JP2007290391A - ナノ粒子が充填されたステレオリソグラフィー樹脂 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1)表面に放射線硬化性液体組成物の薄層をコーティングする工程であって、組成物が、放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有してなる少なくとも一種類の充填剤を含むものである工程、2)薄層を化学線に画像様に露光して、画像状断面を形成する工程であって、化学線が、露光区域の薄層を実質的に硬化させるのに十分な強度のものである工程、3)先に露光された画像状断面上に組成物の薄層をコーティングする工程、4)工程(3)からの薄層を化学線に画像様に露光して、追加の画像状断面を形成する工程であって、化学線が、露光区域の薄層を実質的に硬化させ、先に露光された画像状断面に付着させるのに十分なものである工程、および5)三次元物品を構築するために十分な回数だけ工程(3)および(4)を繰り返す工程、を有してなる方法。
【選択図】なし
Description
1) 表面に液体の放射線硬化性組成物の薄層をコーティングする工程であって、組成物が、放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有してなる少なくとも一種類の充填剤を含むものである工程、
2) 薄層を化学線に画像様に露光して、画像状断面を形成する工程であって、化学線が、露光区域の薄層を実質的に硬化させるのに十分な強度のものである工程、
3) 先に露光された画像状断面上に組成物の薄層をコーティングする工程、
4) 工程(3)からの薄層を化学線に画像様に露光して、追加の画像状断面を形成する工程であって、化学線が、露光区域の薄層を実質的に硬化させ、先に露光された画像状断面に付着させるのに十分なものである工程、および
5) 三次元物品を形成するために十分な回数だけ工程(3)および(4)を繰り返す工程、
を有してなる方法に関する。
(a) 少なくとも一種類のフリーラジカル重合性有機物質、
(b) 少なくとも一種類のフリーラジカル重合開始剤、
(c) 放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有してなる少なくとも一種類の充填剤、
(d) 随意的な、少なくとも一種類のカチオン重合性有機物質、
(e) 随意的な、少なくとも一種類のカチオン重合開始剤、
(f) 随意的な、少なくとも一種類のヒドロキシル官能性化合物、および
(g) 随意的な、少なくとも一種類のマイクロ粒子充填剤、
を有してなる放射線硬化性組成物を使用することが好ましい。
(a) 少なくとも一種類のフリーラジカル重合性有機物質、
(b) 少なくとも一種類のフリーラジカル重合開始剤、
(c) 放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有してなる少なくとも一種類の充填剤、
(d) 少なくとも一種類のカチオン重合性有機物質、
(e) 少なくとも一種類のカチオン重合開始剤、
(f) 随意的な、少なくとも一種類のヒドロキシル官能性化合物、および
(g) 随意的な、少なくとも一種類のマイクロ粒子充填剤、
を有してなる放射線硬化性組成物に関する。
フリーラジカル硬化性成分は、少なくとも一種類の固体または液体のポリ(メタ)アクリレート、例えば、一、二、三、四または五官能性のモノマーまたはオリゴマーである脂肪族、脂環式または芳香族アクリレートまたはメタクリレートおよびそれらの混合物を有してなることが好ましい。この化合物は約100から約500の分子量を有することが好ましい。
本発明による組成物において、適切な照射が行われたときにフリーラジカルを形成するどのようなタイプの光開始剤を用いても差し支えない。公知の光開始剤の典型的な化合物としては、ベンゾインなどのベンゾイン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル類;ベンゾインアセテート;アセトフェノン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、4−(フェニルチオ)アセトフェノン、および1,1−ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン類;ベンジル;ベンジルジメチルケタール、およびベンジルジエチルケタールなどのベンジルケタール類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、および2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類;トリフェニルホスフィン;例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(Lucirin(登録商標)TPO)などのベンゾイルホスフィンオキシド類;ベンゾフェノン、および4,4’−ビス(N,N’−ジメチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;チオキサントン類およびキサントン類;アクリジン誘導体;フェナゼン誘導体;キノキサリン誘導体または1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−O−ベンゾイルオキシム;1−アミノフェニルケトン類または1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、フェニル(1−ヒドロキシイソプロピル)ケトンおよび4−イソプロピルフェニル(1−ヒドロキシイソプロピル)ケトンなどの1−ヒドロキシフェニルケトン類;またはトリアジン化合物、例えば、4’−メチルチオフェニル−1−ジ(トリクロロメチル)−3,5S−トリアジン、S−トリアジン−2−(スチルベン)−4,6−ビス−トリクロロメチル、およびパラメトキシスチリルトリアジンが挙げられる。これらの全ては公知の化合物である。
どのようなシリカタイプ(すなわち二酸化ケイ素タイプ)のナノ粒子を本発明に用いても差し支えない。好ましいシリカタイプのナノ粒子は、独国ゲースサシュト(Geesthacht)所在のハンス・ケミー社から市販されている。好ましいハンス・ケミー社のシリカタイプのナノ粒子製品が、エポキシ樹脂または(メタ)アクリレート樹脂中に予め懸濁される。最も好ましいハンス・ケミー社の製品は、Nanopox XP22/0314(40重量%のナノ・シリカを含有する3,4−エポキシシクロヘキシル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、Nanocryl XP21/0768(50重量%のナノ・シリカを含有するヘキサンジオールジアクリレート)、Nanocryl XP21/0687(50重量%のナノ・シリカを含有する脂肪族ウレタンジアクリレート)、Nanocryl XP21/0765(50重量%のナノ・シリカを含有する環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート)、Nanocryl XP21/0746(50重量%のナノ・シリカを含有するヒドロキシメチルメタクリレート)、Nanocryl XP21/1045(50重量%のナノ・シリカを含有するトリメチロールプロパントリアクリレート)およびNanocryl XP21/0930(50重量%のナノ・シリカを含有するポリエステルテトラアクリレート)である。これらの製品中に懸濁された二酸化ケイ素・ナノ粒子は、約10から約50nmの非常に狭い粒径分布を持ち、凝集せず、表面修飾されている。
カチオン重合性化合物は、手っ取り早く、脂肪族、脂環式または芳香族のポリグリシジル化合物または脂環式ポリエポキシドまたはエポキシクレゾールノボラックまたはエポキシフェノールノボラック化合物であってよく、分子中に平均で1つより多くのエポキシド基(オキシラン環)を有する。そのような樹脂は、脂肪族、芳香族、脂環式、芳香脂肪族または複素環構造を持っていてもよく、それらの樹脂は、エポキシド基または側基を含有するもしくはこれらの基が脂環式複素環の環系の一部を形成する。これらのタイプのエポキシ樹脂は、一般に知られており、市販されている。
本発明によるある組成物において、化学線に露光した際に、エポキシ材料の反応開始させるカチオンを形成する、どのようなタイプの光カチオン重合開始剤を必要に応じて用いても差し支えない。エポキシ樹脂のための適切な光カチオン重合開始剤が、数多く知られており、技術的に実証されている。それらには、例えば、求核性の弱い陰イオンを持つオニウム塩が含まれる。例としては、欧州特許出願公開第153904号明細書に記載されているものなどのハロニウム塩、ヨードシル塩またはスルホニウム塩;例えば、欧州特許出願公開第35969号、同第44274号、同第54509号、および同第164314号の各明細書に記載されているものなどのスルホキソニウム塩;または米国特許第3708296号および同第5002856号の各明細書に記載されているものなどのジアゾニウム塩が挙げられる。他の光カチオン重合開始剤としては、例えば、欧州特許出願公開第94914号および同第94915号の各明細書に記載されているものなどのメタロセン塩が挙げられる。他の好ましい光カチオン重合開始剤が、米国特許第5972563号(スタインマン(Steinmann)等)、同第6100007号(パン(Pang)等)、および同第6136497号(メリサリス(Melisaris)等)の各明細書に記載されている。
これらの随意的なヒドロキシル官能性化合物は、少なくとも1、好ましくは、少なくとも2のヒドロキシル官能性を持つ任意の有機材料であってよい。この材料は、液体もしくは残りの成分中に可溶性または分散性である固体であってよい。材料は、硬化反応を阻害するどのような基も、もしくは熱的または光分解的に不安定であるどのような基も実質的に含まない。
重要なシリカタイプのナノ粒子以外に、本発明の組成物は、必要に応じて、ステレオリソグラフィー樹脂組成物に以前に用いられた他の従来のマイクロ充填剤材料を含有してもよい。
本発明によるステレオリソグラフィー用途の樹脂組成物は、本発明の効果が悪影響を受けない限り、適切な量で他の材料を含有してもよい。そのような材料の例としては、上述したカチオン重合性有機物質以外のラジカル重合性有機物質;感熱性重合開始剤;顔料や染料などの着色剤、消泡剤、均展剤、増粘剤、難燃剤および酸化防止剤などの樹脂の様々な添加剤が挙げられる。
新規の組成物は、例えば、個々の成分を予備混合し、次いで、これらの予備混合物を混合することにより、または光のない状態で、所望であれば、わずかに高い温度で、撹拌容器などの通常の装置を用いて成分の全てを混合することにより、公知の様式で調製できる。
(a) 少なくとも一種類の一、二、三、四または五官能性モノマーまたはオリゴマー脂肪族、脂環式または芳香族(メタ)アクリレート、
(b) 少なくとも一種類のフリーラジカル重合開始剤、
(c) 組成物中に懸濁されたシリカ・ナノ粒子を含む少なくとも一種類の充填剤、
(d) 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ−シクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、少なくとも一種類のカチオン重合性有機物質、
(e) 少なくとも一種類のヒドロキシル官能性化合物、および
(f) 少なくとも一種類のマイクロ粒子充填剤、
を有してなる。
新規の組成物は、例えば、電子ビーム、X線、紫外線、可視光、による、化学線の照射により重合させることができ、従来のステレオリソグラフィー装置における260〜650nmの波長範囲の照射線が好ましい。HdCdレーザ、アルゴンまたは窒素レーザ、金属蒸気レーザおよびNdYAGレーザのレーザビームが特に適している。本発明は、既存のまたはステレオリソグラフィー法に使用すべく開発中の様々なタイプのレーザ、例えば、固体レーザ、アルゴン・イオン・レーザ、ヘリウム・カドミウム・レーザなどの全てに拡大適用される。当業者には、各選択された光源について、適切な光開始剤を選択し、適切な場合、増感を行うことも必要であることが分かる。重合すべき組成物中への放射線の貫通深さ、および動作速度は、光開始剤の濃度および吸収係数に正比例することが認識されている。ステレオリソグラフィーにおいて、フリーラジカルまたはカチオン粒子を最も数多く形成する光開始剤を用いることが好ましい。
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
Nanocryl XP 21/0687 50
Nanocryl XP 21/0765 20
Nanocryl XP 21/1045 24
Irgacure I-184 4
Lucirin TPO 2
100
合計充填剤濃度 47%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 47%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 0%
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
UVR 6110 27
Araldite DY-T 10
Voranol CP 450 6
UVI 6974 4
Irgacure I-184 3
XP 21/0930 50
100
合計充填剤濃度 25%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 25%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 0%
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
Nanopox XP 22/0314 53
Voranol CP 450 5
UVI 6974 4
Irgacure 184 2
Nanocryl XP 21/0768 36
100
合計充填剤濃度 39%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 39%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 0%
粘度が500cpsの透明な溶液が得られた。
8時間以上に亘り110℃で溶液を加熱しても、粘度も透明度も変わらなかった。
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
Nanopox XP 22/0314 35.34
Voranol CP 450 3.33
Nanocryl XP 21/0768 24
UVI-6974 2.67
Irgacure I-184 1.33
Silbond 600 MST 33.33
100
合計充填剤濃度 59.3%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 26.0%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 33.3%
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
Nanopox XP 22/0314 26.5
Voranol CP 450 2.5
Nanocryl XP 21/0768 18
UVI-6974 2
Irgacure I-184 1
Silbond 600 MST 50
100
合計充填剤濃度 69.5%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 19.5%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 50.0%
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
Nanopox XP 22/0314 27.9
Voranol CP 450 2.63
Nanocryl XP 21/0768 18.95
UVI-6974 2.1
Irgacure I-184 1.05
Silbond 600 MST 47.37
100
合計充填剤濃度 68.0%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 20.64%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 47.37%
以下の成分を混合して、均一な液体組成物を製造した。
UVAcure 1500 21.73
Araldite DY-T 13.5
TMP 0.9
Sartomer 399 2.83
Ebercryl 3700 2.66
UVI-6974 2.25
Irgacure I-184 1.13
Silbond 600 MST 55.0
100
合計充填剤濃度 55%
充填剤濃縮物−ナノ粒子 0%
充填剤濃縮物−マイクロ粒子 55%
Claims (21)
- ステレオリソグラフィーにより三次元物品を形成する方法であって、該方法が、
(1)表面に液体の放射線硬化性組成物の薄層をコーティングする工程であって、前記組成物が、前記放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有する少なくとも一種類の充填剤を含む工程、
(2)前記薄層を化学線に画像様に露光して、画像状断面を形成する工程であって、前記化学線が、露光区域の前記薄層を実質的に硬化させるのに十分な強度のものである工程、
(3)先に露光された前記画像状断面上に前記組成物の薄層をコーティングする工程、
(4)工程(3)からの前記薄層を化学線に画像様に露光して、追加の画像状断面を形成する工程であって、前記化学線が、露光区域の前記薄層を実質的に硬化させ、先に露光された前記画像状断面に付着させるのに十分なものである工程、および
(5)三次元物品を形成するために十分な回数だけ工程(3)および(4)を繰り返す工程、
を有することを特徴とする方法。 - 前記放射線硬化性組成物が、
(a)少なくとも一種類のフリーラジカル重合性有機物質、
(b)少なくとも一種類のフリーラジカル重合開始剤、
(c)前記放射線硬化性組成物中に懸濁されたシリカタイプのナノ粒子を有する少なくとも一種類の充填剤、
(d) 随意的な、少なくとも一種類のカチオン重合性有機物質、
(e) 随意的な、少なくとも一種類のカチオン重合開始剤、
(f) 随意的な、少なくとも一種類のヒドロキシル官能性化合物、および
(g) 随意的な、少なくとも一種類のマイクロ粒子充填剤、
を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記成分(a)が、少なくとも一種類の一、二、三、四、または五官能性であるモノマーまたはオリゴマー脂肪族、脂環式または芳香族(メタ)アクリレートであることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(a)が、一、二、または三官能性である芳香族(メタ)アクリレート化合物を有してなる少なくとも一種類の(メタ)アクリレートであることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(a)が、一官能性脂肪族(メタ)アクリレート化合物を有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(a)が、二官能性脂肪族(メタ)アクリレート化合物もしくは五官能性モノマーまたはオリゴマー脂肪族、脂環式、または芳香族(メタ)アクリレート化合物を有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(a)が、ウレタン(メタ)アクリレートを有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(a)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の5重量%から70重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(b)が、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンまたは2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドもしくはそれらの混合物であることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(b)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の0.1重量%から7重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(c)のナノ粒子が、球状であり、10から50ナノメートルの粒径分布を持ち、凝集しておらず、表面修飾されていることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(c)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の15重量%から60重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(d)が、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(d)が、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルを有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(d)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の10重量%から40重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(e)が、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートであることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(e)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の0.1重量%から8重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 少なくとも一種類の(f)ヒドロキシル官能性化合物をさらに含むことを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記成分(f)が、トリメチロールプロパンであることを特徴とする請求項18記載の方法。
- 前記成分(f)が、前記液体の放射線硬化性組成物全体の1重量%から10重量%を構成することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記組成物が、
(a)少なくとも一種類の一、二、三、四または五官能性モノマーまたはオリゴマー脂肪族、脂環式または芳香族(メタ)アクリレート、
(b)少なくとも一種類のフリーラジカル重合開始剤、
(c)前記組成物中に懸濁されたシリカナノ粒子を含む少なくとも一種類の充填剤、
(d)3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ−シクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、少なくとも一種類のカチオン重合性有機物質、
(e)少なくとも一種類のカチオン重合開始剤、
(f)少なくとも一種類のヒドロキシル官能性化合物、および
(g)少なくとも一種類のマイクロ粒子充填剤、
を有してなることを特徴とする請求項2記載の方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20050256240A1 (en) * | 2002-10-04 | 2005-11-17 | Rensselaer Polytechnic Institute | Nanometric composites as improved dielectric structures |
US20050101684A1 (en) * | 2003-11-06 | 2005-05-12 | Xiaorong You | Curable compositions and rapid prototyping process using the same |
KR20060108660A (ko) * | 2003-11-06 | 2006-10-18 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 경화성 조성물 및 이를 사용하는 급속 조형법 |
JP4692092B2 (ja) * | 2005-06-17 | 2011-06-01 | Jsr株式会社 | 光造形用光硬化性液状組成物、立体造形物及びその製造方法 |
US20070134596A1 (en) * | 2005-12-08 | 2007-06-14 | Adrian Lungu | Photosensitive printing element having nanoparticles and method for preparing the printing element |
US7723404B2 (en) * | 2006-04-06 | 2010-05-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Abrasion resistant coating compositions and coated articles |
US8043787B2 (en) * | 2008-03-14 | 2011-10-25 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance |
KR20110104532A (ko) | 2008-12-22 | 2011-09-22 | 네덜란제 오르가니자티에 포오르 토에게파스트-나투우르베텐샤펠리즈크 온데르조에크 테엔오 | 3차원 물체의 층단위 생산을 위한 장치 및 방법 |
US8678805B2 (en) | 2008-12-22 | 2014-03-25 | Dsm Ip Assets Bv | System and method for layerwise production of a tangible object |
US8777602B2 (en) | 2008-12-22 | 2014-07-15 | Nederlandse Organisatie Voor Tobgepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Method and apparatus for layerwise production of a 3D object |
WO2011075553A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Dsm Ip Assets, B.V. | Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator |
EP2436510A1 (en) * | 2010-10-04 | 2012-04-04 | 3D Systems, Inc. | System and resin for rapid prototyping |
US9335027B2 (en) | 2013-01-02 | 2016-05-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus for transparent display using scattering nanoparticles |
JP5576545B1 (ja) * | 2013-03-11 | 2014-08-20 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルムおよび硬化物、並びにそれらを用いて形成された硬化皮膜を有するプリント配線板 |
JP6056032B2 (ja) | 2013-11-05 | 2017-01-11 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 付加造形用の安定化マトリックス充填液状放射線硬化性樹脂組成物 |
US9944526B2 (en) | 2015-05-13 | 2018-04-17 | Honeywell International Inc. | Carbon fiber preforms |
US10131113B2 (en) | 2015-05-13 | 2018-11-20 | Honeywell International Inc. | Multilayered carbon-carbon composite |
US10302163B2 (en) | 2015-05-13 | 2019-05-28 | Honeywell International Inc. | Carbon-carbon composite component with antioxidant coating |
MY188498A (en) * | 2015-06-16 | 2021-12-16 | Huntsman Adv Mat Switzerland | Epoxy resin composition |
US10035305B2 (en) | 2015-06-30 | 2018-07-31 | Honeywell International Inc. | Method of making carbon fiber preforms |
US10022890B2 (en) | 2015-09-15 | 2018-07-17 | Honeywell International Inc. | In situ carbonization of a resin to form a carbon-carbon composite |
US10300631B2 (en) | 2015-11-30 | 2019-05-28 | Honeywell International Inc. | Carbon fiber preforms |
