JP2007536754A - 熱挙動が改良された光学部品 - Google Patents
熱挙動が改良された光学部品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007536754A JP2007536754A JP2007512021A JP2007512021A JP2007536754A JP 2007536754 A JP2007536754 A JP 2007536754A JP 2007512021 A JP2007512021 A JP 2007512021A JP 2007512021 A JP2007512021 A JP 2007512021A JP 2007536754 A JP2007536754 A JP 2007536754A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical component
- optical
- component according
- holder element
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70175—Lamphouse reflector arrangements or collector mirrors, i.e. collecting light from solid angle upstream of the light source
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】光が照射されたときに昇温する光学的に有効な少なくとも一つの光学素子と、少なくとも一つの光学素子をキャリア構造内に保持するための少なくとも一つのホルダ要素とを含み、少なくとも一つの光学素子は熱伝導する態様で少なくとも一つのホルダ要素に接続され、また少なくとも一つのホルダ要素には少なくとも一つの光学素子からの熱を放出するための能動冷却装置が少なくとも部分的に設けられた光学部品を提案する。
【選択図】図1a
Description
本発明は、特に、EUVリソグラフィに用いられるコレクタに関連して説明されるが、コレクタのみには限定されない。
極紫外線(EUV)域における照射システムのコレクタのシミュレーション結果によれば、処理中にコレクタの温度は大幅に上昇する。この温度上昇により、コレクタは変形する。
添付の図1を参照し、一般の光学部品を加熱した場合を簡略的に説明する。図1は、光学部品に作用する入射ビーム1を示す。光学部品、例えば、ミラーは、基板本体4および光学素子としての光学層3を含み、ビームは、このミラーによって、参照番号2に示されるように偏向または反射される。レンズ、プリズム、グレーティング、分光器等の他の光学部品も考えられる。
下記特許文献1は、真空状態において光学素子を冷却するための冷却装置および冷却方法を開示している。冷却装置は、放射状に熱を伝達することによって光学部品を冷却するために、光学部品から離して配置される放射状の冷却部と、この放射状の冷却部の温度を制御するための制御部とを含む。
下記特許文献2は、真空状態下で用いられる光学システムを含む、装置、光学素子および光学システムを冷却するための装置およびその方法を開示している。この冷却装置は、光学部品の表面に沿って各光学部品の近辺に配された熱受プレートを備え、この熱受プレートでは、光学部品に向かう光は入射も出射もしない。この熱受プレートは光学部品からの熱を受け取るように構成されている。下記特許文献1と同様、この周知の装置は、光学部品用の部品に加えて、光学部品冷却用の部品を多数必要とする。
特に、少なくとも一つのホルダ要素は、ホルダ要素を通って冷却媒体を誘導するための少なくとも一本の流路を含むことが好ましい。
冷却媒体は、少なくとも一つの冷却流路を形成する冷却コイル内の少なくとも一つのホルダ要素を通って誘導されるのが好ましい。
さらに、内部を少なくとも一本の流路が通る、少なくとも一つのホルダ要素の壁は、少なくとも一つの光学素子と重なり合う拡張重複領域を有するのが好ましい。
少なくとも一つの光学素子から少なくとも一つのホルダ要素への熱伝達をさらに向上させるために、少なくとも一つのホルダ要素の壁の厚みは、少なくとも重複領域においては、少なくとも一本の流路が壁によって光学素子からわずかの距離しか離間しない程度に薄いことが好ましい。
さらに好ましい実施形態において、光学素子は基体を備え、該基体は熱伝導性の高い材料からなる。
さらに、基体の熱伝導特性を向上させるために、基体は全体的にまたは部分的に拡張された、すなわち肉厚になった部分を備えていてもよい。
少なくとも一つの光学素子が光学的に有効な層を含む場合は、この層は熱伝導性の高い材料からなることが好ましい。
例えば、金属粒子を充填した接着剤が使用可能である。
この手段によれば、少なくとも一つの光学素子から少なくとも一つのホルダ要素への熱伝達がさらに向上する。接続要素、すなわち接続手段が接着剤である場合、接着剤の厚みはできる限り薄くして、光学素子とホルダ要素との間の隙間を小さくする。同様に、少なくとも一つの光学素子と少なくとも一つのホルダ要素とが互いに半田付けまたは溶接される場合には、半田または溶接の厚みはできる限り薄くしなければならない。例えば、機械的な締め付けのように機械的接続要素を用いる場合には、少なくとも一つの光学素子と少なくとも一つのホルダ要素との間が直接接触するので、熱伝達が向上する。
この手段もまた、少なくとも一つの光学素子から少なくとも一つのホルダ要素への熱伝達の向上に適している。特に、少なくとも一つの光学素子から、上記の実施形態の一つに記載された、少なくとも一つのホルダ要素を流れる冷却媒体への熱伝達に適している。
さらに好ましい実施形態において、少なくとも一つのホルダ要素は少なくとも一つの光学素子に対して移動可能であり、また、少なくとも一つのホルダ要素はキャリア構造に対して移動可能である。あるいは、少なくとも一つのホルダ要素は少なくとも一つの光学素子に対して移動可能であるか、または、少なくとも一つのホルダ要素はキャリア構造に対して移動可能である。
さらに好ましい実施形態においては、光学部品を所定の処理温度まで上昇させるために加熱システムが設けられている。
加熱システムは、非接触型の加熱システムであるのが好ましい。
加熱システムは、光学部品を囲む熱遮蔽物を含むのが好ましい。
特定の実施形態においては、少なくとも一つの光学素子はミラーであり、少なくとも一つのホルダ要素はミラーとキャリア構造との間に延びる支柱、すなわちスポークである。
この場合、キャリア構造は少なくとも一つのミラーの周りを囲むリングであるのが好ましく、支柱、すなわちスポークは、少なくとも一つのミラーとリングとの間に放射状に延びる。
これに関連して、スポークは共通の外側リングおよび/または共通の内側リングに接続されているのがさらに好ましい。
更なる特徴および利点は下記の記載および添付の図面から明らかになるであろう。
上記の特徴および下記に説明される特徴は、記載された組み合わせのみならず、その他の組み合わせまたは単独でも、本発明の範囲を逸脱することなく、適用可能である。
