JP2007259790A - 植栽基盤および植栽方法 - Google Patents

植栽基盤および植栽方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007259790A
JP2007259790A JP2006090891A JP2006090891A JP2007259790A JP 2007259790 A JP2007259790 A JP 2007259790A JP 2006090891 A JP2006090891 A JP 2006090891A JP 2006090891 A JP2006090891 A JP 2006090891A JP 2007259790 A JP2007259790 A JP 2007259790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
planting base
planting
plant
base
submerged
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006090891A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4358833B2 (ja
Inventor
Akita Tai
昭太 袋
Hiroshi Kubota
洋 久保田
Yoshihiko Shimada
義彦 島多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujita Corp
Original Assignee
Fujita Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujita Corp filed Critical Fujita Corp
Priority to JP2006090891A priority Critical patent/JP4358833B2/ja
Publication of JP2007259790A publication Critical patent/JP2007259790A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4358833B2 publication Critical patent/JP4358833B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Cultivation Of Seaweed (AREA)

Abstract

【課題】有茎種等を含めた沈水植物を再生する効果的な技術を提供する。
【解決手段】合繊マット等の3次元空隙構造の基盤本体10を、シート状部材30で外側を包むようにして植栽基盤100を形成する。かかる植栽基盤100は、例えば、フロート等を設けた浮島状に構成する。植栽基盤100の3次元の空隙構造の表面側に、沈水植物200aの栄養物20を含んだ再生箇所等の湖底の泥を塗り込み、その後乾燥させて、栄養物20の剥落を極力防止する。かかる構成の植栽基盤100の表面側に、沈水植物200aを寝かせた状態でピン40等により固定し、生育させて根を伸張させ、沈水植物200aの群落等の再生を図る。
【選択図】図1

