JP2007524234A - ピクセル化されたカドミウム亜鉛テルライドに基づいた光子カウントモード検出器 - Google Patents
ピクセル化されたカドミウム亜鉛テルライドに基づいた光子カウントモード検出器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007524234A JP2007524234A JP2006547522A JP2006547522A JP2007524234A JP 2007524234 A JP2007524234 A JP 2007524234A JP 2006547522 A JP2006547522 A JP 2006547522A JP 2006547522 A JP2006547522 A JP 2006547522A JP 2007524234 A JP2007524234 A JP 2007524234A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detector
- radiation
- pixels
- solder balls
- radiation detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- QWUZMTJBRUASOW-UHFFFAOYSA-N cadmium tellanylidenezinc Chemical compound [Zn].[Cd].[Te] QWUZMTJBRUASOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 102
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 63
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- NTKSJAPQYKCFPP-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(3-chlorophenyl)benzene Chemical compound ClC1=CC=CC(C=2C(=C(Cl)C=C(Cl)C=2Cl)Cl)=C1 NTKSJAPQYKCFPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 C*1=C(C*)CC**1 Chemical compound C*1=C(C*)CC**1 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 230000036039 immunity Effects 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- VTTJXDGDZHYYJU-UHFFFAOYSA-M mercury(1+) iodate Chemical compound [Hg+].[O-][I](=O)=O VTTJXDGDZHYYJU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000006335 response to radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/29—Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2914—Measurement of spatial distribution of radiation
- G01T1/2921—Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions; Radio-isotope cameras
- G01T1/2928—Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions; Radio-isotope cameras using solid state detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14618—Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14658—X-ray, gamma-ray or corpuscular radiation imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14658—X-ray, gamma-ray or corpuscular radiation imagers
- H01L27/14661—X-ray, gamma-ray or corpuscular radiation imagers of the hybrid type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48472—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14634—Assemblies, i.e. Hybrid structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
- H01L27/14696—The active layers comprising only AIIBVI compounds, e.g. CdS, ZnS, CdTe
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15172—Fan-out arrangement of the internal vias
- H01L2924/15174—Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15182—Fan-in arrangement of the internal vias
- H01L2924/15184—Fan-in arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/0296—Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only AIIBVI compounds, e.g. CdS, ZnS, HgCdTe
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Toxicology (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
X線などの放射線を検出する放射線検出器である。放射線検出器は、複数のピクセルを具備した検出器を含んでおり、ピクセルのそれぞれを使用して放射線を検出する。放射線検出器は、第1面上に形成された複数のはんだボールと第2面上に形成された複数の接点を具備したボールグリッドアレイ(BGA)パッケージをも含んでいる。BGAパッケージは、空洞をも具備しており、この空洞内に、少なくとも1つの集積回路(IC)チップが取り付けられている。ICチップは、複数の読み出しチャネルを具備しており、読み出しチャネルのそれぞれは、ピクセルの中の対応したものによって検出された放射線に対応した電気信号を受信するべく、対応するはんだボールを介して対応するピクセルに結合されている。
Description
(関連出願に対する相互参照)
本出願は、2003年12月30日付けで出願された「Pixelated Cadmium Zinc Telluride Baesd Photon Counting Mode Detector」という名称の米国仮特許出願第60/533,877号に対する優先権と利益を主張するものであり、この内容は、本引用により、そのすべてが本明細書に包含される。
本出願は、2003年12月30日付けで出願された「Pixelated Cadmium Zinc Telluride Baesd Photon Counting Mode Detector」という名称の米国仮特許出願第60/533,877号に対する優先権と利益を主張するものであり、この内容は、本引用により、そのすべてが本明細書に包含される。
本出願は、放射線検出器に関するものであり、更に詳しくは、CT(Computer Tomography)システムアプリケーション用のピクセル化されたカドミウム亜鉛テルライド(Cadmium Zinc Telluride:CZT)検出器に基づいた、光子カウントモード(Photon Counting Mode:PCM)検出器に関するものである。
現在利用可能なCTシステムは、通常、シンチレータに光学的に結合されたシリコン(Si)(p−n接合)フォトダイオードを具備した検出器を使用している。検出器内のピクセルの代表的なサイズは、約1mmである。(患者が存在しない空気中において)約100M光子/mm2/秒もの莫大な線量のX線が検出器に供給されている。従って、現時点においては、必要な統計情報を取得する検査においてこのように大きな光子束が必要とされているため、一般に、光子カウント検出器は、臨床CTシステムには使用されていない。従って、検出器は、通常、連続回転するガントリー内に検出器とX線生成器が取り付けられた積算モードにおいて動作している。
このような大きな光子束の使用は、患者にとって非常に危険であろう。更には、積算モードの検出器を使用した結果得られる画像品質は、一般に、個々の光子をカウントすることによって実現可能なものよりも劣っている。
従って、(1)光子カウントモードで動作する際の検出能力の改善と応答時間の高速化が可能であり、(2)画像品質を改善可能であり、(3)分光能力を有し、(4)ダイナミックレンジにおける制限の除去又は軽減が可能であり、(5)残光に対する感度の除去又は軽減が可能であり、(6)暗電流雑音に対する感度の除去又は軽減が可能であり、且つ、(7)複数の検出器モジュールを使用して大面積のマルチスライス検出器を形成可能であるという特徴(但し、これらに限定されない)の中の1つ又は複数のものを具備した検出器に対するニーズが存在している。
本発明の典型的な実施例においては、放射線検出器は、検出器、ボールグリッドアレイ(Ball Grid Array:BGA)パッケージ、及び少なくとも1つの集積回路(Integrated Circuit:IC)チップを含んでいる。検出器は、複数のピクセルを具備しており、ピクセルのそれぞれが放射線を検出する。BGAパッケージは、第1面上に形成された複数のはんだボールと第2面上に形成された複数の電気接点を具備しており、且つ、空洞を具備している。少なくとも1つのICチップは、BGAパッケージの空洞内に取り付けられており、複数の読み出しチャネルを具備している。読み出しチャネルのそれぞれは、対応するピクセルによって検出される放射線に対応した電気信号を受信するべく、対応するはんだボールを介して対応するピクセルに結合されている。
本発明の別の典型的な実施例においては、放射線検出器を使用する放射線検出及び処理方法が提供される。放射線検出器は、複数のピクセルを具備した検出器、1つの面上に形成された複数のはんだボールともう1つの面上に形成された複数の電気接点を具備したボールグリッドアレイ(BGA)パッケージ、及び複数の読み出しチャネルを具備し、BGAパッケージの空洞内に取り付けられた少なくとも1つのICチップを含んでいる。放射線は、検出器のそれぞれのピクセル内において検出される。放射線に応答し、読み出し電子チャネル内に電気信号が誘発される。ピクセルと少なくとも1つのICチップの読み出しチャネルの間に、はんだボールを介して電気接続が提供され、読み出しチャネルのそれぞれが、対応するピクセルの電気信号を処理する。ピクセル内において検出された放射線に関する情報は、電気接点を通じてPCBに供給される。
本発明の更に別の典型的な実施例においては、光子を検出しさらにカウントするPCM検出器が提供される。PCM検出器は、複数のピクセルを具備した検出器を含んでいる。光子をカウントする速度が、小ピクセル効果(small pixel effect)によって改善されている。PCM検出器は、さらに少なくとも1つのICチップを含んでおり、このそれぞれは、複数の読み出しチャネルを具備している。読み出しチャネルのそれぞれは、ピクセルの中の対応したものに結合されている。少なくとも1つのICチップを取り付けるためのチップパッケージは、少なくとも1つのICチップをピクセルに対して電気的に結合するための複数の電気接点を含んでいる。
PCM検出器は、小ピクセル効果を利用したピクセル化CZT検出器であっても良い。放射線が検出器内に自由電荷(電子及び正孔)を生成する。小ピクセル効果により、検出器内のイオン化プロセスによる自由電荷のドリフト時間(通常、これが応答時間を定義している)よりも高速の検出信号を取得することが可能である。
本発明の更に別の典型的な実施例においては、ピクセル化CZT検出器のそれぞれのピクセルごとにドリフト構造が提供されている。ピクセル化CZT検出器のドリフト構造を使用することにより、検出信号の持続時間を更に低減可能である。
本発明の更に別の典型的な実施例においては、1つ又は複数のASICチップ上にCMOS読み出し回路が実装されている。これらのASICチップは、ピクセル化CZT検出器上のピクセルの数に対応した数の読み出しチャネルを具備している。CMOS技術を使用することにより、アレイ内のそれぞれのピクセルごとに、電荷感応型前置増幅器、整形増幅器、マルチエネルギーレベル弁別器、及びデジタルイベントカウンタが、いずれも、それぞれのピクセルの幾何学的領域内に形成されている。
本発明の更に別の典型的な実施例においては、PCM検出器内において、読み出し回路を含む1つ又は複数のASICチップは、ボールグリッドアレイ(BGA)パッケージの空洞内に取り付けられている。BGAパッケージのはんだボールを使用することにより、ピクセル化CZT検出器の対応したピクセルを電気的に接続している。BGAパッケージの上部表面上には、外部装置(例えば、PCM検出器がその上部に取り付けられているプリント回路基板(Printed Circuit Board:PCB))との入出力(I/O)及び電力インターフェイス用の電気接点が形成されている。
本発明の更に別の実施例においては、はんだボールは、セラミック又はグラスファイバPCB又はビアボード上のビアホールを通じてピクセルに電気的に結合されている。ビアボードは、導電性ポリマーを使用してピクセル化CZT検出器に装着可能である。読み出し回路を含むASICチップは、BGAパッケージの空洞内にフリップチップ装着されている。状況に応じて、ASICチップ上の空洞内に適用された粘着塊(glob)を使用することにより、ASICチップを保護可能である。
添付の図面との関連で以下の詳細な説明を参照することにより、本発明のこれら及びその他の態様について理解することができよう。
本発明の典型的な実施例においては、CT用の高感度光子カウント直接変換X線検出器(光子(又は、パルス)カウントモード(Photon(or Pulse) Counting Mode:PCM)検出器)が提供される。高感度検出器材料(即ち、ピクセル化カドミウム亜鉛テルライド(CdZnTe(CZT))検出器)をCMOS技術の光子カウント読み出しと組み合わせることにより、X線検出器の性能の改善を実現している。CZT検出器は、X線を電気信号に変換する直接変換センサである。
1ピクセル当たりの出力カウントレートは、通常、数MHzであり、これは、それぞれのピクセルが、1秒当たり数百万個の光子を検出することを意味している。それぞれのピクセルは、例えば、高速読み出し前に、検出された光子に対応する電気信号を局部的に(デジタル)積算しかつ保存するために、2つの関連した16〜20ビットカウンタに結合されている。
典型的な一実施例においては、ピクセル化検出器と読み出し電子回路の間のピクセルごとのインターフェイスを実現するべく、PCM検出器内の、新規で非自明性の両面ボールグリッドアレイ(double−sided Ball Grid Array:両面BGA)内に、読み出し電子回路を含む1つ又は複数のASICチップが実装されている。両面BGAは、従来のBGAとは異なり、上面及び底面の両方に電気接点を具備しているという意味において、両面性を有する。このような両面BGAを、本明細書においては、BGA、両面ボールグリッドアレイ、又は両面BGAパッケージと呼んでいる。
一例として、1つの面(図の基準点に応じて上面又は底面)上の電気接点は、ピクセルとインターフェイスするための複数のはんだボールを含んでいる。これらのはんだボールは、(BGAパッケージ内の)内部ワイヤを介して1つ又は複数のASICチップに結合されている。BGAパッケージのもう1つの面上の電気接点は、例えば、セラミック又はグラスファイバPCB又はマザーボードなどの、1つ又は複数のASICチップの外部装置との間の電気接続用に使用されており、ソケット、ピン、はんだボールなどの任意の好適なタイプの電気接点を含んでいる。
本発明の別の典型的な実施例においては、1つ又は複数の所定のエネルギーウィンドウ(又は、ビン)に属する、個々のX線のみをカウントする能力が提供されている。特定のエネルギーレベルを具備した光子をカウントするこのような能力により、ピクセルをヒットするすべてのX線によって生成される合計電荷(アナログ積算モード)が、唯一の入手可能な信号であるような古い技術によるX線検出器を凌駕する、大きな性能上の利点が得られる。例えば、検出の最低閾値は、複数のビンの弁別を有した状態で、30キロ電子ボルト(keV)未満で有りうる。
本発明の別の典型的な実施例においては、信号の積算の代わりに光子をカウントすることにより、暗電流及び読み出し回路雑音を除去し、信号対雑音比を改善している。更には、本発明の検出器は、個別の光子をカウントし、対応したエネルギーを計測することにより、1検出光子当たりに収集可能な情報量が相対的に大きいため、供給放射線の線量を低減可能である。
ピクセルごとに光子をカウントする能力により、本発明の典型的な実施例を使用して構築されたCTシステムは、従来のアナログ積算モードの検出器システムよりも電子雑音に対する大きな耐性を具備している。アナログ積算モードにおいては、信号と雑音を分離できないため、熱及びショット雑音は、これらの検出器に固有の問題である。光子カウント法の場合には、装置内の熱及びその他の雑音フロアを克服するべく、それぞれの光子の信号が十分大きいことを事実上必要とする閾値回路を適用可能である。この結果、信号に対する電子雑音の寄与度が効果的に低減又は除去される。
エネルギーの積算は、少なくとも次のような理由から、二次雑音プロセスの被害を受けている。第1に、複数エネルギーのX線スペクトルが使用されているため、それぞれの検出光子が画像に対して異なる量のエネルギーを付与しており、これが、最終画像の雑音変動の増大に結びついている。第2に、コンプトン及びレイリー散乱及び光電再放射(X線蛍光)などの二次プロセスに起因し、同一エネルギーの光子の相互作用は、常に同一量の信号の蓄積を結果的にもたらすわけではない。
一方、光子カウント検出器システムは、このような二次雑音プロセスの影響を受ける程度が格段に小さい。例えば、本発明の光子カウントモード検出器は、約1(即ち、それぞれのX線光子がカウントされる)のDQE(即ち、量子効率)を提供することにより、従来のシステムを大幅に凌駕しており、この結果、患者に対する放射線線量の低減及び/又はコントラストの増大を実現可能である。更には、個々の光子のエネルギー及び異なる密度の組織内におけるその減衰を考慮することにより、分光情報によって画像の品質が向上する。
まず、図1を参照すれば、PCM検出器100は、CZT検出器102を含んでおり、これは、例えば、放射線(例えば、X線)のピクセル化検出のために、16×16個のピクセルを具備可能である。その他の実施例におけるCZT検出器は、異なる数のピクセルを具備可能である。CZT検出器は、高Zであってバンドギャップが大きい化合物半導体である。CZT材料は、優れた電荷収集特性を具備しているため、本発明の記載した典型的な実施例においては、光子をカウントするべく使用されている。その他の実施例においては、類似の特性を具備したその他の好適な検出器材料を使用可能である。
その他の典型的な実施例においては、PCM検出器は、CZTから製造された複数の二次元検出器アレイモジュールを包含可能である。例えば、検出器アレイのそれぞれのモジュールは、0.3〜3mmのピクセル間ピッチを有する256個のピクセル(16×16)を具備可能である。複数のこのような検出器アレイモジュールをアレイとして構成することにより、検出器のサイズを拡大可能である。その他の実施例においては、それぞれの個々の検出器アレイモジュールは、異なる数のピクセルを具備可能である。
ピクセル化CZT検出器を構築することにより、検出器内の電荷のドリフト時間(通常、これが応答時間を定義している)よりも格段に高速の信号の取得を実現する、「小」ピクセル効果を提供している。この結果、小ピクセル効果により、検出器の動作を機能拡張し、放射線に対する相対的に高速の応答を得ている。
CZT検出器102のそれぞれのピクセルは、対応するCZT電極107を介して両面BGA104の対応するはんだボール(受信電極)106に結合されている。CZT電極107は、例えば、導電性エポキシ又はその他の好適な材料から形成可能である。両面BGA104は、その内部に取り付けられている1つ又は複数のASICを具備している。ASICは、CZT検出器102のそれぞれのピクセルごとに、読み出し回路を含むチャネルを含んでいる。
図示の典型的な実施例においては、両面BGA104の底面に位置するボール106のすべてを使用してCZT検出器102のピクセルとインターフェイスしているため、PCB112(これは、セラミックマザーボードであっても良い)とインターフェイスするべく、両面BGA104の上面上にいくつかの接点109が形成されている。接点109上には、PCB112上に取り付けられているコネクタ114と電気的に結合するべく、ピン108が取り付けられている。
接点109は、はんだボールが取り付けられている面とは反対の面上における接点の平行な列のペアとして両面BGA104上に形成されている。同様に、接点114のペアも、PCB112上に互いに平行に配置されている。ピン108は、コネクタ114のソケットとアライメントされている。その他の実施例のピン108は、PCB112上に取り付け可能であり、対応するソケットを接点109に電気的に結合可能である。
両面BGA104とPCB112の間に、冷却バー110を配置することにより、例えば、ASICによって生成される熱を発散することも可能である。冷却バー110は、例えば、一般に入手可能なヒートシンクを包含可能である。
次に、図2を参照すれば、両面BGA104は、その内部に取り付けられたASICチップペア120及び122を有している。CMOS技術に基づいたASICチップ120及び122内に実装されている読み出し回路により、アレイ内のそれぞれのピクセルごとに、電荷感応型前置増幅器、整形増幅器、マルチエネルギーレベル弁別器、及びデジタルイベントカウンタの中の1つ又は複数のものを配置可能であり、これらは、いずれも、それぞれのピクセルの幾何学的な領域内に位置している。検出器システムのそれぞれのピクセル内に検出器及び光子カウント電子回路を内蔵することにより、臨床アプリケーションに代表される高いレートの光子を取り扱うことが可能である。
ASICチップ120及び122はそれぞれ、2つのASICチップが協働して図1のCZT検出器102の256(即ち、16×16)個のピクセルのそれぞれに対して読み出し回路を提供できるように、その上部に128チャネルの読み出し回路を形成している。その他の実施例においては、読み出し回路の256個のチャネル全てを単一のASICチップ上に形成可能である。更にその他の実施例においては、異なる数のチャネルを1つ又は複数のASICチップ上に形成することにより、異なる数(例えば、1024)のピクセルを具備したCZT及び/又はその他の好適なPCM検出器に対応可能である。
一例として、図示の実施例における両面BGA104の寸法は、約16mm×16mmであっても良い。又、ASICチップのそれぞれは、長さが約10mmであって、両面BGA104上に取り付け可能である。その間のスペースを含むASICチップによって占有される領域の合計幅も、約10mmである。その他の実施例においては、両面BGA及び/又はASICチップは、異なる寸法を具備可能である。
はんだボール106は、例えば、ワイヤボンディング法を使用して形成可能なワイヤ125とボンディングピン124を介して、ASICチップ120、122上の読み出し回路に電気的に結合されている。例えば、ボンディングピン124の間のワイヤボンドピッチは、約75□mであっても良い。記載した実施例においては、両面BGA104は、256個のはんだボール106と接続するべく両面BGA104の上部表面上の2つの対向する内部エッジに沿って形成された128個のボンディングピン124を具備している。この結果、CZT検出器102によって生成された電気検出信号は、読み出し回路内において処理されるべく、はんだボール106を通じてASIC120、122に供給されている。
