JP2007278985A - 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム - Google Patents
光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007278985A JP2007278985A JP2006108855A JP2006108855A JP2007278985A JP 2007278985 A JP2007278985 A JP 2007278985A JP 2006108855 A JP2006108855 A JP 2006108855A JP 2006108855 A JP2006108855 A JP 2006108855A JP 2007278985 A JP2007278985 A JP 2007278985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analysis
- region
- measurement
- light
- light intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
【解決手段】 マイクロプレート20のウェル内に保持された試料からの光を測定する光測定装置1を、2次元の光検出画像を取得する画像取得部40と、光検出画像を含む測定データに対して解析処理を行うデータ解析装置50とを備えて構成する。そして、データ解析装置50において、光検出画像上でウェルに対応して設定される測定領域に対して、測定領域内での2次元の光強度分布と所定の光強度閾値とを比較することで、測定領域から解析処理の対象となる解析領域を抽出し、解析領域内での光強度のデータを解析データとして試料についての解析処理を行う。
【選択図】 図1
Description
解析領域での光強度/解析領域の面積
によって求めることができる。
解析画素での光強度の積分値/(解析画素数×1画素の面積)
によって求めることができる。
Data[Well][Pixel]
が選択される(S502)。
SData[Well][SampleNo]
として選択される(S504)。
D12=D10−D11
が導出される。
D23=D20−D21−D22
が導出される。
D35=(D30−D31−D32)/D33×(D33の平均値)
が導出される。
50…データ解析装置、51…解析処理部、52…平均光強度算出部、53…解析データ選択部、54…測定データ補正部、56…測定領域設定部、57…解析領域抽出部、58…閾値設定部、61…測定データ記憶部、62…領域データ記憶部、63…閾値データ記憶部、64…補正データ記憶部、71…表示装置、72…入力装置、73…モニタ、74…キーボード、75…マウス、80…バス、81…演算部、82…画像メモリ、83…インターフェース、84…プログラム記憶部、85…データ記憶部。
Claims (17)
- それぞれ試料を保持可能な複数のウェルが2次元アレイ状に配置されたマイクロプレートによって保持された状態で測定位置に配置された試料からの光を測定する光測定装置であって、
マイクロプレートのウェル内に保持された試料からの光を含む前記マイクロプレートの2次元光像を検出して、2次元の光検出画像を取得する画像取得手段と、
前記光検出画像を含む測定データに対して解析処理を行うデータ解析手段と
を備え、
前記データ解析手段は、
前記光検出画像に対し、前記マイクロプレートの複数の前記ウェルのそれぞれについて前記ウェルに対応する測定領域を設定する測定領域設定手段と、
前記光検出画像から得られる前記測定領域内での2次元の光強度分布と所定の光強度閾値とを比較することによって、前記測定領域から前記解析処理の対象となる解析領域を抽出する解析領域抽出手段と、
前記解析領域内での光強度のデータを解析データとして、前記試料についての前記解析処理を行う解析処理手段と
を有することを特徴とする光測定装置。 - 前記解析処理手段は、前記解析処理として前記解析領域内での光強度分布における平均光強度を算出する処理を行う平均光強度算出手段を有することを特徴とする請求項1記載の光測定装置。
- 前記データ解析手段は、前記解析領域抽出手段における前記解析領域の抽出に用いられる前記光強度閾値を設定する閾値設定手段を有することを特徴とする請求項1または2記載の光測定装置。
- 前記解析処理手段は、前記解析領域内での光強度のデータのみを前記解析データとして前記解析処理を行って、前記解析領域についての解析結果を得ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の光測定装置。
- 前記解析処理手段は、前記解析領域を含む前記測定領域内での光強度のデータを前記解析データとして前記解析処理を行い、その後に前記解析領域に応じて解析結果を選択することによって、前記解析領域についての解析結果を得ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の光測定装置。
- 前記画像取得手段は、複数の画素が2次元に配列された2次元画素構造を有する撮像装置を含み、
前記解析領域抽出手段は、前記撮像装置での前記複数の画素に対応し前記光検出画像を構成する複数の画素成分のそれぞれについて前記解析処理の対象とするか否かを設定することによって前記解析領域を抽出することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の光測定装置。 - 前記解析領域抽出手段は、前記光強度分布中で前記光強度閾値を超える光強度を有する領域を抽出して前記解析領域とするとともに、前記光強度閾値よりも高い値に設定された第2の光強度閾値を参照し、前記第2の光強度閾値を超える光強度を有する領域を前記解析領域から除外することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載の光測定装置。
- 前記解析領域抽出手段は、単一の前記測定領域に対する前記解析領域として、複数の解析領域を抽出するとともに、
前記解析処理手段は、前記複数の解析領域のそれぞれについて、解析領域内での光強度のデータを前記解析データとして、前記試料についての前記解析処理を別個に行うことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の光測定装置。 - それぞれ試料を保持可能な複数のウェルが2次元アレイ状に配置されたマイクロプレートによって保持された状態で測定位置に配置された試料からの光を測定する光測定方法であって、
マイクロプレートのウェル内に保持された試料からの光を含む前記マイクロプレートの2次元光像を検出して、2次元の光検出画像を取得する画像取得ステップと、
前記光検出画像を含む測定データに対して解析処理を行うデータ解析ステップと
を備え、
前記データ解析ステップは、
前記光検出画像に対し、前記マイクロプレートの複数の前記ウェルのそれぞれについて前記ウェルに対応する測定領域を設定する測定領域設定ステップと、
前記光検出画像から得られる前記測定領域内での2次元の光強度分布と所定の光強度閾値とを比較することによって、前記測定領域から前記解析処理の対象となる解析領域を抽出する解析領域抽出ステップと、
前記解析領域内での光強度のデータを解析データとして、前記試料についての前記解析処理を行う解析処理ステップと
を含むことを特徴とする光測定方法。 - 前記解析処理ステップは、前記解析処理として前記解析領域内での光強度分布における平均光強度を算出する処理を行う平均光強度算出ステップを含むことを特徴とする請求項9記載の光測定方法。
- 前記データ解析ステップは、前記解析領域抽出ステップにおける前記解析領域の抽出に用いられる前記光強度閾値を設定する閾値設定ステップを含むことを特徴とする請求項9または10記載の光測定方法。
- 前記解析処理ステップは、前記解析領域内での光強度のデータのみを前記解析データとして前記解析処理を行って、前記解析領域についての解析結果を得ることを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項記載の光測定方法。
