JP2007292476A - 光学顕微鏡とx線分析装置の複合装置 - Google Patents
光学顕微鏡とx線分析装置の複合装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】光学顕微鏡の対物レンズと、X線分析装置のX線発生器とを、同一光軸上で切り換え自在とすることによって、光学顕微鏡によって検出した分析位置に対して、試料の移動、および試料の移動に伴う分析対象位置の位置合わせを行うことなく、同じ試料位置のままでX線発生器からの一次X線を照射し、試料から放出される特性X線を検出しX線分析する。複合装置1は、光学顕微鏡系2とX線分析系3とを備えると共に、光学顕微鏡系2とX線分析系3が共有する回転自在のレボルバ5を備える。
【選択図】図1
Description
辻幸一、斜出射条件X線分析−EPMAと蛍光X線への応用− ぶんせき、2,83−88(2003)
Claims (6)
- 試料ステージ側に向かってレーザ光を照射する光源と、対物レンズと、光学像を観察する光学像観察部とを有する光学顕微鏡装置と、
試料ステージ側に向かって一次X線を照射するX線発生器と、試料から発生する特性X線を検出するX線検出器とを有するX線分析装置と、
前記光学顕微鏡装置と前記X線分析装置が共有する回転自在のレボルバを備え、
前記レボルバに対して、前記対物レンズおよびX線発生器を、レボルバの回転により切り換え自在に設けたことを特徴とする、光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。 - 前記対物レンズおよびX線発生器を、前記レボルバの回転中心の同心円上において、同一回転位置において対物レンズの光軸とX線発生器の光軸とが一致する方向に設け、
前記対物レンズによるレーザ光の照射位置と、前記X線発生器による一次X線の照射位置とを一致させることを特徴とする、請求項1に記載の光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。 - 前記X線発生器は、焦電式X線発生装置と、当該焦電式X線発生装置が発生する一次X線を集光させるキャピラリレンズを備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載の光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。
- 前記X線発生器は、X線の射出部に微小径のスリットを備えることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一つに記載の光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。
- 前記X線検出器は、前記X線発生器から所定距離にある点を中心として回転自在であり、X線取り込み窓の前方位置に、微小径のスリット又はキャピラリレンズを備えることを特徴とする、請求項1に記載の光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。
- 前記X線検出器は、エネルギー分散型検出器であることを特徴とする、請求項1又は5のいずれか一つに記載の光学顕微鏡とX線分析装置の複合装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006117516A JP4650330B2 (ja) | 2006-04-21 | 2006-04-21 | 光学顕微鏡とx線分析装置の複合装置 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007292476A true JP2007292476A (ja) | 2007-11-08 |
JP4650330B2 JP4650330B2 (ja) | 2011-03-16 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4650330B2 (ja) |
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