JP2007536100A - ミクロ仕上げ用バックアップシューおよび方法 - Google Patents

Abstract

研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープ（３３）を支持するシュー（１０）であって、研磨テープ（３３）の裏面を摩擦係合するための摩擦係合材料を含む支持表面（２０）を含むシュー。摩擦係合材料は、可撓性基材上に複数の別個の摩擦係合領域を含み、各摩擦係合領域は複数の研磨粒子を有する。代表的な実施形態において、摩擦係合材料は、可撓性メッシュ基材上に支持されたニッケルマトリックスに保持されたダイヤモンド研磨粒子を含む。シュー（１０）の支持表面（２０）は曲線、弓形、凸状または凹状であってもよい。

Description

本発明は、スラストウォールなどのワークピースを研磨する装置に関する。

指定量の材料をワークピースの外側表面から研磨して、所望のワークピース形状および表面仕上げを与えるには、研磨材を用いるのが一般的である。自動車分野においては、例えば、内燃機関についてカムシャフトおよびクランクシャフトのローブまたはスラストウォールは、幾何学的形状および表面仕上げの厳しい基準に適合しなければならない。カムシャフトまたはクランクシャフトが適切なサイズでなかったり、仕上げがなされていないと、望ましくない摩耗パターンとなる。

スラストウォールなどのワークピースの外側周囲表面を仕上げる１つのやり方は、研磨シートまたはテープを配置する平滑な圧力面を有するシューを与えることである。場合によっては、シューには従来のホーニングシューインサートを与え、シューの圧力面がホーニングシューインサートの平滑面を含むようにする。ワークピース、シューまたは両方を動かして、テープの研磨面をワークピースの表面と接触させる。ワークピースをシューに対して回転させて、ワークピースの表面を研磨する。研磨テープは、例えば、コート研磨材、ラッピング研磨材または不織研磨剤であってもよい。カムシャフトおよびクランクシャフトミクロ仕上げの例は、特許文献１（ジャッジ等（Ｊｕｄｇｅ））および特許文献２（ジャッジ等（Ｊｕｄｇｅ））に記載されている。

ある量を用いた後、ワークピースと接触する研磨シートまたはテープの一部が劣化または摩耗し始め、ワークピースの仕上げが不適切となる恐れがある。従って、ワークピースの研磨を続けるには、研磨テープを周期的に進めて新たな研磨表面をワークピースに与えるのが一般的である。このやり方で研磨テープを進めることを、研磨テープの「インデクシング」と呼ぶ。研磨材をインデクスし易くするために、研磨テープまたはシートは一般的に、圧力面に永久的には固定または接合しない。

研磨テープは、インデクス可能とするために、一般的に、圧力面から剥離可能でないが、研磨プロセス中圧力面に対して研磨テープを定位置に維持することが重要である。研磨テープが滑ると、圧力面に適切に配置されず、研磨テープが裂けたり破けたりする。自動研磨プロセスにおいて、テープの位置がずれたり破けたりして、位置ずれや破けが検出される前に多数のワークピースが破損する恐れがある。さらに、研磨テープが破けたら、製造操作をシャットダウンしなければならない。さらに、研磨テープが滑って圧力面に対して大幅に位置ずれすると、圧力面の一部が研磨中ワークピースに露出される恐れがある。この状況において、ワークピースは、研磨プロセス中、研磨テープよりも圧力面と接触し、ワークピースの仕上げが不適切となり、ワークピースと圧力面の両方が破損する恐れがある。

仕上げ操作において、研磨テープの圧力面に対する滑りを減少するには様々なやり方があるが、研磨テープとシューとの間の剥離可能な係合におけるさらなる改善が尚望まれている。
米国特許第４，６８２，４４４号明細書 米国特許第４，９９３，１９１号明細書

本発明は、研磨適用中に研磨物品を支持するためのシューに関る。本発明はまた、ミクロ仕上げ適用などの研磨適用のための特定のシューを用いる方法にも関する。さらに、本発明は、カムシャフトまたはクランクシャフトのローブまたはスラストウォールを研磨する装置に関する。