図1aは、図1に示された光学部品に対応する光学部品を大略的に示している。図1aで用いられた参照符号のうち、図1と同じものは、図1と同様の特徴を示すものとし、ここでは説明しない。
図2は、本発明の他の実施形態を示す。図2は、光学素子としてのコレクタミラーシェルA1と、それに接続されているホルダ要素としての4本の支柱B1とを含む光学部品を示す。
図2の上部に示されるように、支柱B1は、図1aに関連して既に述べたとおり、冷却媒体を通すための1本または数本の流路B2を含む。
複数のシェルA1は、互いに嵌合することにより組み合わせることができる。図2には、シェルA1単体のホルダ要素B1のみを示す。
図4は、スポークB1のうちの一つの断面図である。
・スポークB1の高さを低くするかまたはスポークB1に突起20を備えることによって確保できる光学シェルA1とスポークB1との間の最大限の大きさの重複領域、
・例えば、熱伝導性の接着剤のような良好な熱伝導特性を有する接続要素、すなわち接続手段C1によってシェルをスポークB1に固定すること、
・接続要素、すなわち接続手段C1の厚みを小さくすることにより、シェルA1とスポークB1との間の間隙を小さくすること、
・シェルA1をスポークB1に接着する代わりに、半田付けまたは溶接を用いること、
・更なる代案として、例えば締め付け、ねじ留め等によりシェルA1をスポークB1に機械的に接続すること、
・シェルA1がスポークB1の冷却流路B2近辺に位置するように、スポークB1とシェルA1との間の重複領域内のスポークB1の壁の厚みをできる限り薄くすること、
・熱伝導特性の高い材料(例えば、銅やアルミニウム)からなるスポークを設けること、および/または、
・スポークB1を、図3および図4に示されるようにシェルA1の縁部、すなわち端部に配置する代わりに、シェルA1の端部と端部との間の中間領域に配置すること、
である。
図5は、板バネを含む解決策を示している。この目的のためには、内部に冷却装置B2が一体化されたスポークB1が、板バネ29,30を介して、スポークホイールの外側リング26に固定されている。スポークB1は、また、板バネ31を介して、内側リング25に固定されている。
図6は、すべり軸受けを有する解決策を示している。内部を冷却媒体21,22が流れるスポークB1は、2つのすべり軸受け28,32によって、スポークホイール25,26内に取り付けられている。コレクタシェルA1が膨張すると、スポークはコレクタシェルA1とともに径方向33に動く。
すべり軸受け28,32の代わりにローラ型直線上ガイドを用いてもよい。
本発明のためのEUVコレクタシェルA1の製造方法を以下に記載する。
このシステムは温度制御を必要とし、光学部品の温度は、取り付けられた温度センサによって常に測定され、それによって、追加加熱の加熱力が制御される。光学部品が、追加加熱によって運転温度まで引き上げられて初めて、システムの運転準備が整う。つまり、システムの電源が入れられるかまたは運転準備が整う前に、一定の加熱時間が必要となる。
あるいは、熱遮蔽物もまた、らせん状ヒータ、すなわち誘導コイルを含んでいてもよい。しかし、加熱フォイルまたは加熱マットを含む解決策は、市場で入手可能な加熱素子を含むことで、平坦かつ省スペースを達成する解決策を提供するものである。
さらに、必要なシステムの温度を達成するために追加の加熱システムを設けることができる。そのような加熱は上述の構成で達成できる。上述の冷却媒体が熱交換器によって加熱され、その結果、システムを加熱するという構成も考えられる。さらに、冷却媒体の温度を高温と低温との間で制御することも考えられる。あるいは、加熱を目的として冷却システムの流路に加熱媒体を誘導することもできる。その一方で、その後の通常の運転では、冷却用の冷却媒体に切り替える。この場合、加熱媒体および冷却媒体は、同一の媒体、例えば、オイルや水のような、加圧状態において沸点が100℃をはるかに越える媒体でなければならない。
Claims (24)
- 光が照射されたときに昇温する少なくとも一つの光学的に有効な光学素子と、前記少なくとも一つの光学素子をキャリア構造内に保持するための少なくとも一つのホルダ要素とを含み、
前記少なくとも一つの光学素子は、熱伝導する態様で、前記少なくとも一つのホルダ要素に接続されており、
前記少なくとも一つのホルダ要素には、前記少なくとも一つの光学素子からの熱を放出するために、能動冷却装置が少なくとも部分的に設けられていることを特徴とする光学部品。 - 前記少なくとも一つのホルダ要素には、冷却媒体が供給可能であることを特徴とする請求項1に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、当該ホルダ要素内に前記冷却媒体を誘導するための少なくとも一本の流路を含むことを特徴とする請求項2に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一本の流路を内在する前記少なくとも一つのホルダ要素の壁には、前記少なくとも一つの光学素子と重なる拡張重複領域があることを特徴とする請求項3に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素の前記壁の厚みは、少なくとも前記重複領域において薄くなっており、それによって前記少なくとも一本の流路が前記壁を介して前記光学素子にわずかな距離を置いて接近していることを特徴とする請求項4に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つの光学素子は、基体を含み、
前記基体は、熱伝導性が高い材料からなることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の光学部品。 - 前記少なくとも一つの光学素子は、光学的に有効な層を含み、
前記層は熱伝導性の高い材料からなることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の光学部品。 - 前記少なくとも一つの光学素子は、例えば、熱伝導性を有する接着剤、または半田付け、もしくは溶接、もしくは熱伝導性を有する機械的接続等の熱伝導性を有する接続要素、すなわち接続手段によって、前記少なくとも一つのホルダ要素に接続されていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の光学部品。
- 前記接続要素、すなわち接続手段は、前記少なくとも一つの光学素子および前記少なくとも一つのホルダ要素との接触領域と比較して薄いことを特徴とする請求項8に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、熱伝導性の高い材料からなることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、前記少なくとも一つの光学素子に対して移動可能であることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、前記キャリア構造に対して移動可能であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、少なくとも一つの板バネによって前記キャリア構造と接続されていることを特徴とする請求項12に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、少なくとも一つの中実のジョイントによって前記キャリア構造と接続されていることを特徴とする請求項12または13に記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つのホルダ要素は、少なくとも一つのすべり軸受け、または少なくとも一つの転がり軸受けによって、前記キャリア構造と接続されていることを特徴とする請求項12ないし14のいずれかに記載の光学部品。
