JP2008155387A - Laminate - Google Patents

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JP2008155387A JP2006343749A JP2006343749A JP2008155387A JP 2008155387 A JP2008155387 A JP 2008155387A JP 2006343749 A JP2006343749 A JP 2006343749A JP 2006343749 A JP2006343749 A JP 2006343749A JP 2008155387 A JP2008155387 A JP 2008155387A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate which has heat resistance, rigidity, and an anti-Newton ring function. <P>SOLUTION: In the laminate, a transparent conductive film is formed on one surface (A) of a resin molding 0.1-1 mm thick which is obtained by curing a photopolymerizable composition [I]. Unevenness having the anti-Newton ring function is formed on the surface (A) of the molding. Its surface roughness (Ra) according to JIS B0601:2001 is 50-150 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂成形体の一方の面に透明導電膜が形成された積層体に関し、特に、シート状もしくはフィルム状の積層体であって、優れたアンチニュートンリング機能を有し、とりわけ、タッチパネル用の透明電極付き基板として有用である積層体に関するものである。   The present invention relates to a laminate in which a transparent conductive film is formed on one surface of a resin molded body, and in particular, is a sheet-like or film-like laminate having an excellent anti-Newton ring function, and in particular, a touch panel The present invention relates to a laminate that is useful as a substrate with a transparent electrode.

従来の技術Conventional technology

従来、タッチパネル用の基板としては、ガラスや、ポリエチレンテレフタレート(PET)あるいはポリカーボネートなどのプラスチックフィルムが汎用されてきた。例えば、抵抗膜式のタッチパネルは、これらの基板の表面にインジウム・スズの酸化物(ITO)などの透明導電膜(透明電極)を形成し、得られた透明電極付き基板を2枚用いて、電極同士が対向する様にセルを形成することにより製造される。ガラスを基板として用いた場合は、剛性や耐熱性に優れたタッチパネルが得られるが、割れやすく重たいと言った欠点がある。   Conventionally, glass, plastic films such as polyethylene terephthalate (PET) or polycarbonate have been widely used as substrates for touch panels. For example, a resistive film type touch panel is formed by forming a transparent conductive film (transparent electrode) such as indium tin oxide (ITO) on the surface of these substrates, and using the two substrates with transparent electrodes obtained, It is manufactured by forming cells so that the electrodes face each other. When glass is used as a substrate, a touch panel excellent in rigidity and heat resistance can be obtained, but there is a drawback that it is easily broken and heavy.

一方、プラスチックを基板として用いた場合は、割れにくく軽いタッチパネルが得られるものの、たわむためデバイス内の他の素子を破壊したり、耐熱性の不足から、高性能な透明電極を成膜できなかったり、タッチパネルが変形してくるなどの問題がある。これらの問題を解決するために、剛性と耐熱性を有するプラスチック基板が提案されている(例えば特許文献1参照)。   On the other hand, when plastic is used as the substrate, a light touch panel that is hard to break can be obtained, but because it bends, other elements in the device are destroyed, or high-performance transparent electrodes cannot be formed due to insufficient heat resistance. There is a problem that the touch panel is deformed. In order to solve these problems, a plastic substrate having rigidity and heat resistance has been proposed (for example, see Patent Document 1).

また、近年、タッチパネルの干渉縞(ニュートンリング)が問題になっており、干渉縞が存在するタッチパネルは、著しく視認性が低下するものである。この干渉縞は、対向する2枚の基板の表面(透明電極面)で、光が多重反射を起こし、2枚の基板の間隙で反射光同士が干渉するために発生する。あるいは、1枚の基板両面で光が多重反射を起こし、基板内部で反射光同士が干渉するために発生する。干渉縞を解消するためには、基板の表面を粗面化する必要があり、特に、透明電極面を適度に粗面化する必要がある。この干渉縞を解消する機能は、アンチニュートンリング機能と呼ばれ、基板表面に凹凸を有するコート層を設ける技術やITOを結晶化させて粗面化する技術などが提案されている(例えば特許文献2参照)。   Further, in recent years, interference fringes (Newton rings) of touch panels have become a problem, and a touch panel in which interference fringes are present has a marked decrease in visibility. The interference fringes are generated because light undergoes multiple reflections on the surfaces (transparent electrode surfaces) of the two substrates facing each other, and the reflected lights interfere with each other in the gap between the two substrates. Alternatively, this occurs because the light undergoes multiple reflections on both sides of one substrate and the reflected lights interfere with each other inside the substrate. In order to eliminate the interference fringes, it is necessary to roughen the surface of the substrate, and in particular, it is necessary to appropriately roughen the transparent electrode surface. The function of eliminating the interference fringes is called an anti-Newton ring function, and a technique of providing a coating layer having irregularities on the surface of the substrate, a technique of crystallizing ITO to roughen the surface, etc. are proposed (for example, Patent Documents). 2).

特開平9−152510号公報JP-A-9-152510 特開2006―190508号公報JP 2006-190508 A

しかしながら、これらの開示技術をもってしても全ての性能を満足しているとは言いがたく、耐熱性と剛性を有し、かつ高度なアンチニュートンリング機能を具備した透明電極付きプラスチック基板が望まれていた。
更に、タッチパネル内面(透明電極面)のアンチニュートンリング機能に加え、見やすい画像を提供するための、タッチパネル外面の防眩機能をも併せ持つ透明電極付きプラスチック基板が望まれていた。
However, even with these disclosed technologies, it is difficult to say that all the performances are satisfied, and a plastic substrate with a transparent electrode having heat resistance and rigidity and having an advanced anti-Newton ring function is desired. It was.
Furthermore, in addition to the anti-Newton ring function of the inner surface (transparent electrode surface) of the touch panel, a plastic substrate with a transparent electrode that also has an anti-glare function of the outer surface of the touch panel for providing an easy-to-view image has been desired.

そこで、本発明ではこのような背景下において、耐熱性と剛性を有し、かつ、優れたアンチニュートンリング機能を併せ持つ透明電極付きプラスチック基板の提供を目的とするものである。   In view of the above, an object of the present invention is to provide a plastic substrate with a transparent electrode that has heat resistance and rigidity and has an excellent anti-Newton ring function.

しるかに、本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、従来のポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等のプラスチック板とは全く異なる、光重合性組成物を硬化して得られる樹脂成形体を用いて、かかる樹脂成形体の透明導電膜が形成される側の面に微細な凹凸を形成することにより、耐熱性と剛性、更にアンチニュートンリング機能を有する透明電極付きプラスチック基板を得ることができることを見出し、本発明を完成した。   However, as a result of intensive studies by the present inventors to solve the above problems, a resin obtained by curing a photopolymerizable composition, which is completely different from conventional plastic plates such as polyethylene terephthalate and polycarbonate. Using the molded body, a plastic substrate with a transparent electrode having heat resistance and rigidity and further having an anti-Newton ring function is obtained by forming fine irregularities on the surface of the resin molded body on which the transparent conductive film is formed. The present invention has been completed.

即ち、本発明の要旨は、光重合性組成物[I]を硬化して得られる厚さ0.1〜1mmの樹脂成形体の一方の面(A)に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面(A)がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ(Ra)が、JIS B0601:2001において50〜150nmである積層体に関するものである。   That is, the gist of the present invention is a laminate in which a transparent conductive film is formed on one surface (A) of a resin molded body having a thickness of 0.1 to 1 mm obtained by curing the photopolymerizable composition [I]. And the surface (A) of the resin molded body is a surface on which irregularities having an anti-Newton ring function are formed, and the surface roughness (Ra) is 50 to 150 nm in JIS B0601: 2001 It is about the body.

本発明の積層体は、光学特性と熱特性、機械特性に優れ、特に優れた耐熱性と剛性を有し、アンチニュートンリング機能をも有するディスプレイ用のプラスチック基板に適した積層体であり、タッチパネル用、液晶ディスプレイ用、及び有機ELディスプレイ用の基板として有用である。   The laminate of the present invention is a laminate suitable for a plastic substrate for a display having excellent optical properties, thermal properties, mechanical properties, particularly excellent heat resistance and rigidity, and also having an anti-Newton ring function. It is useful as a substrate for liquid crystal display, liquid crystal display, and organic EL display.

以下、本発明につき詳細に説明する。
なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, “(meth) acrylate” is a general term for acrylate and methacrylate.

本発明の積層体は、光重合性組成物[I]を硬化して得られる厚さ0.1〜1mmの樹脂成形体の一方の面(A)に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面(A)がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ(Ra)が、JIS B0601:2001において50〜150nmであることを特徴とするものである。
なお、本発明における表面粗さ(Ra)の測定長は4mmである。
また、上記のアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面(A)とは、一枚ものの樹脂成形体それ自身の面のことである。
The laminate of the present invention is a laminate in which a transparent conductive film is formed on one surface (A) of a resin molded body having a thickness of 0.1 to 1 mm obtained by curing the photopolymerizable composition [I]. And the surface (A) of the resin molded body is a surface on which irregularities having an anti-Newton ring function are formed, and the surface roughness (Ra) is 50 to 150 nm in JIS B0601: 2001. It is a feature.
In addition, the measurement length of the surface roughness (Ra) in this invention is 4 mm.
Further, the surface (A) on which the unevenness having the anti-Newton ring function is formed is a surface of a single resin molded body itself.

本発明で用いられる樹脂成形体は、光重合性組成物[I]を硬化して得られるものであり、かかる光重合性組成物[I]としては、特に限定されないが、重合性化合物と光重合開始剤を含有することが好ましい。重合性化合物を光硬化させることにより、耐熱性と剛性に優れた樹脂成形体を得ることができる。   The resin molded body used in the present invention is obtained by curing the photopolymerizable composition [I], and the photopolymerizable composition [I] is not particularly limited, but includes a polymerizable compound and light. It preferably contains a polymerization initiator. By photocuring the polymerizable compound, a resin molded article having excellent heat resistance and rigidity can be obtained.

かかる重合性化合物としては、多官能(メタ)アクリレート系化合物や、多官能エポキシ(メタ)アクリレート系化合物、多官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物、多官能ポリエステル(メタ)アクリレート系化合物、多官能ポリエーテル(メタ)アクリレート系化合物が挙げられる。
多官能(メタ)アクリレート系化合物としては、2官能(メタ)アクリレート系化合物、3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物が挙げられる。
Such polymerizable compounds include polyfunctional (meth) acrylate compounds, polyfunctional epoxy (meth) acrylate compounds, polyfunctional urethane (meth) acrylate compounds, polyfunctional polyester (meth) acrylate compounds, polyfunctional poly Examples include ether (meth) acrylate compounds.
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include a bifunctional (meth) acrylate compound and a tri- or higher functional (meth) acrylate compound.

2官能(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートジエステル等の脂肪族系化合物、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(β−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル]プロパン、1,3−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン等の脂環式系化合物、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA(2,2’−ジフェニルプロパン)型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールA(2,2’−ジフェニルプロパン)型ジ(メタ)アクリレート等の芳香族系化合物が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and propylene glycol di (meth). ) Acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, glycerin Di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol Aliphatic compounds such as glycidyl ether di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified di (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate diester, Bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate Bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (β- (meth) acryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, etc. Alicyclic compound, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, ethylene oxide modified bisphenol A (2,2'-diphenylpropane) type di (meth) acrylate, propylene oxide modified bisphenol A (2,2'-diphenyl) Propane) type di (meth) acrylate And aromatic compounds such as

3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の脂肪族系化合物、1,3,5−トリス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス((メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン等の脂環式化合物が挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (meth) acryloyloxyethoxytrimethylolpropane, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified pentaerythritol Aliphatic compounds such as tri (meth) acrylate and ethylene oxide-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 1,3,5-tris ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3,5-tris ((meta And alicyclic compounds such as) (acryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane.

これら上記の重合性化合物の中でも、耐熱性の点で、多官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物や、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが好ましく、更に、硬化収縮が抑えられる点で、脂環式構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物、脂環式構造を有する多官能(メタ)アクリレート系化合物であるビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレートが好ましく、これらを併用することが特に好ましい。 Among these polymerizable compounds, in terms of heat resistance, polyfunctional urethane (meth) acrylate compounds and bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate Bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate are preferable, and further, shrinkage by curing Bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1. Which is a polyfunctional urethane (meth) acrylate compound having an alicyclic structure and a polyfunctional (meth) acrylate compound having an alicyclic structure. 0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate Relate is preferable, and it is particularly preferable to use these in combination.

本発明で好適に使用される多官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、ポリイソシアネート系化合物と水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物を、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させて得られるものであることが好ましい。   As a polyfunctional urethane (meth) acrylate-based compound suitably used in the present invention, for example, a polyisocyanate-based compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate-based compound may be used, if necessary, using a catalyst such as dibutyltin dilaurate. It is preferable that it is obtained by reacting.

ポリイソシアネート系化合物の具体例としては、例えば、エチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族系ポリイソシアネート系化合物、イソホロンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、ノルボルナンイソシアナトメチル、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン、2,2−ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)プロパン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの3量体化合物などの脂環構造を有するポリイソシアネート系化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香環を有するポリイソシアネート系化合物などが挙げられる。 Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic polyisocyanate compounds such as ethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ]. Decane, norbornane isocyanatomethyl, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, 2,2-bis (4-isocyanate) Natocyclohexyl) propane, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, polyisocyanate compounds having an alicyclic structure such as isophorone diisocyanate trimer compound, and diphenylmethane diisocyanate Examples thereof include polyisocyanate compounds having an aromatic ring such as nate, phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, and naphthalene diisocyanate.

水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate-based compound include, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- ( Examples include meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like.

ポリイソシアネート系化合物と、水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物との反応により得られる多官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物は、2種以上混合して用いても良い。これらの反応物の中では、吸水率の点から、脂環骨格を有することが好ましく、また硬化速度の点からアクリレート系化合物がさらに好ましく、特に耐熱性と曲げ弾性率の観点から2〜9官能、特には2〜6官能が好ましい。   Two or more polyfunctional urethane (meth) acrylate compounds obtained by the reaction of a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound may be used in combination. Among these reactants, it is preferable to have an alicyclic skeleton from the viewpoint of water absorption, and acrylate compounds are more preferable from the viewpoint of curing speed, and 2 to 9 functional groups are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance and bending elastic modulus. In particular, 2-6 functionalities are preferred.

また、重合性化合物として、耐熱性や剛性を阻害しない程度に、単官能(メタ)アクリレート系化合物を含有してもよい。
単官能(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)クリレート、グリシジル(メタ)クリレート等の脂肪族系化合物、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、トリシクロデシルオキシメチル(メタ)アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシメチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、2−メチル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−エチル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1−アダマンチル(メタ)アクリレート等の脂環式系化合物、ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族系化合物、単官能エポキシ(メタ)アクリレート系化合物、単官能ウレタン(メタ)アクリレート系化合物、単官能ポリエステル(メタ)アクリレート系化合物、単官能ポリエーテル(メタ)アクリレート系化合物等が挙げられる。
これらの単官能(メタ)アクリレート系化合物は、単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Moreover, you may contain a monofunctional (meth) acrylate type compound as a polymeric compound to such an extent that heat resistance and rigidity are not inhibited.
Examples of monofunctional (meth) acrylate compounds include ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl ( Aliphatic compounds such as meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclodecyl (Meth) acrylate, tricyclodecyloxymethyl (meth) acrylate, tricyclodecyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxymethyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, 2-ethyl-2- Alicyclic compounds such as adamantyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, aromatic compounds such as benzyl (meth) acrylate, monofunctional epoxy (meth) acrylate compounds, monofunctional urethanes Examples include (meth) acrylate compounds, monofunctional polyester (meth) acrylate compounds, and monofunctional polyether (meth) acrylate compounds.
These monofunctional (meth) acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらの単官能(メタ)アクリレート系化合物は、光重合性組成物[I]100重量部に対して、通常50重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には30重量部以下、特には20重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる成形体の耐熱性や剛性が低下する傾向がある。   These monofunctional (meth) acrylate compounds are preferably used in a proportion of usually 50 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less, particularly 100 parts by weight of the photopolymerizable composition [I]. Is preferably 20 parts by weight or less. When there is too much this usage-amount, there exists a tendency for the heat resistance of the molded object obtained and rigidity to fall.

更に、本発明の光重合性組成物[I]は、耐熱性や剛性を阻害しない程度に多官能メルカプタン化合物を添加しても良い。   Furthermore, you may add a polyfunctional mercaptan compound to the photopolymerizable composition [I] of this invention to such an extent that heat resistance and rigidity are not inhibited.

多官能メルカプタン化合物としては、例えば、ペンタエリスルトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネートなどが挙げられる。これらの多官能メルカプタン系化合物は、光重合性組成物100重量部に対して、通常20重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には10重量部以下、特には5重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる成形体の耐熱性や剛性が低下する傾向がある。   Examples of the polyfunctional mercaptan compound include pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, and the like. These polyfunctional mercaptan-based compounds are preferably used in a proportion of usually 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, particularly 5 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable composition. preferable. When there is too much this usage-amount, there exists a tendency for the heat resistance of the molded object obtained and rigidity to fall.

本発明で用いられる光重合開始剤としては、活性エネルギー線の照射によってラジカルを発生し得るものであれば特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することができる。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどの光重合開始剤が特に好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited as long as it can generate radicals by irradiation with active energy rays, and various photopolymerization initiators can be used. Examples include benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin propyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, and the like. Among these, photopolymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide are particularly preferable. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

これらの光重合開始剤は、重合性化合物100重量部に対して、通常0.1〜10重量部の割合で使用されることが好ましく、更には0.2〜5重量部、特には0.2〜3重量部が好ましい。かかる使用量が少なすぎると重合速度が低下し、重合が十分に進行しない傾向があり、多すぎると得られる樹脂成形体の光線透過率が低下(黄変)する傾向がある。   These photopolymerization initiators are preferably used at a ratio of usually 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.2 to 5 parts by weight, and particularly preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound. 2-3 parts by weight are preferred. If the amount used is too small, the polymerization rate tends to decrease and polymerization does not proceed sufficiently. If the amount is too large, the light transmittance of the resulting resin molded product tends to decrease (yellowing).

また、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用しても良い。熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができ、例えば、ハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、ジt−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。   Moreover, you may use a thermal polymerization initiator together with a photoinitiator. As the thermal polymerization initiator, known compounds can be used, such as hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, and the like. Hydroperoxides, dialkyl peroxides such as di-t-butyl peroxide and dicumyl peroxide, peroxyesters such as t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy (2-ethylhexanoate), benzoylper Examples thereof include peroxides such as diacyl peroxides such as oxides, peroxycarbonates such as diisopropyl peroxycarbonate, peroxyketals, and ketone peroxides.

また、本発明で用いられる光重合性組成物[I]には、上記の重合性化合物及び光重合開始剤の他に、適宜、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増粘剤、帯電防止剤、難燃剤、消泡剤、着色剤、及び各種フィラーなどの補助成分を含有していても良い。   The photopolymerizable composition [I] used in the present invention includes, in addition to the polymerizable compound and the photopolymerization initiator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a thickener, an antistatic agent, You may contain auxiliary components, such as a flame retardant, an antifoamer, a coloring agent, and various fillers.

特に、本発明で使用される光重合性組成物[I]においては、紫外線吸収剤を含有することが、タッチパネルの耐光性の点から好ましい。
紫外線吸収剤の具体例としては、重合性化合物に溶解するものであれば特に限定されず、各種紫外線吸収剤を使用することができる。具体的には、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシベンゾエート系、シアノアクリレート系などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、重合性化合物との相溶性の点で、ベンゾフェノン系またはトリアゾール系、具体的には、(2−ヒドロキシ−4−オクチロキシ−フェニル)−フェニル−メタノン、2−ベンゾトリアゾール−2−イル−4−tert−オクチル−フェノール等の紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤の含有割合は、重合性化合物100重量部に対して、通常0.001〜1重量部であることが好ましく、特に好ましくは0.01〜0.1重量部である。かかる紫外線吸収剤が少なすぎると樹脂成形体の耐光性が低下する傾向があり、多すぎると樹脂成形体の光線透過率が低下するため光電変換効率が低くなる傾向がある。
In particular, the photopolymerizable composition [I] used in the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of light resistance of the touch panel.
Specific examples of the ultraviolet absorber are not particularly limited as long as they are soluble in the polymerizable compound, and various ultraviolet absorbers can be used. Specific examples include salicylic acid ester, benzophenone, triazole, hydroxybenzoate, and cyanoacrylate. These ultraviolet absorbers may be used in combination. Among these, in terms of compatibility with the polymerizable compound, benzophenone or triazole, specifically (2-hydroxy-4-octyloxy-phenyl) -phenyl-methanone, 2-benzotriazol-2-yl Ultraviolet absorbers such as -4-tert-octyl-phenol are preferred. It is preferable that the content rate of a ultraviolet absorber is 0.001-1 weight part normally with respect to 100 weight part of polymeric compounds, Most preferably, it is 0.01-0.1 weight part. When the amount of the ultraviolet absorber is too small, the light resistance of the resin molded product tends to be lowered. When the amount is too large, the light transmittance of the resin molded product is lowered and the photoelectric conversion efficiency tends to be lowered.

かくして上記の光硬化性組成物[I]を光硬化することにより、本発明で用いられる樹脂成形体が得られる。   Thus, the resin molding used by this invention is obtained by photocuring said photocurable composition [I].

樹脂成形体の厚さは、プラスチック基板の剛性に直接影響する。厚さが下限値未満では、たわみやすくタッチパネルの形状維持が困難になり、逆に、上限値を超えると、タッチパネルの軽量化が困難である。厚さの好ましい範囲は0.2〜0.7mm、より好ましくは0.2〜0.5mm、特に好ましくは0.2〜0.4mmである。   The thickness of the resin molding directly affects the rigidity of the plastic substrate. If the thickness is less than the lower limit, it is easy to bend and it is difficult to maintain the shape of the touch panel. Conversely, if the thickness exceeds the upper limit, it is difficult to reduce the weight of the touch panel. The preferable range of the thickness is 0.2 to 0.7 mm, more preferably 0.2 to 0.5 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.4 mm.

アンチニュートンリング機能は、樹脂成形体の透明導電膜が形成される側の面(A)に微細な凹凸を形成することにより付与される。この凹凸面(A)の表面粗さ(Ra)が下限値未満では、十分なアンチニュートンリング機能が発現せず、逆に、上限値を超えると、光散乱によりタッチパネル等のパネルの透明性が低下することとなる。表面粗さ(Ra)の好ましい範囲は60〜120nm、より好ましくは70〜110nm、特に好ましくは80〜100nmである。   The anti-Newton ring function is imparted by forming fine irregularities on the surface (A) on the side where the transparent conductive film of the resin molded body is formed. When the surface roughness (Ra) of the uneven surface (A) is less than the lower limit value, sufficient anti-Newton ring function does not appear. Conversely, when the surface roughness (Ra) exceeds the upper limit value, the transparency of a panel such as a touch panel is caused by light scattering. Will be reduced. A preferable range of the surface roughness (Ra) is 60 to 120 nm, more preferably 70 to 110 nm, and particularly preferably 80 to 100 nm.

本発明において、アンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面(A)は、(1)凹凸を有する型に光重合性組成物[I]を接触させて、活性エネルギー線を照射することにより硬化させる転写方式により形成させる方法や、(2)光硬化性組成物[I]を用いて一旦半硬化の樹脂成形体を形成した後に、凹凸を有する型を用いてプレスなどして転写し、更に再硬化させる方法等が挙げられ、特に限定されるものではないが、低コスト化、生産性の点で特に(1)の方法が好ましい。   In the present invention, the surface (A) on which irregularities having an anti-Newton ring function are formed is obtained by (1) bringing the photopolymerizable composition [I] into contact with the mold having irregularities and irradiating active energy rays. A method of forming by a transfer method of curing, (2) once forming a semi-cured resin molded body using the photocurable composition [I], and then transferring by pressing using a mold having irregularities, Further examples include a method of re-curing and the like. Although not particularly limited, the method (1) is particularly preferable from the viewpoint of cost reduction and productivity.

即ち、特定の表面粗さを有する型の微細な凹凸を、樹脂成形体の一方の面(A)に転写することにより得られる。型の表面粗さ(Ra)の好ましい範囲は50〜150nm、より好ましくは60〜120nm、更に好ましくは70〜110nm、特に好ましくは80〜100nmである。   That is, it is obtained by transferring the fine irregularities of the mold having a specific surface roughness to one surface (A) of the resin molded body. A preferable range of the surface roughness (Ra) of the mold is 50 to 150 nm, more preferably 60 to 120 nm, still more preferably 70 to 110 nm, and particularly preferably 80 to 100 nm.

型の材質は特に限定されず、ガラス製、金属製、樹脂製のものを使用することができる。これらの中では、活性エネルギー線の透光性の点で、ガラス製もしくは透明樹脂製の型が好ましい。不透明な型を用いる場合は、反対面から活性エネルギー線を照射する。また、型の表面粗さを上記した範囲内で、樹脂成形体の脱型性を向上するために、型の表面に剥離剤を塗布することも可能である。   The material of the mold is not particularly limited, and those made of glass, metal, or resin can be used. Among these, a glass or transparent resin mold is preferable in terms of translucency of active energy rays. When an opaque mold is used, active energy rays are irradiated from the opposite surface. Further, a release agent can be applied to the surface of the mold in order to improve the demolding property of the resin molded body within the above-described range of the surface roughness of the mold.

本発明で用いられる樹脂成形体は、光重合性組成物[I]を用いて一旦半硬化の樹脂成形体を形成した後に、かかる半硬化の樹脂成形体を2枚のうち少なくとも一方の面が微細な凹凸面を有する型の間に設置しプレスなどして転写させ、更に再硬化する方法などもあるが、好ましくは、光重合性組成物[I]を、2枚のうち少なくとも一方の面が微細な凹凸面を有する型の間に設け、両面もしくは片面から活性エネルギー線を照射して、硬化させることにより製造される。   The resin molded body used in the present invention, once formed a semi-cured resin molded body using the photopolymerizable composition [I], then at least one surface of the semi-cured resin molded body has two surfaces. There is a method of placing between a mold having a fine uneven surface, transferring it by pressing or the like, and further re-curing, but preferably, the photopolymerizable composition [I] is applied to at least one surface of two sheets. Is provided between molds having fine irregular surfaces, and is produced by irradiating with active energy rays from both sides or one side and curing.

活性エネルギー線の照射は、微細な凹凸形状の転写精度を向上させるため、凹凸を有する型の面側からなされることが好ましい。そして、更に、両面から照射して硬化を完了させることが好ましい。硬化の促進や完了のために、活性エネルギーの照射時や照射後に、樹脂成形体を加熱することも可能である。   The irradiation with active energy rays is preferably performed from the surface side of the mold having irregularities in order to improve the transfer accuracy of the fine irregularities. Further, it is preferable to complete the curing by irradiation from both sides. In order to accelerate or complete the curing, the resin molded body can be heated at the time of irradiation of active energy or after irradiation.

使用される活性エネルギー線としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、X線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射による硬化が有利である。紫外線照射における光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が通常使用される。照射エネルギーとしては特に限定されないが、通常1〜100J/cm2程度照射すればよい。 As the active energy rays used, far ultraviolet rays, ultraviolet rays, near ultraviolet rays, infrared rays and other electromagnetic waves, X rays, γ rays and other electromagnetic waves, as well as electron beams, proton rays, neutron rays, etc. can be used. Curing by ultraviolet irradiation is advantageous because of the availability of the irradiation device and the price. As a light source in ultraviolet irradiation, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is usually used. Although it does not specifically limit as irradiation energy, Usually, what is necessary is just to irradiate about 1-100 J / cm < 2 >.

本発明で使用される光重合性組成物[I]は特に限定されないが、型から微細な凹凸を精度良く転写できる観点から、23℃における粘度が10〜1000mPa・sであることが好ましい。光重合性組成物の粘度が低すぎると、重合後の樹脂成形体を型から剥離するのが困難となる傾向があり、逆に、高すぎると転写精度が低下する傾向がある。粘度の好ましい範囲は20〜800mPa・s、より好ましくは30〜700mPa・s、更に好ましくは40〜600mPa・s、特に好ましくは50〜500mPa・sである。   The photopolymerizable composition [I] used in the present invention is not particularly limited, but preferably has a viscosity of 10 to 1000 mPa · s at 23 ° C. from the viewpoint of accurately transferring fine irregularities from the mold. If the viscosity of the photopolymerizable composition is too low, it tends to be difficult to peel the resin molded product after polymerization from the mold. Conversely, if the viscosity is too high, the transfer accuracy tends to decrease. A preferable range of the viscosity is 20 to 800 mPa · s, more preferably 30 to 700 mPa · s, still more preferably 40 to 600 mPa · s, and particularly preferably 50 to 500 mPa · s.

本発明で用いられる樹脂成形体は、透明であることが好ましく、ヘイズが5〜15%であることが、アンチニュートンリング機能の点から好ましい。ヘイズが小さすぎると十分なアンチニュートンリング機能が発揮されない傾向があり、大きすぎるとタッチパネルの光線透過率が低下する傾向がある。ヘイズの好ましい範囲は6〜14%、より好ましくは7〜13%、特に好ましくは8〜12%である。   The resin molded body used in the present invention is preferably transparent and preferably has a haze of 5 to 15% from the viewpoint of the anti-Newton ring function. If the haze is too small, the sufficient anti-Newton ring function tends not to be exhibited, and if it is too large, the light transmittance of the touch panel tends to decrease. The preferable range of haze is 6 to 14%, more preferably 7 to 13%, and particularly preferably 8 to 12%.

本発明の樹脂成形体は、ガラス転移温度が150℃以上であり、かつ曲げ弾性率が4GPa以上であることが、耐熱性及び剛性の点から好ましい。   The resin molded body of the present invention preferably has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher and a flexural modulus of 4 GPa or higher from the viewpoint of heat resistance and rigidity.

ガラス転移温度が小さすぎると、高性能な透明電極を形成することが困難となる傾向がある。例えば、タッチパネルにおける耐摺動性や耐湿性を確保するためにはITOの結晶化が有効であるが、この結晶化のためには150℃以上での加熱が必要であり、プラスチック基板の耐熱性が低い場合には、うねりが生じたり、色相が悪化する傾向がある。ガラス転移温度の好ましい範囲は180〜500℃、より好ましくは200〜400℃、更に好ましくは220〜350℃である。かかるガラス転移温度を上記範囲に調整するに当たっては、上述した光重合性組成物[I]の種類や成分の配合量を適宜コントロールする手法が挙げられる。例えば、アクリレート系化合物とメタクリレート系化合物とを併用し、その混合比率においてメタクリレート系化合物のほうを多めに配合するなどが挙げられる。   If the glass transition temperature is too low, it tends to be difficult to form a high-performance transparent electrode. For example, crystallization of ITO is effective to ensure the sliding resistance and moisture resistance of the touch panel, but heating at 150 ° C. or higher is necessary for this crystallization, and the heat resistance of the plastic substrate When it is low, there is a tendency that undulation occurs or the hue deteriorates. The preferable range of the glass transition temperature is 180 to 500 ° C, more preferably 200 to 400 ° C, still more preferably 220 to 350 ° C. In adjusting the glass transition temperature to the above range, a method of appropriately controlling the type of the above-described photopolymerizable composition [I] and the blending amount of the components can be used. For example, an acrylate-based compound and a methacrylate-based compound are used in combination, and a larger amount of the methacrylate-based compound is blended in the mixing ratio.

曲げ弾性率が小さすぎると、樹脂成形体の剛性が不足する傾向があり、タッチパネルに変形が生じやすくなる傾向がある。曲げ弾性率は4〜6GPaであることが好ましく、より好ましくは4.1〜5.5GPa、更に好ましくは4.2〜5GPaである。かかる曲げ弾性率を上記範囲に調整するに当たっては、上述した光重合性組成物[I]の種類や成分の配合量を適宜コントロールする手法が挙げられる。例えば、2官能(メタ)アクリレート系化合物と3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物とを併用し、その混合比率において2官能(メタ)アクリレート系化合物のほうを多めに配合するなどが挙げられる。   If the flexural modulus is too small, the rigidity of the resin molded body tends to be insufficient, and the touch panel tends to be easily deformed. The flexural modulus is preferably 4 to 6 GPa, more preferably 4.1 to 5.5 GPa, and still more preferably 4.2 to 5 GPa. In adjusting the bending elastic modulus to the above range, a method of appropriately controlling the kind of the above-described photopolymerizable composition [I] and the amount of the component is mentioned. For example, a bifunctional (meth) acrylate compound and a trifunctional or higher (meth) acrylate compound are used in combination, and the bifunctional (meth) acrylate compound is blended more in the mixing ratio.

本発明の積層体における透明導電膜は、該樹脂成形体のアンチニュートンリング機能面(A)に形成され、表面抵抗値が10〜1000Ω/□であることが好ましい。より好ましくは100〜900Ω/□が好ましく、更に好ましくは200〜800Ω/□、特に好ましくは300〜700Ω/□である。かかる表面抵抗値が高すぎると導電性が不足する傾向があり、小さすぎるとタッチパネルの位置検出精度が低下する傾向がある。   The transparent conductive film in the laminate of the present invention is preferably formed on the anti-Newton ring functional surface (A) of the resin molding and has a surface resistance value of 10 to 1000Ω / □. More preferably, it is 100-900 ohm / square, More preferably, it is 200-800 ohm / square, Especially preferably, it is 300-700 ohm / square. If the surface resistance value is too high, the conductivity tends to be insufficient, and if it is too small, the position detection accuracy of the touch panel tends to decrease.

透明導電膜としては、インジウムとスズの酸化物であるITO膜が好ましい。膜厚は50〜500Å、より好ましくは100〜400Å、更に好ましくは150〜300Åである。かかる膜厚が薄すぎると導電性が不十分となる傾向があり、厚すぎると基板に反りが発生する傾向がある。   As the transparent conductive film, an ITO film which is an oxide of indium and tin is preferable. The film thickness is 50 to 500 mm, more preferably 100 to 400 mm, and still more preferably 150 to 300 mm. If the film thickness is too thin, the conductivity tends to be insufficient, and if it is too thick, the substrate tends to warp.

更に、本発明においては、上記の樹脂成形体のアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面(A)の反対面(B)(透明導電膜が形成されていない側の面)に、防眩機能を有する微細な凹凸を形成することが好ましく、JIS B0601:2001における表面粗さ(Ra)が50〜150nmであることが好ましい。表面粗さ(Ra)のより好ましい範囲は60〜140nm、更に好ましくは70〜130nm、特に好ましくは80〜120nmである。   Furthermore, in the present invention, the surface (B) (surface on which the transparent conductive film is not formed) opposite to the surface (A) on which the unevenness having the anti-Newton ring function of the resin molded body is formed is protected. It is preferable to form fine irregularities having a glare function, and the surface roughness (Ra) in JIS B0601: 2001 is preferably 50 to 150 nm. A more preferable range of the surface roughness (Ra) is 60 to 140 nm, more preferably 70 to 130 nm, and particularly preferably 80 to 120 nm.

反対面(B)の微細な凹凸も、アンチニュートンリング機能を有する凹凸面(A)と同様にして製造することができる。特に、微細な凹凸を有する型に光重合性組成物[I]を接触させ、活性エネルギー線により硬化させる転写方式により形成することが、生産性、低コスト化の点で好ましい。すなわち、特定の表面粗さ(Ra)を有する型の微細な凹凸を、樹脂成形体の表面に転写することにより得られる。型の表面粗さ(Ra)の好ましい範囲は50〜150nm、より好ましくは60〜140nm、更に好ましくは70〜130nm、特に好ましくは80〜120nmである。   Fine irregularities on the opposite surface (B) can also be produced in the same manner as the irregular surface (A) having an anti-Newton ring function. In particular, it is preferable from the viewpoint of productivity and cost reduction that the photopolymerizable composition [I] is brought into contact with a mold having fine irregularities and is cured by an active energy ray. That is, it is obtained by transferring fine irregularities of a mold having a specific surface roughness (Ra) to the surface of the resin molded body. A preferable range of the surface roughness (Ra) of the mold is 50 to 150 nm, more preferably 60 to 140 nm, still more preferably 70 to 130 nm, and particularly preferably 80 to 120 nm.

反対面(B)の凹凸形成に用いられる型の材質は特に限定されず、ガラス製、金属製、樹脂製のものを使用することができる。これらの中では、活性エネルギー線の透光性の点で、ガラス製もしくは透明樹脂製の型が好ましい。不透明な型を用いる場合は、反対面(A面)から活性エネルギー線を照射する。また、型の表面粗さを上記した範囲内で、樹脂成形体の脱型性を向上するために、型の表面に剥離剤を塗布することも可能である。   The material of the type | mold used for unevenness | corrugation formation of an opposite surface (B) is not specifically limited, The thing made from glass, metal, and resin can be used. Among these, a glass or transparent resin mold is preferable in terms of translucency of active energy rays. When using an opaque type | mold, an active energy ray is irradiated from an opposite surface (A surface). Further, a release agent can be applied to the surface of the mold in order to improve the demolding property of the resin molded body within the above-described range of the surface roughness of the mold.

かくして得られる積層体を用いて、タッチパネル等のパネル用の透明電極付き基板とすることができる。   By using the laminate thus obtained, a substrate with a transparent electrode for a panel such as a touch panel can be obtained.

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
尚、例中「部」、「%」とあるのは、断りのない限り重量基準を意味する。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
In the examples, “parts” and “%” mean weight basis unless otherwise specified.

(1)表面粗さ(Ra)(nm)
JIS B0601:2001に準じて、東京精密社製「サーフコム570A」を用いて、樹脂成形体両面のRaを測定した(カットオフ:0.8μm、測定長:4mm)。
(1) Surface roughness (Ra) (nm)
According to JIS B0601: 2001, Ra on both surfaces of the resin molded product was measured using “Surfcom 570A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. (cutoff: 0.8 μm, measurement length: 4 mm).

(2)ヘイズ(%)
スガ試験機(株)製カラーコンピューターを用いて測定した。
(2) Haze (%)
It measured using the color computer by Suga Test Instruments Co., Ltd.

(3)ガラス転移温度(℃)
長さ20mm×幅5mmの試験片を用いて、レオロジ社製動的粘弾性装置「DVE−V4型 FTレオスペクトラー」の引っ張りモードを用いて、周波数10Hz、昇温速度3℃/分、歪0.025%で測定を行った。得られた複素弾性率の実数部(貯蔵弾性率)に対する虚数部(損失弾性率)の比(tanδ)を求め、このtanδの最大ピーク温度をガラス転移温度Tgとした。
(3) Glass transition temperature (° C)
Using a test piece having a length of 20 mm and a width of 5 mm, using a tensile mode of a dynamic viscoelastic device “DVE-V4 FT Rheospectr” manufactured by Rheology, a frequency of 10 Hz, a heating rate of 3 ° C./min, a strain Measurements were taken at 0.025%. The ratio (tan δ) of the imaginary part (loss elastic modulus) to the real part (storage elastic modulus) of the obtained complex elastic modulus was determined, and the maximum peak temperature of tan δ was defined as the glass transition temperature Tg.

(4)曲げ弾性率(GPa)
長さ25(mm)×幅10(mm)の試験片を用いて、島津製作所社製オートグラフAG−5kNE(支点間距離20mm、0.5mm/分)にて25℃で曲げ弾性率(GPa)を測定した。
(4) Flexural modulus (GPa)
Using a test piece of length 25 (mm) × width 10 (mm), bending modulus (GPa) at 25 ° C. with Autograph AG-5kNE (distance between fulcrums 20 mm, 0.5 mm / min) manufactured by Shimadzu Corporation ) Was measured.

(5)粘度(mPa・s)
芝浦システム社製B型粘度計「ビスメトロンVS−A1」を用いて、23℃、回転数60rpm(No.3回転子)で測定した。
(5) Viscosity (mPa · s)
Using a B-type viscometer “Bismetron VS-A1” manufactured by Shibaura System Co., Ltd., the measurement was performed at 23 ° C. and a rotational speed of 60 rpm (No. 3 rotor).

(6)表面抵抗値(Ω/□)
150mm角の試験片を用いて、三菱化学社製の4端子法抵抗測定器(ロレスターMP)を用いて測定した。
(6) Surface resistance (Ω / □)
It measured using the 4-terminal method resistance measuring device (Lorester MP) made from Mitsubishi Chemical Corporation using the test piece of 150 square mm.

(7)アンチニュートンリング機能
タッチパネルを目視で観察し、以下の通り評価した。
○・・・ニュートンリングが見えない
△・・・ニュートンリングがうっすら見える
×・・・ニュートンリングがはっきり見える
(7) Anti-Newton ring function The touch panel was visually observed and evaluated as follows.
○ ・ ・ ・ Newton ring is not visible △ ・ ・ ・ Newton ring is slightly visible × ・ ・ ・ Newton ring is clearly visible

<実施例1>
[光重合性組成物[I−1]の調製]
6官能の脂間骨格を有するウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製「UV7600B」)10部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)87部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート(淀化学製「PETP」)3部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(共同薬品株式会社製、「viosorb 130」)0.1部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティケミカルズ社製「Irgacure184」)1部を、60℃にて均一になるまで撹拌した後、10μmのフィルターで濾過して光重合性組成物[I−1]を得た。この組成物の粘度は200mPa・sである。
<Example 1>
[Preparation of Photopolymerizable Composition [I-1]]
10 parts of urethane acrylate having a hexafunctional interfacial skeleton (“UV7600B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate (Shin Nakamura Chemical) "DCP", 87 parts, pentaerythritol tetrakisthiopropionate ("PETP", Sakai Chemical Co., Ltd.), benzophenone ultraviolet absorber (Kyogaku Co., Ltd., "biosorb 130") 0.1 part , 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was stirred until uniform at 60 ° C., and then filtered through a 10 μm filter to obtain a photopolymerizable composition [I-1] Got. The viscosity of this composition is 200 mPa · s.

[樹脂成形体の作製]
表面粗さ(Ra)80nmの微細な凹凸を有するガラス面(A面側)と、表面粗さ(Ra)6nmの平滑な光学研磨ガラス面(B面側)を、内側に向けて対向させ、厚さ0.2mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、光重合性組成物[I−1]を23℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量10J/cm2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、長さ400mm、幅300mm、厚さ0.2mmの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ(Ra)は、アンチニュートンリング機能面(A面)が80nm、平滑面(B面)が6nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは8%、ガラス転移温度は250℃、曲げ弾性率は4.2GPaであった。
[Preparation of molded resin]
The glass surface (A surface side) having fine irregularities with a surface roughness (Ra) of 80 nm and the smooth optical polishing glass surface (B surface side) with a surface roughness (Ra) of 6 nm are faced inward, A photopolymerizable composition [I-1] is injected at 23 ° C. into a mold using a silicon plate having a thickness of 0.2 mm as a spacer, and ultraviolet rays are applied from both sides with a light intensity of 10 J / cm 2 using a metal halide lamp. Irradiated.
The obtained resin molded body was heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body having a length of 400 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 0.2 mm. The surface roughness (Ra) of the obtained resin molding was 80 nm for the anti-Newton ring functional surface (A surface) and 6 nm for the smooth surface (B surface). Moreover, the haze of the obtained resin molding was 8%, the glass transition temperature was 250 degreeC, and the bending elastic modulus was 4.2 GPa.

[積層体の作製]
得られた樹脂成形体のアンチニュートンリング機能面(A面)に、スパッタ法にて150℃で厚さ200ÅのITO膜を成膜して、積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[Production of laminate]
An ITO film having a thickness of 200 mm was formed at 150 ° C. on the anti-Newton ring functional surface (A surface) of the obtained resin molded body by sputtering to obtain a laminate (substrate with a transparent electrode). The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.

[タッチパネルの作製]
得られた透明電極付き基板の透明電極面を上部電極、汎用の透明電極付きガラス基板の透明電極面を下部電極とし、両電極を0.2mmの間隔をおいて対向配置してタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
[Production of touch panel]
The transparent electrode surface of the obtained substrate with a transparent electrode was used as the upper electrode, the transparent electrode surface of the glass substrate with a general-purpose transparent electrode was used as the lower electrode, and both electrodes were placed facing each other with an interval of 0.2 mm to produce a touch panel. . Newton rings were not visible on this touch panel.

<実施例2>
[樹脂成形体の作製]
表面粗さ(Ra)100nmの微細な凹凸を有するガラス面(A面側)と、表面粗さ(Ra)6nmの平滑な光学研磨ガラス面(B面側)を、内側に向けて対向させ、厚さ0.2mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例1で得られた光重合性組成物[I−1]を23℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量10J/cm2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、長さ400mm、幅300mm、厚さ0.2mmの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ(Ra)は、アンチニュートンリング機能面(A面)が100nm、平滑面(B面)が6nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは10%、ガラス転移温度は250℃、曲げ弾性率は4.2GPaであった。
<Example 2>
[Preparation of molded resin]
A glass surface (A surface side) having fine irregularities with a surface roughness (Ra) of 100 nm and a smooth optical polished glass surface (B surface side) with a surface roughness (Ra) of 6 nm are faced inward, The photopolymerizable composition [I-1] obtained in Example 1 was poured at 23 ° C. into a mold using a silicon plate having a thickness of 0.2 mm as a spacer, and the amount of light was measured from both sides using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated at 10 J / cm 2 .
The obtained resin molded body was heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body having a length of 400 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 0.2 mm. The surface roughness (Ra) of the obtained resin molding was 100 nm for the anti-Newton ring functional surface (A surface) and 6 nm for the smooth surface (B surface). Moreover, the haze of the obtained resin molding was 10%, the glass transition temperature was 250 ° C., and the flexural modulus was 4.2 GPa.

[積層体の作製]
実施例1と同様にして積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[タッチパネルの作製]
実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
[Production of laminate]
A laminate (substrate with a transparent electrode) was obtained in the same manner as Example 1. The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.
[Production of touch panel]
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1. Newton rings were not visible on this touch panel.

<実施例3>
[樹脂成形体の作製]
表面粗さ(Ra)50nmの微細な凹凸を有するガラス面(A面側)と、表面粗さ(Ra)6nmの平滑な光学研磨ガラス面(B面側)を、内側に向けて対向させ、厚さ0.2mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例1で得られた光重合性組成物[I−1]を23℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量10J/cm2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、長さ400mm、幅300mm、厚さ0.2mmの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ(Ra)は、アンチニュートンリング機能面(A面)が50nm、平滑面(B面)が6nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは5%、ガラス転移温度は250℃、曲げ弾性率は4.2GPaであった。
<Example 3>
[Preparation of molded resin]
A glass surface (A surface side) having fine irregularities with a surface roughness (Ra) of 50 nm and a smooth optical polished glass surface (B surface side) with a surface roughness (Ra) of 6 nm are faced inward, The photopolymerizable composition [I-1] obtained in Example 1 was poured at 23 ° C. into a mold using a silicon plate having a thickness of 0.2 mm as a spacer, and the amount of light was measured from both sides using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated at 10 J / cm 2 .
The obtained resin molded body was heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body having a length of 400 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 0.2 mm. The surface roughness (Ra) of the obtained resin molded body was 50 nm for the anti-Newton ring functional surface (A surface) and 6 nm for the smooth surface (B surface). Moreover, the haze of the obtained resin molding was 5%, the glass transition temperature was 250 degreeC, and the bending elastic modulus was 4.2 GPa.

[積層体の作製]
実施例1と同様にして積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[タッチパネルの作製]
実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルには、ニュートンリングがうっすら見えた。
[Production of laminate]
A laminate (substrate with a transparent electrode) was obtained in the same manner as Example 1. The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.
[Production of touch panel]
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1. I could see the Newton ring on this touch panel.

<実施例4>
[樹脂成形体の作製]
表面粗さ(Ra)80nmの微細な凹凸を有するガラス面(A面側)と、表面粗さ(Ra)100nmの微細な凹凸を有するガラス面(B面側)とを、内側に向けて対向させ、厚さ0.2mmのシリコン板をスペーサーとした成形型に、実施例1の光重合性組成物を23℃で注液し、メタルハライドランプを用いて、両面から光量10J/cm2で紫外線を照射した。
得られた樹脂成形体を、200℃の真空オーブン中で2時間加熱して、長さ400mm、幅300mm、厚さ0.2mmの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ(Ra)は、アンチニュートンリング機能面(A面)が80nm、防眩機能面(B面)が90nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは15%、ガラス転移温度は250℃、曲げ弾性率は4.2GPaであった。
<Example 4>
[Preparation of molded resin]
The glass surface (A side) having fine irregularities with a surface roughness (Ra) of 80 nm and the glass surface (B side) having fine irregularities with a surface roughness (Ra) of 100 nm are facing inward. The photopolymerizable composition of Example 1 was poured into a mold using a silicon plate having a thickness of 0.2 mm as a spacer at 23 ° C., and ultraviolet rays were emitted from both sides with a light intensity of 10 J / cm 2 using a metal halide lamp. Was irradiated.
The obtained resin molded body was heated in a vacuum oven at 200 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body having a length of 400 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 0.2 mm. The surface roughness (Ra) of the obtained resin molding was 80 nm for the anti-Newton ring functional surface (A surface) and 90 nm for the antiglare functional surface (B surface). Moreover, the haze of the obtained resin molding was 15%, the glass transition temperature was 250 degreeC, and the bending elastic modulus was 4.2 GPa.

[積層体の作製]
実施例1と同様にして積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[タッチパネルの作製]
実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。また、防眩機能も得られ、視認性は良好であった。
[Production of laminate]
A laminate (substrate with a transparent electrode) was obtained in the same manner as Example 1. The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.
[Production of touch panel]
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1. Newton rings were not visible on this touch panel. Moreover, the glare-proof function was also acquired and visibility was favorable.

<実施例5>
[光重合性組成物[I−2]の調製]
6官能の脂間骨格を有するウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製「UV7600B」)30部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)67部、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネート(淀化学製「PETP」)3部、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(共同薬品株式会社製、「viosorb 130」)0.1部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャリティケミカルズ社製「Irgacure184」)1部を、60℃にて均一になるまで撹拌した後、10μmのフィルターで濾過して光重合性組成物[I−2]を得た。この組成物の粘度は1500mPa・sである。
<Example 5>
[Preparation of Photopolymerizable Composition [I-2]]
30 parts of urethane acrylate having a hexafunctional interfacial skeleton (“UV7600B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate (Shin Nakamura Chemical) "DCP", 67 parts, pentaerythritol tetrakisthiopropionate ("PET", Sakai Chemical), 0.1 part of a benzophenone UV absorber (Kyo Pharmaceutical Co., Ltd., "biosorb 130") , 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was stirred until uniform at 60 ° C., and then filtered through a 10 μm filter to obtain a photopolymerizable composition [I-2] Got. The viscosity of this composition is 1500 mPa · s.

[樹脂成形体の作製]
光硬化性組成物[I−2]を用いて、実施例1と同様にして樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体の表面粗さ(Ra)は、アンチニュートンリング機能面(A面)が70nm、平滑面(B面)が6nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは7%、ガラス転移温度は270℃、曲げ弾性率は4.5GPaであった。
[積層体の作製]
実施例1と同様にして積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[タッチパネルの作製]
実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルに、ニュートンリングは見えなかった。
[Preparation of molded resin]
A resin molded body was obtained in the same manner as in Example 1 using the photocurable composition [I-2]. The surface roughness (Ra) of the obtained resin molded body was 70 nm for the anti-Newton ring functional surface (A surface) and 6 nm for the smooth surface (B surface). Moreover, the haze of the obtained resin molding was 7%, the glass transition temperature was 270 ° C., and the flexural modulus was 4.5 GPa.
[Production of laminate]
A laminate (substrate with a transparent electrode) was obtained in the same manner as Example 1. The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.
[Production of touch panel]
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1. Newton rings were not visible on this touch panel.

<比較例1>
[樹脂成形体の作製]
両面に表面粗さ(Ra)6nmの平滑な光学研磨ガラス面を用いる以外は実施例1と同様にして樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体は両面とも平滑であり、表面粗さ(Ra)は両面とも6nmであった。また、得られた樹脂成形体のヘイズは0.4%、ガラス転移温度は250℃、曲げ弾性率は4.2GPaであった。
<Comparative Example 1>
[Preparation of molded resin]
A resin molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that smooth optically polished glass surfaces having a surface roughness (Ra) of 6 nm were used on both sides. The obtained resin molding was smooth on both sides, and the surface roughness (Ra) was 6 nm on both sides. Moreover, the haze of the obtained resin molding was 0.4%, the glass transition temperature was 250 degreeC, and the bending elastic modulus was 4.2 GPa.

[積層体の作製]
実施例1と同様にして積層体(透明電極付き基板)を得た。かかる透明電極の表面抵抗値は500Ω/□であった。
[タッチパネルの作製]
実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。このタッチパネルには、はっきりとしたニュートンリングが見えた。
[Production of laminate]
A laminate (substrate with a transparent electrode) was obtained in the same manner as Example 1. The surface resistance value of the transparent electrode was 500Ω / □.
[Production of touch panel]
A touch panel was produced in the same manner as in Example 1. A clear Newton ring was visible on this touch panel.

実施例及び比較例の評価結果を表1に示す。   The evaluation results of Examples and Comparative Examples are shown in Table 1.

Figure 2008155387
Figure 2008155387

本発明の積層体は、様々な光学材料、電子材料に有利に利用できる。例えば、窓材などの建材用途、液晶基板、有機/無機EL用基板、電子ペーパー用基板、導光板、位相差板、タッチパネル、光学フィルター等、各種ディスプレイ用部材、光ディスク基板を初めとする記憶・記録用途、薄膜電池基板、太陽電池基板などのエネルギー用途、光導波路などの光通信用途、更には機能性フィルム・シート、各種光学フィルム・シート用途に利用できる。   The laminate of the present invention can be advantageously used for various optical materials and electronic materials. For example, building materials such as window materials, liquid crystal substrates, organic / inorganic EL substrates, electronic paper substrates, light guide plates, phase difference plates, touch panels, optical filters, etc. It can be used for recording applications, energy applications such as thin film battery substrates and solar cell substrates, optical communication applications such as optical waveguides, and functional films / sheets and various optical films / sheets.

Claims (9)

光重合性組成物[I]を硬化して得られる厚さ0.1〜1mmの樹脂成形体の一方の面(A)に、透明導電膜が形成された積層体であり、かつ、樹脂成形体の面(A)がアンチニュートンリング機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ(Ra)が、JIS B0601:2001において50〜150nmであることを特徴とする積層体。 A laminate in which a transparent conductive film is formed on one surface (A) of a resin molded body having a thickness of 0.1 to 1 mm obtained by curing the photopolymerizable composition [I], and resin molding A laminate having a surface (A) having an anti-Newton ring function and a surface roughness (Ra) of 50 to 150 nm in JIS B0601: 2001. 樹脂成形体のヘイズが5〜15%であることを特徴とする請求項1記載の積層体。 The laminate according to claim 1, wherein the resin molded body has a haze of 5 to 15%. 樹脂成形体のガラス転移温度が150℃以上であり、かつ曲げ弾性率が4GPa以上であることを特徴とする請求項1または2記載の積層体。 The laminated body according to claim 1 or 2, wherein the resin molded body has a glass transition temperature of 150 ° C or higher and a flexural modulus of 4 GPa or higher. 光重合性組成物[I]の23℃における粘度が10〜1000mPa・sであることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の積層体。 The laminated body according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition [I] has a viscosity at 23 ° C. of 10 to 1000 mPa · s. 光重合性組成物[I]が、更に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the photopolymerizable composition [I] further contains an ultraviolet absorber. 樹脂成形体の面(A)の反対面(B)が、防眩機能を有する凹凸が形成された面であり、その表面粗さ(Ra)が、JIS B0601:2001において50〜150nmであることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載の積層体。 The surface (B) opposite to the surface (A) of the resin molded body is a surface on which irregularities having an antiglare function are formed, and the surface roughness (Ra) is 50 to 150 nm in JIS B0601: 2001. A laminate according to any one of claims 1 to 5. 樹脂成形体の面(A)の凹凸が、凹凸を有する型に光重合性組成物を接触させ、活性エネルギー線の照射により光重合性組成物を硬化させて凹凸を形成する転写方式により形成されることを特徴とする請求項1〜6いずれか記載の積層体。 The unevenness of the surface (A) of the resin molded body is formed by a transfer method in which the photopolymerizable composition is brought into contact with a mold having unevenness, and the photopolymerizable composition is cured by irradiation with active energy rays to form unevenness. The laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein: 透明導電膜の表面抵抗値が、10〜1000Ω/□であることを特徴とする請求項1〜7いずれか記載の積層体。 The surface resistance value of a transparent conductive film is 10-1000 ohms / square, The laminated body in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. タッチパネル用の透明電極付き基板として用いることを特徴とする請求項1〜8いずれか記載の積層体。 It uses as a board | substrate with a transparent electrode for touchscreens, The laminated body in any one of Claims 1-8 characterized by the above-mentioned.
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