研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを支持するシューであって、研磨テープの裏面を摩擦係合するための摩擦係合材料を含む支持表面を含むシューに関する。摩擦係合材料は、可撓性基材上に複数の別個の摩擦係合領域を含み、各摩擦係合領域は複数の研磨粒子を有する。代表的な実施形態において、摩擦係合材料は、可撓性メッシュ基材上に支持されたニッケルマトリックスに保持されたダイヤモンド研磨粒子を含む。シューの支持表面は、平坦、曲線、弓形、凸状または凹状であってもよい。

一実施形態において、本発明は、研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを支持するシューである。シューは、研磨テープの裏面と摩擦係合する摩擦係合材料を含む支持表面を有する。この摩擦係合材料は、可撓性基材と、基材上に存在する別個の不連続な摩擦係合領域とを含み、各係合領域は複数の研磨粒子とバインダーとを含み、研磨粒子の少なくともいくつかがバインダーの外側表面を超えて突出している。研磨テープの裏面がシューの摩擦係合表面と接触すると、研磨中に生じる剪断力に応じて、複数の粒子が研磨テープとシューとの間の相対運動を減衰する。

本実施形態の一例示的変型において、研磨粒子はダイヤモンドまたは立方窒化ホウ素であり、バインダーはニッケルである。

本発明の他の実施形態において、研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを提供する工程と、研磨テープを支持し、研磨テープをスラストルに押し当てるためのシューを提供する工程と、スラストウォールとシューを互いに回転させる工程とを含み、それによって、研磨面がスラストウォールとシューとの間の相対回転中スラストウォールの表面から材料を研磨する、スラストウォールの研磨方法が開示されている。シューは、研磨テープの裏面と摩擦係合するための摩擦係合材料を含む支持表面を有し、この摩擦係合材料は、可撓性基材と、基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域とを含み、各係合領域は、複数の研磨粒子とバインダーとを含み、バインダーの外側表面を超えて少なくともいくつかの研磨粒子が突出している。研磨中、第１の摩擦係数は、研磨テープの裏面と摩擦係合表面との間に生じ、第２の摩擦係数は、スラストウォールとシューとの間の相対運動中、研磨面とスラストウォールの外側周囲表面との間に生じ、第１の摩擦係数は、第２の摩擦係数より大きい。

本発明のさらに特定の実施形態において、スラストウォールを研磨する装置が開示されている。本装置は、研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープと、研磨テープを支持し、研磨テープをスラストウォールに押し当てるためのシューと、スラストウォールとシューを互いに回転させる手段とを含み、それによって、研磨面がスラストウォールとシューとの間の相対回転中スラストウォールの外側周囲表面から材料を研磨する。シューは、研磨テープの裏面と摩擦係合する摩擦係合材料を含む。この摩擦係合材料は、可撓性基材と、基材上に存在する別個の不連続な摩擦係合領域とを含み、各係合領域は複数の研磨粒子とバインダーとを含み、研磨粒子の少なくともいくつかがバインダーの外側表面を超えて突出している。

本発明は、スラストウォールなどのワークピースを研磨する装置に関する。より具体的には、本装置は、研磨テープを支持するシューを含み、シューは研磨テープを摩擦係合する圧力面に摩擦係合材料を有している。シューの摩擦係合材料と研磨テープとの間の摩擦係合が、ワークピースが研磨されるにつれて、研磨テープの相対的な位置ずれを減衰する。ワークピースは、一般的に静置シューに対して回転するが、ワークピースを静置してシューを回転したり、あるいは２つの構成要素を同時に逆方向に回転させることもできる。このように、本発明は、回転研磨の用途があるが、平面運動の研磨にも用いることができるものと考えられる。

図１および図２に、シュー１０の第１の実施形態を第１のシュー１４と第２のシュー１６として示す。シュー１０は、カムシャフトやクランクシャフトなどのワークピースの表面から材料を研磨するプロセスに用いられる。かかる表面としては、例えば、スラストウォール、ローブおよびジャーナルが挙げられる。

各シュー１４、１６は支持表面２０、具体的には支持表面２４、２６をそれぞれ有している。支持表面２０は、研磨しているワークピースの所望の輪郭に適合している。図１および図２の例示の実施形態において、支持表面２４、２６はそれぞれ平坦で、研磨しているワークピースに適合するように構成されている。かかるシュー１４、１６は「スラストウォールシュー」と呼ばれることが多い。

図３にワークピース上で使用中のシュー１０を示す。具体的には、シュー１４、１６は、ワークピース５０に対して配置されて示されている。例示の具体的な実施形態において、ワークピース５０はクランクシャフトである。シュー１４、１６は、支持表面２４、２６が、ワークピース５０の内部表面５１、５２に対して研磨テープ３３（巻き取り３４／巻き出し３２システムを介して供給されたもの、その詳細は本発明の一部ではないため図示していない）を支持するように配置されている。

上述した通り、シュー１０は、研磨テープを支持し、研磨されるワークピースの表面に沿った支持表面２０を含む。例えば、図３において、ワークピース５０の略平坦な部分５１、５２は、平坦な支持表面２４、２６を含むシュー１４、１６に対して回転するように適合されている。図４に、参照番号８０で示される摩擦係合材料を示す。材料８０は、不連続な別個の摩擦領域８４を支持する可撓性基材８２を有している。これらの領域８４は、バインダー８８により基材８２に保持される研磨粒子８６を含む。

基材８２は可撓性の任意の材料とすることができる。一般的に、可撓性基材８２は、必要以上の応力を基材にかけることなく、弓形対象物に沿わせることができる。代表的な可撓性基材８２としては、紙、ポリマーフィルム、バルカナイズドファイバー、織または不織材料などの繊維状材料、スクリム、メッシュ、これらの処理済みのもの、およびこれらの組み合わせが例示される。好適な材料は、ポリエステル、ポリプロピレン、綿、ナイロン、レーヨン、ポリアミド、ポリアラミド等を含んでいてもよい。さらに、基材８２は、例えば、織スクリムのように、多孔性またはその他「開放」されたものであるのが好ましい。可撓性基材８２の厚さは、一般的に約５〜１０００マイクロメートル、好ましくは約２５〜２５０マイクロメートルである。任意で、追加の可撓性支持体９０を基材８２の下に入れてもよい。

シューに接合した摩擦材料（例えば、フレックスダイヤモンド（Ｆｌｅｘ Ｄｉａｍｏｎｄ）材料またはその他研磨材）の厚さは、研磨領域を磨いたり、またはその寸法を決定するのに非常に重要な部分を担っている。例えば、裏の厚い製品（例えば、布やポリエステル）は、バッキングに圧縮性を与えて、表面仕上げを改善させることができる。実質的に、ミクロ仕上げフィルムを支持するバッキングが柔らかくなればなるほど、仕上げが精細になる。摩擦材料のバッキング（例えば、ポリエステルフィルム）が薄ければ薄いほど、圧縮が少なく、幾何学的形状の改善を行う能力が高くなる。主に、幾何学的形状の改善を行うために用いられるめっきダイヤモンドシューとは異なり、このシュー設計は、摩擦材料の異なる厚さを利用して、幾何学的形状を生成したり、既存の幾何学的形状に従うようにするものである。どのバッキングを用いるのか決めるポイントは、シューを用いる適用基準に応じて異なる。

基材８２の前側で、複数の不連続な別個の摩擦領域８４が結合される。不連続な別個の摩擦領域８４は、別個の要素であり、互いに離れている。連続摩擦領域８４はない。別個の摩擦領域８４は、支持表面２０に沿わせることのできる可撓性材料８０を与える。

不連続な別個の摩擦領域８４の高さは、一般的に、基材８２の表面から約２５〜８００マイクロメートル、好ましくは約２０〜４５０マイクロメートルである。不連続な別個の摩擦領域８４の直径は、一般的に、約０．１〜５ｍｍ、好ましくは約０．２〜３ｍｍ、最も好ましくは約０．２５〜２ｍｍである。基材８２表面領域の約１５〜９０％、好ましくは約１５〜５０％が不連続の別個の摩擦領域８４を含有する。不連続な別個の摩擦領域８４は、不規則な形状または形態を有する。逆に、不連続な別個の摩擦領域８４は、円形、三角形、四角形、矩形、ダイヤモンド等といった幾何学的形状を有することができる。さらに、不連続な別個の摩擦領域８４は特定のパターンでバッキング上に配列することができる。

摩擦係合材料について好適な研磨粒子８６としては、ダイヤモンド、立方窒化ホウ素、溶融アルミナ、熱処理済みアルミナ、セラミック酸化アルミニウム、アルミナ−ジルコニア、炭化ケイ素、ガーネット、炭化タングステン、炭化ホウ素、炭化チタン、セリア、酸化鉄、シリカおよび窒化ケイ素が挙げられる。研磨粒子８６の粒子サイズは約０．１〜１０００マイクロメートル、好ましくは約１〜１００マイクロメートルである。各研磨粒子８６の形状は不規則または所定の形状とすることができる。粒径の選択は、特定の使用条件が必要とするように変えることができる。別個の摩擦領域８４は、２種類以上の異なる研磨粒子８６の組み合わせを含んでいてもよい。別個の摩擦領域８４はまた、グレイストーン、大理石や石膏などの希釈剤粒子を含んでいてもよい。さらに、バインダー８８への接着力を改善するために、特定の用途においては、粒子８６にコーティングがあってもよい。

バインダー８８の目的は、研磨粒子８６を基材８２に固定することである。研磨粒子８６は、バインダー８８の表面からそれを超えて突出しているのが好ましい。バインダー８８は、有機または無機バインダーを含むことができる。有機バインダーとしては、フェノール樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、アクリレート樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アミノ樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂およびこれらの組み合わせが例示される。無機バインダーとしては、金属、シリケートおよびシリカが例示される。好ましいバインダー８８は、金属バインダーであり、錫、青銅、ニッケル、銀、鉄、これらの合金およびこれらの組み合わせである。

バインダー８８は、電気めっきプロセスにより基材８２に適用されるのが最も好ましい。研磨粒子８６は、電気めっきプロセス中に同時に適用される。

材料８０の好ましい実施形態において、可撓性基材８２は多孔性、織ポリエステル材料などの織メッシュであり、可撓性支持体９０は紙またはフィルムであり、研磨粒子８６はダイヤモンドまたは立方窒化ホウ素であり、バインダー８８はニッケルである。バインダー８８の少なくとも一部は、基材８２を貫いて、別個の摩擦領域８４と基材８２との間に増大した結合を形成するのが好ましい。かかる材料８０は、３Ｍカンパニー（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ）より「フレックスダイヤモンド（Ｆｌｅｘ Ｄｉａｍｏｎｄ）」研磨物品という商品名で市販されており、様々なサイズ（例えば、２０マイクロメートル、４０マイクロメートル、７４マイクロメートル、１００マイクロメートルおよび１２０マイクロメートル）のダイヤモンド研磨粒子８６で入手可能である。

材料８０の例示の本実施形態において、ニッケルバインダー８８は基材８２上に電気めっきされている。電気めっきプロセス中、可撓性基材８２は、導電性金属ドラム上に配置され、ニッケルバインダー８８はスクリムを通して電気めっきされる。このプロセスにおいては、ニッケルの一部が基材８２の裏側にあり、ニッケルの残りの部分はバインダー８８として基材８２の前側に存在するのが本来である。

材料８０を作製する一例示的プロセスについては、その開示内容がここに参考文献として組み込まれる米国特許第４，２５６，４６７号明細書（ゴーサッチ（Ｇｏｒｓｕｃｈ）に記載されている。材料８０を作製する他の例のプロセスについては、その開示内容がここに参考文献として組み込まれる米国特許第５，３１８，６０４号明細書（ゴーサッチ（Ｇｏｒｓｕｃｈ）に記載されている。図５の材料８０などの例示の摩擦係合材料を作製するさらなる方法は、ここに参考文献として組み込まれる米国特許第４，０４７，９０２号明細書（ウィアンド（Ｗｉａｎｄ））および米国特許第４，８６３，５７３号明細書（ムーアら（Ｍｏｏｒｅ））に教示されている。

上述した通り、シュー１０は摩擦係合材料が取り付けられる支持表面２０を有している。摩擦係合材料は、エポキシ等により接合する等、公知の取り付け方法により支持表面２０に取り付けられているのが好ましい。下塗り剤を用いると結合を改善することができる。

研磨材に言及するときにここで用いられる「テープ」という用語は、本発明のシューと組み合わせて用いられる研磨部材の相対的なサイズや構造を限定するものではない。一般的に、研磨テープは、研磨材料の狭いストリップであり、材料の長さは、その幅より大幅に長い。テープは、一般的に、研磨テープの供給ロールにより研磨装置へ提供される。

一例示的実施形態において、研磨テープは業界で知られている通りコート研磨材であり、基材に取り付けられた複数の研磨粒子を含む。基材は、例えば、ポリマーフィルム（下塗りしたポリマーフィルムを含む）、布、紙、不織材料、ゴムまたはこれらの組み合わせとしてよい。

研磨テープは、基材の前面に適用されたバインダーを含む。複数の研磨粒子は、一般的に、このバインダーに埋め込まれている。代表的な研磨物品バインダーとしては、フェノール樹脂、懸垂アルファ、ベータ不飽和カルボニル基を有するアミノ樹脂、ウレタン樹脂、ニカワ、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、アクリル化イソシアヌレート樹脂、ウレア−ホルムアルデヒド樹脂、イソシアヌレート樹脂、アクリル化ウレタン樹脂、アクリル化エポキシ樹脂またはこれらの混合物が例示される。バインダーは、フィラー、繊維、帯電防止剤、湿潤剤、潤滑材、難燃剤、浸潤剤、界面活性剤、顔料、染料、カップリング剤、可塑剤、沈殿防止剤等のような添加剤を含むことができる。

サイズコートと一般的に呼ばれる第２のバインダーを、研磨粒子に適用してもよい。サイズコートを用いるときは、第１のバインダーはメイクコートと一般的に呼ばれる。サイズコート材料の代表例としては、第１のバインダーについて上述したのと同じ材料が挙げられる。ある実施形態において、スーパーサイズコートと一般的に呼ばれる第３のバインダー（これも図示せず）を、第２のバインダーに適用してもよい。スーパーサイズコートを用いると研磨基材の添加が最小になる。研磨テープを作製する具体的な材料および成分は、所望の研磨性能を与えるようなものを選択すればよい。

研磨粒子は、サイズが少なくとも０．０１マイクロメートル、４００マイクロメートル以下であり、好ましくは約１〜１２０マイクロメートルである。ただし、これより細かい、または粗い粒子を、適宜、特定の用途に用いてもよい。研磨粒子は、例えば、酸化アルミニウム（溶融、セラミック、熱処理済みまたは白色酸化アルミニウム（ｗｈｉｔｅ ａｌｕｍｉｎｕｍ ｏｘｉｄｅ））、炭化ケイ素、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、酸化鉄、シリカ、セリア、立方窒化ホウ素、ガーネットおよびこれらの混合物を含んでいてもよい。

研磨粒子は、共に結合された単一研磨粒子により作製された研磨凝集体とすることができる。凝集体は、樹脂状、ガラス、セラミックまたは金属バインダーなどのバインダーにより固定された複数の研磨粒子を含む。凝集体のサイズは、好ましくは約１マイクロメートル〜１５００マイクロメートル、より好ましくは約６０〜５００マイクロメートルである。凝集体は正確に成形してもよいし、または不規則であってもよい。成形凝集体としては、立方体、四角錐および角錐台が例示される。凝集体の例については、米国特許第４，６５２，２７５号明細書（ブロッシャーら（Ｂｌｏｅｃｈｅｒ））、米国特許第４，７９９，９３９号明細書（ブロッシャーら（Ｂｌｏｅｃｈｅｒ））、米国特許第４，５４１，８４２号明細書、米国特許第５，５４９，９６２号明細書（ホームズら（Ｈｏｌｍｅｓ））、米国特許第５，９７５，９８８号明細書（クリスチアンソン（Ｃｈｒｉｓｔｅｎｓｏｎ））に記載されている。

研磨テープのある変形構造は、ラッピングコート研磨材と呼ばれ、バインダー全体に分配された複数の研磨粒子を含み、バインダーはまた研磨複合体をバッキングに結合する役割も果たす。ラッピングフィルムの一例は、米国特許第４，７７３，９２０号明細書（チャスマンら（Ｃｈａｓｍａｎ））に開示されている。

他の変形研磨構造は、米国特許第５，１５２，９１７号明細書（パイパーら（Ｐｉｅｐｅｒ））および米国特許第５，４３５，８１６号明細書（スパージェンら（Ｓｐｕｒｇｅｏｎ））に記載されているような、バッキングに結合された三次元の正確に成形された研磨複合体を有する構造化研磨材である。これらの正確に成形された研磨複合体は、角錐、角錐台、円錐、球、ロッド、テーパーロッド等のような様々な幾何学的形状の形状を有していてもよい。米国特許第５，０１４，４６８号明細書（ラビパチら（Ｒａｖｉｐａｔｉ））に記載されているような正確に成形されていない研磨複合体もまた好適である。

研磨テープは、基材の裏面に滑り止めバッキング層を含むのが好ましく、滑り止めコーティングは、通常、ポリマーバインダーに分散された無機微粒子を含む。バッキング層の一例は、３７２および３８２ミクロ仕上げフィルム製品タイプＳに用いられるような、接着材料中炭酸カルシウム粒子のコーティングである。バッキング層の他の例は、３７３および３８３ミクロ仕上げフィルム製品タイプＱに用いられるような、接着材料中石英粒子のコーティングである。クレイ、金属シェービング（例えば、青銅）、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、酸化鉄、ムライト、シリカ、セリア、立方窒化ホウ素、ガーネットおよびこれらの組み合わせなどの他の粒子をバッキング層、物品に用いてもよいものと考えられる。

バッキング層としてコーティングを有する研磨テープが好ましいが、その他テープ構造を本発明に用いてもよい。例えば、研磨テープは、裏面３０にバックサイズコーティングを有さず、米国特許第５，１０９，６３８号明細書（キムジュニア（Ｋｉｍｅ，Ｊｒ．））に記載されているようなグリッパーコーティング（ｇｒｉｐｐｅｒ ｃｏａｔｉｎｇ）などの他のタイプのコーティングを含んでいてもよい。他の例については、基材は、ウレタンやアクリレートなどの弾性発泡体であったり、または片側がポリエステル、反対側がポリオレフィンで共押出しされたポリマーフィルムであってもよい。

バッキング層を選択して、シュー１０の摩擦係合材料８０間の摩擦が、研磨テープの研磨表面と研磨または仕上げしているワークピースとの間に存在する摩擦より大きくなるようにする。他の作業を用いる際、第１の摩擦係数は、研磨テープの裏面とシューの摩擦係合表面との間に生じ、第２の摩擦係数は、ワークピースとシューとの間の相対運動中、研磨面とワークピースの外側周囲表面との間に生じ、第１の摩擦係数は、第２の摩擦係数より大きい。

本発明の様々な修正および変更は、本発明の範囲および原理から逸脱することなしに当業者には明白であり、本発明はここに規定した説明のための実施形態に不当に限定されないものと理解されるものとする。

上記の明細書は、本発明のシューの製造および使用の完全な説明を与えるものである。本発明の多くの実施形態が本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく可能であるため、本発明は添付の特許請求の範囲により定められる。

本開示内容による一対のシューの第１の実施形態の斜視図である。 図１のシューの端面図である。 研磨されるスラストウォールに関連して配置された本開示内容による、それぞれ研磨テープを支持する一対のシューの実施形態の側面図である。 図１〜図３のシューの支持表面のための代表的な摩擦係合材料の斜視図である。

Claims (14)