記載した典型的な実施例においては、CZT検出器102及び(読み出し回路を含む)フロントエンド電子回路は、検出システムの不可欠な部分である。更に詳しくは、フロントエンド電子回路及びCZT検出器120は、検出器内において光子の相互作用が発生した後に流入する誘発電流用の同一の電子回路の一部である。フロントエンド電子回路は、この実施例においては、検出器に対してバイアス電圧を供給している。このバイアスによって生成される電界の影響下において、イオン化した電荷(電子−正孔)が個々の電極に向かって流れ、同時に、この流れる電荷により、読み出し回路内に電流の流れが誘発される。イオン化した電荷が検出器の個々の電極に到達した際に信号生成の全体プロセスが終了する。
両面BGA104の上部表面の対向する内部エッジ上に形成された接点109の2つの列は、こちらも、例えば、ワイヤボンディング技術を使用して形成可能なワイヤ127を介してASICチップ120及び122に接続されている。図示の実施例においては、256個のはんだボール106のすべてを使用してCZT検出器102のピクセルとインターフェイスしているため、ワイヤ127は、接点109、ピン108、及びコネクタ114を介して、ASIC120及び122と外部インターフェイス(I/O、電力など)の間において信号を搬送している。例えば、接点109間のワイヤボンドピッチは、約250μmで有り得る。
次に図3Aを参照すれば、両面BGA104は、その内部にASICチップ120及び122を取り付けるべく、両面BGAの内部エッジによって取り囲まれた空洞129を具備している。空洞129は、蓋130によってカバーされており、これは、例えば、プラスチック、セラミック、又はその他の好適な材料から製造可能である。内部配線132を使用することにより、ボンディングピン124及びワイヤ125を介して、はんだボール106をASICチップ120、122上の読み出し回路に電気的に結合している。
図3Bから、ワイヤ127を介してASICチップ120に結合されている接点109が、外部インターフェイス用の接続ポイントとして使用されていることがわかる。尚、図3Bには、ASICチップ122が示されていないが、ASICチップ122は、ASICチップ120と実質的に同一の接続を外部インターフェイスとの間に有している。一例として、記載した実施例においては、2つの隣接するはんだボールの中心間の距離は、はんだボールがCZT検出器の1mmのピクセルとアライメントするように、約1mmである。その他の実施例におけるCZT検出器のピクセルは、異なるサイズを具備可能であり、はんだボールも、ピクセルのサイズに対応した異なった離隔幅を具備可能である。更には、両面BGAのはんだボールのピッチがCZT検出器のピクセルのピッチと異なっている場合には、CZT検出器と両面BGAの間にピッチアダプタボードを使用可能である。
図4A〜図4Cは、それぞれ、CZT検出器の上面図、側面図、及び底面図を示している。CZT検出器102は、16×16個のピクセル140のモノリシックアレイとして形成されている。一例として、CZT検出器102のサイズは、約16mm×16mmであってよく、CZT検出器102の厚さは、約3.00mmであっても良い。図4Aの円Cの詳細図である図4Dから、CZT検出器のそれぞれの周辺部のエッジは、相対的に狭い非ピクセル化領域144によって占有されており、これは、例えば、約0.10mmの幅を具備可能であることがわかる。放射線を受光する入口ウィンドウ142の全体表面は、金属被覆されている。この金属は、非常に薄く、基本的に、X線に対して透明である。
次に、図4Cの円Dの詳細図を示している図4Eを参照すれば、金属被覆されていない直線領域148の行と列によって分離された実質的に正方形の金属被覆された接点146により、背面上に多数のピクセルが定義されている。例えば、金属被覆されていない直線領域148は、約0.1mmの実質的に均一な幅を具備可能である。
金属被覆された接点146は、例えば、両面BGAのはんだボールとインターフェイスすることにより、検出信号をASICチップ120及び122上の読み出し電子回に供給する。例えば、それぞれのピクセル上の金属被覆領域は、隣接する金属被覆領域間の距離が約0.1mmとなるように、約0.9mm×約0.9mmであっても良い。エッジのピクセルを中央のピクセルよりもわずかに小さくすることにより、いくつかのモジュールがアレイとして並べられた場合に、全体ピクセルのピッチを実質的に一定に維持可能である。ピクセルの金属被覆領域は、対応したはんだボールと接触する。
典型的な実施例におけるCZT検出器102は、次のような特性を具備している。
〔電荷収集〕
電子移動度[cm2/Vs] 1350
正孔移動度[cm2/Vs] 120
電子寿命[s] 2×10-6
正孔寿命[s] 1×10-7
電子移動度[cm2/Vs] 1350
正孔移動度[cm2/Vs] 120
電子寿命[s] 2×10-6
正孔寿命[s] 1×10-7
*これは、V=1000Vにおいて算出したものである。Te=W2/Vueであり、この場合に、(1)Teは、電子走行時間であり、(2)Wは、検出器の厚さであり、(3)Vは、検出器のバイアス電圧であり、(4)ueは、電子移動度である。
〔漏れ電流〕
材料の抵抗率ρ[Ω−cm]は、1×1010〜5×1011であり、ρ=VA/IWであって、この場合に、(1)Aは、ピクセルの面積であり、(2)Iは、ピクセルの漏れ電流である。例えば、V=1000V、W=3mm、A=1mm2、及びρ=1×1010Ω−cmである場合に、I=3.3nAである。
材料の抵抗率ρ[Ω−cm]は、1×1010〜5×1011であり、ρ=VA/IWであって、この場合に、(1)Aは、ピクセルの面積であり、(2)Iは、ピクセルの漏れ電流である。例えば、V=1000V、W=3mm、A=1mm2、及びρ=1×1010Ω−cmである場合に、I=3.3nAである。
〔静電容量〕
C[pF]=78A[mm2]/W[um]
C[pF]=78A[mm2]/W[um]
例えば、W=3mm及びA=1mm2である場合には、C=0.03pFである。
〔小ピクセル効果〕
ピクセル電極上において誘発される電荷Qは、ショットキー−ラモ理論:Q=qΔφ0を使用することによって算出可能であり、ここで、qは、電子の電荷であり、φ0は、キャリア位置の関数としての重み付けポテンシャルである。
ピクセル電極上において誘発される電荷Qは、ショットキー−ラモ理論:Q=qΔφ0を使用することによって算出可能であり、ここで、qは、電子の電荷であり、φ0は、キャリア位置の関数としての重み付けポテンシャルである。
上記の式を解くことにより、誘発される電荷を走行時間の関数として正確に見出すことができる。わかりやすくするべく、近似のために次のような経験則を使用可能である。第1に、最高のエネルギー分解能は、L/Wが約0.3である場合に実現され、この場合に、Lは、ピクセル電極のサイズ(即ち、長さ又は幅)である。第2に、生成される信号の大部分は、ピクセル電極のサイズに略等しい距離内に位置した陽極(ピクセル電極)の近傍において発生する。
従って、例えば、約3mmの厚さと約1mmのピクセルサイズを有する検出器の場合には、信号の大部分は、22ns以内において生成されることになろう。この結果、増幅器の整形時間を22ns×1.5=33nsまで短く設定可能である。
CZT検出器は、CZT検出器102のアレイを(対応するASICと共に)タイル張りして複数の256個のピクセルを具備したPCM検出器を形成する、モジュラー構成を具備可能である。このようなPCM検出器内のすべてのピクセルについて同一のピッチを維持するべく、それぞれ約16mm×16mmの寸法を具備するようにCZT検出器を製造可能であり、且つ、エッジピクセルは、個々のダイの間のギャップに対応するように、わずかに小さなサイズを具備可能である。更には、ASIC電子回路読み出しを有する導電性ポリマーアセンブリプロセスに対応するように、ピクセル化電極のダイと金属被覆を加工可能である。ポリマー接着剤法は、低温(例えば、100℃未満)、低コスト、及び高信頼性プロセスを提供している。
次の表は、本発明の典型的な実施例におけるCZT検出器の主要な設計パラメータを要約したものである。パラメータのいくつかは、CZT材料の前述の特性を使用して導出されている。当然のことながら、次表の値は典型的な値であり、その他の実施例におけるCZT検出器は、その他の好適な設計パラメータを具備可能である。
最大140keVの良好な検出効率を保証するには、検出器の厚さは、約3mm〜5mmの間とする必要がある。検出器に印加可能な最大電圧は1000V超であっても良い。この場合には、電子走行時間は、例えば、250nsであっても良い。高速カウントレートアプリケーションにおいては、長いドリフト時間は制限要因となりうる。光子カウントモードにおいては、100Mカウント/s/mm2程度の高速のカウントレートが望ましい。但し、本発明の典型的な実施例においては、10Mカウント/s/mm2のカウントレートで十分であるだろう。この結果、走行時間よりも一桁を上回るだけ高速の応答時間(10ns)という要件が課されることになる。
本発明の別の典型的な実施例においては、ドリフト構造が導入されている。電子雲が、検出器内の実際のドリフト時間とは無関係の収集陽極に近接している際に、ドリフト構造を使用して外部回路内に検出信号を誘発する。アレイ構造と1つ又は複数の読み出しチップに対する相互接続に起因し、ドリフト構造は、バイアスを必要とする最少数の電極を有する、可能な限り単純なものにすることが望ましい。シリコンにおいて一般に使用されているバイアスラダー分割器などの機能をCZT構造内に内蔵することが困難であるため、これは、処理の観点からも望ましい。例えば、ピクセル化CZT検出器の応答時間は、小ピクセル効果を使用することにより、約20nsで有り得る。ドリフト構造を使用した場合には、この応答時間を2〜4倍だけ改善可能である。
図5A〜図5Cは、本発明の別の典型的な実施例におけるCZT検出器103の上面図、側面図、及び底面図を示している。CZT検出器103は、PCM検出器100内のCZT検出器102を置換可能である。CZT検出器103は、ドリフト構造を使用することにより、相対的に高速の応答時間を得ている。
入口ウィンドウ(即ち、前面)電極150は、すべてのピクセルに共通である。図5Dから、それぞれのピクセル145は、その周辺部において金属トレースによって取り囲まれていることがわかる。金属トレースは、1つに相互接続され、入口ウィンドウ電極150を形成している。動作の際には、入口ウィンドウ電極は、例えば、約−500ボルト〜約−2,000ボルトの間の電圧によってバイアスされる。特定の一実施例においては、入口ウィンドウ電極に印加される電圧は、約−1,000ボルトである。
図示の典型的な実施例においては、それぞれのピクセルは、実質的に正方形の形状を有している。その他の典型的な実施例においては、ピクセルの形状は、矩形又はその他の好適な形状であっても良い。それぞれのピクセルの寸法は、約1mm×約1mmである。金属トレースの幅は、実質的に均一であって、約0.12mmである。その他の実施例においては、ピクセルの寸法及び/又は金属トレースの幅は、異なったものであっても良い。例えば、その他の典型的な実施例においては、それぞれのピクセルの寸法は、約0.5mm×約0.5mmで有り得る。
図5Bから、CZT検出器102の厚さは、約4mm〜約5mmの間であることがわかる。その他の実施例においては、厚さは、5mm超、又は4mm未満で有り得る。図5Aからわかるように、CZT検出器102は、ピクセル化領域を取り囲み、且つ、ピクセルのいずれによっても占有されていない周辺部152を具備している。周辺部152に起因し、CZT検出器102の幅と長さは、それぞれ、略17mmである。又、周辺部は、周辺部158として、背面上にも示されている。その他の実施例においては、このような周辺部は、存在しなくてもよく、或いは、幅が非常に狭いものであってもよい。
図5C及び図5Eに示されているように、CZT検出器の背面は、その上部に金属トレースのネットワーク154を形成している。ダイの背面上にアレイ構造が実装されている。ピクセル間のピッチは、約1mmである。ピクセルのそれぞれは、金属トレース154によって取り囲まれている。金属トレース154は、互いに相互接続され、背面電極154を形成している。背面電極上の金属トレースの幅は、図示の典型的な実施例においては、約0.30mmである。その他の実施例においては、金属トレースの幅は、異なるものであっても良い。動作の際には、背面電極は、例えば、約−10ボルト〜約−300ボルトの間の電圧によってバイアスされる。特定の典型的な実施例においては、電圧バイアスは、約−15ボルトである。