Description

本発明は植栽基盤に関し、特に、沈水植物の生育に適用して有効な技術に関するものである。
車軸藻、クロモ、エビモ、フサモ等々の沈水植物群落には、栄養塩吸収作用や懸濁物の付着・沈降・再懸濁防止作用、ミジンコなどの動物プランクトンや付着微生物の増加等の様々な水質浄化作用があることが分かっている。また、小魚や底生動物が増加する等の生態系修復機能を持つことも知られている。
しかし、高度経済成長期の栄養塩の増大、過剰の除草剤の投入、草魚の放流等により、全国各地で沈水植物が絶滅、消失、衰退しているのが現状である。因に、日本では水草の1/3がレッドデータブックに記載されている。
かかる現状を受け、河川、湖沼等の水質改善や生物多様性保全の観点から、これらの沈水植物群落を水辺等に再生する試みが実施されている。
例えば、非特許文献1には、土壌シードバンクを利用して過去に消失したその水域に在来の沈水植物群落を再生する方法が記載されている。
西廣 淳、他3名、「霞ヶ浦沿岸域の湖底土砂に含まれる沈水植物の散布体バンク」、2003年、保全生態学研究8巻、p.113−118
しかしながら、大規模湖沼等の波浪の影響を受けるような水域の水底に、土壌シードバンクを撒きだす方法や直接苗株を植えつけるような方法では、復元対象とする水底が軟弱な底泥の場合が多く、植物が根を伸張し水底に活着する前に波浪の影響で植物体が生育前に剥離してしまうとの指摘もある。
人工浮島に構成した場合も同様に、風波等の影響を受けるが、それ以外に、植栽基盤の栄養の面で問題がある。一般的に、沈水植物は水中で植物体の葉から窒素やリンなどの無機態の栄養素を取り込むと言われている。
しかしながら、沈水植物を復元するような水域の多くは、アオコなどの植物プランクトンが大量に発生しており、窒素やリンなどの栄養素の多くはすぐに沈水植物が利用できるような無機態としてではなく、懸濁態(有機体)となっている。このため、植栽基盤に直接植えつける方法では利用可能な栄養素が少ないため初期の生育が悪くなり、根が伸張せずに植栽基盤への活着率が減少してしまう。
一方、栄養素を含む底泥等の土砂を充填する場合は生育は良くなるが、植栽基盤自体が非常に重くなり扱い難くなる。さらに、浮体構造が大きくなるためコストがかさむという問題も発生する。浮体の規模を小さくすると言う点では、土砂を入れたポッドを充填する方法を採用すればその解決は図れるが、反面、地下茎を横方向に伸張する種(ランナーで増える種類)には適さない。
また、従来の植栽方法は植栽基盤や土砂に対して直立に植えつける方法であるが、この方法はミズニラ等のロゼット型の植物には適しているが、有茎種の場合は茎の節目から根を出すことが多いため、直立の植え付けかたでは根が水中に伸びてしまい基盤への活着が悪くなるという問題がある。
これらの沈水植物の生育に関しては、基盤の栄養と植物の根の活着という面から、新技術を開発することが必要と本発明者は考えた。
本発明の目的は、有茎種等を含めた沈水植物を再生する効果的な技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明は沈水植物を根づかせる植栽基盤であって、前記植栽基盤は3次元の空隙構造を有し、前記3次元の空隙構造の植栽面側に、前記空隙構造を利用して前記沈水植物の栄養物を塗り込み保持させたことを特徴とする。かかる構成において、前記栄養物は、湿潤状態で前記空隙構造の表面側に塗り込まれた後に固化させられ、前記植栽基盤は、水中に保持されることを特徴とする。かかる構成において、前記栄養物とは、前記植栽基盤にて再生させる植物の生育する水域の底泥であることを特徴とする。
本発明は、沈水植物を植栽基盤に根づかせる植栽方法であって、前記植栽基盤に、前記沈水植物の茎部分を横に寝かせた状態で根を生えさせることを特徴とする。かかる構成において、前記沈水植物は、前記構成の植栽基盤の前記栄養物が保持された側に寝かせられていることを特徴とする。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
本発明では、沈水植物の根がしっかりと張った植栽基盤となるため、波浪の影響をうける場所でも沈水植物の生育が可能となる。
本発明では、植栽基盤表面に栄養物を塗りこむことにより、軽量かつ沈水植物の生長を向上させた植栽基盤とすることができる。
本発明では、沈水植物を横に寝かせて植栽することで沈水植物の根の植栽基盤への活着率を増加させることができ、かつ植栽基盤表面からの栄養物の吸収を高め、植物の生育を向上させることができる。
本発明の植栽基盤を用いた植栽方法により、波浪の影響をうけるような沿岸帯における沈水植物の再生を可能とするとともに、水質浄化および自然再生を目的とした沈水植物植栽浮島において沈水植物の生育を向上させることができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。
(実施の形態1)
図1は、本発明に係る植栽基盤と、その植栽基盤に沈水植物を根づかせる構成を模式的に示した断面図である。図2は、植栽基盤にフロートを設けて浮島に構成した場合を模式的に示す説明図である。
植栽基盤100は、図1に示すように、沈水植物200a等の植物200を植える基盤本体10と、植栽される植物200の栄養物20と、基盤本体10の外周を囲むシート部材30とから構成されている。
基盤本体10は、3次元構造に形成され、植栽される植物200の根が、その3次元構造内に伸張できる空間を有するものである。かかる3次元構造の物質としては、例えば、繊維状の三次元網目構造を有するポリエチレン製や塩化ビニル製等の市販されているプラスチック性合成繊維マットや、ヤシ繊維マット等を例として挙げることができる。
かかる繊維マット類は、3次元構造内の空隙率が非常に大きいため、植栽する植物200の成長に合わせて、伸張する根が絡みやすく、容易に波浪等で基盤本体10から離れないようにすることができる。強固な植栽用の基盤を形成することができるのである。
また、かかる構成の植栽基盤100を浮島に構成する場合も、植栽基盤100の材質にプラスチック性合成繊維等を使用することにより軽量化を図ることができる。さらには、繊維状物質自体が、3次元構造で空隙率が高く構成されているので、その素材自体の軽さのために浮体の構造自体も小さくすることができる。
図1には、基盤本体10の構成として、3次元構造で繊維が絡み合って3次元の空隙構造が形成されている様子を示した。
かかる構成の基盤本体10には、植栽する植物200の生育に必要な栄養物20が設けられている。植栽基盤100の基盤本体10に、植物200の生育に必要な栄養物20を設けるに際しては、本発明の特徴点の一つでもあるが、極めてユニークな方法で設けるようにした。
例えば、沈水植物200aを植栽対象の植物200とした場合には、その栄養物20は、湖沼や池底の土砂(砂質から泥質までを本明細書では、以下土砂と言う場合がある)に多く含まれている。
そこで、かかる栄養物20を如何にして空隙率の多い3次元構造下に保持させるかで、本発明者は、頭を悩ました。その結果、生育に必要な栄養物20は、沈水植物200aが根を張り出し、所定の長さまで伸張した段階まで保持されれば、少なくとも十分と考えた。完全に成長するまで、あるいは成長後の植物体を維持するまでの栄養物20は、植栽基盤100内に保持しえなくても、構わないのではないかとの着想を得た。
植栽基盤100は、沈水植物200aに使用する場合には、沈水植物200aの生育状態に従って、漸次湖底側に沈め、植物本体が余り水面上に出ないようにする必要がある。
かかる水面下への沈潜に従って、植栽基盤に生育した沈水植物200aの根は、植栽基盤100を通過して、植栽基盤100外へ伸張することとなる。このように伸張した段階では、伸張した根が湖底の土砂に届くように植栽基盤100を沈潜させて行くので、成長に必要な栄養分は湖底等の土砂から直接とることができる筈だと考えた。
また、湖沼沿岸帯の沈水植物群落再生を目的とする場合は、植物を活着させた植栽基盤100を栄養物20の豊富な湖底等に直接沈設するため問題ないと考えた。
そこで、植栽基盤100には、当面の生育に必要な栄養物20だけを少なくとも保持させればよいのではないかと、考えたのである。種々の試みを試す中、3次元の空隙構造を生かして、かかる栄養物20を保持させる発想が思いついた。すなわち、3次元の空隙構造は、いわば3次元の網目構造のようなものであるから、かかる空隙構造に、栄養物20を含む湖底の泥状のものを塗り込む発想を得たのである。
しかし、単に塗り込んだだけでは、植栽基盤100を水中下に沈潜させると、3次元構造の空隙構造から栄養物20が剥がれる場合が考えられる。そこで、かかる場合には、3次元の空隙構造に栄養物20を塗り込んだ後に、一旦乾燥させることで、栄養物20の3次元空隙構造からの抜け落ちを防止した。
水中下に沈潜させた状態で、栄養物20が全く抜け落ちない訳ではないが、乾燥を十分に行い固化させることで、その抜け落ちを極力少なくし、当初の根の伸張ができるまでは少なくとも3次元の空隙構造に保持させることができるようになった。
しかし、栄養物20の粘度が強い場合には、かかる乾燥固化等の抜け落ち防止策を施さないでも、空隙構造からの剥がれは抑えられ、空隙構造に塗り込んだだけでも十分に使用することができることも確認した。実際は泥を塗りこむだけでも生長可能ではあるが、固化させることでより良い生長量と生長期間を見込めるのである。
塗り込む箇所は、3次元の空隙構造の表面側である。表面側に塗りこむ栄養物として、例えば、沈水植物の生長に必要な栄養素が多く含まれている湖沼や池底の土砂が適しており、石や枝等の取り除いたものを基盤本体10の3次元空隙構造内に塗りこむとよい。特に、沈水植物200aの再生を図ろうとする湖底等の生育現場から採取した土砂等が好ましい。
基盤本体10に塗りこむ栄養物20としての土砂の中には、水底から採取するものが多いため泥状のものが多く、そのままでは水中で脱離しやすいことが多い。その対策として表面に泥状の栄養物20を塗りこんだ後、天日等で乾燥処理をすることにより土砂を固化させて植栽基盤100から脱離しにくくなることを、上記の如く、本発明者は見出した。
また、かかる栄養物20は、珪藻土や製紙工場から発生するペーパースラッジ灰等の吸水性材料を泥状の土砂と混合すれば、泥状物質を素早く粘性を持たせた状態にすることができ、これを植栽基盤100の表面に塗りこむことで泥の保持力を高めるようにしても構わない。
天日での乾燥等を行う前者は時間と場所に余裕がある場合に、珪藻土等を混ぜる後者は現地の水底を採取してすぐに浮島等に施工する際に用いると効果的である。
湖沼や池底の水底の土砂を塗りこむ際は、沈水植物を生育させる場所の土砂を用いるとよい。これは土砂中にはその地域特有の植物の種子や胞子、根等やその地域固有の動物プランクトンやその卵が眠っているためで、他所からの移入による生態系の撹乱を防ぐことができる。
また、他の栄養物としては、市販されている腐葉土や黒ボク土などの植物の栄養素を含む土を用いたり、栄養素が少ない土砂等に緩効性肥料を混合する等して、適宜調製するようにしても勿論構わない。
かかる構成の植栽基盤100としては、その厚みは植物の根を張らすことを考えて10mm以上、100mm以内とすればよい。栄養物20の塗り込み範囲は、少なくとも表面下5mm以上の深度で、20mm以内の深度範囲で塗り込めばよい。かかる構成を採用することで、基盤本体10全体に土砂等を充填するのに比べて、かなりの軽量化を図ることができる。
また、かかる構成の植栽基盤100では、図1に示すように、基盤本体10の外周側を、シート部材30で囲う構成を有している。シート部材30を設ける構成は、一義的には、基盤本体10の3次元空隙構造に塗り込んだ栄養物20が、波等による水流の影響を受けて、3次元の空隙構造から離脱するのを防止する目的である。
かかるシート部材30は、基盤本体10の側面と底面を覆うように設けられている。かかるシート部材30としては、ビニールシートや遮水シートなどを用いるとよい。あるいは、透水性で柔らかい不織布などを使用すると植物の根がシートを突き破って伸張し、植物の生育を高めることができて好ましい。
シート部材30で基盤本体10を囲むことにより、前述の如く、表面に塗りこんだ栄養物20としての泥は長期的には徐々に基盤本体10の3次元空隙構造の内部へ沈降していくが、基盤本体10の下部では保持することができる。下部に届くようになった根の伸張度合いに応じて、栄養物20の利用が可能である。
また、浮島として基盤本体10を設置する際は、懸濁態の栄養素である植物プランクトン等が水中から沈降するが、基盤本体10がシート部材30で囲まれているため、これらを保持することもできる。これらの沈降した植物プランクトンは、微生物等に分解され最終的には沈水植物が利用可能な無機態の栄養素となるのである。
かかる構成の植栽基盤100は、図2に示すように、周囲にフロート110を設けて浮島のように構成しておけばよい。フロート110には、前記構成の植栽基盤100を、巻き上げ式にロープ等で係留し、漸次係留ロープ延ばすことにより植栽基盤100の設置深度を深くすることができるようにしておけばよい。
このように構成しておけば、植栽基盤100に植栽した沈水植物200aの成長に従って、沈水植物200aの植物体本体が水面下に常に沈むようにさせることができる。最終的には、湖底等の底にまで沈めることができるように構成しておけばよい。
(実施の形態2)
本実施の形態では、前記実施の形態で述べた植栽基盤100を用いて、沈水植物200aを植栽する方法を説明する。
本発明の植栽方法では、沈水植物200aの植物体を、植栽基盤100を構成する基盤本体20の表面に寝かせて行うユニークな方法を採用する。例えば、沈水植物200aの植物体の茎部分を、図1に示すように、植栽基盤100の栄養物20を塗り込んだ3次元空隙構造の表面に横たえるように寝かせる。
かかる植栽方法では、沈水植物200aを植栽基盤100上に横倒しにしてピン固定する方法、もしくは植栽基盤100の表面に植栽する沈水植物200aを横倒しにして、その上をネット等の網状部材で植物体が動かないように覆う方法等が考えられる。
要は、植栽基盤100の表面に横たえただけでは、植物体が動く虞があって根づかない場合が十分に考えられるため、植物体を植栽基盤100の表面に効果的に留める手段を採用することか必要である。かかる手段としては、どのような構成のものでも基本的には構わない。
図1には、ピン40を使用した場合を例示した。ピン40は、図1、3に示すように、複数のピン先41が押さえ部材42で互いに接続された形状とした。植物体を押さえ部材42と植栽基盤100の表面との間に挟んだ状態で、ピン先41を3次元空隙構造内に向けて差し込み、植物体を押さえることができるようになっている。
ピン先41には、図3に示すように、それぞれ返し43が設けられており、3次元の空隙構造を形成する繊維等に引っかかって抜けにくいように構成されている。
かかるピン40を用いて沈水植物200aを植栽基盤100の表面に固定することで、
沈水植物の生育長さに応じて、植栽基盤100を水中に沈めるに際して、横倒しのままでいられるようにすることができる。水中に沈めた場合には、浮力で植物体が立ち上げられるため、ピン40は、かかる立ち上げ防止に効果的である。
ピンの材質はプラスチック製や金属製のものでもよいが、自然素材の竹等や生分解性プラスチックを用いることにより植物の根が活着後、ピンが自然に分解され、回収する手間や環境負荷を軽減することもできる。
ピンの植物体を押さえる押さえ部材42の部分の厚みは、細すぎると植物を固定する際に植物の柔らかい茎が折れてしまうため1mm以上とし、厚すぎると植物を覆ってしまうため10mm以下とするとよい。
ピン40の先端の形状は植栽基盤100の3次元空隙構造等の網目サイズや厚みによって異なるが、植栽基盤100を水中でゆすっても抜けない長さであればよい。また、図3に示すように、返し43を設ける等の抜けにくい構造にするとよい。
かかる構成のピン40を用いて、植栽基盤100の表面に、特に栄養物20を塗り込んだ3次元空隙構造面に植物体を留めることで、例えば、エビモやクロモなどの茎の節から根をだす有茎種の沈水植物200aを、植栽基盤100に効率的に根付かせることができる。
また、網状部材として金網やネットなどを用いることもできる。かかる場合には、水中に沈めるため水よりも重い比重のものがよい。植栽基盤100内部から伸張する沈水植物200aの新芽が網目を抜けやすいように網目サイズは0.5mm以上とすることが好ましい。網目サイズの上限は植栽する沈水植物の大きさによって設定すればよく、植物を横倒しに固定する必要があるため植物体の長さの半分程度とすればよい。
以上のように本実施の形態で説明した植栽方法と、前記実施の形態で説明した植栽基盤100の構成を用いることで、前記の如く、植栽基盤100の表面の栄養物20を効率的に吸収して根を伸張させるように沈水植物200aを植栽することができる。
すなわち、当初は、図1に示すように植栽基盤100上に留められた沈水植物200aは、数週間後には図4に示すように根210が少し生えてきて根づくようになる。さらに、根210は伸張し、最終的には、図5に示すように、強固な植栽基盤100を構成することができる。
尚、図5に示す場合は、根が張った後で植物体を留めていたピン40は撤去した状況を示している。湖沼沿岸帯の植栽基盤100として出荷する場合は、沈水植物200aがある程度根づいた段階で、ピン40を取り除いて出荷すればよい。また、浮島に構成する場合には、取り除いておくか、あるいは生分解性のものを使用することで長期的に見て自然に消失させるようにしても構わない。
このようにして、本発明に係わる植栽基盤100と、植栽方法とを用いることにより、前掲の図2に示すような沈水植物200aが良好に生育する植生浮島や、図6に示すような湖沼沿岸域に沈水植物200aの植生帯を復元することができる。
本実施例では、前記実施の形態1で説明した植栽基盤100と、実施の形態2で説明した植栽方法とについて、実際に植栽基盤を浮島構成にして実地検証した場合について説明する。
本発明に係る植栽基盤100の効果を評価するために、栄養物20を含む池底から採取した土砂を、厚さ50mmの合繊マット表面に、10mm厚で塗り込んだ。さらに、かかる植栽基盤100の側面と底面を、図1に示すように、シート部材30として不織布で囲んだ。
かかる構成の植栽基盤100と、栄養物20を塗り込まないただの合繊マットの植栽基盤とに、それぞれ沈水植物200aを横倒しにピン止め固定した。かかる構成の両植栽基盤を、植生浮島として公園池に設置して沈水植物200aの生育試験を行った。
試験は2005年9月9日〜11月30日まで実施し、沈水植物200aには湖沼や池、水田などで一般的にみられるクロモ、ヒロハノエビモ、ヤナギモ、キクモの4種を用いた。沈水植物200aの生育は、0〜4迄のランクで評価した。すなわち、0:消滅・消失、1:枯死・食害等の衰退、2:植栽した親株のみ残存の維持、3:新芽の長さが10cm未満の成長、4:新芽の長さが10cm以上の5段階で評価した。
試験結果は、図7に示すようになった。図7からは、表面に底泥を塗りこんだ本発明に係わる植栽基盤100は、栄養物20の塗り込みのない植栽基盤のみの浮島よりも沈水植物200aの生育が良好であることが確認された。11月30日のヤナギモを除き、他の沈水植物は植物生育のボーダーラインのランク2(植物体の維持)よりも上であることが確認された。
栄養物20の塗り込みのない植栽基盤の場合には、植物生育のボーダーラインであるランク2以下を示すことが多く、沈水植物200aがあまり良く育たないことが確認された。尚、11月30日のヤナギモの低い値は、気温も水温も低くなり植物体が枯れ始めたことが原因である。
次に植栽基盤100の3次元空隙構造である細密構造と、栄養物20を塗り込む栄養条件のどちらが、沈水植200aの生育に影響を与えるのかを調査した。すなわち、50mm厚の合繊マットのみの植栽基盤、栄養物20を含まない砂を合繊マット表面に充填した植栽基盤、栄養物20を含む底泥を合繊マット表面に塗りこんだ植栽基盤100の3種類を用意し、各々について沈水植物200aの生育試験を室内で行った。
試験では、バケツに各々の構成の植栽基盤を入れ、前記実験の池と同程度の栄養物20を含む水を約15リットル満たした。それぞれの植栽基盤に、沈水植物200aとしてのクロモとヒロハノエビモを横倒しに植栽し、室温20℃、照度1850〜2000ルクス、16時間の明条件、8時間の暗条件で2005年の1月24日〜3月8日まで栽培し、新鮮重量(湿重量)の増加量を測定した。
試験結果を図8に示す。図8に示すように、試験前後の沈水植物200aの湿重量は、合繊マットのみの植栽基盤、あるいは栄養物20を含まない砂を充填した植栽基盤より、栄養物20の豊富な底泥を合繊マットに塗り込んだ植栽基盤100の方が、2倍以上の重量増加率を示すよい生育性を示すことが確認された。植栽基盤の細密構造よりも、植栽基盤に含まれる栄養物が沈水植物等の植物の生育を高めることが分かった。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
本発明は沈水植物の再生における分野で有効に利用することができる。
本発明に係る植栽基盤と、その植栽基盤に沈水植物を根づかせる構成を模式的に示した断面図である。 植栽基盤にフロートを設けて浮島に構成した場合を模式的に示す説明図である。 ピンの構成を示す斜視図である。 植栽基盤に沈水植物を植栽し、根が出始めた様子を模式的に示す説明図である。 植栽基盤に沈水植物を植栽して十分に成長した状態を模式的に示す説明図である。 湖沼沿岸域に沈水植物の植生帯を復元した状態を、模式的に示す説明図である。 (a)、(b)、(c)、(d)は、沈水植物の生育試験の結果を示す説明図である。 沈水植物の生育試験の結果を示す説明図である。
符号の説明
10 基盤本体
20 栄養物
30 シート部材
40 ピン
41 ピン先
42 押さえ部材
43 返し
100 植栽基盤
110 フロート
200 植物
200a 沈水植物
210 根