- 前記光学部品を所定の運転温度まで加熱するために、加熱システムが設けられることを特徴とする請求項1ないし15のいずれかに記載の光学部品。
- 前記加熱システムは、非接触型の加熱システムであることを特徴とする請求項16に記載の光学部品。
- 前記加熱システムは、前記光学部品を囲む熱遮蔽物を含むことを特徴とする請求項16または17に記載の光学部品。
- 前記光学部品を前記所定の運転温度まで加熱するために、前記冷却媒体を加熱することができることを特徴とする請求項2、または3および12ないし18のいずれかに記載の光学部品。
- 前記少なくとも一つの光学素子はミラーであり、前記少なくとも一つのホルダ要素は前記ミラーと前記キャリア構造との間に延びる支柱であることを特徴とする請求項1ないし19に記載の光学部品。
- 前記キャリア構造は、前記少なくとも一つのミラーを囲むリングであり、前記支柱は前記少なくとも一つのミラーと前記リングとの間に径方向に延びていることを特徴とする請求項20に記載の光学部品。
- 互いに重なり合うコレクタシェルの形状をなす複数の光学素子を含み、径方向に延びる複数のスポークが前記ホルダ要素を形成し、前記シェルの少なくともいくつかまたはそれぞれに接続されていることを特徴とする請求項1ないし21のいずれかに記載の光学部品。
- 前記スポークは、共通の外側リングおよび/または共通の内側リングに接続されていることを特徴とする請求項22に記載の光学部品。
- EUVリソグラフィに用いられるコレクタであることを特徴とする請求項1ないし23のいずれかに記載の光学部品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US56854704P | 2004-05-06 | 2004-05-06 | |
US60/568,547 | 2004-05-06 | ||
PCT/EP2005/004861 WO2005109104A2 (en) | 2004-05-06 | 2005-05-04 | Optical component having an improved thermal behavior |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007536754A true JP2007536754A (ja) | 2007-12-13 |
JP4903691B2 JP4903691B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=34968204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007512021A Expired - Fee Related JP4903691B2 (ja) | 2004-05-06 | 2005-05-04 | 熱挙動が改良された光学部品 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1743222B1 (ja) |
JP (1) | JP4903691B2 (ja) |
WO (1) | WO2005109104A2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
JP2011155254A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-11 | Media Lario Srl | 斜入射集光器用冷却スパイダ及び方法 |
JP2011176307A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Media Lario Srl | 冷却ミラーシステム用ストレス分断装置及びストレス分断方法 |
JP2011205079A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-10-13 | Media Lario Srl | 斜入射集光器用調節クリップ |
JP2013522889A (ja) * | 2010-03-18 | 2013-06-13 | イーティーエイチ・チューリッヒ | 極紫外線を集める光学コレクタ、そのような光学コレクタを動作させる方法、及びそのようなコレクタを備えるeuv源 |
JP2013536988A (ja) * | 2010-08-30 | 2013-09-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影露光装置 |
JP2014523136A (ja) * | 2011-07-11 | 2014-09-08 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット |
JP2014532866A (ja) * | 2011-10-26 | 2014-12-08 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | X線分析エンジンおよび分析器のために高度に位置合わせされた単色化x線光学素子および支持構造体 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009035788B4 (de) | 2009-07-31 | 2011-06-30 | Carl Zeiss Laser Optics GmbH, 73447 | Optische Anordnung in einem optischen System, insbesondere einer Beleuchtungseinrichtung |
JP5093267B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2012-12-12 | ウシオ電機株式会社 | 集光鏡アッセンブリおよびこの集光鏡アッセンブリを用いた極端紫外光光源装置 |
DE102011078521A1 (de) | 2011-07-01 | 2012-08-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur fluidmechanischen Entstörung |