- 前記解析処理ステップは、前記解析領域を含む前記測定領域内での光強度のデータを前記解析データとして前記解析処理を行い、その後に前記解析領域に応じて解析結果を選択することによって、前記解析領域についての解析結果を得ることを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項記載の光測定方法。
- 前記画像取得ステップにおいて、複数の画素が2次元に配列された2次元画素構造を有する撮像装置を用い、
前記解析領域抽出ステップは、前記撮像装置での前記複数の画素に対応し前記光検出画像を構成する複数の画素成分のそれぞれについて前記解析処理の対象とするか否かを設定することによって前記解析領域を抽出することを特徴とする請求項9〜13のいずれか一項記載の光測定方法。 - 前記解析領域抽出ステップは、前記光強度分布中で前記光強度閾値を超える光強度を有する領域を抽出して前記解析領域とするとともに、前記光強度閾値よりも高い値に設定された第2の光強度閾値を参照し、前記第2の光強度閾値を超える光強度を有する領域を前記解析領域から除外することを特徴とする請求項9〜14のいずれか一項記載の光測定方法。
- 前記解析領域抽出ステップは、単一の前記測定領域に対する前記解析領域として、複数の解析領域を抽出するとともに、
前記解析処理ステップは、前記複数の解析領域のそれぞれについて、解析領域内での光強度のデータを前記解析データとして、前記試料についての前記解析処理を別個に行うことを特徴とする請求項9〜15のいずれか一項記載の光測定方法。 - それぞれ試料を保持可能な複数のウェルが2次元アレイ状に配置されたマイクロプレートによって保持された状態で測定位置に配置された試料からの光を測定する光測定をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
画像取得手段によって取得された、マイクロプレートのウェル内に保持された試料からの光を含む前記マイクロプレートの2次元光像を検出した2次元の光検出画像に対し、前記マイクロプレートの複数の前記ウェルのそれぞれについて前記ウェルに対応する測定領域を設定する測定領域設定処理と、
前記光検出画像から得られる前記測定領域内での2次元の光強度分布と所定の光強度閾値とを比較することによって、前記測定領域から前記解析処理の対象となる解析領域を抽出する解析領域抽出処理と、
前記解析領域内での光強度のデータを解析データとして、前記試料についての解析処理を行う解析処理と
を含むデータ解析処理をコンピュータに実行させるための光測定プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006108855A JP5005247B2 (ja) | 2006-04-11 | 2006-04-11 | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006108855A JP5005247B2 (ja) | 2006-04-11 | 2006-04-11 | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007278985A true JP2007278985A (ja) | 2007-10-25 |
JP5005247B2 JP5005247B2 (ja) | 2012-08-22 |
Family
ID=38680564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006108855A Active JP5005247B2 (ja) | 2006-04-11 | 2006-04-11 | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5005247B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012037267A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 光量検出方法及びその装置 |
WO2012029269A1 (ja) * | 2010-09-02 | 2012-03-08 | 国立大学法人東北大学 | がん発症又はがん発症リスクの判定方法 |
WO2012176775A1 (ja) | 2011-06-21 | 2012-12-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
JP2013156269A (ja) * | 2009-08-03 | 2013-08-15 | Npc Inc | 太陽電池の欠陥検査装置、欠陥検査方法、およびプログラム |
JP2017198609A (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 凸版印刷株式会社 | 画像処理方法、画像処理装置、プログラム |
US10197782B2 (en) | 2011-06-21 | 2019-02-05 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light measurement device, light measurement method, and light measurement program |
WO2023199617A1 (ja) * | 2022-04-10 | 2023-10-19 | 株式会社ニコン | 検出装置、検出方法、および検出プログラム |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002257730A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-09-11 | Olympus Optical Co Ltd | 蛍光輝度測定方法及び装置 |
WO2004042392A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Fujitsu Limited | 画像解析支援方法、画像解析支援プログラムおよび画像解析支援装置 |
JP2005233974A (ja) * | 2001-03-21 | 2005-09-02 | Olympus Corp | 生化学的検査方法 |
JP2006300799A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Sony Corp | 生体情報処理装置および方法、プログラム並びに記録媒体 |
WO2007013551A1 (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Olympus Corporation | 光強度測定方法および光強度測定装置 |
JP2007278984A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Hamamatsu Photonics Kk | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
-
2006
- 2006-04-11 JP JP2006108855A patent/JP5005247B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002257730A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-09-11 | Olympus Optical Co Ltd | 蛍光輝度測定方法及び装置 |
JP2005233974A (ja) * | 2001-03-21 | 2005-09-02 | Olympus Corp | 生化学的検査方法 |
WO2004042392A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Fujitsu Limited | 画像解析支援方法、画像解析支援プログラムおよび画像解析支援装置 |
JP2006300799A (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Sony Corp | 生体情報処理装置および方法、プログラム並びに記録媒体 |
WO2007013551A1 (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Olympus Corporation | 光強度測定方法および光強度測定装置 |
JP2007278984A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Hamamatsu Photonics Kk | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013156269A (ja) * | 2009-08-03 | 2013-08-15 | Npc Inc | 太陽電池の欠陥検査装置、欠陥検査方法、およびプログラム |
JP2012037267A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 光量検出方法及びその装置 |
WO2012029269A1 (ja) * | 2010-09-02 | 2012-03-08 | 国立大学法人東北大学 | がん発症又はがん発症リスクの判定方法 |
JP5682975B2 (ja) * | 2010-09-02 | 2015-03-11 | 国立大学法人東北大学 | がん発症又はがん発症リスクの判定方法 |
WO2012176775A1 (ja) | 2011-06-21 | 2012-12-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム |
CN103635792A (zh) * | 2011-06-21 | 2014-03-12 | 浜松光子学株式会社 | 光测定装置、光测定方法以及光测定程序 |
CN103635792B (zh) * | 2011-06-21 | 2015-11-25 | 浜松光子学株式会社 | 光测定装置、光测定方法以及光测定程序 |
US10197782B2 (en) | 2011-06-21 | 2019-02-05 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light measurement device, light measurement method, and light measurement program |
US10379334B2 (en) | 2011-06-21 | 2019-08-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light measurement device, light measurement method, and light measurement program |
JP2017198609A (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 凸版印刷株式会社 | 画像処理方法、画像処理装置、プログラム |
WO2023199617A1 (ja) * | 2022-04-10 | 2023-10-19 | 株式会社ニコン | 検出装置、検出方法、および検出プログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5005247B2 (ja) | 2012-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4864519B2 (ja) | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム | |
JP5005247B2 (ja) | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム | |
US6909459B2 (en) | Method of and apparatus for extending signal ranges of digital images | |
Alvarez et al. | SP8 FALCON: a novel concept in fluorescence lifetime imaging enabling video-rate confocal FLIM | |
US6791618B1 (en) | Photographing system with improved time setting | |
JP2010151632A (ja) | 分光測定装置、分光測定方法、及び分光測定プログラム | |
JP6069825B2 (ja) | 画像取得装置、画像取得方法及び画像取得プログラム | |
JP4964568B2 (ja) | 蛍光検出装置、蛍光検出方法および蛍光検出プログラム | |
US20230314782A1 (en) | Sample observation device and sample observation method | |
EP2646976B1 (en) | Methods for scaling images to differing exposure times | |
JP6006205B2 (ja) | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム | |
JP4798990B2 (ja) | 走査顕微鏡において複数の異なる放射波長を分離するための方法及び装置 | |
JP5869239B2 (ja) | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム | |
CN108291873B (zh) | 用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备 | |
US20090290780A1 (en) | Analysis method for chemical and/or biological samples | |
JP2007298380A (ja) | 試料保持部材 | |
US6996289B1 (en) | Image processing apparatus and method which defines abnormal pixels by reading density signal levels | |
JP2023539435A (ja) | 蛍光顕微鏡における照明調整方法および対応する蛍光顕微鏡 | |
JP5733170B2 (ja) | 燃料電池酸素濃度計測装置 | |
US8963105B2 (en) | Image obtaining apparatus, image obtaining method, and image obtaining program | |
JP6088074B2 (ja) | 光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム | |
EP4343681A1 (en) | Optical image processing method, machine learning method, trained model, machine learning pre-processing method, optical image processing module, optical image processing program, and optical image processing system | |
JP2007298379A (ja) | 発光測定装置及び発光測定方法 | |
JP2012220361A (ja) | 光量測定装置および光量測定方法 | |
JPH10239588A (ja) | コンフォーカル顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120522 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120523 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5005247 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |