JP2007305815A - 半導体集積回路装置の製造方法 - Google Patents

半導体集積回路装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】コーナー部にも良好なフィレットを形成できる半導体集積回路装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分7a,7b,7c,7dに比べて前記コーナー部に対応した部分が突出した凸部8a,8b,8c,8dが形成された平面形状の封止樹脂材5を、半導体素子1と配線基板2の間に介装して熱圧着することにより、軟化した封止樹脂材5が半導体素子1の外側に押し広げられ、フィレットが形成される。
【選択図】図1

Description

本発明はフリップチップ実装タイプの半導体集積回路装置の製造方法に関するものである。
フリップチップ実装タイプの半導体装置は図5(a)〜(c)に示すように構成されている。
半導体素子1を配線基板2に実装したこの種の半導体装置は、半導体素子1の裏面に形成された外部接続用の突起電極3が、配線基板2の上に形成された基板電極4に当設し、半導体素子1と配線基板2の間には硬化した封止樹脂材5が設けられている。封止樹脂材5は半導体素子1が配線基板2の実装位置から移動しないように固定する役目と、突起電極3と基板電極4との接触部を封止して良好な電気接続状態を維持する役目を果たしている。
実装の工程は図6(a)〜(d)のように実施されている。
ここで使用されている熱可塑性の封止樹脂材5のシートの形状は、図6(a)に示す平面図のような矩形であって、このシート状の封止樹脂材5を、図6(b)に示すように、配線基板2の基板電極4の上に貼り付ける。次に図6(c)に示すように、半導体素子1を、この半導体素子1の突起電極3が形成されている裏面を配線基板2の側に向けて、封止樹脂材5の上に配置し、熱をかけながら半導体素子1を配線基板2の側に押し付けると、封止樹脂材5が軟化して図5(b)に示すように半導体素子1の外側に流動する。このとき、半導体素子1の突起電極3と配線基板2の基板電極4とが当設して導通する。この状態で、温度を下げて封止樹脂材5を硬化させると、図6(d)に示すように配線基板2における半導体素子1の位置が、硬化した封止樹脂材5によって固定されて実装が完了する。
特開2001−358175公報(図1) 特開2002−134559公報(図1)
図5(b)は図5(a)のA−A断面図、図5(c)は図5(a)のB−B断面図を示しているが、平面形状が矩形の半導体素子1の場合には、4つの辺1a,1b,1c,1dから外側へは封止樹脂材5の十分な量の流出が発生して、硬化した封止樹脂材5によって半導体素子1を配線基板2に十分な接合力で係止できる。しかし、図5(c)に示すように半導体素子1のコーナー部6への封止樹脂材5の流出の不足のために、硬化した封止樹脂材5による良好なフィレットが形成されない。
これは、半導体素子1の薄型化などのために、図7に示すように半導体素子1に反りが発生した場合には、突起電極3と基板電極4との導通の不良が発生する。
なお、(特許文献1)には、中央部での接合力の不足を改善することを目的として、接合材料が不均一にはみ出すことを規制するために、半導体回路素子1の突起電極配列の大きな隙間にダミーの突起電極としての接合材料流動規制部材3を設けて接合材料の分布の均一化を図ることが記載されており、(特許文献2)には、中央部での接合力の不足を改善することを目的として、接合材料が不均一にはみ出すことを規制するために、配線基板としての回路形成体6−1の側に接合材料流動規制部材303を設けて接合材料の分布の均一化を図ることが記載されている。しかし、このように構成しても、図5(c)に示したようなコーナー部6に良好なフィレットを形成できない。
本発明はコーナー部にも良好なフィレットを形成できる半導体集積回路装置を提供することを目的とする。
本発明の請求項1記載の半導体集積回路装置の製造方法は、半導体素子を配線基板にフリップチップ実装し、半導体素子と配線基板の間に介在する封止樹脂材によって半導体素子を配線基板に係止した半導体集積回路装置を形成するに際し、半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べて前記コーナー部に対応した部分が突出した凸部が形成された平面形状の前記封止樹脂材を、前記半導体素子と配線基板の間に介装して熱圧着することを特徴とする。
本発明の請求項2記載の半導体集積回路装置の製造方法は、半導体素子を配線基板にフリップチップ実装し、半導体素子と配線基板の間に介在する封止樹脂材によって半導体素子を配線基板に係止した半導体集積回路装置を形成するに際し、半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べて前記コーナー部に対応した部分が厚く形成された立体形状の前記封止樹脂材を、前記半導体素子と配線基板の間に介装して熱圧着することを特徴とする。
本発明の請求項3記載の半導体集積回路装置の製造方法は、封止樹脂材が非導電性熱可塑性樹脂材または異方導電性の熱可塑性樹脂材であることを特徴とする。
この構成によると、半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べてコーナー部に対応した部分が突出した凸部が形成された平面形状の前記封止樹脂材、または半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べてコーナー部に対応した部分が厚く形成された立体形状の前記封止樹脂材を使用して、半導体素子を配線基板にフリップチップ実装するので、半導体素子のコーナー部においても良好なフィレットを形成できる。
以下、本発明の各実施の形態を図1〜図4に基づいて説明する。
(実施の形態1)
図1と図2は本発明の(実施の形態1)を示す。
図1(a)(b)は半導体集積回路装置の実装に使用する封止樹脂材5の平面図と側面図を示し、図2(a)〜(c)は、この封止樹脂材5を使用して半導体素子1を配線基板2にフリップチップ実装した半導体集積回路装置を示す。
封止樹脂材5として、従来では半導体素子1の外形と同じか一回り小さな図6(a)に示すような矩形のものが使用されているが、この(実施の形態1)では形状が異なる。
図1(a)は(実施の形態1)で使用する封止樹脂材5を示しており、その平面形状は、半導体素子1の各コーナー部6に接した辺1a,1b,1c,1dに対応した部分7a,7b,7c,7dに比べて、前記コーナー部6に対応した部分が突出した凸部8a,8b,8c,8dが形成されている。封止樹脂材5の平面形状と半導体素子1の平面形状との関係の一例を図2(a)に仮想線で示す。
図2(a)〜(c)は図1に示した封止樹脂材5を使用して実装した半導体集積回路装置を示している。実装工程は、従来とは形状が異なった封止樹脂材5を使用する他は従来と同じであって、半導体素子1の図2(a)に示した位置に仮想線で示した形状の封止樹脂材5を配置し、その上に半導体素子1の裏面を配線基板2の方に向けて配置し、加熱しながら半導体素子1を配線基板2に押し付けて熱圧着することによって、軟化した封止樹脂材5は半導体素子1の外側に押し広げられる。
ここで、軟化する前の封止樹脂材5の前記部分7a,7b,7c,7dが、軟化するとともに配線基板2が押し付けられたことによって図2(a)(b)に示すように良好なフィレットが形成される位置にまで流動した状態では、従来の矩形の封止樹脂材5では良好なフィレットを形成できなかった半導体素子1のコーナー部6の部分においても、この(実施の形態1)では凸部8a,8b,8c,8dが形成さた封止樹脂材5を使用しているため、図2(a)(c)に示すように良好なフィレットを形成できた。
このように、半導体素子1のコーナー部において従来よりも良好なフィレットを得ることができ、半導体素子1のコーナー部6を従来に比べて強固に配線基板2に係止することができ、半導体素子1の反りの防止に有効である。
(実施の形態2)
図3(a)(b)と図4は本発明の(実施の形態2)を示し、(実施の形態1)とは封止樹脂材5の形状が異なっている。つまり、半導体素子1のコーナー部6に接した辺1a,1b,1c,1dに対応した部分9a,9b,9c,9dに比べて、前記コーナー部6に対応した部分10a,10b,10c,10dが厚く形成されている。
このように構成した立体形状の封止樹脂材5を、図4に示すように、半導体素子1と配線基板2の間に介装して熱圧着することによって、図2(b)(c)と同様に、半導体素子1のコーナー部において従来よりも良好なフィレットを得ることができ、半導体素子1のコーナー部6を従来に比べて強固に配線基板2に係止することができ、半導体素子1の反りの防止に有効である。
上記の各実施の形態において封止樹脂材5は、非導電性の封止樹脂材であっても、導電異方性樹脂材であっても、実施できる。
半導体集積回路装置の高信頼性化に寄与できる。
本発明の(実施の形態1)に使用する封止樹脂材5の平面図と側面図 同実施の形態の半導体集積回路装置の平面図とそのA−A線とB−B線に沿う断面図 本発明の(実施の形態2)に使用する封止樹脂材5の平面図と側面図 同実施の形態の半導体集積回路装置の実装工程の要部の断面図 従来の半導体集積回路装置の平面図とそのA−A線とB−B線に沿う断面図 一般的な実装工程を示す断面図 半導体素子に反りが発生した場合の断面図
符号の説明
1 半導体素子
1a,1b,1c,1d 半導体素子1のコーナー部に接した辺
2 配線基板
3 突起電極
4 基板電極
5 封止樹脂材
6 半導体素子1のコーナー部
7a,7b,7c,7d 半導体素子1の辺1a,1b,1c,1dに対応した部分
8a,8b,8c,8d 半導体素子1のコーナー部に対応した凸部