1. 研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを支持するためのシューであって、
   前記研磨テープの前記裏面と摩擦係合するために支持表面に接合した摩擦係合材料を含む支持表面を含み、前記摩擦係合材料が、
   （ｉ）可撓性基材と、
   （ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、複数の研磨粒子とバインダーとを含み、前記バインダーの外側表面を超えて少なくともいくつかの研磨粒子が突出している係合領域と、
   を含むシュー。
2. 前記研磨粒子がダイヤモンドまたは立方晶窒化ホウ素である、請求項１に記載のシュー。
3. 前記研磨粒子が６〜２５０マイクロメートルである、請求項２に記載のシュー。
4. 前記バインダーがニッケルである、請求項１に記載のシュー。
5. 前記基材上に存在する前記不連続摩擦係合領域が、前記基材上にドットとして存在する、請求項１に記載のシュー。
6. 前記基材がメッシュ材料であり、前記係合領域の前記バインダーが前記メッシュ材料の前側および後側に存在する、請求項１に記載のシュー。
7. 前記摩擦係合材料がエポキシにより前記シューに接合している、請求項１に記載のシュー。
8. 前記支持表面が平坦である、請求項１に記載のシュー。
9. 研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを支持するためのシューであって、
   前記研磨テープの前記裏面と摩擦係合するために支持表面に接合した摩擦係合材料を含む支持表面を含み、前記摩擦係合材料が、
   （ｉ）可撓性メッシュ基材と、
   （ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、それぞれがダイヤモンド研磨粒子とニッケルバインダーとを含む係合領域と、
   を含むシュー。
10. （ａ）研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを提供する工程と、
    （ｂ）その上に研磨テープを支持し、前記研磨テープをスラストウォールに押し当てるためのシューであって、研磨テープの裏面を摩擦係合するために、摩擦係合材料の接合した支持表面を有するシューを提供する工程であって、前記摩擦係合材料が、（ｉ）可撓性基材と、（ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、それぞれが複数の研磨粒子とバインダーとを含み、前記バインダーの外側表面を超えて少なくともいくつかの前記研磨粒子が突出している係合領域とを含むシューを提供する工程と、
    （ｃ）前記スラストウォールと前記シューを互いに回転させて、それによって、前記スラストウォールと前記シューとの間の相対回転中、前記研磨面が前記スラストウォールの表面から材料を研磨する工程と、
    を含み、第１の摩擦係数が、前記研磨テープの前記裏面と前記第１の摩擦係合表面との間に生じ、第２の摩擦係数が、前記研磨面と前記ワークピースの前記外側周囲表面との間に、前記ワークピースと前記支持手段との間の相対回転中に生じ、前記第１の摩擦係数が前記第２の摩擦係数より大きいスラストウォールの研磨方法。
11. 前記シューを提供する工程が、
    （ｉ）可撓性基材と、
    （ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、それぞれが複数のダイヤモンドまたは立方晶窒化ホウ素粒子とニッケルバインダーとを含む係合領域と
    を含む、摩擦係合材料を含む支持表面を有するシューを提供する工程を含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記シューを提供する工程が、前記支持表面にエポキシにより接合した摩擦係合材料を含む支持表面を有するシューを提供する工程を含む、請求項１０に記載の方法。
13. （ａ）研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープと、
    （ｂ）その上に研磨テープを支持し、前記研磨テープをスラストウォールに押し当てるためのシューであって、前記研磨テープの裏面を摩擦係合するために、摩擦係合材料を有するシューであって、前記摩擦係合材料が、
    （ｉ）可撓性基材と、
    （ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、それぞれが複数の研磨粒子とバインダーとを含み、前記バインダーの外側表面を超えて少なくともいくつかの前記研磨粒子が突出している係合領域とを含むシューと、
    （ｃ）前記スラストウォールと前記シューを互いに回転させて、それによって、前記スラストウォールと前記シューとの間の相対回転中、前記研磨面が前記スラストウォールの外側周囲表面から材料を研磨する手段と、
    を含む、スラストウォールの外側周囲表面を研磨する装置。
14. （ａ）研磨面と反対の裏面とを有する研磨テープを提供する工程と、
    （ｂ）その上に研磨テープを支持し、前記研磨テープをワークピースに押し当てるためのシューであって、研磨テープの裏面を摩擦係合するために、摩擦係合材料の接合した支持表面を有するシューを提供する工程であって、前記摩擦係合材料が、（ｉ）可撓性基材と、（ｉｉ）前記基材上に存在する複数の別個の不連続摩擦係合領域であって、それぞれが複数の研磨粒子とバインダーとを含み、前記バインダーの外側表面を超えて少なくともいくつかの前記研磨粒子が突出している係合領域とを含むシューを提供する工程と、
    （ｃ）前記ワークピースと前記シューを互いに動かして、それによって、前記ワークピースと前記シューとの間の相対回転中、前記研磨面が前記ワークピースの表面から材料を研磨する工程とを含み、
    第１の摩擦係数が、前記研磨テープの前記裏面と前記第１の摩擦係合表面との間に生じ、第２の摩擦係数が、前記研磨面と前記ワークピースの前記外側周囲表面との間に前記ワークピースと前記支持手段との間の相対回転中に生じ、前記第１の摩擦係数が前記第２の摩擦係数より大きいワークピースの面の研磨方法。

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