JP2007509321A - 再構成可能干渉計システム - Google Patents
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Abstract
Description
本発明によって解決される課題は、名目上は同形の二つの光学面、球面または非球面を比較することである。これは、マスター・キャリブレーション面と呼ばれる第1の面をフィゾー基準面の前に配置し、そして、フィゾー基準面およびマスター・キャリブレーション面において反射された光の結果的な位相差の測定をすることによって、フィゾー干渉計システムを用いて行われ得る。その結果は記憶され、次に、マスター・キャリブレーション面は、テスト面と呼ばれる第2の面と置き換えられる。これに続き、もう一つの干渉測定が、フィゾー基準面およびテスト面において反射された光の位相差に対して行われる。
球面、および/または非球面を検査するための干渉システムおよび方法が開示される。
(1)安価な準ヌル非球面フィゾーの手段は、基本レンズ、および非球面補正面は勿論、フィゾー基準面を有する単一の要素または構成要素を使用して示され、
(2)補正面の設計は、予測可能な結果の手順であり、それは、補正面の必要とされる非球面のデパーチャを最低値にするゴールと共に、補正面位置の迅速且つ簡単な最適化を可能にし、
(3)(A)1つのフィゾーレンズの整列の情報、および(B)テスト面と基準面との間のインターフェログラムについての情報を1つのインターフェログラムから得るために、3つのビームの干渉およびダブル位相変化アルゴリズム(TFおよびテスト面)を使用し、
(4)Nd:YAGレーザ、およびNd:YLFレーザの2つのレーザを同時に使用するが、(a)確実に非常に小さいギャップを測定し、(b)測定の不確実性(ノイズに起因するもの)を√2分近く低減するために、ダイクロイックビームスプリッタおよびビームコンバイナと共に、2つの別個のカメラをも使用し、
(5)全ての調節は、測定の間、サーボループとして、つまり、測定と調節が単一の統一されたアクションとして為される、となる。
手順:
(1)例えば米国特許第6,771,375号に従い、マスター・キャリブレーション非球面を測定し、
(2)マスター・キャリブレーション非球面をセットアップし、TFとフィゾー面との間のインターフェログラムと共に、デコリメータの前にあるフィゾー基準面(単一要素のフィゾーQNレンズ)を照射する波面の光学的なふるまい、および、フィゾー基準面と比較されるマスター面の波面の光学的なふるまいの両方を同時に測定し、両方のデータセットを維持し、
(3)同時に、正確に(2つの波長が同時且つ個々に2つのカメラによって得られることが可能なので、あらゆる場所の)ギャップを測定し、
(4)非球面テスト面をセットアップし、ステップ2、3および4のように行う、である。
1.環境の安定性(主に温度)に対する必要事項は、純粋な受動的なコンセプトと比較し、この「能動的な」コンセプトによって大幅に低減される。
2.非常に高い測定確実性が達成され得る。
3.テスト面の整列は勿論、補正要素の整列が自動である。従って、オペレータの技術面に対する必要事項が大幅に減らされる。
4.非球面の製造者は、この同等のアビリティを、非球キャリブレーションマスター面、非球フィゾー基準面、および非球補正面を製作するためにも使用できる。本発明は、入力ビームの最適化によって、非球テスト面の非球変形よりも少なくとも大きくない最低値に、補正面のために必要とされる非球変形を維持することが、可能である。これは、非球面に対してのテストを行うためのコスト効率の非常によい方法である。
5.非球フィゾー面と非球テスト面(または、マスター面)との間のキャビティは、非常に小さく(小さいとは、≦1mmである)維持され、それによって、高い精度の空気中での測定が可能になる。このキャビティを小さく保つことによって、最終測定の不確実性が、メインフレームの干渉における大きな残留の内在的な収差に対して小さくなる。
6.非球フィゾー面と非球テスト面(または、マスター面)との間の小さなキャビティは、キャリブレーションと測定との間の空気中における波長および透過率の変化に影響を小さくする。
7.絶対キャビティ厚みの測定の可能性は、非球面偏差に加え、非球面の基本半径をも測定可能にし、球面の測定の場合においては、形測定(figure measurement)と共に、球面の半径を測定可能にする。
(1)ダブル位相変化が、PZTおよび波長変化を用い、一つの物理的な移動によって行われ得る。
(2)球フィゾー基準面を有する従来のTSレンズが用いられ得る。この場合、メインキャビティは、非球フィゾー基準面との間にあり、第2のキャビティは、TSレンズ上の球フィゾー面と非球フィゾー基準面との間にある。この第2のキャビティは、整列に対し非常に感度の高い非球補正面、および、場合によっては、追加的な光学的要素を含む。
