JP2007322896A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007322896A JP2007322896A JP2006154934A JP2006154934A JP2007322896A JP 2007322896 A JP2007322896 A JP 2007322896A JP 2006154934 A JP2006154934 A JP 2006154934A JP 2006154934 A JP2006154934 A JP 2006154934A JP 2007322896 A JP2007322896 A JP 2007322896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder
- work chuck
- substrate
- working fluid
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】露光装置は、作動流体供給源81とシリンダ70とを接続して、作動流体供給源81からシリンダ70に作動流体を供給する配管回路80に切換弁85が設けられ、切換弁85が、少なくとも基板Wに露光用の光を照射して露光する際に、シリンダ70への作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダ70の内圧を開放する。
【選択図】図5
Description
(1) 被露光材としての基板を保持するワークチャックと、ワークチャックを基板ステージに対して上下移動させる上下移動機構と、基板ステージ上に配置され、ワークチャックを支持するシリンダと、シリンダに作動流体を供給する作動流体供給源と、を備える露光装置であって、作動流体供給源とシリンダとを接続して、作動流体供給源からシリンダに作動流体を供給する配管回路に切換弁が設けられ、切換弁が、少なくとも基板に露光用の光を照射して露光する際に、シリンダへの作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダの内圧を開放することを特徴とする露光装置。
(2) 配管回路は、シリンダへ供給される作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁を備え、切換弁は、圧力調整弁とシリンダとの間に配設されることを特徴とする(1)に記載の露光装置。
図1は本発明に係る露光装置の一実施形態を説明するための正面図、図2は図1に示す露光装置の側面図、図3は図1に示す基板ステージの平面図であり、右半分はワークチャック下降時の平面図、左半分はワークチャック上昇時の平面図、図4は図3に示す基板ステージの正面図、図5は図1に示す露光装置の配管回路を説明するための概略図である。
例えば、本実施形態では、フラットパネルディスプレイの露光装置に本発明を適用した場合を例示したが、これに代えて、半導体の露光装置に本発明を適用してもよい。
また、本実施形態では、ワークチャックの重量を支持するバランスシリンダに空気圧シリンダを使用したが、油圧シリンダを使用してもよい。
M マスク
W ガラス基板(被露光材)
10 マスクステージ
11 マスクステージベース
11a 開口
12 マスク保持枠
13 照明装置
14 チャック部
20 基板ステージ
30 ワークチャック
40 基板ステージ移動機構
41 Y軸テーブル
42 Y軸送り機構
43 X軸テーブル
44 X軸送り機構
45 Z−チルト調整機構
50 ステージベース
51 支柱
52 Z軸移動装置
60 上下移動機構
61 ベースフレーム
62 リニアガイド
63A,63B 移動テーブル
64 駆動装置
65 リンク機構
66 Z軸ガイド
70 バランスシリンダ(シリンダ)
80 配管回路
81 エアポンプ(作動流体供給源)
82 手動切換弁
83 リリーフバルブ
84 圧力調整弁
85 切換弁
86 耐圧ホース
87 チャンバ
Claims (2)
- 被露光材としての基板を保持するワークチャックと、前記ワークチャックを基板ステージに対して上下移動させる上下移動機構と、前記基板ステージ上に配置され、前記ワークチャックを支持するシリンダと、前記シリンダに作動流体を供給する作動流体供給源と、を備える露光装置であって、
前記作動流体供給源と前記シリンダとを接続して、前記作動流体供給源から前記シリンダに前記作動流体を供給する配管回路に切換弁が設けられ、
前記切換弁が、少なくとも前記基板に露光用の光を照射して露光する際に、前記シリンダへの前記作動流体の供給を遮断すると共に、前記シリンダの内圧を開放することを特徴とする露光装置。 - 前記配管回路は、前記シリンダへ供給される前記作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁を備え、
前記切換弁は、前記圧力調整弁と前記シリンダとの間に配設されることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006154934A JP4960019B2 (ja) | 2006-06-02 | 2006-06-02 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006154934A JP4960019B2 (ja) | 2006-06-02 | 2006-06-02 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007322896A true JP2007322896A (ja) | 2007-12-13 |
JP4960019B2 JP4960019B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=38855742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006154934A Expired - Fee Related JP4960019B2 (ja) | 2006-06-02 | 2006-06-02 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4960019B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61171905A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Koganei Seisakusho:Kk | エアシリンダの制御装置 |
JP2002367898A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2004347883A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Nsk Ltd | 近接露光装置のワークステージ |
-
2006
- 2006-06-02 JP JP2006154934A patent/JP4960019B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61171905A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-02 | Koganei Seisakusho:Kk | エアシリンダの制御装置 |
JP2002367898A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 |
JP2004347883A (ja) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Nsk Ltd | 近接露光装置のワークステージ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4960019B2 (ja) | 2012-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2015064613A1 (ja) | 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP5816892B2 (ja) | 露光装置 | |
KR100839398B1 (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
KR20090128436A (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
JP2016054232A (ja) | インプリント装置 | |
KR100730056B1 (ko) | 리소그래피 장치, 레티클 교환 유닛 및 디바이스 제조방법 | |
JP4942625B2 (ja) | 近接露光装置及び近接露光方法 | |
KR20150041038A (ko) | 물체 교환 방법, 물체 교환 시스템, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2006235019A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP4960019B2 (ja) | 露光装置 | |
US20200103770A1 (en) | A system for cleaning a substrate support, a method of removing matter from a substrate support, and a lithographic apparatus | |
JP5017354B2 (ja) | パターニングデバイスの平面位置を非接触で制御するガス圧手段を備えたリソグラフィ装置 | |
TWI661278B (zh) | Moving in and out mechanism and lithography machine workpiece table moving in and out device | |
JP2007316561A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP2007219537A (ja) | ワークチャック及びその制御方法 | |
JP2006350315A (ja) | 露光装置 | |
JP2008026475A (ja) | 露光装置 | |
JP2000058420A (ja) | 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 | |
JP2007148462A (ja) | ワークチャック及びその制御方法 | |
JP5084230B2 (ja) | 近接露光装置および近接露光方法 | |
JP6142214B2 (ja) | 近接露光装置及び近接露光方法 | |
JP2005183710A (ja) | 露光装置、デバイスの製造方法、及び保守方法 | |
JP2011191755A (ja) | 露光方法及び基板の製造方法並びに露光装置 | |
KR100855070B1 (ko) | 롤 패터닝 장치 | |
KR20070104841A (ko) | 노광 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071128 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090428 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110815 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110926 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120228 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120322 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150330 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4960019 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |