じ色の修正インクであることを特徴とする、請求項2から請求項5までのいずれかに記載のパターン修正装置。
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CN106526912A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-03-22 | 南京华东电子信息科技股份有限公司 | 面板修复ink装置 |
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JP2011102835A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの修正方法及びカラーフィルタ |
JP2012108291A (ja) * | 2010-11-17 | 2012-06-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板の欠陥修正方法およびカラーフィルタ基板 |
CN106526912A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-03-22 | 南京华东电子信息科技股份有限公司 | 面板修复ink装置 |
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