それぞれのピクセルの略中心には、その上部に陽極(ピクセル電極)156が形成されている。陽極156は、その形状が実質的に円形であり、略0.10mmの直径を具備している。陽極156は、略0ボルトの電圧によってバイアスされており、これは、実質的に接地である。その他の実施例においては、陽極に印加される電圧は、0ボルトとは異なるものであっても良い。適切な電圧によって、入口ウィンドウ電極150、背面電極154、及び陽極156をバイアスすることにより、CZT検出器102上のそれぞれのピクセルごとに、ドリフト構造が生成される。
次に、図6を参照すれば、ASICチップ120は、ASICチップ122と協働して256個のピクセルを具備したCZT検出器をサポートできるように、128個のチャネルを含んでいる。図6には、ASICチップ120のみが示されているが、ASICチップ120及び122は、実質的に同一のアーキテクチャを具備している。従って、本明細書においては、ASICチップ120に関してのみ説明することとする。
図6から、読み出し用のチャネル200が並列構成において複数回にわたって反復されていることがわかる。実際に、ASICチップ120は、128個のチャネル200を並列に含んでいる。チャネル200のそれぞれは、CZT検出器102(又は、CZT検出器103、318(図10を参照されたい)及び402(図11を参照されたい)の中の1つ)の対応したピクセルから検出信号を受信する入力202を具備している。
例えば、ASICチップ120は、0.24μmのIBM 6sf CMOSプロセスを使用して製造可能であり、128個のパラレルチャネルを具備可能であり(このそれぞれは、1つのピクセルの読み出しチェーンに対応している)、且つ、十分な利得を維持しつつ、可能な最低の雑音及び電力消費によって製造可能である。パルス形状は、最適なカウントレートとベースライン安定性特性を維持するべく二極性のものであっても良いが、パルス形状は、理想的な二極性でなくてもよい。デュアルウィンドウのエネルギービニング(準分光法)が提供されている。例えば、低いビンは、約20keV〜約70keVのエネルギーを具備可能であり、高いビンは、約70keV〜約140keVのエネルギーを具備可能である。その他の実施例におけるASICチップは、異なるエネルギーレベルの光子を検出するべく2つを上回る数(例えば、4つ)のウィンドウビンを具備可能である。
ASICチップ120は、CZT検出器102の対応した数のピクセルから128個の入力202を受信する。更には、ASICチップ120は、較正パルス212を受信しており、これは、すべてのチャネル200に印加されており、例えば、システム較正用の試験入力として使用可能である。
それぞれのチャネル200は、閾値信号214及び216をも受信しており、これらは、異なるビン又はウィンドウ内において光子をカウントするべく使用される閾値をプログラムするために使用される。その他の実施例においては、PCM検出器100が追加的な分光情報を提供できるように、3つ以上(例えば、4つ)の閾値が存在可能である。
ASICチップ120は、シリアルDACデータ及びクロック218をも受信している。このようなデータを使用することにより、例えば、それぞれのチャネル200内においてDAC調節回路のデジタルチューニングを提供可能である。ASICチップ120は、クロック及び制御信号220をも受信している。例えば、制御信号は、リセット及び/又はスタート信号を包含可能である。
ASICチップ120は、例えば、PCB112からの接点109を通じて、自身の動作のための電力206をも取得している。又、ASICチップ120は、バイアス及びその他制御装置210において、アナログバイアス208をも取得しており、このバイアス及びその他制御装置が、アナログバイアス222をASICチップ120のチャネル200に供給している。チャネル固有のデジタル的にプログラム可能な閾値微調整DACを除いて、チャネル内のすべてのその他のアナログ機能のバイアスは、単一のバイアス「生成器」ユニット210によって生成されており、これは、(DACのレンジのバイアスを含む)すべてのチャネルに共通である。
バイアス生成器ユニット210は、外部接続を介してバイアスされており(すなわち、外部バイアス208)、この外部バイアスを調節することにより、増幅器/弁別器チェーンのパラメータ(例えば、形状、利得など)が変更される(この場合には、すべてのチャネルを等しく変更可能である)。外部バイアス208(これは、電圧及び電流レベルを包含可能である)は外部回路によって供給されている。外部電流バイアスは、実際のチップノードと電源(「VDD」)又は接地(「GND」)の間に、選択されたサイズの抵抗器(又は、ポテンショメーター)を接続することにより、簡単に生成可能である。電圧バイアスは、通常のバイアス(設定)が外部のデジタル的にプログラム可能なDACを通じたものとなる弁別閾値レベルを含んでいる。
例えば、次の表は、ASICチップ120の主要な設計パラメータを示している。当然のことながら、その他の実施例においては、設計パラメータは、異なるものであっても良い。
*keVを単位とする閾値スプレッドは、ASICに関しては本質的に重要ではないが、センサが装着されている際には、CZT内の予想されるピクセル間利得変動に起因し、増大することになる。
次に、図7を参照すれば、チャネル200は、入力信号202を受信する前置増幅器234を含んでいる。前置増幅器234は、例えば、電荷感応型前置増幅器である。前置増幅器234の出力は、整形器236に供給されており、これは、整形器/利得段である。チャネル200の回路には、アナログバイアス222も印加されている。整形器236の出力は、弁別器のペア242及び244に供給されている。
弁別器242及び244は、それぞれ、弁別器微調整DAC238及び240にも結合されている。それぞれ、5ビットDACで有り得る閾値信号216及び214を使用することにより、弁別器微調整DAC238及び240は、個々の弁別器242及び244の閾値レベルを個別に微調整する。弁別器微調整DAC238及び240は、シリアルシフトレジスタを通じてプログラム可能である(即ち、図示の典型的な実施例においては、すべてのDACレジスタがシリアルデイジーチェーンとしてリンクされている)。
図示の典型的な実施例においては、閾値信号214及び216を調節可能である。弁別器242及び244の出力は、それぞれ、単安定「ワンショット」装置246及び248に結合されている。それぞれの単安定ワンショット装置は、クロック整形及びウィンドウカウントロジック用に使用されている。
単安定ワンショット装置246及び248の出力は、処理してカウンタ230及び232にそれぞれ出力するべく、ウィンドウロジック250に供給されている。カウンタ230は、相対的に高いエネルギーの光子をカウントするためのハイカウンタであり、カウンタ232は、相対的に低いエネルギーの光子をカウントするローカウンタである。カウンタ230及び232の出力のそれぞれは、図6の16ビットシーケンシャルマルチプレクサ204に供給される16ビット値である。ASICチップの読み出し(即ち、カウンタの内容のダンピング)は、16ビットシーケンシャルマルチプレクサ204を使用して固定した順序(例えば、最上位から最下位)で順番にそれぞれのチャネルカウンタを読み取ることによって実行される(この場合には、カウンタのすべての16ビットが、それぞれのチャネルごとに、完全にパラレルに読み出される)。その他の実施例においては、カウンタビットの数は異なるものであってよく、従って、シーケンシャルマルチプレクサを使用して異なる数のビットを読み取り可能である。
次に、図8を参照すれば、それぞれのチャネルごとに、弁別器微調整DAC238は、チップ−グローバル弁別閾値ラインの1つと所与のチャネルの弁別器242の対応した閾値入力の間に装着された5ビットDAC262を含んでいる。これは、プロセスパラメータ変動によって生じるチャネル閾値変動に対してチャネルを較正するべく行われている。図8には示されていないが、弁別器微調整DAC240は、弁別器微調整DAC238と実質的に同一の構造を具備している。
弁別器微調整DAC238は、5ビットシフトレジスタ260をも含んでおり、これは、以前のチャネルから1ビットを受信し、1ビットを次のチャネルに送信する。(個々の)DAC262の電圧調節は、抵抗器264を通じて流れるDCバイアス電流(Iout)を選択し、その両端に電圧を生成することにより、実現される。電流Ioutを生成するべく、DAC262は、Idacバイアス電流を取得している。グローバル閾値レベル(DAC_VTH)に加えて、DAC262は、次の2つのプログラミング選択肢の少なくとも1つを具備している。
第1に、DAC調節レンジを調節可能である。DAC調節レンジは、すべてのチャネルに共通であり、アナログバイアスを調節することによって外部から設定する。第2に、レンジ内のDAC値は、それぞれのDACに装着されているメモリに対して5ビットのデジタルワードを連続的にダウンロードすることにより、それぞれのチャネルごとに個別に選択可能である。
次に、図9を参照すれば、本発明の更に別の典型的な実施例における12×12(=144)の2D増幅器/カウンタマトリックス311を具備したASICチップ306の底面図が示されている。2D増幅器/カウンタマトリックス311は、対応したCZTピクセルマトリックスのミラーであるが、両面BGAパッケージの内部にフィットするように、相対的に小さな外部寸法を実現するべく相対的に小さなピクセルサイズを有している。従って、12×12増幅器/カウンタマトリックス311は、図示を容易にするべく示されており、ASICチップは、CZTピクセルマトリックス内のピクセルの数(例えば、256、1024など)に対応するように、144を上回る数の増幅器/カウンタ回路を具備可能である。
ASICチップ306は、例えば、両面BGA上の電気パッドに対して2D増幅器/カウンタマトリックス311をバンプボンディングするのに使用されるパッド307を、その底面上に形成している。ASICチップ306の外側周辺部313におけるパッド308は、図10を参照して説明するように、フリップチップ装着法を使用してバンプボンディングによって外部接続を実行するべく予約されている。
次に、図10を参照すれば、本発明の更に別の典型的な実施例におけるPCM検出器300は、ピクセル化CZT検出器318を含んでいる。CZT検出器318は、CZT検出器102又はCZT検出器103の構造に類似した構造を具備可能である。図示のように、CZT検出器318は、図示を容易にするべく、12×12(=144)個のピクセルを具備しており、この場合に、それぞれのピクセルは、約0.5mm×約0.5mmの寸法を具備している。実際には、CZT検出器は、32×32(=1024)個のピクセルを具備可能であり、このそれぞれは、約0.5mm×約0.5mmの寸法を具備している。更にその他の実施例においては、ピクセルの数とその寸法は、異なるものであっても良い。
CZT検出器318のピクセルは、セラミックビアボード316のビアを通じて両面BGA301のはんだボール312に電気的に結合されている。両面BGA301は、CZT検出器318の144個のピクセルに対応するべく、144個のはんだボール312を具備している。当然のことながら、CZT検出器が1024個のピクセルを具備している場合には、1024個のはんだボールが使用されることになろう。ビアは、CZT検出器のピクセルからはんだボールに電気検出信号を搬送するべく導電性材料によって充填されている。導電性ポリマー314を使用してセラミックビアボード316をCZT検出器318に装着している。
両面BGA301内に埋め込まれている内部配線320を使用することにより、電気パッド322に電気検出信号を搬送しており、この電気パッドは、フリップチップ装着法を使用してCZT検出器318をASICチップ306と電気的に結合するフリップチップバンプ307とのインターフェイスに使用されている。
ASICチップ306は、ASICチップ306の空洞303内に取り付けられている。図示のように、ASICチップ306は、CZT検出器318の144個のピクセルのそれぞれに対して読み出し回路を提供するべく、144個のチャネルを具備している。両面BGA301は、その上部に、I/Oインターフェイス及び電源用のいくつかの外部接続接点302をも形成している。ASICチップは、ASICチップ306の外側周辺部313上のバンプパッド308を使用して外部接続接点302にもフリップチップボンディングされている。状況に応じて、ASICチップ306上の粘着塊(glob)、プラスチック、又はその他の適切な材料304によって空洞303を充填することにより、ASICチップ306を保護可能である。
