JP2007526147A5 - - Google Patents

Description

ナノ破損された表面およびナノ破損された表面近傍の固体領域の励起はイオン−および／またはイオン照射−および／またはプラズマ照射および／または電子線照射および／またはレーザー法によって行われる。他の材料の微粒子状での適用はＰＶＤ−および／またはＣＶＤ法および／またはカソードスパッタリングによって行うことができる。この場合、使用される励起法に関して並びに使用した適用法に関して任意に組合せることを考えることができる。しかしながらそれを実現する若干の方法が種々の工業用装置を必要としそしてそれ故に場合によっては同時に局所的に実現できないことに注意するべきである。

ガラス繊維織物−ＰＴＦＥ−複合材料と銅との間の接合複合体
少なくとも２０μｍの厚さのＰＴＦＥ−表面層を持つガラス繊維織物−ＰＴＦＥ−複合材料よりなるシート状材料（１）を減圧室中で周期的にイオン源の所に通しそしてその際に向けられたイオンビームで加工する。イオンは５ｋｅＶの電圧で加速されている。イオン源とシート表面との間の距離は約１０ｃｍである。プロセスガスとしてアルゴンを２×１０−４ｍｂａｒの圧力で使用する。照射密度は１ｍＡ／ｃｍ２である。この方法はシート全面が約１分の効果的な露光時間が達成されるまでの間実施する。その後にＰＴＦＥ表面層は図１あるいは図２に概略的に示す様に、２〜６μｍの範囲に亙って、ナノ岩礁部（３）を持つナノ破損部（２）を有している。ＰＴＦＥ−表面層はイオン照射によって活性化され、すなわちポリマー分子が物理的におよび／または化学的に励起されている。時間的に遅れることなく、その後にＰＴＦＥ表面層の励起したナノ破損領域を、電磁管によって銅粒子をナノ破損したＰＴＦＥ表面に適用しそしてこれにＰＴＦＥ−表面層のナノ破損した領域（２）の別のイオン衝撃を交互に行う様にして更に加工する。カソードスパッタリング法による銅粒子の適用およびさらなるイオン衝撃を約３秒の時間的リズムで交互に行い、その際に粒子数、即ち適用速度を段階的に高める。従って両方の方法はあたかも一様な全方法として織り込まれる。ナノ破損したＰＴＦＥ−表面上の銅微粒子の適用およびイオン衝撃の交互加工の（ＰＴＦＥ−表面層の全ての面積要素に関して）約２０秒の作用時間の後に、密封された銅層（４）が形成され、これを次に電磁管中でのカソードスパッタリングによって０．３〜１．０μｍの層厚までに形成する。

ガラス繊維織物−ＰＴＦＥ−複合材料（１）と塗布された銅層（４）との間にＰＴＦＥと銅よりなるナノ複合材料（５）を含む変移領域（６）を生じさせ。それの内部においてＰＴＦＥが銅に段階的に変移され、即ちＰＴＦＥと銅とよりなるナノ複合材料（５）がＰＴＦＥ−層（１）から始まって銅の割合を徐々に増加させて最終的には金属の銅層（４）に変移されるまで増加する。図３および４はこの変移領域（６）を図示しており、その際に図４に明示されたナノ複合材料のハッチング線の密度はナノ複合材料（５）中のその都度の他の材料の割合を傾向上で図示している。ナノ複合材料（５）の銅の割合がＰＴＦＥから銅の方向に増加している、ＰＴＦＥと銅を有する変移領域（６）よりなるナノ複合材料（５）の状態の、ＰＴＦＥ−表面層を有するガラス繊維織物複合体（１）と銅（４）との間で製造される複合体は＞１．６ Ｎ／ｍｍの接着強度を有している。塗工された銅層（４）の、ＰＴＦＥ（１）に向いた側は１〜２μｍの有効粗面度を有している。ＰＴＦＥ（１）と接合された銅層（４）は次いで電気的にまたは化学的に例えば３〜７０μｍの所望の層厚にまでで形成することができる。

Claims (1)

1. フッ素系ポリマーを表面および表面近傍の固体領域に有する基体材料と他の材料との接合複合体の製造方法において、最初に、フッ素系ポリマーである基体材料（１）の表面近傍の固体領域にナノ岩礁を持つナノ破損した表面構造を生じさせ、ナノ破損された表面（２）をイオン衝撃および／またはイオン照射および／またはプラズマ照射および／または電子線照射および／またはレーザー照射法によって活性化しそしてその直後に、ポリマー分子がエネルギー的に、すなわち物理的におよび／または化学的に励起状態にある期間内にまたは活性化と交互にまたは活性化に並行してＰＶＤ−法および／またはＣＶＤ−法によっておよび／またはカソードスパッタリングによって他の材料の微粒子状での被覆を、僅かな活性表面エネルギーを持つポリマー化合物である基体材料（１）の表面が他の材料での完全な被覆が達成されるまで、行うことを特徴とする、上記方法。