CN116299937B (zh) * | 2023-05-26 | 2023-07-28 | 苏州华英光电仪器有限公司 | 一种基于水冷的自动温度补偿的变倍扩束镜 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05190409A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Canon Inc | 被照明部材の温度制御方法およびその装置 |
JPH07248441A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Nikon Corp | 支持装置 |
JP2003282398A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-03 | Canon Inc | ミラー装置、ミラーの調整方法、露光装置、露光方法及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2004039851A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Nikon Corp | ミラー冷却装置及び露光装置 |
JP2004095993A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Nikon Corp | 光学部品冷却方法、光学部品冷却装置及びそれを有するeuv露光装置 |
WO2004034447A1 (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法 |
JP2004134794A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-04-30 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置および上記装置に使うためのレフレクタ組立体 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0532236B1 (en) * | 1991-09-07 | 1997-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | System for stabilizing the shapes of optical elements, exposure apparatus using this system and method of manufacturing semiconductor devices |
JPH06308294A (ja) * | 1993-04-28 | 1994-11-04 | Kyocera Corp | X線反射用ミラー |
JPH11211958A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-06 | Canon Inc | 光学装置、投影露光装置およびデバイス製造方法 |
DE10045265A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Bündeln der Strahlung einer Lichtquelle |
JP2003172858A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Nikon Corp | 光学部品保持装置及び露光装置 |
US6846086B2 (en) * | 2002-03-11 | 2005-01-25 | Intel Corporation | Mirror assembly with thermal contour control |
EP1394612B1 (en) * | 2002-08-27 | 2008-10-08 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and reflector assembly for use in said apparatus |
-
2005
- 2005-05-04 JP JP2007512021A patent/JP4903691B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-05-04 WO PCT/EP2005/004861 patent/WO2005109104A2/en not_active Application Discontinuation
- 2005-05-04 EP EP05742246A patent/EP1743222B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05190409A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Canon Inc | 被照明部材の温度制御方法およびその装置 |
JPH07248441A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Nikon Corp | 支持装置 |
JP2003282398A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-10-03 | Canon Inc | ミラー装置、ミラーの調整方法、露光装置、露光方法及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2004039851A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Nikon Corp | ミラー冷却装置及び露光装置 |
JP2004134794A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-04-30 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置および上記装置に使うためのレフレクタ組立体 |
JP2004095993A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Nikon Corp | 光学部品冷却方法、光学部品冷却装置及びそれを有するeuv露光装置 |
WO2004034447A1 (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007194590A (ja) * | 2005-11-23 | 2007-08-02 | Asml Netherlands Bv | 放射システムおよびリソグラフィ装置 |
JP2011155254A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-11 | Media Lario Srl | 斜入射集光器用冷却スパイダ及び方法 |
JP2011176307A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Media Lario Srl | 冷却ミラーシステム用ストレス分断装置及びストレス分断方法 |
