JP2007257696A - 磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007257696A JP2007257696A JP2006077586A JP2006077586A JP2007257696A JP 2007257696 A JP2007257696 A JP 2007257696A JP 2006077586 A JP2006077586 A JP 2006077586A JP 2006077586 A JP2006077586 A JP 2006077586A JP 2007257696 A JP2007257696 A JP 2007257696A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- transfer
- disk
- master
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】 塗布型転写用磁気ディスクの磁気転写を行う方法を提供する。
【解決手段】 磁性体を塗布することにより磁性層を形成した円盤状の磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加し、磁気記録媒体を円周方向の一方向に初期磁化させる初期磁化工程と、初期磁化させた磁気記録媒体と、突起状のパターンを形成した少なくとも表面の一部又は全部が磁性層からなるマスター記録媒体とを密着させる密着工程と、磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加することが可能な磁界発生手段により、磁気記録媒体の磁性層の保持力Hcに対し、0.9×Hc<Hd<1.65×Hcとなる磁界Hdをマスター記録媒体と磁気記録媒体に印加し、マスター記録媒体に形成された突起状のパターンによる情報を磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写工程を備えることを特徴とする磁気転写方法である。
【選択図】 図1
【解決手段】 磁性体を塗布することにより磁性層を形成した円盤状の磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加し、磁気記録媒体を円周方向の一方向に初期磁化させる初期磁化工程と、初期磁化させた磁気記録媒体と、突起状のパターンを形成した少なくとも表面の一部又は全部が磁性層からなるマスター記録媒体とを密着させる密着工程と、磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加することが可能な磁界発生手段により、磁気記録媒体の磁性層の保持力Hcに対し、0.9×Hc<Hd<1.65×Hcとなる磁界Hdをマスター記録媒体と磁気記録媒体に印加し、マスター記録媒体に形成された突起状のパターンによる情報を磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写工程を備えることを特徴とする磁気転写方法である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものであり、特に、塗布により磁性層が形成される転写用磁気ディスクに、マスターディスクからフォーマット情報等の磁気情報パターンを転写するのに適した磁気転写方法、前記磁気転写方法により製造される磁気記録媒体、及び、前記磁気記録媒体を記録再生するための磁気記録再生装置に関するものである。
近年、磁気記録媒体においては一般に、情報量の増加に伴い、多くの情報を記録する大容量で、安価で、かつ、好ましくは短時間で必要な箇所が読み出せるいわゆる高速アクセス可能な媒体が望まれている。一例として、フレキシブルディスク装置に用いられる高密度磁気記録媒体(磁気ディスク)が知られ、その大容量化を実現するためには、狭いトラック幅の磁気ディスクを正確に走査するため、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。このトラッキングサーボを行うために、磁気ディスクには、所定の間隔でトラッキング用のサーボ信号等が、いわゆるプリフォーマットとして記録されている。このプリフォーマットの記録は、磁気ヘッドにより順次行うこともできるが、これらのサーボ信号等のプリフォーマット情報が書き込まれているマスターディスクより一括転写する磁気転写方式であれば効率的であり、時間的経済的にも有利である。
この磁気転写方式は、マスターディスクと転写用磁気ディスク(磁気記録媒体、スレーブディスク)とを密接させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界発生手段により、転写用磁界を印加し、マスターディスクの有する情報(例えば、サーボ情報)に対応する磁化パターンの転写を行うものである。
従来から、この磁気転写技術として各種の提案がなされている。例えば、特許文献1に記載された発明では、磁気転写を行う際に、転写用磁界の印加角度が転写用磁気ディスク面に対して垂直方向で±30度以内とするものである。これによりトラック方向に正確に転写用磁界を印加できる効果が得られるとされている。
特開2002−251723号公報
ところで、転写用磁気ディスクの磁性層の磁気特性は、磁性層の形成方法により異なる傾向にある。即ち、磁性層の形成方法としては、磁性材料をスパッタリングにより基板上に磁性層を成膜する方法や、磁性材料を基板上に塗布することにより磁性層を形成する方法があるが、これらの形成方法の違いにより、形成される磁性層の磁気特性が異なるのである。よって、スパッタリング成膜された磁性層を有する転写用磁気ディスクに最適な磁気転写条件により、塗布により形成された磁性層を有する転写用磁気ディスクについて、磁気転写を行った場合、スパッタリング成膜された磁性層を有する転写用磁気ディスクにおける転写特性と同等の特性が得られず、塗布により磁性層を成膜したものは、充分な再生出力が得られない等の問題があった。
本発明は、発明者が上記磁気転写方法における磁性層の形成方法と磁気特性の関係、特に、塗布により形成した磁性層の磁気特性を研究した結果得られたものであり、磁性層を塗布により形成した転写用磁気ディスクについて、磁気転写によりマスターディスクの情報が転写用磁気ディスクに転写されるための磁気転写方法並びにこれにより作製された磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを目的とするものである。
請求項1に記載の発明は、支持体上の片面又は両面に磁性体を塗布することにより磁性層を形成した円盤状の磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加し、前記磁気記録媒体を円周方向の一方向に初期磁化させる初期磁化工程と、前記初期磁化させた磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体の磁性層に対し情報を転写するための突起状のパターンを形成した少なくとも表面の一部又は全部が磁性層からなるマスター記録媒体とを密着させる密着工程と、前記磁気記録媒体と前記マスター記録媒体の円周方向に磁界を印加することが可能な磁界発生手段により、前記磁気記録媒体の磁性層の保持力Hcに対し、0.9×Hc<Hd<1.65×Hcとなる磁界Hdを前記密着工程により密着状態にあるマスター記録媒体と磁気記録媒体に印加し、前記マスター記録媒体に形成された突起状のパターンによる情報を前記磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写工程と、を備えることを特徴とする磁気転写方法である。
これにより、情報の転写された磁気記録媒体において高い再生信号出力を得ることができる。
請求項2に記載の発明は、前記磁界発生手段に対し、前記密着工程により密着状態にあるマスター記録媒体と磁気記録媒体とを相対的に移動させながら磁気転写を行うことを特徴とする請求項1に記載の磁気転写方法である。
相対的に移動させることにより、磁界発生手段の大きさを小さくすることができる。
請求項3に記載の発明は、前記磁界Hdが、1.0×Hc<Hd<1.5×Hcであることを特徴とする請求項1又は、2に記載の磁気転写方法である。
これにより、情報の転写された磁気記録媒体において更に高い再生信号出力を得ることができる。
請求項4に記載の発明は、前記磁界Hdの印加される方向が、前記磁気記録媒体の半径方向に対し、70度から110度の方向であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の磁気転写方法である。
これにより、磁性層内の磁化向きが安定化するため磁気記録媒体において高い再生信号出力を得ることができる。
請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれかに記載の磁気転写方法により、前記磁気記録媒体の磁性層にサーボ情報を記録したことを特徴とする磁気記録媒体である。
これにより、サーボ信号のプリフォーマット記録を短時間に行うことができる。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の磁気記録媒体を記録再生すること特徴とする磁気記録再生装置である。
大きな再生信号出力を得ることができるため、狭トラックであっても正確にトラッキングすることができる。
以上のように、塗布により磁性層を形成した転写用磁気ディスクにおいて、本発明による磁気転写方法による磁気転写を行うことにより、転写用磁気ディスクに良好な転写パターンを転写することができ、転写用磁気ディスクにおける転写信号の出力が向上するとともに、C/N比が向上し、良好な転写信号波形が得られ、転写用磁気ディスクである磁気記録媒体のトラッキング等が良好となる。
以下、本発明に係る磁気転写方法の実施の形態について添付図面に基づき説明する。
〔転写用磁気ディスク〕
図1(a)に示すように、最初に転写用磁気ディスク40の初期磁化を行うが、これに用いられる転写用磁気ディスク40について説明する。
図1(a)に示すように、最初に転写用磁気ディスク40の初期磁化を行うが、これに用いられる転写用磁気ディスク40について説明する。
転写用磁気ディスク40は円盤状の支持体の表面の片面或いは、両面に磁性層が形成されたものである。具体的には、転写用磁気ディスク40は、高密度フレキシブルディスク等の円盤状の磁気記録媒体であり、支持体上に塗布により磁気記録層が形成されている。尚、転写用磁気ディスク40の構成としては、支持体上に非磁性層を形成し、その上に磁性層を形成したものであっても良い。
支持体としては、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレナフタレート、アラミド、ポリカーボネートフィルム等の支持体としての機能を有するものであればよい。尚、支持体として、アルミニウムやガラスからなる基板を用いることにより、ハードディスク等においても使用可能である。また、磁性層用塗布材料、非磁性装用塗布材料は、所望の磁性層、非磁性層を形成することができる材料であればよく、詳細については後述する。
〔転写用磁気ディスクの初期磁化〕
次に、形成した転写用磁気ディスク40の初期磁化を行う。図1(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の初期磁化(直流磁化)は、磁界発生手段30により行う。磁界発生手段30は、不図示の電磁石により矢印の方向に初期化磁界Hiを発生させることができ、コア32により形成された、転写用磁気ディスク40の半径方向に延びるギャップ31を有している。このギャップ31より漏れる初期化磁界Hiにより、図2(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mをトラック方向(円周方向)の一方向に初期磁化を行う。具体的には、この初期磁化は、転写用磁気ディスク40の保磁力Hc以上の磁界強度分布をギャップ31で発生させ、転写用磁気ディスク40又は磁界発生手段30をトラック方向に回転させることにより、転写用磁気ディスク40の全トラックの初期磁化を行う。
次に、形成した転写用磁気ディスク40の初期磁化を行う。図1(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の初期磁化(直流磁化)は、磁界発生手段30により行う。磁界発生手段30は、不図示の電磁石により矢印の方向に初期化磁界Hiを発生させることができ、コア32により形成された、転写用磁気ディスク40の半径方向に延びるギャップ31を有している。このギャップ31より漏れる初期化磁界Hiにより、図2(a)に示すように、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mをトラック方向(円周方向)の一方向に初期磁化を行う。具体的には、この初期磁化は、転写用磁気ディスク40の保磁力Hc以上の磁界強度分布をギャップ31で発生させ、転写用磁気ディスク40又は磁界発生手段30をトラック方向に回転させることにより、転写用磁気ディスク40の全トラックの初期磁化を行う。
〔マスターディスク〕
次に、図3に基づきマスターディスク46について説明する。
次に、図3に基づきマスターディスク46について説明する。
マスターディスク46は、先の工程により初期磁化を行った転写用磁気ディスク40と密着させる密着工程、その後の磁気転写工程において用いる。
図3は、マスターディスク46の表面の部分拡大斜視図である。図3に示すようにマスターディスク46は、基板47の片面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層48が形成されており、この突起状のパターンにより転写情報が記録されている。基板47における、突起状のパターンが形成されている面と反対の面は、不図示の密着手段に保持されている。この微細な突起状のパターンは、後述するフォトファブリケ−ション法等により形成される。
この微細な突起状のパターンは、平面視で長方形であり、厚さtの磁性層48が形成された状態で、トラック方向(図中の太矢印方向)の長さbと、半径方向の長さlの領域が凸部の平面を形成している。この長さbとlの最適値は、記録密度や記録波形等により異なるが、本実施の形態では、長さbを300nm、長さlを10mmのものが形成されている。
この微細な突起状のパターンによりサーボ信号を記録する場合には、半径方向に長く形成される。この場合では、半径方向の長さlが0.05〜20μm、トラック方向(円周方向)の長さが0.05〜5μmであって、この範囲で半径方向の長さが長くなるパターンを選ぶことが好ましい。
また、基板47表面の微細な突起状のパターンの高さ(突起の深さ)は、80〜800nmの範囲が好ましく、100〜600nmの範囲がより好ましい。
一方、磁性層48の厚さtと突起状のパターンのトラック方向長さbとの比t/bは、0.5〜4.0の範囲であることが必要である。t/bの値がこの範囲から外れた場合、転写用磁気ディスク40に転写された情報による再生信号のC/N比が低下するからである。
マスターディスク46の基板47がニッケル(Ni)等を主体とした強磁性体の場合には、この基板47のみで磁気転写が可能であり、磁性層48を形成する必要はないが、更に、転写特性の高い磁性層48を設けることにより、より良好な磁気転写を行うことができる。一方、基板47が非磁性体の場合では、磁性層48を設けることが必要となる。尚、マスターディスク46の磁性層48は、保磁力Hcが48kA/m(≒600Oe)以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。
マスターディスク46の基板47としては、ニッケル(Ni)、アルミニウム(Al)、合金、シリコン(Si)、石英ガラス(SiO2)等各種組成のガラス、各種組成のセラミックス、合成樹脂等を用いて形成する。この基板47の表面に突起状のパターンを形成する際は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法により作製した原盤を用いたスタンパー法等により作製する。
以下、スタンパー法について説明する。スタンパー法により用いるプレス原盤の作製は、次の工程により行われる。表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板上に、フォトレジスト層をスピンコート等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光(或いは電子ビーム)をフォトレジスト層に照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターンを形成する。
例えば、サーボ信号を記録する場合では、各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンが露光される。その後、露光した基板を現像液に浸漬することにより、フォトレジスト層の露光された部分が除去され、これにより、ガラス基板上の所定の領域にフォトレジスト層が形成されたガラス原盤が作製される。このガラス原盤上のフォトレジスト層が形成されている面の表面に、Niメッキ(電鋳)を行い、表面にポジ状の凹凸パターンを有するNi原盤を所定の厚さまで形成し、このNi原盤をガラス原盤から剥離する。このNi原盤をスタンパー用のプレス原盤(金型)として用いることも可能であるが、必要に応じてこのNi原盤に凹凸バターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤(金型)とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
尚、現像後所定の領域にフォトレジスト層の形成されたガラス原盤の表面にメッキを施して、第2の原盤を作製し、第2の原盤の表面に更にNiメッキを施して、ネガ状の凹凸を有するNi原盤を作製してもよい。更に、第2の原盤の表面にメッキを施すか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させることにより第3の原盤を作製し、第3の原盤の表面にNiメッキを施すことにより、ポジ状の凹凸を有するNi原盤を作製してもよい。
Ni原盤を構成する材料としては、Ni及びNi合金が主に用いられる。このNi原盤を形成する方法としては、先に説明した電界メッキや無電解メッキによるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。尚、基板上に塗布されるレジストはポジ型でもネガ型でも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
次に、このように形成したNi原盤をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板47を作製し、その表面に磁性層48を形成する。樹脂基板47の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。
射出成型により樹脂基板47を形成した場合、成型品である樹脂基板47にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
また、射出成型以外の方法により樹脂基板47を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板47が形成される。
このように形成された樹脂基板47の突起状のパターンの突起の高さは、80〜800nmの範囲が好ましく、更には、100〜600nmの範囲が好ましい。
この後、形成された樹脂基板47の突起状のパターンが形成されている面に磁性層48を形成することによりマスターディスク46を得る。磁性層48の成膜は、磁性材料を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等による真空成膜法や、メッキ(電鋳)等を行うことにより形成される。
磁性層48に用いられる材料としては、軟磁性材料が用いられ、具体的には、Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAlSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からFeCo、FeCoNiである。又、磁性層48の厚さtは、40nm〜320nmの範囲が好ましく、特に、100nm〜300nmの範囲が更に好ましい。
尚、磁性層48の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク46は、転写用磁気ディスク40と密着させるため、マスターディスク46の磁性層48の形成されている面は密着面となるため、密着させた際に磁性層48が傷つき、マスターディスク46として使用することができなくなることを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク40との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
具体的には、保護膜としては、厚さが5〜30nmのダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層48と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層48上にSi等の密着強化層を形成し、その後保護膜を形成してもよい。
次に、マスターディスク46をフォトファブリケーション法により作製する場合について説明する。まず、平滑な平板上の基板47の表面にフォトレジストをスピンコート等により塗布し、プリベークした後、サーボ信号等のパターンが記録されているフォトマスクを用いて露光し現像を行う。これにより、基板47の表面には、サーボ信号等の所望のパターンに応じたフォトレジスト層のパターンが形成される。
次に、このようにフォトレジスト層のパターンの形成された基板47についてエッチングを行う。具体的には、RIE等のドライエッチングやウエットエッチングにより、フォトレジストの形成されていない領域のエッチングを行う。エッチングは、マスターディスク46に形成される突起状のパターンが所定の高低差(深さ)になるまで行う。この後、フォトレジストを有機溶剤等により取り除くことにより。基板47の表面には、突起状のパターンが形成される。
この後、基板47の突起状のパターンの形成された面に、磁性層48を形成する。磁性層48は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の真空成膜方法、或いはメッキ法等により所定の厚さtまで膜が積層されるまで行う。
また、フォトファブリケーション法により基板47の突起状のパターンを形成する方法としては、上記の方法の他にリフトオフ法等によっても形成可能である。
〔密着工程〕
次に、図1(b)に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク46の突起状のパターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク40の磁性層の形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
次に、図1(b)に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク46の突起状のパターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク40の磁性層の形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
転写用磁気ディスク40には、マスターディスク46に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理(バーニッシング等)が必要に応じて施される。
尚、密着工程では、図1(b)に示すように、転写用磁気ディスク40の片面にマスターディスク46を密着させる場合と、両面に磁性層の形成された転写用磁気ディスク40の両面にマスターディスク46を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
〔磁気転写工程〕
次に、図1(c)、図4に基づき磁気転写工程を説明する。
次に、図1(c)、図4に基づき磁気転写工程を説明する。
上記密着工程により転写用磁気ディスク40とマスターディスク46とを密着させたものについて、磁界発生手段30により初期磁化の向きと反対方向に磁界を発生させる。磁界を発生させることにより発生した磁束はコア32内において矢印の向きに生じ、ギャップ31より漏れた転写用磁界Hdの磁束が転写用磁気ディスク40とマスターディスク46に進入することにより磁気転写が行われる。
図4は、図1(c)の磁気転写の様子を更に詳細に示したものである。磁気転写装置10は、磁界発生手段30は、コア32にコイル33が巻きつけられた電磁石34からなるものであり、このコイル33に電流を流すことによりギャップ31に磁界が発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイル33に流す電流の向きによって変えることができる。従って、磁気転写を行う場合には、磁界発生手段30のコイル33に、初期磁化したときにコイル33に流した電流の向きと逆向きの電流を流す。尚、図4に示すように、磁界発生手段30は、密着させた転写用磁気ディスク40とマスターディスク46を介し上下に設けられており、上下に設けられた磁界発生手段30により、ギャップ31に同じ方向に磁界を発生させることができる構成のものである。
磁気転写は、転写用磁気ディスク40及びマスターディスク46を密着させたものを回転させつつ、磁界発生手段30によって転写用磁界を印加し、マスターディスク46に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに磁気転写するため、回転手段が設けられている。尚、この構成以外にも、磁界発生手段30を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク40及びマスターディスク46に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
図2(b)に、磁気転写工程における転写用磁気ディスク40とマスターディスク46に磁界を印加した際の断面の様子を示す。
図2(b)に示すように、基板47の表面には突起状のパターンが形成され、その上に磁性層48が形成されたマスターディスク46と転写用磁気ディスク40が密着した状態では、マスターディスク46の凸領域は、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mとが接触している。
このため、転写用磁界Hdを印加すると、磁束は、マスターディスク46の凸領域、即ち、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mと接触している領域では、磁束はマスターディスク46の磁性層48を貫くこととなる。これは、マスターディスク46に形成された磁性層48が軟磁性材料に形成されているためである。一方、マスターディスク46の凹領域、即ち、マスターディスク46の磁性層48と転写用磁気ディスク40の磁性層40Mが接触していない領域では、磁束は、マスターディスク46の磁性層48、及び転写用磁気ディスク40の磁性層40Mを貫くこととなる。
従って、転写用磁界Hdを印加することにより生じた磁束は、マスターディスク46の凹領域に対応する転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに進入し、この領域の磁化向きを転写用磁界Hdと同一の磁化向きに反転させる。一方、マスターディスク46の凸領域では、磁束は転写用磁気ディスク40の磁性層40Mへは殆ど進入しないため、この領域において磁化向きは、反転されることなく、初期磁化された向きを保っている。
これにより、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに、マスターディスク46に設けられた突起状のパターンによる情報が、磁気パターンとして記録される。
更に、この様子を立体的に示したものが図5である。図に示すように転写用磁界Hd(太矢印)を印加することにより、マスターディスク46の凸領域に接している転写用磁気ディスク40の磁性層40Mのみ転写用磁界Hdにより磁化反転し、マスターディスク46の凹領域の磁性層40Mは、反転されることなく初期磁化された状態を保ったままとなる。
この後、転写用磁気ディスク40をマスターディスク46から取り外す。これにより、図2(c)に示すように、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mには、サーボ信号等の磁気パターンが情報として記録されたものが作製される。
尚、マスターディスク46の基板47に形成された突起状のパターンは、図5に示すポジパターンと反対のネガパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Hiの方向及び転写用磁界Hdの方向を各々逆方向にすることにより、転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。
ここで、印加する転写用磁界Hdの大きさと、これにより転写された転写用磁気ディスク40の磁性層40Mに転写された磁気パターンによる再生信号強度である出力との関係について、図6に基づき説明する。
なお、磁気転写された再生信号強度の測定は、電磁変換特性測定装置(協同電子社製LS−90)により行った。この際、ヘッドには、再生ヘッドギャップが0.17μm、再生トラック幅が0.9μm、記録ヘッドギャップが0.17μm、記録トラック幅が1.2μmであるMRヘッドを使用した。読み込んだ信号をスペクトロアナライザーで周波数分解し、1次信号のピーク強度を測定した。
Hcは転写用磁気ディスク40の磁性層40Mの保磁力であり、横軸は、この保磁力Hcに対する転写用磁界Hdの大きさを示している。縦軸は、再生信号の出力のピークを0〔dB〕とした場合の再生信号強度である出力を示している。経験則に基づくならば、再生信号の出力のピークよりも−2〔dB〕以上であれば、再生信号をサーボ信号等として有効に使用することができるが、−2〔dB〕に満たない場合は、再生信号の出力が低いためサーボ信号等として有効に使用することはできない。
この図より、再生信号の出力のピークは、転写用磁界Hdが磁性層40Mの保磁力Hcに対し、約1.3倍となるとき、即ち、Hd/Hcが、約1.3である場合に再生信号の出力がピークとなる。
転写用磁界Hdが磁性層40Mの保磁力Hcと同じである場合、即ち、Hd/Hcが0.8である場合、出力は、約−3.5〔dB〕であり、この値では再生信号を有効に使用することはできない。Hd/Hcが、1.0である場合、再生信号の出力は、約−0.8〔dB〕となり、−2〔dB〕以上であるため、再生信号として有効に使用することができる。
尚、転写用磁化Hdの強度は、あまり高くしてしまうと、その漏れ磁束により磁化反転させる必要のない領域まで磁化反転させてしまい、このため再生信号の強度が次第に低下し、Hd/Hcの値が、1.65において−2〔dB〕となる。
これより、塗布により磁性層40Mが形成された転写用磁気ディスク40においては、記録された磁気信号による良好な再生信号出力を得るためには、転写用磁界Hdの値の範囲は、0.9×Hc<Hd<1.65×Hcであることが必要である。
なお、更に良好な再生信号出力を得るためには、好ましくは、1.0×Hc<Hd<1.5×Hcであることが必要である。これは、よりサーボフォロイングに適している再生出力が、再生出力のピークの値より−1〔dB〕以上であるためである。
次に、転写用磁界の印加方向について説明する。
図7は、磁気転写工程における転写用磁気ディスク40の上面図である。矢印の方向は半径方向であり、これに対し90度の方向がトラック方向である。転写用磁界Hdの印加する方向と、これにより転写用磁気ディスクに転写された磁気パターンを再生した際の再生信号出力の関係について調べた結果を図8に示す。この図に示されるように、再生信号の出力がピークとなるのは、90度の場合である。先程と同様に、再生信号の出力は、ピークの値より−2〔dB〕以上の範囲であれば有効に使用することができる。従って、図7より、70度から110度の範囲であれば、再生信号の出力は−2〔dB〕以上であり、再生信号として有効に使用することができる。
以上より、塗布により磁性層40Mが形成された転写用磁気ディスク40においては、良好な再生信号出力を得るためには、転写用磁界Hdの印加する方向は、転写用磁気ディスク40の半径方向に対し、70度から110度の範囲であることが必要である。
また、磁界発生手段30は、図1の構成と異なり、転写用磁気ディスク40の片側にのみ設置してもよい。この他、図9(a)〜(c)に、磁界発生手段30の他の実施の形態を示す。
図9(a)の磁界発生手段22は、転写用磁気ディスク40の半径方向に延びる1つの電磁石90(又は永久磁石)のディスク面と平行な両側部が反対磁極に構成されており、トラック方向に磁界を発生させるものである。
図9(b)の磁界発生手段24は、所定間隔で転写用磁気ディスク40の半径方向に延びる2つの平行電磁石92、93(又は永久磁石)のディスク面に向かう端面が反対磁極に構成されており、トラック方向に磁界を発生させるものである。
図9(c)の磁界発生手段26は、断面U字状で半径方向に延びる永久磁石94(又は電磁石)の転写用磁気ディスク40のディスク面に向かう2つの平行端面が反対磁極に構成され、トラック方向に磁界を発生させるものである。
このように磁気転写のされた転写用磁気ディスク40は、必要に応じて所定のケース等に収められて磁気記録媒体として使用する。具体的には、この磁気記録媒体は、専用の磁気記録再生装置(ディスクドライブ)により、情報の記録、再生が行われる。
以下の条件により、転写用磁気ディスク40及びマスターディスク46を作製し、磁界発生手段30による磁気転写方法による磁気転写を行い、磁気記録媒体を作製した。
マスターディスク46は、Niスタンパー法により作製した。先ず、円盤中心から半径方向10〜20mmの位置まで、幅0.6μmの等間隔放射状ラインで、ライン間隔が半径方向10mmの最内周位置で0.6μm間隔であるような、深さ0.1μmの円盤状パターンを有するNi基板47を作成した。
次に、このNi基板47上にスパッタリング成膜装置により磁性層48の成膜を行った。具体的には、スパッタリング成膜装置のチャンバー内にNi基板47を設置した後、チャンバー内を1.33×10-5Pa(10-7Torr)まで減圧する。チャンバー内には、FeCoターゲットが設置されており、アルゴン(Ar)ガスを導入し、ターゲットに電界を印加し放電させることにより、Ni基板47の突起状のパターンの形成されている面にスパッタリング成膜を行う。この時のチャンバー内の圧力は0.4Pa(3×10-3Torr)であり、基板は常温である。これによりNi基板47の突起状のパターンの形成されている面上に厚さ200nmのFeCo膜(軟磁性層)を形成し、マスターディスク46とした。このマスターディスク46の保磁力Hcは8kA/m(100Oe)、磁束密度Msは28.9T(23000Gauss)である。
転写用磁気ディスク40は、支持体上に非磁性層用塗布液、磁性層用塗布液を塗布することにより非磁性層、磁性層を形成したものである。非磁性層用塗布液、磁性層用塗布液の処方は以下のとおりである。
<非磁性層用塗布液>
非磁性粉体(α−Fe2O3 ヘマタイト): 100部
平均長軸長:0.08μm
BET法による表面積:60m2/g
pH:9.0
表面処理層:表面にAl2O3が粒子全体に対して8質量%存在
カーボンブラック
コンダクテックスSC−U(コロンビアンカーボン社製): 25部
塩化ビニル共重合体
MR104(日本ゼオン社製): 12.5部
ポリウレタン樹脂
UR8200(東洋紡社製): 5.3部
オレイン酸: 1.3部
ステアリン酸: 1.3部
フェニルホスホン酸: 3.5部
イソセチルステアレート: 0.6部
メチルエチルケトン: 200部
シクロヘキサノン: 50部
<磁性層用塗布液>
バリウムフェライト磁性粉: 100部
対Baモル比組成(atom%):Fe9.10、Co0.22、Zn0.71
Hc:175kA/m(2200Oe)
BET法による表面積:70m2/g、σs:52A・m2/kg
平均板径:20mm
平均板状比:2.5
ポリウレタン樹脂: 14部
カーボンブラック
#50(旭カーボン社製): 0.5部
ダイヤモンド
MD150(東名ダイヤ社製): 0.3部
イソセチルステアレート: 4.5部
オレイン酸: 0.1部
ステアリン酸: 0.1部
メチルエチルケトン: 125部
シクロヘキサノン: 125部
非磁性粉体(α−Fe2O3 ヘマタイト): 100部
平均長軸長:0.08μm
BET法による表面積:60m2/g
pH:9.0
表面処理層:表面にAl2O3が粒子全体に対して8質量%存在
カーボンブラック
コンダクテックスSC−U(コロンビアンカーボン社製): 25部
塩化ビニル共重合体
MR104(日本ゼオン社製): 12.5部
ポリウレタン樹脂
UR8200(東洋紡社製): 5.3部
オレイン酸: 1.3部
ステアリン酸: 1.3部
フェニルホスホン酸: 3.5部
イソセチルステアレート: 0.6部
メチルエチルケトン: 200部
シクロヘキサノン: 50部
<磁性層用塗布液>
バリウムフェライト磁性粉: 100部
対Baモル比組成(atom%):Fe9.10、Co0.22、Zn0.71
Hc:175kA/m(2200Oe)
BET法による表面積:70m2/g、σs:52A・m2/kg
平均板径:20mm
平均板状比:2.5
ポリウレタン樹脂: 14部
カーボンブラック
#50(旭カーボン社製): 0.5部
ダイヤモンド
MD150(東名ダイヤ社製): 0.3部
イソセチルステアレート: 4.5部
オレイン酸: 0.1部
ステアリン酸: 0.1部
メチルエチルケトン: 125部
シクロヘキサノン: 125部
上記の非磁性層塗布液、磁性層用塗布液のそれぞれについて、磁性層用塗布液のカーボンブラックとダイヤモンドを除く各成分をニーダで混練した後、カーボンブラックにシクロヘキサノン4.5部、ダイヤモンドにシクロヘキサノン2.7部加えたものに超音波処理を施し、サンドミルによる分散終了10分前に添加し、分散開始後から6時間で分散を終了した。得られた分散液にイソシアネートを非磁性層用塗布液には4.8部、磁性層用塗布液には2.5部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン40部を加え、1μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液をそれぞれ調整した。
得られた非磁性層用塗布液を、乾燥後の厚さが1.2μmになるように中心面平均表面粗さが1.8nmのポリエチレンナフタレート支持体上に塗布し一度乾燥させ、その直後に磁性層が80nmになるようにブレード方式により磁性層用塗布液を塗布し、乾燥後、7段のカレンダで温度90℃、線圧300kg/cm(294kN/m)にて処理を行い、円盤状に打ち抜いた。その後55℃でのサーモ処理を行い非磁性層、磁性層の硬化処理を促進させた。これにより、保磁力Hcが175kA/m(2200Oe)の外径47mm(1.8インチ型)の転写用磁気ディスク40を作製した。
磁気転写は、図4に示される構成で行った。先ず、ピーク磁界強度が転写用磁気ディスク40の表面において、転写用磁気ディスク40の保磁力Hcの2.3倍の398kA/m(5000Oe)となるように、リング型ヘッド電磁石34を配置して、転写用磁気ディスク40の初期直流磁化を行った。
次に、初期直流磁化した転写用磁気ディスク40とマスターディスク46とを密着させた後、ピーク磁界強度が転写用磁気ディスク40の表面において239kA/m(3000Oe)となるように、電磁石34のコイル33に流れる電流を調整して磁気転写を行った。尚、この値は、転写用磁気ディスク40の記録層40Mの保磁力Hcの1.4倍である。磁気転写は、電磁石34により、初期直流磁化とは逆向きに転写用磁界を印加することにより行われる。なお、転写用磁気ディスク40とマスターディスク46との密着工程では、ゴム板を挟んでアルミニウム板上から加圧した。
この後、転写用磁気ディスク40とマスターディスク46を取り外し、サーボ信号等のプリフォーマット情報が磁気信号として記録された転写用磁気ディスクが作製され、これをそのまま磁気記録媒体として用いるか、専用のケースに挿入して用いることが可能である。この結果、この磁気記録媒体を再生したところ充分な再生信号を得ることができた。
以上、本発明の磁気転写方法、磁気記録媒体等について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行うことは可能である。
10…磁気転写装置、30…磁界発生手段、31…ギャップ、32…コア、33…コイル、34…電磁石、40…転写用磁気ディスク(スレーブディスク)、46…マスターディスク
Claims (6)
- 支持体上の片面又は両面に磁性体を塗布することにより磁性層を形成した円盤状の磁気記録媒体の円周方向に磁界を印加し、前記磁気記録媒体を円周方向の一方向に初期磁化させる初期磁化工程と、
前記初期磁化させた磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体の磁性層に対し情報を転写するための突起状のパターンを形成した少なくとも表面の一部又は全部が磁性層からなるマスター記録媒体とを密着させる密着工程と、
前記磁気記録媒体と前記マスター記録媒体の円周方向に磁界を印加することが可能な磁界発生手段により、前記磁気記録媒体の磁性層の保持力Hcに対し、
0.9×Hc<Hd<1.65×Hc
となる磁界Hdを前記密着工程により密着状態にあるマスター記録媒体と磁気記録媒体に印加し、前記マスター記録媒体に形成された突起状のパターンによる情報を前記磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写工程と、
を備えることを特徴とする磁気転写方法。 - 前記磁界発生手段に対し、前記密着工程により密着状態にあるマスター記録媒体と磁気記録媒体とを相対的に移動させながら磁気転写を行うことを特徴とする請求項1に記載の磁気転写方法。
- 前記磁界Hdが、
・ 0×Hc<Hd<1.5×Hc
であることを特徴とする請求項1又は、2に記載の磁気転写方法。 - 前記磁界Hdの印加される方向が、前記磁気記録媒体の半径方向に対し、70度から110度の方向であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の磁気転写方法。
- 請求項1から4のいずれかに記載の磁気転写方法により、前記磁気記録媒体の磁性層にサーボ情報を記録したことを特徴とする磁気記録媒体。
- 請求項5に記載の磁気記録媒体を記録再生すること特徴とする磁気記録再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006077586A JP2007257696A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006077586A JP2007257696A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007257696A true JP2007257696A (ja) | 2007-10-04 |
Family
ID=38631793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006077586A Pending JP2007257696A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007257696A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009099216A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Nec Corp | ディスク回転安定化板および光学的情報記録再生装置 |
-
2006
- 2006-03-20 JP JP2006077586A patent/JP2007257696A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009099216A (ja) * | 2007-10-17 | 2009-05-07 | Nec Corp | ディスク回転安定化板および光学的情報記録再生装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7079335B2 (en) | Magnetic transfer method and apparatus | |
JP2008065910A (ja) | マスター記録媒体、磁気転写方法、磁気転写装置、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置 | |
US7593175B2 (en) | Magnetic transfer method, magnetic transfer apparatus, magnetic recording medium and magnetic record reproduction system | |
JP2007257696A (ja) | 磁気転写方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP4046480B2 (ja) | 磁気転写方法および磁気転写装置 | |
JP2007242143A (ja) | 磁気記録媒体の初期磁化方法、磁気転写方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2007012143A (ja) | 磁気記録媒体の直流消磁方法、装置、及び磁気転写方法 | |
US20070002480A1 (en) | DC demagnetization method and apparatus for magnetic recording medium and magnetic transfer method and apparatus | |
KR20030007107A (ko) | 자기전사용 마스터담체 | |
US7110196B2 (en) | Magnetic transfer method and apparatus | |
JP2004079060A (ja) | 磁気転写用マスター担体 | |
JP2007242165A (ja) | 垂直磁気転写用マスター媒体、垂直磁気転写方法、垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録装置 | |
JP3986951B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体および磁気転写方法 | |
JP2008010028A (ja) | 垂直磁気記録媒体の磁気転写方法、垂直磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
JP2007012142A (ja) | 磁気転写方法及び装置 | |
JP4089904B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2008165884A (ja) | 磁気転写方法、マスター記録媒体、垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP2006114104A (ja) | 磁気転写方法、磁気記録媒体、及び磁気記録装置 | |
JP2007317333A (ja) | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 | |
JP2006120266A (ja) | 磁気転写方法、磁気記録媒体、及び磁気記録装置 | |
JP4362730B2 (ja) | 磁気転写用マスター記録媒体、磁気記録媒体製造方法 | |
JP2002373417A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP4761166B2 (ja) | 磁気転写用マスター体の製造方法 | |
JP2003228829A (ja) | 磁気転写方法 | |
JP2006202401A (ja) | 磁気転写用マスターディスク、磁気記録媒体、及び磁気記録装置 |