Claims (3)

  1. 半導体素子を配線基板にフリップチップ実装し、半導体素子と配線基板の間に介在する封止樹脂材によって半導体素子を配線基板に係止した半導体集積回路装置を形成するに際し、
    半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べて前記コーナー部に対応した部分が突出した凸部が形成された平面形状の前記封止樹脂材を、前記半導体素子と配線基板の間に介装して熱圧着する
    半導体集積回路装置の製造方法。
  2. 半導体素子を配線基板にフリップチップ実装し、半導体素子と配線基板の間に介在する封止樹脂材によって半導体素子を配線基板に係止した半導体集積回路装置を形成するに際し、
    半導体素子のコーナー部に接した辺に対応した部分に比べて前記コーナー部に対応した部分が厚く形成された立体形状の前記封止樹脂材を、前記半導体素子と配線基板の間に介装して熱圧着する
    半導体集積回路装置の製造方法。
  3. 封止樹脂材が非導電性熱可塑性樹脂材または異方導電性の熱可塑性樹脂材である
    請求項1または請求項2記載の半導体集積回路装置の製造方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6112569A (ja) * 1984-06-29 1986-01-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 複写装置
JP2002198382A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd ボンディングペーストの転写装置および転写ピンならびにボンディングペーストの転写方法
JP2003188212A (ja) * 2001-10-11 2003-07-04 Dt Circuit Technology Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004087670A (ja) * 2002-08-26 2004-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 絶縁性封止樹脂のフィレット及び電子部品の装着方法
JP2007009022A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Sekisui Chem Co Ltd シート状接着剤、電子部品装置の製造方法及び電子部品装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6112569A (ja) * 1984-06-29 1986-01-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 複写装置
JP2002198382A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd ボンディングペーストの転写装置および転写ピンならびにボンディングペーストの転写方法
JP2003188212A (ja) * 2001-10-11 2003-07-04 Dt Circuit Technology Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004087670A (ja) * 2002-08-26 2004-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 絶縁性封止樹脂のフィレット及び電子部品の装着方法
JP2007009022A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Sekisui Chem Co Ltd シート状接着剤、電子部品装置の製造方法及び電子部品装置

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