(3)図2に「BS」と示された大きなビームスプリッタプレート、および図2に示された2つのコリメータレンズは、1つのコリメータレンズとコリメータの背後の小さめのビームスプリッタとに置き換えられ得、場合によっては、分極にアクティブなビームスプリッタキューブと適所に配置される四分の一波長板とに置き換えられ得る。この場合、図2に示されるTFは、小さめの基準面、例えば、コリメータの球波面と一致する球面(ビームの収束側)と置き換えられる。この場合、結果に影響するより多くの光学部品、キャリブレーションと測定の間においてフィゾー基準面を照射する波面の変化のモニタリングおよび制御に含まれる。
Claims (25)
- 回転対称テスト光学部品、および回転非対称テスト光学部品を測定するための干渉装置であって、該干渉装置は、
テスト光学部品が正確に整列され、照射されることが可能なように、測定される該テスト光学部品を固定するための手段と、
少なくとも2つの波長を有する照射ビームを提供するための照射源と、
該照射源に続く透過フラットと、
該透過フラットに続き、該照射ビームを受信し、所定の形を有する少なくとも一つの基本波面を生成するための基本光学システムと、
所定の距離をあけ、該基本光学システムに続く補正構成要素であって、該補正構成要素は第1の非球面および非球基準面を備え、該第1の非球面は、該第1の非球面の非球面デパーチャが該非球面基準面の非球面デパーチャよりも大きくないような曲率半径および位置を有し、該補正構成要素は、該非球基準面が測定される該テスト光学部品に隣接して正確に整列される場合、該基本波面が該非球基準面の形と実質的に同等の形をもって、該非球基準面に突き当たるように該基本波面を修正し、該基本波面の一部が基準波面として働くために非球基準面において反射され、該基本波面の一部が該テスト光学部品に突き当たる継続波面として透過し、該非球基準面に向かって戻る測定波面として該テスト光学部品において反射されるように該基本波面を修正する作用をする、補正構成要素と、
該テスト光学部品によって生成された該波面の該形に暗示される位相情報を含むインターフェログラムを形成するために、該基準および測定波面を組み合わせるための手段と
を備える、干渉装置。 - 前記補正構成要素から離れて前記基本光学システムを前記所定距離に正確に設定するために、前記照射ビームの両方の波長を使用するマルチ位相変化干渉法を行うための手段をさらに含む、請求項1に記載の干渉装置。
- 前記基本光学システムに対する前記補正構成要素の整列を測定し、該補正構成要素の誤整列を正すことによって該補正構成要素を正確に位置付けるためにフィードバック制御信号を提供するための手段をさらに含む、請求項2に記載の干渉装置。
- 前記整列が6つの自由度の下に行われる、請求項3に記載の干渉装置。
- 前記非球基準面と前記テスト面を離す垂線距離が実質的に一定である、請求項2に記載の干渉装置。
- 前記補正構成要素が
テスト球面に向かって正面側に同心フィゾー基準面を有する、裏面側が無収差面のレンズ要素と、
正面側に非球面フィゾー基準面を有する、裏面側が非球面のレンズ要素と、
正面側に球面を有し、裏面側に非球フィゾー基準面を有するレンズ要素に続くホログラムと、
1つの非球面および1つの球面を有するレンズと、
正面側に非球基準面を有し、裏面側に球面または非球面を有するレンズに加え、2つの球面を有するレンズと
からなる群から選択される、請求項2に記載の干渉装置。 - 3つの同時インターフェログラムは、整列を容易にする目的のために形成され、前記基本光学システムの前に位置する基準面と前記非球基準面との間に形成される1つのインターフェログラムと、前記テスト面と該非球基準面との間に形成される他のインターフェログラムと、該基本光学システムの前に位置する該基準面と該テスト面との間に形成される第3のインターフェログラムとを含む、請求項2に記載の干渉装置。
- 異なった位相ステップおよび2つの移相子を用い、前記3つのインターフェログラムにおいて符号化される3つの位相差を個々に演算するための演算手段をさらに含み、該2つの移相子が、ゼロにならない行列式を有する等式システムをもたらすように、該3つの干渉キャビティ全てにおいて位相差を変化する、請求項7に記載の干渉装置。
- 前記テスト面によって生成された前記波面の予想される形と実際のふるまいとの間の差異に対応する位相情報を含む電気信号を生成するために、光検出器に前記インターフェログラムを映し出すための手段をさらに含む、請求項2に記載の干渉装置。
- 前記非球基準面に対して前記テスト光学部品を正確に整列するための手段をさらに含む、請求項2に記載の干渉装置。
- 回転対称テスト光学部品、および回転非対称テスト光学部品を測定するための干渉装置であって、該干渉装置は、
テスト光学部品が正確に整列され、照射されることが可能なように、測定される該テスト光学部品を固定するための手段と、
少なくとも2つの波長を有する照射ビームを提供するための照射源と、
該照射源に続く透過フラットと、
該透過フラットに続き、該照射ビームを受信し、所定の形を有する少なくとも一つの基本波面を生成するための基本光学システムと、
所定の距離をあけ、該基本光学システムに続く補正構成要素であって、該補正構成要素は第1の非球面および非球基準面を備え、該第1の非球面は、該第1の非球面の非球面デパーチャが該非球面基準面の非球面デパーチャよりも大きくないような曲率半径および位置を有し、該補正構成要素は、該非球基準面が測定される該テスト光学部品に隣接して正確に整列される場合、該基本波面が該非球基準面の形と実質的に同等の形をもって、該非球基準面に突き当たるように該基本波面を修正し、該基本波面の一部が基準波面として働くために非球基準面において反射され、該基本波面の一部が該テスト光学部品に突き当たる継続波面として透過し、該非球基準面に向かって戻る測定波面として該テスト光学部品において反射されるように該基本波面を修正する作用をする、補正構成要素と、
該テスト光学部品によって生成された該波面の該形に暗示される位相情報を含むインターフェログラムを形成するために、該基準および測定波面を組み合わせるための手段と、
該補正構成要素から該基本光学システムを離す該所定距離を正確に設定するために、該照射ビームの両方の波長を使用するマルチ位相変化干渉法を行うための手段と、
該基本光学システムに対して該補正構成要素の整列を測定し、該補正構成要素の誤整列を正すことによって該補正構成要素を正確に位置付けるためにフィードバック制御信号を提供するための手段と、
該非球基準面に対して該テスト光学部品を正確に整列するための手段と
を備える、干渉装置。 - 回転対称テスト光学部品、および回転非対称テスト光学部品を測定するための干渉方法であって、該干渉方法は、
テスト光学部品が正確に整列され、照射されることが可能なように、測定される該テスト光学部品を固定するステップと、
少なくとも2つの波長を有する照射ビームを生成するステップと、
該照射源に続く、基準面を有する透過フラットを提供するステップと、
所定の形を有する少なくとも一つの基本波面を生成するステップと、
補正構成要素を提供するステップであって、該補正構成要素は第1の非球面および非球基準面を備え、該第1の非球面は、該第1の非球面の非球面デパーチャが該非球面基準面の非球面デパーチャよりも大きくないような曲率半径および位置を有し、該補正構成要素は、該非球基準面が測定される該テスト光学部品に隣接して正確に整列される場合、該基本波面が該非球基準面の形と実質的に同等の形をもって、該非球基準面に突き当たるように該基本波面を修正し、該基本波面の一部が基準波面として働くために該非球基準面において反射され、該基本波面の一部が該テスト光学部品に突き当たる継続波面として透過し、該非球基準面に向かって戻る測定波面として該テスト光学部品において反射されるように該基本波面を修正する作用をする、補正構成要素を提供するステップと、
該テスト光学部品によって生成された該波面の該形に暗示される位相情報を含むインターフェログラムを形成するために、該基準および測定波面を組み合わせるステップと
を包含する、干渉方法。 - 前記基本波面に対して前記補正構成要素を正確に整列するために、前記照射ビームの両方の波長を使用するマルチ位相変化干渉法を行うステップをさらに含む、請求項12に記載の干渉方法。
- 前記基本波面に対する前記補正構成要素の整列を測定し、該補正構成要素の誤整列を正すことによって該補正構成要素を正確に位置付けるためにフィードバック制御信号を提供するステップをさらに含む、請求項13に記載の干渉方法。
- 前記整列が6つの自由度の下に行われる、請求項14に記載の干渉方法。
- 前記非球基準面と前記テスト面を離す垂線距離が実質的に一定である、請求項13に記載の干渉方法。
- 前記補正構成要素が、
テスト球面に向かって正面側に同心フィゾー基準面を有する、裏面側が無収差面のレンズ要素と、
正面側に非球面フィゾー基準面を有する、裏面側が非球面のレンズ要素と、
正面側に球面を有し、裏面側に非球フィゾー基準面を有するレンズ要素に続くホログラムと、
1つの非球面および1つの球面を有するレンズと、
正面側に非球基準面を有し、裏面側に球面または非球面を有するレンズに加え、2つの球面を有するレンズと
からなる群から選択される、請求項13に記載の干渉方法。 - 3つの同時インターフェログラムは、整列を容易にする目的のために形成され、前記基本光学システムの前に位置する基準面と前記非球基準面との間に形成される1つのインターフェログラムと、前記テスト面と該非球基準面との間に形成される他のインターフェログラムと、該基本光学システムの前に位置する該基準面と該テスト面との間に形成される第3のインターフェログラムとを含む、請求項13に記載の干渉方法。
- 異なった位相ステップおよび2つの移相子を用い、前記3つのインターフェログラムにおいて符号化される3つの位相差を個々に演算するステップをさらに含み、該2つの移相子が、ゼロにならない行列式を有する等式システムをもたらすように、て該3つの干渉キャビティ全てにおいて位相差を変化する、請求項18に記載の干渉方法。
- 前記テスト面によって生成された前記波面の予想される形と実際のふるまいとの間の差異に対応する位相情報を含む電気信号を生成するために、光検出器に前記インターフェログラムを映し出すステップをさらに含む、請求項13に記載の干渉方法。
- 前記非球基準面に対して前記テスト光学部品を正確に整列するステップをさらに含む、請求項13に記載の干渉方法。
- 回転対称テスト光学部品、および回転非対称テスト光学部品を測定するための干渉装置であって、干渉方法は、
テスト光学部品が正確に整列され、照射されることが可能なように、測定される該テスト光学部品を固定するステップと、
少なくとも2つの波長を有する照射ビームを提供するステップと、
該照射源に続く基準面を有する透過フラットを提供するステップと、
該照射ビームを受信し、所定の形を有する少なくとも一つの基本波面を生成するステップと、
所定の距離をあけ、該基本光学システムに続く補正構成要素を提供するステップであって、該補正構成要素は第1の非球面および非球基準面を備え、該第1の非球面は、該第1の非球面の非球面デパーチャが該非球面基準面の非球面デパーチャよりも大きくないような曲率半径および位置を有し、該補正構成要素は、該非球基準面が測定される該テスト光学部品に隣接して正確に整列される場合、該基本波面が該非球基準面の形と実質的に同等の形をもって、該非球基準面に突き当たるように該基本波面を修正し、該基本波面の一部が基準波面として働くために非球基準面において反射され、該基本波面の一部が該テスト光学部品に突き当たる継続波面として透過し、該非球基準面に向かって戻る測定波面として該テスト光学部品において反射されるように該基本波面を修正する作用をする、補正構成要素を提供するステップと、
該テスト光学部品によって生成された該波面の該形に暗示される位相情報を含むインターフェログラムを形成するために、該基準および測定波面を組み合わせるステップと、
該補正構成要素に対して正確に整列するために、該照射ビームの両方の波長を使用するマルチ位相変化干渉法を行うステップと、
該基本波面に対する該補正構成要素の整列を測定し、該補正構成要素の誤整列を正すことによって該補正構成要素を正確に位置付けるためにフィードバック制御信号を提供するステップと、
該非球基準面に対して該テスト光学部品を正確に整列するステップと
を包含する、干渉装置。 - 回転対称テスト光学部品、および回転非対称テスト光学部品を測定するための干渉装置であって、該干渉装置は、
テスト光学部品が正確に整列され、照射されることが可能なように、測定される該テスト光学部品を固定するための手段と、
少なくとも2つの波長を有する照射ビームを提供するための照射源と、
該照射源に続く透過フラットと、
該透過フラットに続き、該照射ビームを受信し、所定の形を有する少なくとも一つの基本波面を生成するための基本光学システムと、
所定の距離をあけ、該基本光学システムに続く補正構成要素であって、該補正構成要素は第1の非球面および非球基準面を備え、該補正構成要素は、該非球基準面が測定される該テスト光学部品に隣接して正確に整列される場合、該基本波面が該非球基準面の形と実質的に同等の形をもって、該非球基準面に突き当たるように該基本波面を修正し、該基本波面の一部が基準波面として働くために非球基準面において反射され、該基本波面の一部が該テスト光学部品に突き当たる継続波面として透過し、該非球基準面に向かって戻る測定波面として該テスト光学部品において反射されるように該基本波面を修正する作用をする、補正構成要素と、
該テスト光学部品によって生成された該波面の該形に暗示される位相情報を含むインターフェログラムを形成するために、該基準および測定波面を組み合わせるための手段と、
該補正構成要素から該基本光学システムを離す該所定距離を正確に設定するために、該照射ビームの両方の波長を使用するマルチ位相変化干渉法を行うための手段と
を備える、干渉装置。 - 前記基本光学システムに対して前記補正構成要素の整列を測定し、該補正構成要素の誤整列を正すことによって該補正構成要素を正確に位置付けるためにフィードバック制御信号を提供するための手段をさらに含む、請求項23に記載の干渉装置。
- 前記非球基準面に対して前記テスト光学部品を正確に整列するための手段をさらに含む、請求項24に記載の干渉装置。
Applications Claiming Priority (3)
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