JP2011205079A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-10-13 | Media Lario Srl | 斜入射集光器用調節クリップ |
JP2013522889A (ja) * | 2010-03-18 | 2013-06-13 | イーティーエイチ・チューリッヒ | 極紫外線を集める光学コレクタ、そのような光学コレクタを動作させる方法、及びそのようなコレクタを備えるeuv源 |
JP2013536988A (ja) * | 2010-08-30 | 2013-09-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影露光装置 |
JP2014523136A (ja) * | 2011-07-11 | 2014-09-08 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット |
US9507269B2 (en) | 2011-07-11 | 2016-11-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination optical unit for projection lithography |
JP2014532866A (ja) * | 2011-10-26 | 2014-12-08 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | X線分析エンジンおよび分析器のために高度に位置合わせされた単色化x線光学素子および支持構造体 |
US10256002B2 (en) | 2011-10-26 | 2019-04-09 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Support structure and highly aligned monochromatic X-ray optics for X-ray analysis engines and analyzers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1743222A2 (en) | 2007-01-17 |
JP4903691B2 (ja) | 2012-03-28 |
WO2005109104A3 (en) | 2006-06-08 |
EP1743222B1 (en) | 2011-09-28 |
WO2005109104A2 (en) | 2005-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4903691B2 (ja) | 熱挙動が改良された光学部品 | |
US7483223B2 (en) | Optical component having an improved transient thermal behavior and method for improving the transient thermal behavior of an optical component | |
KR101670518B1 (ko) | 광학 소자의 온도 제어 장치 | |
US9423590B2 (en) | Liquid cooled EUV reflector | |
US10606179B2 (en) | Projection exposure apparatus for semiconductor lithography with reduce thermal deformation | |
US8810775B2 (en) | EUV mirror module with a nickel electroformed curved mirror | |
KR100828671B1 (ko) | 리소그라피 노광 동안 레티클을 냉각하기 위한 방법 및 장치 | |
US8425060B2 (en) | Self-correcting optical elements for high-thermal-load optical systems | |
JP4639092B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5864091B2 (ja) | 斜入射euvリソグラフィ集光器用の冷却システム及び冷却方法 | |
US20090122428A1 (en) | Reflective optical elements exhibiting multimetallic-like self-correction of distortions caused by heating | |
KR102572139B1 (ko) | 리소그래피 장치용 미러를 제조하기 위한 방법 | |
US9658542B2 (en) | Optical element | |
KR101456813B1 (ko) | 가열 장치 | |
JP2013522889A (ja) | 極紫外線を集める光学コレクタ、そのような光学コレクタを動作させる方法、及びそのようなコレクタを備えるeuv源 | |
JP5661508B2 (ja) | 斜入射集光器用調節クリップ | |
JP2005210782A (ja) | 排熱回収装置 | |
JP4273813B2 (ja) | 光学素子保持冷却装置及び露光装置 | |
EP4134747A1 (en) | Conditioning apparatus and method | |
WO2023016734A1 (en) | Thermal conditioning apparatus and method | |
JP2019087358A (ja) | 流体加熱モジュール及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080225 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080811 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080918 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080918 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100921 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101221 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111012 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111220 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4903691 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |