JP2007290364A - Continuous manufacturing method of resin substrate and resin substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂基板の連続的製造方法に関し、更に詳しくは、平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板の、経済的価値の非常に高い連続的製造方法に関するものである。 The present invention relates to a continuous manufacturing method of a resin substrate, and more particularly to a continuous manufacturing method of a resin substrate having a flat and smooth surface and having very high economic value.
近年、ガラスに替わり、透明な樹脂基板が、液晶、有機ＥＬ、タッチパネルなどのディスプレイ基板、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やプロジェクターに使用される光学フィルターの基材、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に利用されている。
これらの用途においては、透明樹脂基板の平坦性と表面平滑性が非常に重要であり、デバイスの性能に大きく影響することになる。例えば、平坦性が低くうねりが生ずると、デバイスに変形が生じて耐久性が低下することになり、また、表面平滑性が低く表面が荒れていると、ディスプレイの精細性やフィルターの光学性能が低下することとなる。
In recent years, instead of glass, transparent resin substrates such as liquid crystal, organic EL, touch panel display substrates, plasma display panels (PDP) and optical filter substrates used in projectors, optical communication materials, solar cell substrates, etc. It is used for various purposes.
In these applications, the flatness and surface smoothness of the transparent resin substrate are very important and greatly affect the performance of the device. For example, if the flatness is low and waviness occurs, the device will be deformed and the durability will be lowered.If the surface smoothness is low and the surface is rough, the fineness of the display and the optical performance of the filter will be reduced. Will be reduced.
そしてこのような透明樹脂基板を製造するに当たっては、移送される下部支持フィルム上に光硬化性組成物を供給し、その上に下部支持フィルムと同速度で同一方向に移送される上部支持フィルムを積層し、次いで、光硬化性組成物に紫外線などの活性エネルギー線を照射して硬化させた後に、両支持フィルムを剥離する方法により、連続的に製造することが出来る（例えば特許文献１）。通常、上記の支持フィルムにはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの透明フィルムが使用される。
しかしながら、上記特許文献１に記載の連続的製造方法においては、透明樹脂基板の表面は支持フィルムの表面を転写することになるため、使用される支持フィルムには、高度な平坦性と平滑性が要求されることとなり、一般的に、この様な支持フィルム、例えばＰＥＴフィルムは非常に高価であるため、安価に透明樹脂基板を製造することができなかった。 However, in the continuous production method described in Patent Document 1, since the surface of the transparent resin substrate transfers the surface of the support film, the support film used has high flatness and smoothness. In general, such a support film, for example, a PET film is very expensive, and thus a transparent resin substrate cannot be produced at a low cost.
更に、支持フィルムの諸物性、例えば、光線透過率、耐熱性、耐光性、機械特性、及び耐溶剤性などの諸物性は、基板の連続光成形に大きく影響するものである。例えば、支持フィルムの光線透過率が低い場合には、基板の光硬化が十分に進まず、特に、（メタ）アクリレート系の原料を使用する場合は、（メタ）アクリロイル基の反応率が低下し、デバイス化工程やデバイス使用時に基板が変形することになる。また、支持フィルムの耐熱性が低い場合には、基板の光硬化に伴う重合発熱や活性エネルギー線の輻射熱により支持フィルムが変形し、平坦な表面を有する基板が製造できないといった問題が生じる。更に、支持フィルムの耐光性が低い場合には、活性エネルギー線照射により支持フィルムが黄変し、光硬化性組成物を硬化するに十分な光線透過率を確保できないものとなる。支持フィルムの曲げ弾性率などの機械特性が劣る場合には、基板の厚み精度が確保できなくなる。また、基板用の光硬化性組成物に対して溶解する場合では、型としての適性に欠けることとなる。そして、基板を経済的に製造するにあたっては、支持フィルムは繰り返し使用できることが好ましいのであるが、耐熱性や耐光性に劣るＰＥＴフィルムでは再使用が困難であるというのが実情である。 Furthermore, various physical properties of the support film, for example, various physical properties such as light transmittance, heat resistance, light resistance, mechanical properties, and solvent resistance greatly affect the continuous photoforming of the substrate. For example, when the light transmittance of the support film is low, the photocuring of the substrate does not proceed sufficiently. In particular, when a (meth) acrylate-based raw material is used, the reaction rate of the (meth) acryloyl group decreases. Then, the substrate is deformed during the device fabrication process or during device use. Further, when the heat resistance of the support film is low, there arises a problem that the support film is deformed by the polymerization heat generated by photocuring of the substrate or the radiant heat of the active energy ray, and a substrate having a flat surface cannot be produced. Furthermore, when the light resistance of the support film is low, the support film is yellowed by irradiation with active energy rays, and a light transmittance sufficient to cure the photocurable composition cannot be ensured. When the mechanical properties such as the flexural modulus of the support film are inferior, the thickness accuracy of the substrate cannot be secured. Moreover, when it melt | dissolves with respect to the photocurable composition for substrates, it will lack the suitability as a type | mold. And when manufacturing a board | substrate economically, it is preferable that a support film can be repeatedly used, but the reality is that reuse is difficult with PET film inferior to heat resistance and light resistance.
そこで、本発明ではこのような背景下において、支持フィルムの再利用が可能であり、平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板を安価に製造することができる連続的製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, in the present invention, it is an object of the present invention to provide a continuous production method capable of reusing a support film and producing a resin substrate having a flat and smooth surface at low cost under such a background. To do.
しかるに、本発明者はかかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、支持フィルムとして光硬化性組成物を硬化してなる樹脂フィルムを用いることにより、支持フィルムの再利用が可能で、かつ樹脂基板を製造する際に支持フィルムに要求される諸物性に優れ、平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板を安価に製造することができることを見出し、本発明を完成した。
更に、支持フィルムに用いる光硬化性組成物と、樹脂基板に用いる光硬化性組成物とを同種、特に同一の組成物を用いることにより、微量不純物の混入などが防止でき樹脂基板の高品質化が図られることとなる。
However, as a result of intensive studies in view of such circumstances, the present inventor has made it possible to reuse the support film by using a resin film obtained by curing a photocurable composition as the support film, and to form a resin substrate. The present invention was completed by finding that a resin substrate having excellent physical properties required for a support film during production and having a flat and smooth surface can be produced at low cost.
Furthermore, the photo-curable composition used for the support film and the photo-curable composition used for the resin substrate are the same type, particularly by using the same composition, thereby preventing the entry of trace impurities and improving the quality of the resin substrate. Will be achieved.
すなわち、本発明の要旨は、移送される下部支持フィルム上に光硬化性組成物［Ｉ］を供給する工程、その光硬化性組成物［Ｉ］上に、下部支持フィルムと同一方向に移送される上部支持フィルムを積層する工程、及び光硬化性組成物［Ｉ］に活性エネルギー線を照射して硬化させる工程を含む、樹脂基板の連続的製造方法であって、下部支持フィルム及び上部支持フィルムのうち少なくとも１つが、光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られることを特徴とする樹脂基板の連続的製造方法に関する。 That is, the gist of the present invention is the step of supplying the photocurable composition [I] onto the lower support film to be transferred, and the photocurable composition [I] is transferred onto the photocurable composition [I] in the same direction as the lower support film. A method for continuously producing a resin substrate, comprising the steps of laminating an upper support film and a step of irradiating and curing the photocurable composition [I] with active energy rays, the lower support film and the upper support film At least 1 of these is related with the continuous manufacturing method of the resin substrate characterized by being obtained by hardening | curing photocurable composition [II].
更に本発明では、下部支持フィルム及び上部支持フィルムのうち少なくとも１つが、同一方向に移送される上下２枚のポリエチレンテレフタレートフィルム間で、光硬化性組成物［ＩＩ］を連続的に光硬化して得られることが好ましい。 Furthermore, in the present invention, at least one of the lower support film and the upper support film is obtained by continuously photocuring the photocurable composition [II] between two upper and lower polyethylene terephthalate films transferred in the same direction. It is preferable to be obtained.
また、本発明においては、光硬化性組成物［Ｉ］が、多官能（メタ）アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有することが好ましく、光硬化性組成物［ＩＩ］が、多官能（メタ）アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有し、更に離型剤、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤より選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することが好ましい。 Moreover, in this invention, it is preferable that photocurable composition [I] contains a polyfunctional (meth) acrylate type compound and a photoinitiator, and photocurable composition [II] is polyfunctional ( It preferably contains a (meth) acrylate compound and a photopolymerization initiator, and further contains at least one additive selected from a mold release agent, an ultraviolet absorber, and an antioxidant.
本発明では更に、上記の樹脂基板の連続的製造方法により得られる樹脂基板を提供するものであり、かかる樹脂基板は特にはディスプレイ用の基板として有用である。 The present invention further provides a resin substrate obtained by the method for continuously producing a resin substrate, and the resin substrate is particularly useful as a substrate for a display.
本発明によれば、支持フィルムの再利用が可能であり、更に樹脂基板の高品質化が図られ、平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板を安価に製造することができることとなり、本発明における工業的価値は非常に大きいものである。 According to the present invention, the support film can be reused, the quality of the resin substrate can be improved, and a resin substrate having a flat and smooth surface can be produced at low cost. The target value is very large.
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明の樹脂基板の連続的製造方法は、移送される下部支持フィルム上に光硬化性組成物［Ｉ］を供給する工程、その光硬化性組成物［Ｉ］上に下部支持フィルムと同一方向に移送される上部支持フィルムを積層する工程、及び、光硬化性組成物［Ｉ］に活性エネルギー線を照射して硬化させる工程を含む、樹脂基板の連続的製造方法であって、下部支持フィルム及び上部支持フィルムのうち少なくとも１つが、光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られる樹脂フィルムである。
The present invention is described in detail below.
The continuous production method of the resin substrate of the present invention includes a step of supplying the photocurable composition [I] onto the lower support film to be transferred, and the same direction as the lower support film on the photocurable composition [I]. A method for continuously producing a resin substrate, comprising the steps of laminating an upper support film transferred to the substrate and irradiating the photocurable composition [I] with an active energy ray to cure the resin substrate. At least one of the upper support film is a resin film obtained by curing the photocurable composition [II].
本発明の製造方法は、大きく次の２工程で構成される。即ち、支持フィルムを光硬化性組成物を用いて製造する製造工程１と、次に、かかる支持フィルムを用いて樹脂基板を製造する製造工程２を含む製造方法である。 The production method of the present invention is mainly composed of the following two steps. That is, it is a production method including a production process 1 for producing a support film using a photocurable composition and a production process 2 for producing a resin substrate using the support film.
まず、製造工程１に関して説明する。
製造工程１は、下部支持フィルムと上部支持フィルムを製造する工程であり、光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られるものであればよく、その製造方法は、通常、光硬化性組成物［ＩＩ］を、平滑なＰＥＴフィルム間で活性エネルギー線により硬化して、支持フィルムが連続的に製造される。かかる支持フィルムはロール状であり、一旦製造されると、後述の製造工程２において繰り返し使用することができる。従って、高価な平滑ＰＥＴフィルムについては、樹脂基板を製造する際のごく初期にしか使用されないこととなり、経済的価値は非常に大きいものとなる。
First, the manufacturing process 1 will be described.
The production process 1 is a process for producing a lower support film and an upper support film, and any process can be used as long as it is obtained by curing the photocurable composition [II]. The production method is usually a photocurable composition. The product [II] is cured by active energy rays between smooth PET films to continuously produce a support film. Such a support film is in the form of a roll, and once manufactured, it can be used repeatedly in the manufacturing process 2 described below. Therefore, an expensive smooth PET film is used only at the very beginning when a resin substrate is manufactured, and its economic value is very large.
本発明で用いられる光硬化性組成物［ＩＩ］としては、特に限定されないが、生産性の観点から速硬化性であることと、厚み制御の観点から適度な粘度を有することが好ましい。また、かかる光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られる樹脂フィルムは支持フィルムとしての透明性、耐熱性、耐光性、機械特性、及び耐溶剤性を兼備する必要があり、これらの諸物性を満足するためには、光硬化性組成物［ＩＩ］は、多官能（メタ）アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有することが好ましく、更に離型剤、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤より選ばれる少なくとも１種の添加剤を含有することが好ましい。 Although it does not specifically limit as photocurable composition [II] used by this invention, It is preferable that it has a moderate viscosity from a viewpoint of productivity from a viewpoint of productivity, and a viewpoint of thickness control. In addition, the resin film obtained by curing the photocurable composition [II] must have transparency, heat resistance, light resistance, mechanical properties, and solvent resistance as a support film. In order to satisfy the physical properties, the photocurable composition [II] preferably contains a polyfunctional (meth) acrylate compound and a photopolymerization initiator, and further contains a release agent, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. It is preferable to contain at least one additive selected from agents.
多官能（メタ）アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス[４−（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル]プロパン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートジエステル等の２官能（メタ）アクリレート系化合物、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３，５−トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル）シクロヘキサン、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。
Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and propylene glycol. Di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A type di (meth) Acrylate, propylene oxide modified bisphenol A type di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate Relate, pentaerythritol di (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, bis (hydroxy) tricyclo [5. 2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6 .5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β- (meth) acryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, hydroxy Bifunctional (meth) acrylate compounds such as pivalic acid-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate diester,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,3,5-tris ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3,5-tris ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, pentaerythritol tri (meth) ) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxyethoxytrimethylolpropane, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, Isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipe Data hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, trifunctional or more (meth) acrylate compounds such as ethylene oxide modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate.
更に、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。 Furthermore, polyfunctional (meth) acrylate compounds such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polyether (meth) acrylate are exemplified.
本発明においては、上記の多官能（メタ）アクリレート系化合物の中でも特に、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ[６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13]ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレートやウレタン（メタ）アクリレートなどが、得られる支持フィルムの機械強度の点で好ましい。また上記多官能（メタ）アクリレート系化合物は１種または２種以上併用することもできる。更に、上記多官能（メタ）アクリレート系化合物と単官能（メタ）アクリレート系化合物を併用してもよい。 In the present invention, among the above polyfunctional (meth) acrylate compounds, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . [ 093 ] Pentadecane = di (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and the like are preferable in terms of mechanical strength of the obtained support film. Moreover, the said polyfunctional (meth) acrylate type compound can also be used together 1 type, or 2 or more types. Furthermore, you may use together the said polyfunctional (meth) acrylate type compound and a monofunctional (meth) acrylate type compound.
本発明で用いられる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によってラジカルを発生し得るものであれば特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することができる。
具体的には、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−ジフェノキシジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロハシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系開始剤などが挙げられ、これらを併用することもできる。これらの光重合開始剤は、多官能（メタ）アクリレート系化合物（単官能（メタ）アクリレート系化合物を併用する場合は多官能（メタ）アクリレート系化合物と単官能（メタ）アクリレート系化合物の合計）１００重量部に対して、通常０．１〜１０重量部の割合で使用されることが好ましく、特に好ましくは１〜５重量部である。かかる光重合開始剤が少なすぎると硬化が充分に進まない傾向があり、多すぎると得られる支持フィルムの光線透過率と耐光性が低下する傾向がある。
The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited as long as it can generate radicals by irradiation with active energy rays, and various photopolymerization initiators can be used.
Specifically, acetophenone initiators such as 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4 -A benzophenone-type initiator such as phenylbenzophenone or hydro-benzobenzophenone can be used, and these can be used in combination. These photopolymerization initiators are polyfunctional (meth) acrylate compounds (the total of polyfunctional (meth) acrylate compounds and monofunctional (meth) acrylate compounds when using monofunctional (meth) acrylate compounds) It is preferably used in a proportion of usually 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight, and particularly preferably 1 to 5 parts by weight. If the amount of the photopolymerization initiator is too small, curing tends not to proceed sufficiently. If the amount is too large, the light transmittance and light resistance of the resulting support film tend to decrease.
離型剤としては、多官能（メタ）アクリレート系化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種離型剤を使用することができる。具体的には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが挙げられる。これらの離型剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、（メタ）アクリレート系化合物との相溶性の点で、シリコーン系界面活性剤が好ましい。離型剤の含有割合は、多官能（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．１〜１重量部である。かかる離型剤が少なすぎると支持フィルムの離型性が十分でなくなる傾向があり、多すぎると支持フィルムの平滑性が低下する傾向がある。 The release agent is not particularly limited as long as it dissolves in the polyfunctional (meth) acrylate compound, and various release agents can be used. Specific examples include silicone surfactants, fluorine surfactants, higher fatty acids, higher fatty acid esters, and fatty acid amides. These release agents may be used in combination. In these, a silicone type surfactant is preferable at a compatible point with a (meth) acrylate type compound. The content of the release agent is usually preferably 0.01 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate compound. When the amount of the release agent is too small, the release property of the support film tends to be insufficient, and when the amount is too large, the smoothness of the support film tends to decrease.
紫外線吸収剤としては、多官能（メタ）アクリレート系化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種紫外線吸収剤を使用することができる。具体的には、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシベンゾエート系、シアノアクリレート系などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、多官能（メタ）アクリレート系化合物との相溶性の点で、ベンゾフェノン系の紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤の含有割合は、多官能（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．１〜１重量部である。かかる紫外線吸収剤が少なすぎると支持フィルムの耐光性が低下する傾向があり、多すぎると支持フィルムの光線透過率が低下する傾向がある。 The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is soluble in the polyfunctional (meth) acrylate compound, and various ultraviolet absorbers can be used. Specific examples include salicylic acid ester, benzophenone, triazole, hydroxybenzoate, and cyanoacrylate. These ultraviolet absorbers may be used in combination. Among these, a benzophenone-based ultraviolet absorber is preferable in terms of compatibility with the polyfunctional (meth) acrylate-based compound. It is preferable that the content rate of a ultraviolet absorber is 0.01-10 weight part normally with respect to 100 weight part of polyfunctional (meth) acrylate type compounds, Most preferably, it is 0.1-1 weight part. If the amount of the ultraviolet absorber is too small, the light resistance of the support film tends to decrease, and if it is too large, the light transmittance of the support film tends to decrease.
酸化防止剤としては、多官能（メタ）アクリレート系化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種酸化防止剤を使用することができる。具体的には、フェノール系、アミン系、リン系、イオウ系などが挙げられる。これらの酸化防止剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、多官能（メタ）アクリレート系化合物との相溶性の点で、フェノール系の酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の含有割合は、多官能（メタ）アクリレート系化合物１００重量部に対し、通常０．０１〜１０重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．１〜１重量部である。かかる酸化防止剤が少なすぎると支持フィルムの耐熱性が低下する傾向があり、多すぎると支持フィルムの機械強度が低下する傾向がある。 The antioxidant is not particularly limited as long as it is soluble in the polyfunctional (meth) acrylate compound, and various antioxidants can be used. Specifically, a phenol type, an amine type, a phosphorus type, a sulfur type, etc. are mentioned. These antioxidants may be used in combination. Among these, a phenolic antioxidant is preferable in terms of compatibility with the polyfunctional (meth) acrylate compound. The content of the antioxidant is usually preferably 0.01 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate compound. If the amount of the antioxidant is too small, the heat resistance of the support film tends to decrease, and if the amount is too large, the mechanical strength of the support film tends to decrease.
光硬化性組成物［ＩＩ］には、上記の他に、増粘剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、着色剤、及び各種フィラーなどの補助成分を添加しても良い。増粘剤は、使用する重合性化合物の種類より適宜選択されるが、通常、熱可塑性ポリマーが使用される。 In addition to the above, auxiliary components such as thickeners, antistatic agents, flame retardants, antifoaming agents, colorants, and various fillers may be added to the photocurable composition [II]. The thickener is appropriately selected from the type of polymerizable compound to be used, but a thermoplastic polymer is usually used.
光硬化性組成物［ＩＩ］の粘度は、得られる支持フィルムの膜厚に応じて、適宜調整されるが、１００〜１００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、特に好ましくは２００〜５０００ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは３００〜３０００ｍＰａ・ｓである。かかる粘度が低すぎると支持フィルムの膜厚精度が低下する傾向があり、高すぎると設備負荷が増大する傾向がある。なお、高粘度の光硬化性組成物を用いる時は、加温して低粘度化することも可能である。 Although the viscosity of photocurable composition [II] is suitably adjusted according to the film thickness of the support film obtained, it is preferable that it is 100-10000 mPa * s, Especially preferably, it is 200-5000 mPa * s, Furthermore, Preferably, it is 300 to 3000 mPa · s. If the viscosity is too low, the film thickness accuracy of the support film tends to decrease, and if it is too high, the equipment load tends to increase. In addition, when using a high-viscosity photocurable composition, it is possible to reduce the viscosity by heating.
上記で得られた光硬化性組成物［ＩＩ］を用いて、基板製造用の支持フィルムを製造する。支持フィルムの製造方法は、公知の連続成形法を用いることができる。
すなわち、移送される平滑な第一のＰＥＴフィルム上に光硬化性組成物［ＩＩ］を供給し、その上に同一方向に、好ましくは同速度で移送される第２のＰＥＴフィルムを積層した後、光硬化性組成物［ＩＩ］に活性エネルギー線を照射して硬化させる連続的な製造方法が好ましく用いられる。
A support film for producing a substrate is produced using the photocurable composition [II] obtained above. The manufacturing method of a support film can use a well-known continuous shaping | molding method.
That is, after supplying the photocurable composition [II] onto the smooth first PET film to be transported and laminating the second PET film transported in the same direction, preferably at the same speed, on it A continuous production method in which the photocurable composition [II] is cured by irradiation with active energy rays is preferably used.
使用されるＰＥＴフィルムは、厚さ５０〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは１００〜４００μｍ、更に好ましくは２００〜３００μｍである。厚さが薄すぎる場合は、平坦性を維持することが困難となる傾向があり、逆に、厚すぎるとロールに巻き取るのが困難となる傾向がある。ＰＥＴフィルムの幅は１０〜１００ｃｍであることが好ましく、より好ましくは、２０〜７０ｃｍ、更に好ましくは、３０〜５０ｃｍである。幅が小さすぎると、基板の生産性に劣る傾向があり、逆に、大きすぎると、平坦性を維持することが困難となる傾向がある。ＰＥＴフィルムの長さは１００〜１００００ｍであることが好ましく、より好ましくは２００〜５０００ｍ、更に好ましくは３００〜３０００ｍである。長さが短すぎると、基板の生産性に劣る傾向があり、逆に、長すぎると、設備負荷が大きくなる傾向がある。 The PET film used preferably has a thickness of 50 to 500 μm, more preferably 100 to 400 μm, and still more preferably 200 to 300 μm. If the thickness is too thin, it tends to be difficult to maintain flatness, and conversely, if it is too thick, it tends to be difficult to wind it on a roll. The width of the PET film is preferably 10 to 100 cm, more preferably 20 to 70 cm, and still more preferably 30 to 50 cm. If the width is too small, the productivity of the substrate tends to be inferior. Conversely, if the width is too large, it tends to be difficult to maintain flatness. The length of the PET film is preferably 100 to 10,000 m, more preferably 200 to 5000 m, and still more preferably 300 to 3000 m. If the length is too short, the productivity of the substrate tends to be inferior. Conversely, if the length is too long, the equipment load tends to increase.
更に、使用されるＰＥＴフィルムの表面平滑性は重要であり、その表面平滑性については、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１における表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは５〜５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜３０ｎｍである。表面粗さＲａが大きすぎると基板の表面平滑性が低下する傾向となる。なお、表面粗さＲａが下限値未満のＰＥＴフィルムは高価であり、本発明の目的である基板の低コスト化が困難となる傾向がある。 Furthermore, the surface smoothness of the PET film used is important, and for the surface smoothness, the surface roughness Ra in JIS B 0601: 2001 is preferably 100 nm or less, more preferably 1 to 100 nm, particularly Preferably it is 5-50 nm, More preferably, it is 10-30 nm. If the surface roughness Ra is too large, the surface smoothness of the substrate tends to decrease. A PET film having a surface roughness Ra of less than the lower limit is expensive, and it tends to be difficult to reduce the cost of the substrate that is the object of the present invention.
ＰＥＴフィルムの移送速度は、０．１〜１０ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５ｍ／分、更に好ましくは１〜３ｍ／分である。移送速度が遅すぎると生産性に劣る傾向があり、速すぎると光硬化性組成物［ＩＩ］の光硬化が不十分となる傾向にある。なお、上下のＰＥＴフィルムの移送速度は同速度とすることが好ましい。 The transfer speed of the PET film is preferably 0.1 to 10 m / min, more preferably 0.5 to 5 m / min, and still more preferably 1 to 3 m / min. If the transfer speed is too slow, the productivity tends to be inferior, and if it is too fast, the photocuring of the photocurable composition [II] tends to be insufficient. The transfer speed of the upper and lower PET films is preferably the same speed.
光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られる樹脂フィルム（支持フィルム）の膜厚は、通常５０〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは１００〜４００μｍ、更に好ましくは２００〜３００μｍである。厚さが薄すぎると、基板の連続製造において平坦性を維持することが困難となる傾向があり、逆に、厚すぎるとロールに巻き取るのが困難となる傾向がある。かかる樹脂フィルム（支持フィルム）の膜厚は、ＰＥＴフィルムの移送速度と、光硬化性組成物［ＩＩ］の供給速度、粘度、温度により適宜制御することができる。樹脂フィルム（支持フィルム）の幅は通常１０〜１００ｃｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜７０ｃｍ、更に好ましくは３０〜５０ｃｍである。幅が小さすぎると基板の生産性に劣る傾向があり、逆に、大きすぎると平坦性を維持することが困難となる傾向がある。樹脂フィルム（支持フィルム）の長さは１００〜１００００ｍであることが好ましく、より好ましくは２００〜５０００ｍ、更に好ましくは３００〜３０００ｍである。長さが短すぎると基板の生産性に劣る傾向があり、逆に、長すぎると設備負荷が大きくなる傾向がある。 The film thickness of the resin film (support film) obtained by curing the photocurable composition [II] is usually preferably 50 to 500 μm, more preferably 100 to 400 μm, still more preferably 200 to 300 μm. . If the thickness is too thin, it tends to be difficult to maintain flatness in continuous production of the substrate, and conversely, if it is too thick, it tends to be difficult to wind it on a roll. The film thickness of such a resin film (support film) can be appropriately controlled by the transfer rate of the PET film and the supply rate, viscosity, and temperature of the photocurable composition [II]. The width of the resin film (support film) is usually preferably 10 to 100 cm, more preferably 20 to 70 cm, still more preferably 30 to 50 cm. If the width is too small, the productivity of the substrate tends to be inferior. Conversely, if the width is too large, it tends to be difficult to maintain flatness. The length of the resin film (support film) is preferably 100 to 10,000 m, more preferably 200 to 5000 m, and still more preferably 300 to 3000 m. If the length is too short, the productivity of the substrate tends to be inferior. Conversely, if the length is too long, the equipment load tends to increase.
光硬化性組成物［ＩＩ］を用いて得られる支持フィルムの連続光成形において、使用される活性エネルギー線としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、Ｘ線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射による硬化が有利である。紫外線照射における光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が通常使用され、照射量としては特に限定されないが、通常１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ2程度照射すればよい。活性エネルギー線の照射は、複数回に分けて行うことも可能である。また、硬化速度の向上のために、加温しながら照射を行ってもよい。その場合の温度は、ＰＥＴフィルムにうねりが生じない１５０℃以下が好ましい。 In the continuous photoforming of the support film obtained using the photocurable composition [II], the active energy rays used are rays such as far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, γ rays, etc. In addition to electromagnetic waves, electron beams, proton beams, neutron beams, and the like can be used. However, curing by ultraviolet irradiation is advantageous from the viewpoint of curing speed, availability of an irradiation device, price, and the like. As a light source in the ultraviolet irradiation, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are usually used, and the irradiation amount is not particularly limited, but it is usually sufficient to irradiate about 100 to 10,000 mJ / cm 2. . Irradiation with active energy rays can be performed in a plurality of times. Irradiation may be performed while heating in order to improve the curing rate. In this case, the temperature is preferably 150 ° C. or lower at which no undulation occurs in the PET film.
かくして製造工程１において、ＰＥＴフィルム間で光硬化され連続製造された支持フィルムは、光硬化後に両面のＰＥＴフィルムを剥がし、ロールに巻き取られ、次の製造工程２に供されることとなる。製造工程２に供する前に、支持フィルムを熱処理することも可能である。
かくして得られた支持フィルムは、光線透過率や表面平滑性に優れ、耐熱性や耐光性を兼備するため、基板製造工程において繰り返し使用することができる。
Thus, in the production process 1, the support film that has been photocured between the PET films and continuously produced is peeled off from the PET film on both sides after the photocuring, wound on a roll, and used for the next production process 2. It is also possible to heat-treat the support film before subjecting it to the production process 2.
The support film thus obtained is excellent in light transmittance and surface smoothness, and has both heat resistance and light resistance, so that it can be used repeatedly in the substrate production process.
支持フィルムの光線透過率は、通常９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上である。支持フィルムの光線透過率が小さすぎると、基板の光硬化に多大な光量が必要となり、生産性に劣る傾向がある。 The light transmittance of the support film is usually preferably 90% or more, more preferably 91% or more, and further preferably 92% or more. If the light transmittance of the support film is too small, a large amount of light is required for the photocuring of the substrate, and the productivity tends to be inferior.
支持フィルムの表面平滑性は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１における表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。支持フィルムの表面粗さＲａが大きすぎると、樹脂基板の表面粗さＲａが増加し光学性能が低下する傾向にある。なお、表面粗さＲａの下限値としては通常１ｎｍ程度である。 Regarding the surface smoothness of the support film, the surface roughness Ra in JIS B 0601: 2001 is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, still more preferably 20 nm or less. When the surface roughness Ra of the support film is too large, the surface roughness Ra of the resin substrate increases and the optical performance tends to decrease. The lower limit of the surface roughness Ra is usually about 1 nm.
支持フィルムの平坦性は、表面のうねりが２ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下である。支持フィルムのうねりが大きすぎると、基板の平坦性が低下する傾向がある。なお、表面うねりの下限値としては通常０．０１ｍｍ程度である。
ここで、表面のうねりとは、平坦な定盤上に支持フィルムを置いた時のうき量を意味するものであり、具体的には、フィルム周辺（端部）のうき量の最大値を測定するものである。
The flatness of the support film is preferably such that the surface waviness is 2 mm or less, more preferably 1 mm or less, and still more preferably 0.5 mm or less. When the waviness of the support film is too large, the flatness of the substrate tends to decrease. Note that the lower limit of the surface waviness is usually about 0.01 mm.
Here, the surface undulation means the amount of swell when the support film is placed on a flat surface plate. Specifically, the maximum swell amount around the film (edge) is measured. To do.
次に、製造工程２の樹脂基板の製造方法に関して説明する。
製造工程２は、上記で得られた支持フィルムを用いて、光硬化性組成物［Ｉ］を硬化して得られる樹脂基板を連続的に製造する工程である。
本発明で用いられる光硬化性組成物［Ｉ］としては、特に限定されないが、多官能（メタ）アクリレート系化合物と光重合開始剤を含有してなることが好ましい。
Next, a method for manufacturing a resin substrate in manufacturing process 2 will be described.
The production process 2 is a process for continuously producing a resin substrate obtained by curing the photocurable composition [I] using the support film obtained above.
Although it does not specifically limit as photocurable composition [I] used by this invention, It is preferable to contain a polyfunctional (meth) acrylate type compound and a photoinitiator.
かかる多官能（メタ）アクリレート系化合物の具体例としては、上記光硬化性組成物［ＩＩ］で例示したものと同様のものが挙げられる。また、必要に応じて、光硬化性組成物［Ｉ］においては、多官能（メタ）アクリレート系化合物の他に単官能（メタ）アクリレート系化合物などの重合性化合物を併用してもよい。 Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include the same ones as exemplified in the photocurable composition [II]. Moreover, in photocurable composition [I], you may use polymeric compounds, such as a monofunctional (meth) acrylate type compound, other than a polyfunctional (meth) acrylate type compound as needed.
光重合性開始剤としては、上記光硬化性組成物［ＩＩ］で例示したものと同様のものが挙げられる。 Examples of the photopolymerizable initiator include those similar to those exemplified for the photocurable composition [II].
光硬化性組成物［Ｉ］は、本発明の樹脂基板の物性を損ねない範囲で、少量の補助成分を含んでいてもよく、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、重合禁止剤、熱重合開始剤、消泡剤、増粘剤、レべリング剤、ブルーイング剤、染顔料、フィラーなどが挙げられる。 The photocurable composition [I] may contain a small amount of auxiliary components as long as the physical properties of the resin substrate of the present invention are not impaired. For example, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a release agent, and polymerization are prohibited. Agents, thermal polymerization initiators, antifoaming agents, thickeners, leveling agents, bluing agents, dyes and pigments, and the like.
また、本発明においては、光硬化性組成物［ＩＩ］と［Ｉ］を同種のものとすることにより、製造する樹脂基板への微量不純物などの混入を防止することができる。従って、両者の光硬化性組成物［ＩＩ］と［Ｉ］の組成も同一又は類似であることが望ましく、このことにより、組成物調合の負荷を低減することができ、全体の生産性も向上することとなる。 In the present invention, the photocurable compositions [II] and [I] are of the same type, thereby preventing a small amount of impurities from being mixed into the resin substrate to be produced. Therefore, it is desirable that the compositions of the two photocurable compositions [II] and [I] are the same or similar. This can reduce the load of the composition and improve the overall productivity. Will be.
本発明では、上記光硬化性組成物［Ｉ］を用いて、樹脂基板を製造する。
樹脂基板の製造方法は、上述した支持フィルムの製造と同様の手法で行われる。
即ち、移送される下部支持フィルム上に光硬化性組成物［Ｉ］を供給し、その上に下部支持フィルムと同一方向に、好ましくは同速度で移送される上部支持フィルムを積層した後、光硬化性組成物［Ｉ］に活性エネルギー線を照射して硬化させる連続的な製造方法である。支持フィルムの製造設備と樹脂基板の製造設備は、設備負荷を低減する点から、同一の設備であることが好ましい。
In the present invention, a resin substrate is produced using the photocurable composition [I].
The method for manufacturing the resin substrate is performed by the same method as that for manufacturing the support film described above.
That is, the photocurable composition [I] is supplied onto the lower support film to be transported, and the upper support film transported in the same direction as the lower support film, preferably at the same speed, is laminated thereon. This is a continuous production method in which the curable composition [I] is cured by irradiation with active energy rays. The production facility for the support film and the production facility for the resin substrate are preferably the same facility from the viewpoint of reducing the facility load.
また、上下両面の支持フィルムは、どちらも光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化してなる樹脂フィルムであることは必須ではなく、片面にはＰＥＴフィルムなどの他の樹脂フィルムやステンレスなどの金属板を用いても良いが、上部及び下部の支持フィルムともに、上記光硬化性組成物［ＩＩ］から得られる樹脂フィルムを用いることが好ましい。
使用される支持フィルムの厚さ、幅、長さは、上記の通りである。
Moreover, it is not essential that both the upper and lower support films are resin films obtained by curing the photocurable composition [II], and other resin films such as PET films and metals such as stainless steel are provided on one side. Although a plate may be used, it is preferable to use a resin film obtained from the photocurable composition [II] for both the upper and lower support films.
The thickness, width, and length of the support film used are as described above.
製造工程２において、支持フィルムの移送速度は、０．１〜１０ｍ／分であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５ｍ／分、更に好ましくは１〜３ｍ／分である。移送速度が遅すぎると生産性に劣る傾向があり、速すぎると光硬化性組成物［Ｉ］の光硬化が不十分となる傾向にある。なお、上下の支持フィルムの移送速度は同速度とすることが好ましい。 In the manufacturing process 2, it is preferable that the transfer speed of a support film is 0.1-10 m / min, More preferably, it is 0.5-5 m / min, More preferably, it is 1-3 m / min. If the transfer speed is too slow, the productivity tends to be inferior, and if it is too fast, the photocuring of the photocurable composition [I] tends to be insufficient. In addition, it is preferable that the transfer speed of the upper and lower support films is the same speed.
光硬化性組成物［Ｉ］を硬化して得られる樹脂基板の膜厚は、５０〜５００μｍであることが好ましく、より好ましくは１００〜３００μｍ、更に好ましくは１００〜２００μｍである。厚さが薄すぎると、基板としての平坦性を維持することが困難となる傾向があり、逆に、厚すぎるとロールに巻き取るのが困難となる傾向がある。樹脂基板の膜厚は、支持フィルムの移送速度と、光硬化性組成物［Ｉ］の供給速度、粘度、温度により適宜制御することができる。樹脂基板の幅は１０〜１００ｃｍであることが好ましく、より好ましくは、２０〜７０ｃｍ、更に好ましくは、３０〜５０ｃｍである。幅が小さすぎるとデバイスの生産性に劣る傾向があり、逆に、大きすぎると平坦性を維持することが困難となる傾向がある。樹脂基板の長さは１００〜１００００ｍであることが好ましく、より好ましくは２００〜５０００ｍ、更に好ましくは３００〜３０００ｍである。長さが短すぎるとデバイスの生産性に劣る傾向があり、逆に、長すぎると設備負荷が大きくなる傾向がある。 The film thickness of the resin substrate obtained by curing the photocurable composition [I] is preferably 50 to 500 μm, more preferably 100 to 300 μm, still more preferably 100 to 200 μm. If the thickness is too thin, it tends to be difficult to maintain the flatness as a substrate, and conversely, if it is too thick, it tends to be difficult to wind it on a roll. The film thickness of the resin substrate can be appropriately controlled by the transfer speed of the support film and the supply speed, viscosity, and temperature of the photocurable composition [I]. The width of the resin substrate is preferably 10 to 100 cm, more preferably 20 to 70 cm, and still more preferably 30 to 50 cm. If the width is too small, the device productivity tends to be inferior. Conversely, if the width is too large, it tends to be difficult to maintain flatness. The length of the resin substrate is preferably 100 to 10,000 m, more preferably 200 to 5000 m, and still more preferably 300 to 3000 m. If the length is too short, the device productivity tends to be inferior. Conversely, if the length is too long, the equipment load tends to increase.
樹脂基板の連続的光成形において使用される活性エネルギー線としては、上記の製造工程１における支持フィルムの製造と同様にして行うことができる。 The active energy ray used in the continuous photoforming of the resin substrate can be performed in the same manner as the production of the support film in the production process 1 described above.
かくして製造工程２において、支持フィルム間で光硬化され連続製造された樹脂基板は、光硬化後に両面の支持フィルムを剥がし、ロールに巻き取ることにより製品となる。かかる樹脂基板は、巻き取り前に熱処理を行うことも可能である。また、傷つきを回避するため、下部支持フィルム及び上部支持フィルムのうち少なくとも１つのフィルムごと巻き取ることも可能である。かくして得られた樹脂基板は、十分に硬化され、表面平滑性に優れたものであり、しかも高価なＰＥＴフィルムを使用しないため安価に樹脂基板を提供することができる。なお、剥離された支持フィルムはロールに巻き取られ、次回の製造に再利用することができ、非常に経済的である。 Thus, in the production process 2, the resin substrate which is photocured between the support films and continuously produced becomes a product by peeling the support films on both sides after the photocuring and winding them on a roll. Such a resin substrate can be heat-treated before winding. Moreover, in order to avoid a damage, it is also possible to wind up at least one of the lower support film and the upper support film. The resin substrate thus obtained is sufficiently cured and excellent in surface smoothness, and since an expensive PET film is not used, the resin substrate can be provided at low cost. The peeled support film is wound up on a roll and can be reused for the next production, which is very economical.
また、上記で得られる樹脂基板においては、（メタ）アクリレート系の光硬化性組成物を用いた場合、樹脂基板における（メタ）アクリロイル基の反応率は、８０％以上が好ましく、より好ましくは８５％以上、更に好ましくは８７％以上である。反応率が低すぎると未重合の（メタ）アクリロイル基がデバイス化工程やデバイス使用時に重合し、デバイスに変形を生じさせる傾向がある。 In the resin substrate obtained above, when a (meth) acrylate-based photocurable composition is used, the reaction rate of the (meth) acryloyl group in the resin substrate is preferably 80% or more, more preferably 85. % Or more, more preferably 87% or more. When the reaction rate is too low, unpolymerized (meth) acryloyl groups tend to be polymerized during the device-forming step or device use, causing deformation of the device.
更に、得られる樹脂基板は透明であることが好ましく、かかる樹脂基板の光線透過率としては９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９１％以上、更に好ましくは９２％以上である。樹脂基板の光線透過率が低すぎるとディスプレイの輝度が低下する傾向がある。 Further, the obtained resin substrate is preferably transparent, and the light transmittance of the resin substrate is preferably 90% or more, more preferably 91% or more, and further preferably 92% or more. If the light transmittance of the resin substrate is too low, the brightness of the display tends to decrease.
樹脂基板の表面平滑性については、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１における表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。基板の表面粗さＲａが大きすぎるとディスプレイの精細性が低下する傾向がある。なお、表面粗さＲａの下限値としては通常１ｎｍ程度である。 About the surface smoothness of a resin substrate, it is preferable that surface roughness Ra in JISB0601: 2001 is 100 nm or less, More preferably, it is 50 nm or less, More preferably, it is 20 nm or less. If the surface roughness Ra of the substrate is too large, the definition of the display tends to deteriorate. The lower limit of the surface roughness Ra is usually about 1 nm.
樹脂基板の平坦性は、表面のうねりが２ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下である。樹脂基板のうねりが大きすぎるとデバイスの平坦性が低下する傾向がある。なお、表面うねりの下限値としては通常０．０１ｍｍ程度である。ここで、表面のうねりとは、上記の通りである。 As for the flatness of the resin substrate, the surface waviness is preferably 2 mm or less, more preferably 1 mm or less, and still more preferably 0.5 mm or less. If the swell of the resin substrate is too large, the flatness of the device tends to decrease. Note that the lower limit of the surface waviness is usually about 0.01 mm. Here, the surface waviness is as described above.
かくして本発明の製造方法により得られる透明な樹脂基板は、高価なＰＥＴフィルムを使用することなく安価に製造することができ、しかも平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板となり、ディスプレイ基板として非常に有用である。 Thus, the transparent resin substrate obtained by the production method of the present invention can be produced at low cost without using an expensive PET film, and becomes a resin substrate having a flat and smooth surface, which is very useful as a display substrate. It is.
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
尚、例中「部」、「％」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。各物性の測定方法は以下の通りである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
In the examples, “parts” and “%” mean weight basis unless otherwise specified. The measuring method of each physical property is as follows.
（１）（メタ）アクリロイル基の反応率（％）
長さ５０ｍｍ×幅５０ｍｍの試験片を凍結粉砕した後、ＢＲＵＫＥＲ・ＢＩＯＳＰＩＮ社製 「ＡＶＡＮＣＥ ＤＰＸ−４００」で、固体ＮＭＲプローブを用いて測定した。観測核は１３Ｃ、回転数は５０００Ｈｚ、室温で測定した。重合していない（メタ）アクリロイル基中のカルボニル炭素は高磁場側（１６６ｐｐｍ）に、重合したカルボニル炭素は低磁場側（１７６ｐｐｍ）に検出される。これらのピーク面積比より反応率（％）を算出した。
(1) Reaction rate of (meth) acryloyl group (%)
A test piece having a length of 50 mm and a width of 50 mm was freeze-pulverized and then measured with a solid NMR probe using “AVANCE DPX-400” manufactured by BRUKER BIOSPIN. The observation nucleus was measured at 13C, the rotation speed was 5000 Hz, and room temperature. The carbonyl carbon in the unpolymerized (meth) acryloyl group is detected on the high magnetic field side (166 ppm), and the polymerized carbonyl carbon is detected on the low magnetic field side (176 ppm). The reaction rate (%) was calculated from the ratio of these peak areas.
（２）光線透過率（％）
日本電色社ヘイズメーター「ＮＤＨ−２０００」を用いて、全光線透過率（％）を測定した。
(2) Light transmittance (%)
The total light transmittance (%) was measured using a Nippon Denshoku haze meter “NDH-2000”.
（３） 表面平滑性（ｎｍ）
ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に準じて、東京精密社製「サーフコム５７０Ａ」を用いて、樹脂成形体両面のＲａ（ｎｍ）を測定した（カットオフ：０．８μｍ、測定長：４ｍｍ）。
(3) Surface smoothness (nm)
According to JIS B0601: 2001, Ra (nm) on both surfaces of the resin molded product was measured using “Surfcom 570A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. (cutoff: 0.8 μm, measurement length: 4 mm).
（４）平坦性（ｍｍ）
３０ｃｍ角の基板を切り出し、平坦な定盤上に置いて、端部のうき量の最大値（ｍｍ）を測定した。
(4) Flatness (mm)
A 30 cm square substrate was cut out and placed on a flat surface plate, and the maximum value (mm) of the edge portion was measured.
実施例１
＜光硬化性組成物［ＩＩ］の調製＞
６官能のウレタンアクリレート（日本合成化学工業株式会社製、「ＵＶ７６００Ｂ」）１００部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）５部、剥離剤としてシリコーン系界面活性剤（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製、「ＳＩＬＷＥＴ Ｌ７６０４」）１部、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（共同薬品株式会社製、「ｖｉｏｓｏｒｂ １３０」）０．５部、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（チバスペシャリティケミカルズ株式会社製、「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．５部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物［ＩＩ］を得た。
Example 1
<Preparation of photocurable composition [II]>
100 parts of hexafunctional urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., “UV7600B”), 5 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., “Irgacure 184”) as a photopolymerization initiator, silicone type as a release agent 1 part of surfactant (“SILWET L7604”, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), 0.5 part of benzophenone UV absorber (“biosorb 130”, manufactured by Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd.) as an ultraviolet absorber, tetrakis as an antioxidant [Methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] 0.5 part of methane (“Irganox 1010” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) uniformly at 60 ° C. To obtain a photocurable composition [II]. It was.
＜支持フィルムの製造＞
厚さ１００μｍ、幅３３０ｍｍ、長さ１０２０ｍのＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、「Ｏ３００」）を１ｍ／分で移送し、フィルム上にダイコーターから上記光硬化性組成物［ＩＩ］を供給した後、上部から厚さ１００μｍ、幅３３０ｍｍ、長さ１０２０ｍのＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、「Ｏ３００」）を積層した。次いで、上下両面から照度１００ｍｗ／ｃｍ2の紫外線を１分間照射（照射量６０００ｍＪ／ｃｍ2）して連続的に光硬化を行った。最後に、上下両面のＰＥＴフィルムを剥離しながら、成形されたフィルムをロールに巻き取り、厚さ１００μｍ、幅３２０ｍｍ、長さ１０１０ｍの支持フィルムを得た。同様にして、支持フィルムのロールを更に１本製造した。
得られた支持フィルムの全光線透過率は９２％、Ｒａは１０ｎｍ、うき量は０．１ｍｍであり、優れた透明性、表面平滑性、及び平坦性を有していた。
<Manufacture of support film>
A PET film (“O300”, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm, a width of 330 mm, and a length of 1020 m was transferred at 1 m / min, and the photocurable composition [II] was transferred onto the film from a die coater. After the supply, a PET film (“O300”, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm, a width of 330 mm, and a length of 1020 m was laminated from the top. Next, UV curing with an illuminance of 100 mw / cm 2 was applied for 1 minute from both the upper and lower surfaces (irradiation amount: 6000 mJ / cm 2 ), and photocuring was performed continuously. Finally, while peeling the upper and lower PET films, the formed film was wound around a roll to obtain a support film having a thickness of 100 μm, a width of 320 mm, and a length of 1010 m. Similarly, one more roll of support film was produced.
The obtained support film had a total light transmittance of 92%, an Ra of 10 nm, and an exposure amount of 0.1 mm, and had excellent transparency, surface smoothness, and flatness.
＜光硬化性組成物［Ｉ］の調製＞
６官能のウレタンアクリレート（日本合成化学工業株式会社製、「ＵＶ７６００Ｂ」）４０部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ[５．２．１．０2,6]デカン＝ジメタクリレート６０部（新中村化学工業株式会社製、「ＤＣＰ」）、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバガイギー株式会社製、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部を、６０℃にて均一になるまで撹拌し、光硬化性組成物［Ｉ］を得た。
<Preparation of photocurable composition [I]>
40 parts of hexafunctional urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., “UV7600B”), 60 parts of bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate (Shin Nakamura Chemical Industry) Co., Ltd., “DCP”), 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., “Irgacure 184”) as a photopolymerization initiator is stirred at 60 ° C. until uniform, and photocurable composition [I] was obtained.
＜透明樹脂基板の製造１＞
上記で得られた支持フィルムを下部支持フィルム及び上部支持フィルムとして用いて、下部支持フィルムを１ｍ／分で移送し、フィルム上にダイコーターから光硬化性組成物［Ｉ］を供給した後、上部から上部支持フィルムを積層した。次いで、上下両面から照度１００ｍｗ／ｃｍ2の紫外線を１分間照射（照射量６０００ｍＪ／ｃｍ2）して光硬化を行った。最後に、上下両面の支持フィルムを剥離し、成形されたフィルムをロールに巻き取り、厚さ１００μｍ、幅３００ｍｍ、長さ１０００ｍの透明な樹脂基板を得た。
得られた樹脂基板の反応率は８９％、全光線透過率は９２％、Ｒａは１２ｎｍ、うき量は０．２ｍｍであり、優れた透明性、表面平滑性、及び平坦性を有していた。
<Manufacture of transparent resin substrate 1>
Using the support film obtained above as the lower support film and the upper support film, the lower support film was transferred at 1 m / min, and after supplying the photocurable composition [I] from the die coater onto the film, The upper support film was laminated. Then, the upper and lower surfaces irradiated for 1 minute with ultraviolet rays at an illuminance 100 mw / cm 2 from (dose 6000 mJ / cm 2) to was photocured. Finally, the upper and lower support films were peeled off, and the formed film was wound on a roll to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 100 μm, a width of 300 mm, and a length of 1000 m.
The obtained resin substrate had a reaction rate of 89%, a total light transmittance of 92%, an Ra of 12 nm, and an exposure amount of 0.2 mm, and had excellent transparency, surface smoothness, and flatness. .
＜透明樹脂基板の繰り返し製造２〜５＞
上記製造１において使用後の支持フィルムを繰り返し用いて、製造１と同様にして、繰り返し樹脂基板を製造した。得られた樹脂基板の反応率、全光線透過率、Ｒａ、及びうき量は表１に示すとおりである。繰り返し使用された支持フィルムの各製造ごとの物性の変化も記載した。
<Repeated production 2-5 of transparent resin substrate>
A resin substrate was repeatedly produced in the same manner as in Production 1 by repeatedly using the support film after use in Production 1. Table 1 shows the reaction rate, total light transmittance, Ra, and exposure amount of the obtained resin substrate. The change in physical properties for each production of the repeatedly used support film is also described.
比較例１
＜透明樹脂基板の製造１＞
支持フィルムとして、表１に記載の物性を有するＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、「Ｏ３００」）を１ｍ／分で移送し、フィルム上にダイコーターから実施例１と同様の光硬化性組成物［Ｉ］を供給した後、上部から、支持フィルムとして上記と同じ物性を有するＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム株式会社製、「Ｏ３００」）を積層した。次いで、上下両面から照度１００ｍｗ／ｃｍ2の紫外線を１分間照射（照射量６０００ｍＪ／ｃｍ2）して光硬化を行った。最後に、上下両面のＰＥＴフィルムを剥離し、成形されたフィルムをロールに巻き取り、厚さ１００μｍ、幅３００ｍｍ、長さ１０００ｍの樹脂基板を得た。
得られた樹脂基板の反応率は８９％、全光線透過率は９２％、Ｒａは１１ｎｍ、うき量は０．２ｍｍである。
なお、剥離したＰＥＴフィルムの全光線透過率は８５％、Ｒａは１１ｎｍ、うき量は４ｍｍであった。
Comparative Example 1
<Manufacture of transparent resin substrate 1>
As a support film, a PET film having physical properties described in Table 1 (Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd., “O300”) was transferred at 1 m / min, and the same photocurability as that of Example 1 was applied on the film from a die coater. After supplying the composition [I], a PET film (Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd., “O300”) having the same physical properties as above was laminated as a support film from the top. Then, the upper and lower surfaces irradiated for 1 minute with ultraviolet rays at an illuminance 100 mw / cm 2 from (dose 6000 mJ / cm 2) to was photocured. Finally, the upper and lower PET films were peeled off, and the formed film was wound up on a roll to obtain a resin substrate having a thickness of 100 μm, a width of 300 mm, and a length of 1000 m.
The obtained resin substrate had a reaction rate of 89%, a total light transmittance of 92%, an Ra of 11 nm, and an exposure amount of 0.2 mm.
The peeled PET film had a total light transmittance of 85%, an Ra of 11 nm, and an exposure amount of 4 mm.
＜透明樹脂基板の繰り返し製造２＞
比較例１の上記製造１において使用後のＰＥＴフィルムを用いて、当該製造１と同様にして、樹脂基板を製造した。得られた樹脂基板の反応率、全光線透過率、Ｒａ、及びうき量は表１に示すとおりである。なお、製造２の後に剥離したＰＥＴフィルムは、黄変しており、うねりが大きくロールに巻き取ることができなかった。
<Repeated production of transparent resin substrate 2>
A resin substrate was produced in the same manner as in Production 1 using the PET film after use in Production 1 of Comparative Example 1. Table 1 shows the reaction rate, total light transmittance, Ra, and exposure amount of the obtained resin substrate. In addition, the PET film peeled off after the production 2 was yellowed and swelled so that it could not be wound on a roll.
上記の結果より、実施例においては、光硬化性組成物より得られた樹脂フィルムを支持フィルムとして繰り返し使用しても、光学特性及び表面平滑性、平坦性に優れた樹脂基板を製造することができたのに対して、比較例においては、支持フィルムとして高価なＰＥＴフィルムを用いているうえに、繰り返し使用した場合では良好な樹脂基板を得ることができないため、安価に樹脂基板を製造することができないものであった。 From the above results, in the examples, even when the resin film obtained from the photocurable composition is repeatedly used as a support film, a resin substrate excellent in optical properties, surface smoothness, and flatness can be produced. In contrast, in the comparative example, an expensive PET film is used as a support film, and a good resin substrate cannot be obtained when repeatedly used. It was something that could not be done.
本発明は、平坦かつ平滑な表面を有する樹脂基板であり、液晶、有機ＥＬ、タッチパネルなどのディスプレイ基板、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やプロジェクターに使用される光学フィルターの基材、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に有用である。 The present invention is a resin substrate having a flat and smooth surface, a display substrate such as a liquid crystal, an organic EL, a touch panel, an optical filter substrate used in a plasma display panel (PDP) or a projector, an optical communication material, a solar Useful for various applications such as battery substrates.
Claims (6)
その光硬化性組成物［Ｉ］上に、下部支持フィルムと同一方向に移送される上部支持フィルムを積層する工程、及び
光硬化性組成物［Ｉ］に活性エネルギー線を照射して硬化させる工程を含む、樹脂基板の連続的製造方法であって、下部支持フィルム及び上部支持フィルムのうち少なくとも１つが、光硬化性組成物［ＩＩ］を硬化して得られることを特徴とする樹脂基板の連続的製造方法。 Supplying the photocurable composition [I] onto the lower support film to be transferred;
A step of laminating an upper support film transported in the same direction as the lower support film on the photocurable composition [I], and a step of curing the photocurable composition [I] by irradiating with active energy rays A continuous production method of a resin substrate, wherein at least one of the lower support film and the upper support film is obtained by curing the photocurable composition [II] Manufacturing method.
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