JP2007500849A5

JP2007500849A5 -

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Publication number: JP2007500849A5
Application number: JP2006529746A
Authority: JP
Filing date: 2004-05-06
Publication date: 2011-05-19
Anticipated expiration: 2024-05-06

Description

行列Ａに非対称の付加的な要素がある場合には、平均して、次の式が残る。
∫_半球ｖｔｄＡ＝４π／３（−ｂ_２３ｂ_１３ −ｂ_１２）^Ｔ（１０）
較正球が十分に多数且つ半球に亘って均等に分布された、同じ力の点で接触探知される場合にも、式（９）は、近似的に成り立つ。

Claims

部材上の複数の測定値を、偏向可能な接触探知ピンを備えた、測定用の接触探知ヘッドを有する座標測定装置を用いて測定するための方法において、該方法は、
前記接触探知ヘッドによって単数乃至複数の偏向信号（ｓ）を検出するステップと、
少なくとも一部分（Ａ_ａｎｔｉ）が、接触点における前記接触探知ピンの偏向のうち、部材の表面に対して接線方向に位置している成分を記述する、複数のパラメータ（Ａ）を与えるステップと、
前記座標測定装置により、前記パラメータ（Ａ）を用いて、前記測定接触探知ヘッドによって検出された前記偏向信号（ｓ）を前記座標測定装置の座標系（Ｘ_Ｍ、Ｙ_Ｍ、Ｚ_Ｍ）に変換するステップと、を含み、
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）は行列をなし、
前記接触探知ピンは接触探知球を含み、
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）を特定するために、以下の両目的関数Ｑ_２及びＱ_３の少なくとも一方を充足することを特徴とする方法。
目的関数Ｑ_２＝Σｖ_ｉ×ｎ_ｉ⇒０、
目的関数Ｑ_３＝Σ（ｖ_ｉ×ｎ_ｉ）^２⇒Ｍｉｎ
但し、
ｖ_ｉ＝接触探知球の休止位置からの、測定点での接触探知球の偏向を表す偏向ベクトル、
ｎ_ｉ＝測定時の接触探知球の接触点で得られる、偏向ベクトルの、部材表面での法線方向成分を表す法線ベクトル
である。
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）を回転行列にする請求項１記載の方法。
前記目的関数（Ｑ_２、Ｑ_３）の少なくとも一方を解くために測定点を用い、該測定点を、較正体上の少なくとも１つの半円を接触検知することによって検出する請求項１又は２記載の方法。
接触検知された測定点を、接触検知された半円に亘って、又は、場合によっては、接触検知された半球に亘って均一に当該各測定点が分布しているようにして検出する請求項３記載の方法。
較正体を、較正用リング又は較正用球にする請求項３記載の方法。
単数乃至複数の偏向信号の写像のために、接触点で、部材表面に対して法線方向に位置している接触探知ピンの偏向の各成分を記述する、前記パラメータ（Ａ）の他の部分（Ａ_ｓｙｍ）を使用する請求項１から５迄の何れか１記載の方法。
前記付加的なパラメータ（Ａ_ｓｙｍ）は、行列をなしており、ガウスの補償条件を用いて以下の目的関数から特定される請求項６記載の方法。
目的関数Ｑ_１＝Σｆ^２ _ｎ，ｉ⇒Ｍｉｎ
但し、
ｆ_ｎ，ｉは、法線方向偏差、つまり、接触点での、偏向ベクトルの、部材表面上の法線方向での偏差を示す。
測定用接触探知ヘッド、該接触探知ヘッドに可動に取り付けられている接触探知ピン、及び制御及び評価ユニットを有する座標測定装置において、
制御及び評価ユニットにパラメータ（Ａ）が記憶され、
前記制御及び評価ユニットは、前記接触探知ヘッドによって検出された単数乃至複数の偏向信号（ｓ）を、前記座標測定装置の座標系（ＸＭ，ＹＭ，ＺＭ）に写像し、
前記パラメータ（Ａ）の少なくとも一部分（Ａ_ａｎｔｉ）が、接触点における前記接触探知ピンの偏向のうち、部材の表面に対して接線方向に位置している成分を記述し、
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）は行列をなし、
前記接触探知ピンは接触探知球を含み、
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）を特定するために、以下の両目的関数Ｑ_２及びＱ_３の少なくとも一方を充足することを特徴とする座標測定装置。
目的関数Ｑ_２＝Σｖ_ｉ×ｎ_ｉ⇒０、
目的関数Ｑ_３＝Σ（ｖ_ｉ×ｎ_ｉ）^２⇒Ｍｉｎ
但し、
ｖ_ｉ＝接触探知球の休止位置からの、測定点での接触探知球の偏向を表す偏向ベクトル、
ｎ_ｉ＝測定時の接触探知球の接触点で得られる、偏向ベクトルの、部材表面での法線方向成分を表す法線ベクトル
である。
前記パラメータ（Ａ）の前記一部分（Ａ_ａｎｔｉ）を回転行列にする請求項８記載の座標測定装置。
制御及び評価ユニットは、測定値の検出用の座標測定装置を、前記目的関数（Ｑ１、Ｑ２）の少なくとも一方を解くために必要な測定点を、較正体上の少なくとも１つの半円で接触検知することによって検出するように制御する請求項８又は９記載の座標測定装置。
制御及び評価ユニットは、測定値の検出用の座標測定装置を、前記各測定値が、接触検知される半円乃至半球に亘って均等に分布されているように制御する請求項１０記載の座標測定装置。
較正体は、ゲージリング又は較正球である請求項１０記載の座標測定装置。
偏向信号（ｓ）の写像のために、前記パラメータ（Ａ）の他の部分（Ａ_ｓｙｍ）が使用され、該パラメータは、接触点で部材表面に対して法線方向に位置している接触ピンの偏向の各成分を記述する請求項８から１２迄の何れか１記載の座標測定装置。
前記付加的なパラメータ（Ａ_ｓｙｍ）は行列をなす請求項１３記載の座標測定装置。
前記付加的なパラメータ（Ａ_ｓｙｍ）は、ガウスの補償条件を用いて、以下の目的関数から特定される請求項１３又は１４記載の座標測定装置。
目的関数Ｑ_１＝Σｆ^２ _ｎ，ｉ⇒Ｍｉｎ
但し、
ｆ_ｎ，ｉは、法線方向偏差、つまり、接触点での、偏向ベクトルの、部材表面上の法線方向の偏差を示す。