次に、図11を参照すれば、本発明の更に別の典型的な実施例におけるPCM検出器400は、CZT検出器402を含んでおり、これは、放射線(例えば、X線)のピクセル化検出用に、例えば、16×16個のピクセルを具備可能である。CZT検出器402は、例えば、図1及び図4A〜図4EのCZT検出器102と実質的に同一であってもよく、或いは、本明細書に記述されているその他の適切なCZT検出器であってもよい。一例として、CZT検出器402は、図5A〜図5EのCZT検出器103と同一であってもよく、或いは、この代わりに、約0.5mm×約0.5mmの寸法を具備するピクセルを具備した図10のCZT検出器318の構成及び動作特性に類似した又はこれと実質的に同一の構成及び動作特性を具備していてもよい。
CZT検出器402のそれぞれのピクセルは、異なるピッチを具備した両面BGA430及びCZT検出器402の相互結合を実現するピッチアダプタボード420を通じて、両面BGA430のはんだボール(受信電極)452の中の対応したものに結合されている。例えば、ピッチアダプタボード420は、セラミックから製造されたPCBであっても良い。CZT検出器402は、CZT検出器402を、ピクセルごとに、ピッチアダプタボード420の1つ面(即ち、図11に示されている底面)上の端子422に結合するための複数のCZT電極404を具備している。CZT電極404は、例えば、導電性エポキシやその他の適切な材料から形成可能である。
端子422は、ピッチアダプタボード420内に埋め込まれているPCBリード423を介してピッチアダプタボード420のもう1つの面(即ち、図11に示されている上面)上の端子424に接続されている。PCBリード423は、元々ピッチアダプタボード420を切断することなしには見えないため、破線によって示されている。ピッチアダプタボード420の端子424は、両面BGA430の底面(図11に示されている)上に形成されているはんだボール452にピクセルごとに結合されている。両面BGA430は、PCB410(これは、セラミックから製造可能なマザーボードである)と接続するべく、その上面(図11に示されている)上に形成されているはんだボール432の列をも具備している。両面BGA430の上面上に形成されているはんだボールの列については、図12を参照して後述する。PCB410は、それとの間に電気接続を形成するべく、はんだボール432に結合する端子412を具備している。図12、図13A、及び図13Bを参照して後述するように、両面BGA430は、その内部に取り付けられている1つ又は複数のASICを具備している。これらのASICは、CZT検出器402のそれぞれのピクセルごとに、読み出し回路を含むチャネルを含んでいる。
次に、図12を参照すれば、両面BGA430は、その内部に取り付けられたASICチップ440及び442のペアを有している。一例として、両面BGA430は、約16mm×約16mmの寸法と、約2mmの高さを具備可能である。両面BGAの寸法は、その他の実施例においては異なるものであっても良いが、それらは、一般に、水平又は垂直方向において16mmを超過するべきではない。高さは重要ではないが、底面上のリードとの間に形成される静電容量を低減可能である場合には、より厚いパッケージが、より好適であろう
両面BGA430は、その内側の周辺部に、ターミナルリムが水平方向においてシングルレベル433を具備する、ターミナルリム構造を具備しており、このターミナルリム構造は、レベル433に加えて、第2レベルのターミナルリム431が提供されている、デュアルレベルを具備している。この結果、リードを互い違いに配置可能であり、約120μm/2(=60μm)のピッチを実現可能である。
更に詳しくは、水平方向において、リード438(即ち、ボンディングパッド)は、ASICチップ440、442を、ワイヤ439を介して両面BGA430のはんだボール432に電気的に結合するべく、シングルレベルのターミナルリム433上に形成されている。更には、垂直方向において、リード436は、ASICチップ440、442を、ワイヤ437を介して両面BGA430のはんだボール452に電気的に結合するべく、第1レベル(これは、水平方向における単一レベルと同一のレベルである)のターミナルリム433上に形成されており、リード434は、ASICチップ440、442をワイヤ435を介して両面BGA430のはんだボール452に電気的に結合するべく、第2レベルのターミナルリム431上に形成されている。
シングルレベルのターミナルリム433のみを具備した水平側上において、リード438とASICチップ440、442の間に結合されているワイヤ439は、例えば、約120μmの規則的なピッチを具備している。しかしながら、デュアルレベルのターミナルリム(即ち、第1レベルのターミナルリム433及び第2レベルのターミナルリム431)を具備した垂直側上においては、配線リード436及び434は、シングルレベルのターミナルリムを使用した場合と比べて2倍のリードを配置できるように、互い違いに配置されている。一例として、両面BGAの互い違いに配置されている側上のリード/ワイヤのピッチは、約60μmであっても良い。
ASICチップ440及び442内に実装されている読み出し回路(これは、COMS技術に基づいている)により、アレイ内のそれぞれのピクセルごとに、電荷感応型前置増幅器、整形増幅器、マルチエネルギーレベル弁別器、及びデジタルイベントカウンタの中の1つ又は複数のものを配置可能であり、これらは、いずれも、CZT検出器402内のそれぞれのピクセルの幾何学的領域を下回る又はこれに等しい領域内に位置している。検出器システムのそれぞれのピクセル内に、検出器と光子カウント電子回路を内蔵することにより、臨床アプリケーションに代表される高いレートの光子を処理可能である。ASICチップ440及び442内の読み出し回路は、例えば、図2のASICチップ120及び122内の読み出し回路と実質的に同一のものであっても良い。
ASICチップ440及び442のそれぞれは、2つのASICチップが協働して、図11のCZT検出器402の256(即ち、16×16)個のピクセルのそれぞれに読み出し回路を提供できるように、読み出し回路の128個のチャネルをその上部に形成している。その他の実施例においては、読み出し回路のすべての256個のチャネルを単一のASICチップ上に形成可能である。更にその他の実施例においては、異なる数のピクセル(例えば、1024個のピクセル)を具備したCZT及び/又はその他のPCM検出器材料に対応するべく、1つ又は複数のASICチップ上に異なる数のチャネルを形成可能である。
一例として、典型的な実施例における両面BGA430の寸法は、約16mm×約16mmであっても良い。又、ASICチップのそれぞれは、幅が約5mmであり、長さが約8mmであってよく、両面BGA430上に幅方向に並べて取り付け可能であり、この結果、その間のスペースを含むASICチップによって占有される領域の合計幅は、約10mmをわずかに上回っている。その他の実施例においては、両面BGA及び/又はASICチップは、異なる寸法を具備可能である。
次に、図13Aを参照すれば、ASICチップ440及び442が両面BGA430内に取り付けられている。図12のラインF−Fに沿ったこの断面からわかるように、両面BGA430は、垂直方向において、第1及び第2レベルのリム433及び431を含む2レベルのターミナルリムを具備している。ASICチップ440及び442は、第1レベルのターミナルリム433上のワイヤ437及び配線リード436と第2レベルのターミナルリム431上のワイヤ435及び配線リード434を介して、両面BGA452の底面上のはんだボール452に電気的に結合されている。この結果、はんだボール452は、例えば、ワイヤボンディング法を使用して形成可能なワイヤ435、437とリード434、436を介して、ASICチップ440、442上の読み出し回路に電気的に結合されている。尚、第2レベルのターミナルリム431上に取り付けられている配線リード434とワイヤ435は、配線リード434及び436の互い違いに配置されている特性に起因し、図13Aの断面には示されていないことに留意されたい。
次に、図13Bを参照すれば、ラインG−Gに沿って取得された断面図は、ASICチップ440のみを示している。但し、ASICチップ442は、ASICチップ440と実質的に同一の方式で結合されていることに留意されたい。ASICチップ440は、水平方向において両面BGA430の内部エッジに沿って形成されたシングルレベルのターミナルリム433上に取り付けられているワイヤ439及び配線リード438を通じて、両面BGA430の上面上のはんだボール432に接続されている。ワイヤ439は、例えば、ワイヤボンディング法を使用して形成されている。はんだボール452を使用してCZT検出器とインターフェイスしているため、両面BGA430の上面上に提供されているはんだボール432を使用して、ASICチップ440、442を結合することにより、ASIC440及び442と、例えば、PCB410上の外部インターフェイス(I/O、電力など)の間において信号を搬送する。
図13A及び図13Bから、ASICチップ440及び442が取り付けられている両面BGA430の空洞は、充填材料450によって充填されていることがわかる。充填材料450は、例えば、粘着塊(glob)、プラスチック、又はその他の適切な材料を包含可能である。
当業者であれば、その精神及び本質的な特性を逸脱することなしに、その他の形態において本発明を実施可能であることを理解するであろう。従って、以上の説明は、すべての側面において例示を目的としたものであり、制限を意図したものではない。本発明の範囲は、添付の請求項によって示されており、その等価物の意味及び範囲に属するあらゆる変更が、これに包含されることを意図している。
例えば、CZT検出器に基づいた特定の典型的な実施例を参照して本発明について説明したが、その他の実施例においては、多結晶形態及び/又は結晶形態におけるガリウム砒素(GaAs)、カドミウムテルライド(CdTe)、ヨウ素酸水銀(HgI2)、又はこれらに類似したものなどのその他の適切な半導体材料を検出器材料として使用可能である。又、本発明は、X線の検出に限定されるものではなく、本発明の原理は、α線、β線、γ線、及びこれらに類似したものを含む(但し、これらに限定されない)任意の放射線の検出に広く適用可能である。
Claims (33)
- 複数のピクセルを具備した検出器であって、前記ピクセルのそれぞれは、放射線を検出する、検出器と、
第1面上に形成された複数のはんだボールと第2面上に形成された複数の電気接点を具備したボールグリッドアレイ(BGA)パッケージであって、空洞を具備するBGAパッケージと、
前記BGAパッケージの前記空洞内に取り付けられた少なくとも1つの集積回路(IC)チップであって、複数の読み出しチャネルを具備しており、前記読み出しチャネルのそれぞれは、前記ピクセルの中の対応したものによって検出された前記放射線に対応した電気信号を受信するべく、前記はんだボールの中の対応したものを介して前記ピクセルの中の対応したものに結合されている、少なくとも1つのICと、
を有する放射線検出器。 - 前記検出器は、カドミウム亜鉛テルライド(CZT)材料を有する請求項1記載の放射線検出器。
- 前記BGAは、前記空洞の周辺部にターミナルリムを具備しており、前記ターミナルリムは、その上部に取り付けられた複数の第1リードを具備した第1レベルのターミナルリムと、その上部に取り付けられた複数の第2リードを具備した第2レベルのターミナルリムと、を含み、前記第1リード及び前記第2リードは、前記第1リードが前記第2リードとアライメントしないように、互い違いに配置されている請求項1記載の放射線検出器。
- 前記検出器は、そのピクセルを前記BGAパッケージの前記はんだボールに結合するべく使用される複数の電極をその上部に形成している請求項1記載の放射線検出器。
- 前記電極のそれぞれは、導電性エポキシを有する請求項4記載の放射線検出器。
- 前記検出器の前記ピクセルは、インターフェイスボードを介して前記BGAパッケージの前記はんだボールと結合している請求項1記載の放射線検出器。
- 前記インターフェイスボードは、前記ピクセルを前記はんだボールに電気的に結合するべく貫通形成された複数のビアホールを具備したセラミック又はグラスファイバボードを有する請求項6記載の放射線検出器。
- 前記ピクセルのピッチは、前記はんだボールのピッチと異なっており、前記インターフェイスボードは、異なるピッチを具備した前記検出器及び前記BGAパッケージの間をインターフェイスするアダプタボードを有する請求項6記載の放射線検出器。
