JP2007317788A - 近接露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】近接露光装置1において、フォトマスク4下面とレジスト膜2bの上面との間隙に気体を供給し、このフォトマスク4の下面の、一方の端側から他方の端側に向けて、第1の気流を生じさせると共に、このフォトマスク4の端側から、この4の外側に向けて、前記第1の気流の方向と反対する方向の第2の気流を生じさせることを特徴とする。
【選択図】図6
Description
このフォトマスクの汚染によって、汚染箇所の露光用の光の透過率が低下して露光が最適になされない虞があるために、定期的にフォトマスクを洗浄したり(特許文献1)、フォトマスクと基板の間に不活性ガスを供給するなどの方法(特許文献2)が行われている。
また、上記の修正方法(後者)における、フォトマスクと基板の間に不活性ガスを供給する方法では、フォトマスクと基板を固定した状態で、その固定端側からフォトマスクと基板の隙間に不活性ガスを供給するため、フォトマスクが被露光体に対し相対的に移動しながら連続的に露光をおこなうことができない問題があった。
即ち、請求項1に係る近接露光装置は、露光用フォトマスクの下面と被露光体の露光面との間隙に気体を供給し、この露光用フォトマスクの下面の、一方の端側から他方の端側に向けて、第1の気流を生じさせるとともに、この一方の端側より、前記露光用フォトマスクの外側に向けて、前記第1の気流の方向と反対する方向の第2の気流を生じさせることを特徴としている。
請求項1に係る発明によれば、第1の気流によって、露光用フォトマスク(以下、単に「フォトマスク」という)の下面と被露光体の露光面との間に、前記化学反応による生成物が滞留せず、フォトマスクの外側に排出されるため、この生成物による、フォトマスクの汚染が防止できる。
そして、第2の気流によって、第1の気流によりフォトマスクの下面と被露光体の露光面との間に、フォトマスク周囲の気体や塵芥が引きこまれ、フォトマスクの下面に付着することが防止できる。
そして、ワーク2の露光位置とフォトマスク4との位置合わせを、制御装置10に接続されたテーブル駆動装置9によって行えるようになっており、この位置合わせ終了後、テーブル駆動装置9によってワーク2を矢印α(X方向)の方向およびY方向(図1の紙面に垂直な方向)に、一定速度で、移動可能になっている。
そして、露光用光源6からの光が前記露光用のパターンに照射され、ワーク2のレジスト層2bに、この露光用のパターンがレジスト層2bに転写されるようになっている。
そして、給気ポート5aは壁面5a1、5a2、5a3、5a4で構成された断面が四角形の穴であり、排気ポート5bは壁面5b1、5b2、5b3、5b4で構成された断面が四角形の穴であり、給気ポート5aおよび排気ポート5bのY方向長さは、それぞれマスク4のY方向長さWと同じになっている。
曲面5B1側に流れるガスは、フォトマスク4下面とワーク2のレジスト層2b表面の間に流入し、露光による反応生成物等と一緒に、排気ポート5b側に流れるようになっている。
排気ポート5b側に流されたガスと前記反応生成物等は、空隙5F2(図5(b))側に排出され、排気ポート5bに通じているガス吸引口に接続された分配管8bと排気チューブ8aを通して、吸引装置8によって、吸引排出されるようになっている。
そして、過流イのガスは循環し、いわゆる死水領域を形成するため、平面5C1側に流れるガスの流路が狭められて、前記曲面5B1側に流れるガス量が多くなって、フォトマスク4の下面とワーク2のレジスト層2bとの間から露光による反応生成物等を、より良く排除できるようになっている。
本実施の形態では、ワーク2のレジスト層2bの表面とフォトマスク4の下面の間隙は100μm程度に保持されるようになっている。
まず、露光装置1を作動させる前に、ワーク2をテーブル3の所定の位置に載置する。
ついで、ステップ1(S1)において、テーブル駆動手段9を作動させて、図示しない位置検出手段によって得られた、ワーク2露光開始位置の上方にフォトマスク4を位置させてから、前記図示しない昇降移動手段をさせて、フォトマスク4の下面とレジスト層2bの表面との間隙が所定になるように、フォトマスク4のZ方向の位置決めする。
その際、必要に応じて、制御装置10によって前記露光用光源6に内蔵されたシャッターを開閉させる。
また、上記進行方向の長さLが進行方向に直角な方向の長さWより短いフォトマスク4を用いる場合は、フォトマスク4の下面とワーク2のレジスト層2bの表面との間の気体の換気がしやすいため、吸引装置8によってフォトマスク4の下面とワーク2のレジスト層2bの表面との間の気体を吸引しなくてもよい。
また、特許文献2のようなフォトマスク自体に不活性ガスの供給ポート等を直接設けないため、フォトマスクの露光用パターンが不活性ガスの供給ポートによる制約を受けず、種々のフォトマスクを使用できる。
2 :ワーク
3 :テーブル
4 :フォトマスク
5 :マスクホルダー
6 :露光用光源
7 :不活性ガス供給装置
8 :吸引装置
9 :テーブル駆動装置
10:制御装置
Claims (5)
- 近接露光装置であって、露光用フォトマスクの下面と被露光体の露光面との間隙に気体を供給し、この露光用フォトマスクの下面の、一方の端側から他方の端側に向けて、第1の気流を生じさせるとともに、この一方の端側より、前記露光用フォトマスクの外側に向けて、前記第1の気流の方向と反対する方向の第2の気流を生じさせることを特徴とする近接露光装置。
- 前記露光用フォトマスクが前記被露光体に対し相対的に移動しながら連続的に露光をおこなうことを特徴とする請求項1記載の近接露光装置。
- 前記第2の気流の一部に渦流を含むことを特徴とする請求項1及び2に記載の露光装置。
- 前記気体が不活性ガスであることを特徴とする請求項1ないし3に記載の露光装置。
- 前記露光用フォトマスクの下面と前記被露光体の露光面との間隙に気体を供給し、この露光用フォトマスクの下面の、一方の端側から他方の端側に向けて、第1の気流を生じさせるとともに、前記一方の端側から、このマスクの外側に向けて、前記第1の気流の方向と反対する方向の第2の気流を生じさせ、且つ、前記他方の端側から、第1の気流の気体を吸引することを特徴とする近接露光装置。
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