Claims (5)

  1. 沈水植物を根づかせる植栽基盤であって、
    前記植栽基盤は3次元の空隙構造を有し、
    前記3次元の空隙構造の植栽面側に、前記空隙構造を利用して前記沈水植物の栄養物を塗り込み保持させたことを特徴とする植栽基盤。
  2. 請求項1記載の植栽基盤において、
    前記栄養物は、湿潤状態で前記空隙構造の表面側に塗り込まれた後に固化させられ、
    前記植栽基盤は、水中に保持されることを特徴とする植栽基盤。
  3. 請求項2記載の植栽基盤において、
    前記栄養物とは、前記植栽基盤にて再生させる植物の生育する水域の底泥であることを特徴とする植栽基盤。
  4. 沈水植物を植栽基盤に根づかせる植栽方法であって、
    前記植栽基盤に、前記沈水植物の茎部分を横に寝かせた状態で根を生えさせることを特徴とする植栽方法。
  5. 請求項4に記載の植栽方法において、
    前記沈水植物は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の植栽基盤の前記栄養物が保持された側に寝かせられていることを特徴とする植栽方法。














JP2006090891A 2006-03-29 2006-03-29 植栽基盤 Active JP4358833B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006090891A JP4358833B2 (ja) 2006-03-29 2006-03-29 植栽基盤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006090891A JP4358833B2 (ja) 2006-03-29 2006-03-29 植栽基盤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007259790A true JP2007259790A (ja) 2007-10-11
JP4358833B2 JP4358833B2 (ja) 2009-11-04

Family

ID=38633412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006090891A Active JP4358833B2 (ja) 2006-03-29 2006-03-29 植栽基盤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4358833B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008113567A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Aqua Design Amano:Kk 観賞水草体及びその生産方法
JP2010124816A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Fujita Corp 沈水植物の再生方法、それに使用する沈水植物の栽培方法、植物再生基盤、植栽基盤、浮島
JP2011205969A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Fujita Corp 沈水植物の群落形成方法及びこれに用いられる植生基盤
CN108781865A (zh) * 2018-06-09 2018-11-13 程旭东 一种沉水植物苦草的经济快捷栽种方法及装置
CN115108639A (zh) * 2022-06-23 2022-09-27 武汉中科水生环境工程股份有限公司 一种提高浮软底泥沉水植物种植存活率的方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7162248B2 (ja) 2018-12-28 2022-10-28 パナソニックIpマネジメント株式会社 印刷装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008113567A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Aqua Design Amano:Kk 観賞水草体及びその生産方法
JP4628341B2 (ja) * 2006-10-31 2011-02-09 株式会社アクアデザインアマノ 観賞水草体の生産方法
JP2010124816A (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 Fujita Corp 沈水植物の再生方法、それに使用する沈水植物の栽培方法、植物再生基盤、植栽基盤、浮島
JP2011205969A (ja) * 2010-03-30 2011-10-20 Fujita Corp 沈水植物の群落形成方法及びこれに用いられる植生基盤
CN108781865A (zh) * 2018-06-09 2018-11-13 程旭东 一种沉水植物苦草的经济快捷栽种方法及装置
CN115108639A (zh) * 2022-06-23 2022-09-27 武汉中科水生环境工程股份有限公司 一种提高浮软底泥沉水植物种植存活率的方法
CN115108639B (zh) * 2022-06-23 2023-09-01 武汉中科水生环境工程股份有限公司 一种提高浮软底泥沉水植物种植存活率的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4358833B2 (ja) 2009-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4217232B2 (ja) 沈水植物用人工浮島を用いた沈水植物群の形成方法
JP5345375B2 (ja) 沈水植物の再生方法、それに使用する沈水植物の栽培方法、植物再生基盤、浮島
JP4916294B2 (ja) 草体移植具および水底における草体の移植方法
JP2008271989A (ja) 沈水植物用人工浮島を用いた沈水植物群の形成方法
JP2008061509A (ja) 藻場造成装置およびこれを用いた藻場造成方法
JP4358833B2 (ja) 植栽基盤
CN102060386A (zh) 一种漂浮湿地构建方法
KR20130085267A (ko) 해중림 조성을 위한 해조류 이식방법
KR101002567B1 (ko) 해삼 양식용 인공 어초
JP3907044B2 (ja) 自然分解性植物材料利用の沿岸湿地育成方法及び沿岸湿地
KR20150143001A (ko) 담수어족자원의 자연증가 및 보호용 부류식 뗏목형 인공산란장
CN104129859B (zh) 一种利用水生漂浮植物浮床净化水质的方法
KR101543202B1 (ko) 내파성 잘피 이식장치 및 이를 이용한 잘피 이식방법
JP2008193917A (ja) テングサ海藻礁
JP4247285B2 (ja) 沈水植物群落の再生方法及びそれによる水質浄化方法
CN104839006B (zh) 一种鼠尾藻的围堰增殖方法
JPS5828213A (ja) 人工育成床
JP2002159229A (ja) 海藻・藻場の造成方法および装置
JPH10323134A (ja) 植物栽培用浮体マット
CN109440726A (zh) 已建硬质海堤生态架构体系及建造方法
KR100456510B1 (ko) 호소의 경사면 녹화장치
CN110679465B (zh) 一种红纤维虾海藻的移植方法
KR102599261B1 (ko) 말잘피 이식장치 및 이를 이용한 말잘피 이식방법
JPH08242717A (ja) アマモ場の造成方法及びアマモ栽培具
JP3129793U (ja) 水底敷設用種子付植生マット

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080709

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20080709

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20080901

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080909

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081107

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090507

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090714

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090806

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4358833

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130814

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250