- 前記放射線検出器は、前記ピクセルのそれぞれにおいて検出された個々の光子をカウントする能力を有する光子カウントモードの検出器である請求項1記載の放射線検出器。
- 前記検出器は、前記検出器内において検出された放射線によって生成される自由電荷のドリフト時間よりも高速の検出放射線に対応した信号の取得を実現する小ピクセル効果を提供する請求項1記載の放射線検出器。
- 前記検出器は、応答時間を改善するべく、それぞれの前記ピクセル内にドリフト構造を含む請求項1記載の放射線検出器。
- 前記ドリフト構造は、前記ピクセルのそれぞれの周辺部に形成された金属トレースを含む請求項11記載の放射線検出器。
- 前記第2面上に形成されている前記複数の電気接点は、複数のはんだボールを含む請求項1記載の放射線検出器。
- 前記第2面上に形成されている前記複数の電気接点は、電気接点の少なくとも1つの列を含む請求項1記載の放射線検出器。
- 前記読み出しチャネルのそれぞれは、電荷感応型前置増幅器、整形増幅器、エネルギーレベル弁別器、及びデジタルイベントカウンタの中から選択された1つ又は複数のものを含む請求項1記載の放射線検出器。
- 前記BGAパッケージの前記第2面上の前記電気接点を使用することにより、外部装置との入出力及び電力インターフェイスためにPCBとインターフェイスする請求項1記載の放射線検出器。
- 前記少なくとも1つのICチップが前記空洞内に取り付けられた後に、前記空洞内に適用される粘着塊(glob)を更に有する請求項1記載の放射線検出器。
- 前記放射線は、X線を有し、前記検出器は、前記X線を前記電気信号に変換する請求項1記載の放射線検出器。
- 前記放射線検出器は、特定のエネルギーレベル又は前記検出器の前記ピクセルの少なくとも1つの特定のエネルギーレベルのレンジ内に属するエネルギーレベルを具備した前記放射線の光子をカウントする能力を有する請求項1記載の放射線検出器。
- 前記放射線検出器は、少なくとも2つの異なるエネルギーレベル又は少なくとも2つの異なるエネルギーレベルのレンジを具備した前記放射線の光子をカウントする能力を有する請求項1記載の放射線検出器。
- 複数のピクセルを具備した検出器と、1つの面上に形成された複数のはんだボールともう1つの面上に形成された複数の電気接点を具備したボールグリッドアレイ(BGA)パッケージと、複数の読み出しチャネルを具備し、前記BGAパッケージの空洞内に取り付けられた少なくとも1つの集積回路(IC)チップと、を有する放射線検出器における放射線検出及び処理方法において、
前記検出器の前記ピクセルのそれぞれにおいて放射線を検出する段階と、
前記放射線に応答し、前記読み出しチャネル内において電気信号を誘発する段階と、
前記はんだボールを介して前記ピクセルと前記少なくとも1つのICチップの前記読み出しチャネル間に電気接続を提供する段階であって、前記読み出しチャネルのそれぞれは、前記ピクセルの中の1つに対応した前記電気信号を処理する、段階と、
前記ピクセル内において検出された前記放射線に関する情報を前記電気接点を通じてPCBに提供する段階と、
を有する方法。 - 前記検出器の前記ピクセルは、インターフェイスボードを介して前記BGAパッケージの前記はんだボールと電気的に結合されている請求項21記載の方法。
- 前記インターフェイスボードは、前記ピクセルを前記はんだボールに電気的に結合するべく貫通形成された複数のビアホールを具備したセラミック又はグラスファイバボードを有する請求項22記載の放射線検出器。
- 前記ピクセルのピッチは、前記はんだボールのピッチと異なっており、前記インターフェイスボードは、異なるピッチを具備した前記検出器及び前記BGAパッケージの間をインターフェイスするアダプタボードを有する請求項22記載の放射線検出器。
- 前記読み出しチャネルのそれぞれによる処理段階は、前記検出器によって提供される前記電気信号の事前増幅段階、成形段階、マルチエネルギーレベル弁別段階、及びイベントカウント段階の中から選択された1つ又は複数の段階を含む請求項21記載の方法。
- 前記放射線検出器は、個々の光子が検出及びカウントされる光子カウントモードにおいて動作する請求項21記載の方法。
- 光子を検出及びカウントする光子カウントモード(PCM)検出器において、
複数のピクセルを具備した検出器であって、前記光子をカウントする速度が小ピクセル効果を通じて改善されている検出器と、
それぞれが1つ又は複数の読み出しチャネルを具備した少なくとも1つの集積回路(IC)チップであって、前記読み出しチャネルのそれぞれは、前記ピクセルの中の対応したものに結合している、少なくとも1つのICチップと、
前記少なくとも1つのICチップを取り付けるためのチップパッケージであって、前記少なくとも1つのICチップを前記ピクセルに電気的に結合する複数の電気接点を含むチップパッケージと、
を有するPCM検出器。 - 前記小ピクセル効果は、前記検出器内において検出された放射線によって生成される自由電荷のドリフト時間よりも高速の検出信号の取得を実現する請求項27記載のPCM検出器。
- 前記検出器は、ピクセル化カドミウム亜鉛テルライド(CZT)検出器を有する請求項27記載のPCM検出器。
- 前記検出器は、応答時間を改善するべく、それぞれの前記ピクセル内にドリフト構造を含む請求項27記載のPCM検出器。
- 前記ドリフト構造は、前記ピクセルのそれぞれの周辺部の周りに形成された金属トレースを含む請求項30記載のPCM検出器。
- 前記チップパッケージは、第1面上に前記電気接点として複数のはんだボールを具備すると共に、前記少なくとも1つのICチップをPCBに電気的に結合する前記第1面とは反対の第2面上に形成された複数の電気接点を具備する両面ボールグリッドアレイ(BGA)を有する請求項27記載のPCM検出器。
- 前記第2面上に形成されている前記複数の電気接点は、複数のはんだボールを有する請求項32記載のPCM検出器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US53387703P | 2003-12-30 | 2003-12-30 | |
PCT/US2004/043784 WO2005065333A2 (en) | 2003-12-30 | 2004-12-28 | Pixelated cadmium zinc telluride based photon counting mode detector |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007524234A true JP2007524234A (ja) | 2007-08-23 |
Family
ID=34748977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006547522A Pending JP2007524234A (ja) | 2003-12-30 | 2004-12-28 | ピクセル化されたカドミウム亜鉛テルライドに基づいた光子カウントモード検出器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7170049B2 (ja) |
EP (1) | EP1706884A2 (ja) |
JP (1) | JP2007524234A (ja) |
IL (1) | IL176665A0 (ja) |
WO (1) | WO2005065333A2 (ja) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010046982A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 株式会社島津製作所 | 光または放射線撮像装置 |
JP2011226902A (ja) * | 2010-04-20 | 2011-11-10 | Nec Tohoku Ltd | X線データ取得装置 |
KR20110138624A (ko) * | 2010-06-21 | 2011-12-28 | 삼성전자주식회사 | 대면적 엑스선 검출기 및 제조방법 |
JP2012501443A (ja) * | 2008-08-27 | 2012-01-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 読み出し用asicのチャンネル特異的構成のための装置及び方法 |
JP2012118073A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | General Electric Co <Ge> | スルービアインターポーザを有する検出器アレイ |
JP2012119956A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Fujifilm Corp | 放射線画像検出装置 |
JP2012185159A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Samsung Electronics Co Ltd | 大面積x線検出器 |
JP2013098853A (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 固体撮像装置 |
JP2014048171A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Tele Systems:Kk | 放射線検出器に駆動用のバイアス電圧を供給する装置及びその方法 |
JP2015525360A (ja) * | 2012-06-29 | 2015-09-03 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 光子計数検出装置のための不完全性の動的モデリング |
US9146203B2 (en) | 2010-07-30 | 2015-09-29 | Rigaku Corporation | X-ray stress measuring apparatus |
JP2016048720A (ja) * | 2014-08-27 | 2016-04-07 | 富士通株式会社 | 撮像装置及びその製造方法 |
JP2016540209A (ja) * | 2013-11-26 | 2016-12-22 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | フォトンを検出する検出装置及びその方法 |
JP2017525938A (ja) * | 2015-01-15 | 2017-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 撮像検出器モジュールアセンブリ |
JP2020025328A (ja) * | 2017-11-10 | 2020-02-13 | 株式会社ニコン | 撮像装置及びカメラ |
JP2020506375A (ja) * | 2017-01-27 | 2020-02-27 | ディテクション テクノロジー オサケユキチュア | 直接変換化合物半導体のタイル構造 |
JP2021523374A (ja) * | 2018-05-07 | 2021-09-02 | ケイエイ イメージング インコーポレイテッド | 高解像度、高速照射イメージングのための方法と装置 |
JP2021193848A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-12-23 | 株式会社ニコン | 撮像装置及びカメラ |
WO2022190321A1 (ja) * | 2021-03-11 | 2022-09-15 | 国立大学法人静岡大学 | 放射線撮像装置 |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4379295B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2009-12-09 | ソニー株式会社 | 半導体イメージセンサー・モジュール及びその製造方法 |
US7236562B2 (en) * | 2005-11-03 | 2007-06-26 | General Electric Company | Method of assembly and thermal management of CT detector electronics circuits |
US7560702B2 (en) * | 2005-11-28 | 2009-07-14 | General Electric Company | Interconnect and packaging method for multi-slice CT detector modules |
JP5136736B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2013-02-06 | 株式会社アクロラド | 放射線画像検出モジュールおよび放射線画像検出装置 |
JP5070637B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2012-11-14 | 株式会社アクロラド | 放射線画像検出モジュール |
WO2007117799A2 (en) | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Radiation detector array |
US20080001246A1 (en) * | 2006-05-24 | 2008-01-03 | Dipak Sengupta | Single package detector and digital converter integration |
US7606346B2 (en) * | 2007-01-04 | 2009-10-20 | General Electric Company | CT detector module construction |
WO2009019622A2 (en) | 2007-08-03 | 2009-02-12 | Koninklijke Philips Electronics N. V. | Apparatus and method for generating countable pulses from impinging x-ray photons; and corresponding imaging device |
EP2028509A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-25 | European Organisation for Nuclear Research CERN | Radiation monitoring device |
US7760123B2 (en) | 2007-10-08 | 2010-07-20 | General Electric Company | Data acquisition system for photon counting and energy discriminating detectors |
US8159286B2 (en) | 2007-10-08 | 2012-04-17 | General Electric Company | System and method for time-to-voltage conversion with lock-out logic |
US8299440B2 (en) * | 2007-12-20 | 2012-10-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Radiation detector for counting or integrating signals |
US20100316184A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-12-16 | Jan Iwanczyk | Silicon photomultiplier detector for computed tomography |
JP5281484B2 (ja) | 2009-05-28 | 2013-09-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線検出ユニット |
FI122647B (fi) * | 2009-06-09 | 2012-05-15 | Planmeca Oy | Digitaaliröntgenanturijärjestely ja digitaalinen röntgenkuvantamismenetelmä |
JP5744903B2 (ja) | 2009-12-21 | 2015-07-08 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 信号処理回路の電気的試験を行う装置及び方法 |
WO2011119045A1 (en) | 2010-03-24 | 2011-09-29 | Institutt For Energiteknikk | A method of conducting x-ray tomography measurements of petroleum- containing multiphase flows through a pipe |
US8296940B2 (en) * | 2010-04-19 | 2012-10-30 | General Electric Company | Method of forming a micro pin hybrid interconnect array |
TWI524752B (zh) * | 2010-05-03 | 2016-03-01 | 量宏科技股份有限公司 | 用於高解析度影像及視訊擷取之裝置及方法 |
CN109394257B (zh) * | 2010-12-22 | 2022-08-02 | 特罗菲公司 | 数字检测器 |
CN103329007B (zh) | 2011-01-17 | 2015-11-25 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有包括两个或更多个可供选择地可选的和分离的子阳极的阳极的光子计数检测器像素 |
DE102011012989B4 (de) * | 2011-03-03 | 2019-05-02 | Ketek Gmbh | Sensorkopf für einen Röntgendetektor |
US9513384B2 (en) | 2011-11-08 | 2016-12-06 | Koninklijke Philips N.V. | Seamless tiling to build a large detector |
US9743893B2 (en) * | 2011-12-21 | 2017-08-29 | Carestream Health, Inc. | Dental imaging with photon-counting detector |
US9607971B2 (en) * | 2012-06-04 | 2017-03-28 | Sony Corporation | Semiconductor device and sensing system |
US9177884B2 (en) | 2012-10-09 | 2015-11-03 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Two-sided-access extended wafer-level ball grid array (eWLB) package, assembly and method |
US20140348290A1 (en) * | 2013-05-23 | 2014-11-27 | General Electric Company | Apparatus and Method for Low Capacitance Packaging for Direct Conversion X-Ray or Gamma Ray Detector |
WO2015012866A1 (en) * | 2013-07-26 | 2015-01-29 | Analogic Corporation | Detector unit for detector array of radiation imaging modality |
GB2516872A (en) | 2013-08-02 | 2015-02-11 | Ibm | A method for a logging process in a data storage system |
US9142746B2 (en) | 2013-11-11 | 2015-09-22 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Light-emitting diodes on a wafer-level package |
US9541503B2 (en) | 2014-03-14 | 2017-01-10 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Compact systems, compact devices, and methods for sensing luminescent activity |
US9443835B2 (en) | 2014-03-14 | 2016-09-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Methods for performing embedded wafer-level packaging (eWLP) and eWLP devices, packages and assemblies made by the methods |
US9305908B2 (en) | 2014-03-14 | 2016-04-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Methods for performing extended wafer-level packaging (eWLP) and eWLP devices made by the methods |
CZ306489B6 (cs) | 2014-11-03 | 2017-02-08 | Crytur, Spol.S R.O. | Zařízení pro koincidenční zobrazování sekundárními elektrony |
US9960203B2 (en) * | 2014-12-21 | 2018-05-01 | Ion Beam Applications S.A. | Radiation sensor |
US9541717B2 (en) | 2015-01-30 | 2017-01-10 | Avago Technologies General IP (Singapore) Pta. Ltd. | Optoelectronic assembly incorporating an optical fiber alignment structure |
US10098595B2 (en) * | 2015-08-06 | 2018-10-16 | Texas Instruments Incorporated | Low power photon counting system |
DE102015218581B4 (de) * | 2015-09-28 | 2019-11-14 | Siemens Healthcare Gmbh | Digital-Analog-Wandler für Mehrschwellenzähler mit Partitionierung der Bits zwischen R-Leiter und Komparator |
CN110178053B (zh) * | 2017-01-23 | 2023-07-18 | 深圳帧观德芯科技有限公司 | 具有用于粒子计数的动态分配内存的辐射检测器 |
US10151845B1 (en) | 2017-08-02 | 2018-12-11 | Texas Instruments Incorporated | Configurable analog-to-digital converter and processing for photon counting |
US10024979B1 (en) | 2017-11-01 | 2018-07-17 | Texas Instruments Incorporated | Photon counting with coincidence detection |
JP7179177B2 (ja) | 2018-11-19 | 2022-11-28 | プリズマティック、センサーズ、アクチボラグ | エッジオン光子計数検出器 |
US10890674B2 (en) | 2019-01-15 | 2021-01-12 | Texas Instruments Incorporated | Dynamic noise shaping in a photon counting system |
CN112928106B (zh) * | 2019-12-05 | 2024-05-17 | 同方威视技术股份有限公司 | 探测器装置和阵列面板 |
CN110854242B (zh) * | 2019-12-18 | 2024-03-19 | 中国原子能科学研究院 | 辐射探测探头及其制备方法、辐射探测芯片 |
KR20230093501A (ko) * | 2020-11-13 | 2023-06-27 | 에이엠에스-오스람 아게 | 엑스레이 방사선 검출을 위한 모듈 어셈블리 |
CN112542395A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-03-23 | 无锡华芯微探科技有限公司 | 一种基于光子计数的探测器模组的三维封装方法 |
EP4287258B1 (en) * | 2022-06-02 | 2024-03-06 | Teledyne Dalsa B.V. | Photon counting detector |
WO2024077397A1 (en) * | 2022-10-13 | 2024-04-18 | Atomic Energy Of Canada Limited/ Énergie Atomique Du Canada Limitée | Aquatic radionuclide monitoring system |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5665959A (en) * | 1995-01-13 | 1997-09-09 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Adminstration | Solid-state image sensor with focal-plane digital photon-counting pixel array |
US6355939B1 (en) * | 1998-11-03 | 2002-03-12 | Lockheed Martin Corporation | Multi-band infrared photodetector |
-
2004
- 2004-12-28 JP JP2006547522A patent/JP2007524234A/ja active Pending
- 2004-12-28 EP EP04815786A patent/EP1706884A2/en not_active Withdrawn
- 2004-12-28 US US11/024,317 patent/US7170049B2/en active Active
- 2004-12-28 WO PCT/US2004/043784 patent/WO2005065333A2/en active Application Filing
-
2006
- 2006-07-02 IL IL176665A patent/IL176665A0/en unknown
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012501443A (ja) * | 2008-08-27 | 2012-01-19 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 読み出し用asicのチャンネル特異的構成のための装置及び方法 |
WO2010046982A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 株式会社島津製作所 | 光または放射線撮像装置 |
JP2011226902A (ja) * | 2010-04-20 | 2011-11-10 | Nec Tohoku Ltd | X線データ取得装置 |
KR20110138624A (ko) * | 2010-06-21 | 2011-12-28 | 삼성전자주식회사 | 대면적 엑스선 검출기 및 제조방법 |
KR101634250B1 (ko) * | 2010-06-21 | 2016-06-28 | 삼성전자주식회사 | 대면적 엑스선 검출기 및 제조방법 |
US9146203B2 (en) | 2010-07-30 | 2015-09-29 | Rigaku Corporation | X-ray stress measuring apparatus |
JP2012118073A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | General Electric Co <Ge> | スルービアインターポーザを有する検出器アレイ |
JP2012119956A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Fujifilm Corp | 放射線画像検出装置 |
US8431905B2 (en) | 2010-12-01 | 2013-04-30 | Fujifilm Corporation | Radiation image detector |
JP2012185159A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Samsung Electronics Co Ltd | 大面積x線検出器 |
JP2013098853A (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 固体撮像装置 |
JP2015525360A (ja) * | 2012-06-29 | 2015-09-03 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 光子計数検出装置のための不完全性の動的モデリング |
JP2014048171A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Tele Systems:Kk | 放射線検出器に駆動用のバイアス電圧を供給する装置及びその方法 |
JP2016540209A (ja) * | 2013-11-26 | 2016-12-22 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | フォトンを検出する検出装置及びその方法 |
JP2016048720A (ja) * | 2014-08-27 | 2016-04-07 | 富士通株式会社 | 撮像装置及びその製造方法 |
JP2017525938A (ja) * | 2015-01-15 | 2017-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 撮像検出器モジュールアセンブリ |
JP2020506375A (ja) * | 2017-01-27 | 2020-02-27 | ディテクション テクノロジー オサケユキチュア | 直接変換化合物半導体のタイル構造 |
JP7071983B2 (ja) | 2017-01-27 | 2022-05-19 | ディテクション テクノロジー オサケユキチュア | 直接変換化合物半導体のタイル構造 |
JP2020025328A (ja) * | 2017-11-10 | 2020-02-13 | 株式会社ニコン | 撮像装置及びカメラ |
JP2021523374A (ja) * | 2018-05-07 | 2021-09-02 | ケイエイ イメージング インコーポレイテッド | 高解像度、高速照射イメージングのための方法と装置 |
JP2021193848A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-12-23 | 株式会社ニコン | 撮像装置及びカメラ |
JP7283511B2 (ja) | 2019-10-31 | 2023-05-30 | 株式会社ニコン | 撮像装置及びカメラ |
WO2022190321A1 (ja) * | 2021-03-11 | 2022-09-15 | 国立大学法人静岡大学 | 放射線撮像装置 |
JP7534743B2 (ja) | 2021-03-11 | 2024-08-15 | 国立大学法人静岡大学 | 放射線撮像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1706884A2 (en) | 2006-10-04 |
IL176665A0 (en) | 2006-10-31 |
US7170049B2 (en) | 2007-01-30 |
WO2005065333A2 (en) | 2005-07-21 |
US20050139757A1 (en) | 2005-06-30 |
WO2005065333A3 (en) | 2005-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7170049B2 (en) | Pixelated cadmium zinc telluride based photon counting mode detector | |
US9466631B2 (en) | Solid state photomultipliers array of enhanced fill factor and simplified packaging | |
EP2917766B1 (en) | Sub-band infra-red irradiation for detector crystals | |
JP4147186B2 (ja) | 感光及び/又は感x線センサからなるセンサ配置 | |
US9955930B2 (en) | Sensor device and imaging system for detecting radiation signals | |
JP2010536186A (ja) | シリコンフォトマルチプライヤ回路に関連する方法及び装置 | |
WO2006126027A2 (en) | Light sensor module | |
US20240248218A1 (en) | X-ray detector component, x-ray detection module, imaging device and method for manufacturing an x-ray detector component | |
US11067707B2 (en) | Four-side buttable radiation detector unit and method of making thereof | |
EP3794380B1 (en) | Sensor unit, radiation detector and method of manufacturing a sensor unit | |
JP7213951B2 (ja) | イメージセンサ、イメージセンサ装置、及び、これらを含むコンピュータ断層撮影装置 | |
Fornaini et al. | A multi-chip board for X-ray imaging in build-up technology | |
US20240230932A9 (en) | Radiation detector module including application specific integrated circuit with through-substrate vias | |
US11828892B1 (en) | Photon counting detector | |
CN110892291A (zh) | X射线检测器 | |
TWI849518B (zh) | 成像系統及利用其的方法 | |
CN116247066B (zh) | X射线探测器和探测方法 | |
US20240061131A1 (en) | Radiation detectors for scanning systems, and related scanning systems | |
TW202328705A (zh) | 使用雙向計數器的成像方法 | |
Macias-Montero et al. | VIP-PIX: A low noise readout ASIC for pixelated CdTe gamma-ray detectors for use in the next generation of PET scanners |