JP2007321226A - スパッタリング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット4近傍に第1の防着シールド11を接地電位で配置し、基板6近傍に第2の防着シールド12をフローティング電位で配置し、第1の防着シールド11の外側すなわちプラズマ放電空間の外側に常に安定してアース電位面を提供し続けるための安定放電用アノード14を設けることにより、防着シールド11,12に誘電体膜が付着しても安定して放電を維持できるスパッタリング装置を実現した。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1におけるスパッタリング装置の断面図である。
図2は、本発明の実施の形態2におけるスパッタリング装置の断面図である。
2 チャンバ
3 カソード
4 ターゲット
5 アノード
6 基板
11 第1の防着シールド
12 第2の防着シールド
13 第3の防着シールド
14 安定放電用アノード
21 ガス導入機構
22 高周波電源
23 基板支持部材
24 アースシールド
25 防着シールド
26 対向電極
27 真空排気系
Claims (8)
- 真空容器の内部に、放電用の電源に接続されたターゲットとフローティング電位に取り付けられた基板が相互に向かい合う位置に配置され、前記ターゲットと前記基板との間に、それらを結ぶ軸に沿って放電空間を取り囲むように筒状の防着シールドが載置されたスパッタリング装置において、
前記防着シールドのうちターゲット近傍にある第1の防着シールドが接地電位の金属材料で形成されており、
前記第1の防着シールドの外周の表面が凹凸若しくは孔加工されていることを特徴とするスパッタリング装置。 - 第1の防着シールドの外側に、凹凸若しくは孔加工された部材をボルト等で締結し密着させたことを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング装置。
- 真空容器の内部に、放電用の電源に接続されたターゲットとフローティング電位に取り付けられた基板が相互に向かい合う位置に配置され、前記ターゲットと前記基板との間に、それらを結ぶ軸に沿って放電空間を取り囲むように複数の筒状の防着シールドが載置されたスパッタリング装置において、
前記防着シールドのうちターゲット近傍にある第1の防着シールドが接地電位の金属材料で形成され、同基板近傍にある第2の防着シールドがフローティング電位の金属材料で形成されており、
前記第1の防着シールドと相対する第2の防着シールドの相互の位置関係について、
前記ターゲットと前記基板を結ぶ軸方向に、5mmから10mmの間隔を持って載置されていることを特徴とする請求項1もしくは2のいずれか1つに記載のスパッタリング装置。 - 第1の防着シールドは、
筒状の形状をもつ第1の防着シールドの内面に誘電体の膜が塗布されていることを特徴とした請求項1から3のいずれか一つに記載のスパッタリング装置。 - 真空容器の内部に、放電用の電源に接続されたターゲットとフローティング電位に取り付けられた基板が相互に向かい合う位置に配置され、前記ターゲットと前記基板との間に、それらを結ぶ軸に沿って放電空間を取り囲むように筒状の防着シールドが載置され、
前記防着シールドのうちターゲット近傍にある第1の防着シールドが接地電位の金属材料で形成され、
前記第1の防着シールドを取り囲むように同じくターゲット近傍に第3の防着シールドを載置したスパッタリング装置において、
第3の防着シールドは第1の防着シールドと同じく接地電位の金属材料で形成されており、
前記第3の防着シールドの内周の一部表面が凹凸若しくは孔加工されていることを特徴とするスパッタリング装置。 - 第3の防着シールドの内側に、凹凸若しくは孔加工された部材をボルト等で締結し密着させたことを特徴とする請求項5に記載のスパッタリング装置。
- 真空容器の内部に、放電用の電源に接続されたターゲットとフローティング電位に取り付けられた基板が相互に向かい合う位置に配置され、前記ターゲットと前記基板との間に、それらを結ぶ軸に沿って放電空間を取り囲むように複数の筒状の防着シールドが載置されたスパッタリング装置において、
基板近傍にある第2の防着シールドがフローティング電位の金属材料で形成されており、
前記第1の防着シールドと相対する第2の防着シールドの相互の位置関係について、
前記ターゲットと前記基板を結ぶ軸方向に、5mmから10mmの間隔を持って載置されていることを特徴とする請求項5もしくは6のいずれか1つに記載のスパッタリング装置。 - 第1の防着シールドは、筒状の形状を有し、その内面に誘電体の膜が塗布されていることを特徴とした請求項5から7のいずれか1つに記載のスパッタリング装置。
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