WO2017173289A2 (en) | 2016-04-01 | 2017-10-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus, systems, and methods of transparent displays |
JP7050411B2 (ja) * | 2016-08-31 | 2022-04-08 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法 |
GB2566091B (en) * | 2017-09-04 | 2023-03-29 | Univ Limerick | Formulation for 3D printing and a 3D printed article |
WO2019059183A1 (ja) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | コニカミノルタ株式会社 | 樹脂組成物、およびこれを用いた立体造形物の製造方法、ならびに立体造形物 |
TWI692502B (zh) | 2017-12-29 | 2020-05-01 | 法商阿科瑪法國公司 | 可固化組成物 |
KR20200104368A (ko) * | 2017-12-29 | 2020-09-03 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 적층 제작을 위한 조성물 및 물품, 및 이의 사용 방법 |
CN108485183B (zh) * | 2018-02-11 | 2020-11-24 | 东莞爱的合成材料科技有限公司 | 一种可用于临床医学的高韧性透明光敏树脂及其制备方法 |
US11912860B2 (en) | 2018-03-29 | 2024-02-27 | Corning Incorporated | Highly loaded inorganic filled organic resin systems |
US11148320B1 (en) * | 2018-04-27 | 2021-10-19 | Dynamic Material Systems, LLC | Inorganic polymers and compositions for improved 3D printing of larger scale ceramic materials and components |
IT202000014725A1 (it) * | 2020-06-19 | 2021-12-19 | Mat3D S R L | Composizione di resine foto-polimerizzabili, metodo di fabbricazione di un manufatto impiegante la stessa e manufatto cosi’ ottenuto |
JP2023535069A (ja) | 2020-07-24 | 2023-08-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Uv-led硬化用の、チオール系架橋剤を有する量子ドット調製物 |
US11646397B2 (en) | 2020-08-28 | 2023-05-09 | Applied Materials, Inc. | Chelating agents for quantum dot precursor materials in color conversion layers for micro-LEDs |
US11404612B2 (en) | 2020-08-28 | 2022-08-02 | Applied Materials, Inc. | LED device having blue photoluminescent material and red/green quantum dots |
US11942576B2 (en) | 2020-08-28 | 2024-03-26 | Applied Materials, Inc. | Blue color converter for micro LEDs |
EP4151337A3 (en) | 2021-08-27 | 2023-05-31 | General Electric Company | Method of edge printing for use in additive manufacturing processes |
WO2024068708A1 (en) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | Basf Se | Radiation-curable resin composition used for manufacturing three-dimensional mold |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280422A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-20 | Asahi Denka Kogyo Kk | 樹脂の光学的造形方法 |
JPH02145616A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-06-05 | Desoto Inc | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
JPH0987513A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-03-31 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 光学的立体造形用光硬化性液状組成物 |
JPH1087810A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物および樹脂製型の製造方法 |
JP2001511424A (ja) * | 1997-07-21 | 2001-08-14 | バンティコ アクチエンゲゼルシャフト | 沈降が安定化された輻射線硬化性の充填組成物 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3708296A (en) * | 1968-08-20 | 1973-01-02 | American Can Co | Photopolymerization of epoxy monomers |
US4772530A (en) * | 1986-05-06 | 1988-09-20 | The Mead Corporation | Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators |
US4772541A (en) * | 1985-11-20 | 1988-09-20 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
US4751102A (en) * | 1987-07-27 | 1988-06-14 | The Mead Corporation | Radiation-curable ink and coating compositions containing ionic dye compounds as initiators |
US5434196A (en) * | 1988-02-19 | 1995-07-18 | Asahi Denka Kogyo K.K. | Resin composition for optical molding |
US5002856A (en) * | 1989-08-02 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thermally stable carbazole diazonium salts as sources of photo-initiated strong acid |
FR2689876B1 (fr) * | 1992-04-08 | 1994-09-02 | Hoechst France | Dispersions silico-acryliques, leur procédé d'obtention, leur application en stéréophotolithographie et procédé de préparation d'objets en résine. |
US5418112A (en) * | 1993-11-10 | 1995-05-23 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photosensitive compositions useful in three-dimensional part-building and having improved photospeed |
JPH08183820A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 光学的立体造形用樹脂及び光学的立体造形用樹脂組成物 |
DE59701299D1 (de) * | 1996-07-29 | 2000-04-27 | Ciba Sc Holding Ag | Flüssige, strahlungshärtbare Zusammensetzung, insbesondere für die Stereolithographie |
JPH1087963A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 樹脂組成物および繊維質材料成形型 |
JP4016409B2 (ja) * | 1997-12-12 | 2007-12-05 | Jsr株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物 |
US6136497A (en) * | 1998-03-30 | 2000-10-24 | Vantico, Inc. | Liquid, radiation-curable composition, especially for producing flexible cured articles by stereolithography |
US6100007A (en) * | 1998-04-06 | 2000-08-08 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Liquid radiation-curable composition especially for producing cured articles by stereolithography having high heat deflection temperatures |
US20030207959A1 (en) * | 2000-03-13 | 2003-11-06 | Eduardo Napadensky | Compositions and methods for use in three dimensional model printing |
JP2002064276A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 光又は熱硬化性樹脂組成物及び多層プリント配線基板 |
US20030149124A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-08-07 | Thommes Glen A. | Radiation curable resin composition for making colored three dimensional objects |
-
2003
- 2003-08-19 US US10/644,299 patent/US20050040562A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-06-25 JP JP2004187526A patent/JP3971412B2/ja active Active
- 2004-07-02 EP EP04254005.4A patent/EP1508834B1/en active Active
-
2006
- 2006-07-17 US US11/457,898 patent/US20060267252A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007092341A patent/JP2007290391A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0280422A (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-20 | Asahi Denka Kogyo Kk | 樹脂の光学的造形方法 |
JPH02145616A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-06-05 | Desoto Inc | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
JPH0987513A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-03-31 | Takemoto Oil & Fat Co Ltd | 光学的立体造形用光硬化性液状組成物 |
JPH1087810A (ja) * | 1996-09-20 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物および樹脂製型の製造方法 |
JP2001511424A (ja) * | 1997-07-21 | 2001-08-14 | バンティコ アクチエンゲゼルシャフト | 沈降が安定化された輻射線硬化性の充填組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010265408A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Cmet Inc | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
JP2013151703A (ja) * | 2013-05-01 | 2013-08-08 | Cmet Inc | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060267252A1 (en) | 2006-11-30 |
JP3971412B2 (ja) | 2007-09-05 |
EP1508834A2 (en) | 2005-02-23 |
US20050040562A1 (en) | 2005-02-24 |
JP2005060673A (ja) | 2005-03-10 |
EP1508834A3 (en) | 2006-05-17 |
EP1508834B1 (en) | 2016-04-06 |
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