JP2007253527A - エンボス付き離型紙及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】紙層/熱溶融樹脂層から構成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂層の膜厚が厚くなっても、少ない照射量で経済的に製造することができるエンボス付き離型紙を提供する。
【解決手段】少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。
【選択図】 図1
【解決手段】少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。
【選択図】 図1
Description
本発明は、特に合成皮革の製造に用いられる熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙及びその製造方法に関する。
従来、紙の片面に未硬化の電離放射線硬化性コート層を設け、次いで60℃に加熱したエンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工を行った未硬化の電離放射線硬化性コート層に電子線又は紫外線を照射してエンボス付き電離放射線硬化膜を形成することが記載されている(特許文献1参照)。
特公昭64−10626号公報
しかしながら、従来の方法では電離放射線硬化性コート層の膜厚が厚くなると、電離放射線による硬化効率が低下し、硬化のために多くの照射量を必要としていた。また、生産性を上げるため、より少ない照射量で硬化させようとして、例えば紫外線硬化の場合、光開始剤量を多くすると、表面だけが集中して硬化し、内部(中下層)まで光が届きづらいことがあった。
本発明が解決しようとする課題は、少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂層の膜厚が厚くなっても、少ない照射量で経済的に製造することができるエンボス付き離型紙及びその製造方法を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂層の膜厚が厚くなっても、少ない照射量で経済的に製造することができるエンボス付き離型紙及びその製造方法を提供することである。
請求項1に記載の発明は、上記のエンボス付き離型紙に関する課題を解決するもので、少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙を要旨とする。
この発明に係るエンボス付き離型紙において、紙層と熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられているので、電離線照射の透過光による熱溶融樹脂層の硬化だけでなく、光反射層により反射された電離放射線も用いることができるため、熱溶融樹脂層が効率よく十分に硬化され、200℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、繰り返し使用しても賦型性が悪くなることがないものである。
請求項2に記載の発明は、上記の製造方法に関する課題を解決するもので、紙層上に光反射層を設け、その上に電離放射線により硬化反応を起こす電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂層を設け、次いで熱エンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工した熱溶融樹脂層に電離放射線を照射し、そのとき前記光反射層により電離放射線を反射させて熱溶融樹脂層を硬化させることを特徴とするエンボス付き離型紙の製造方法を要旨とするものである。
この製造方法に関する発明により、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、光効率が向上し、光反射層を設けない場合よりも、より少ない照射量で十分な硬化効率をあげることができる。
本発明に係るエンボス付き離型紙は、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、より少ない照射量で製造されたにもかかわらず、耐熱性に優れ、200℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、例えば、ポリ塩化ビニルゾルをエンボス付き離型紙上にコーティングし、210℃で加熱硬化させることを繰り返し行ってもそれによって賦型性が悪くなることはないという利点を有する。
また、本発明に係るエンボス付き離型紙の製造方法によれば、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、光効率が向上し、光反射層を設けない場合よりも、より少ない照射量で経済的にエンボス付き離型紙を製造することができる。
また、本発明の製造方法によれば、より少ない照射量で硬化させるので、硬化する過程でエンボス加工した電離放射線硬化性樹脂層のエンボスが照射時に発生する放射熱(赤外線等の放射熱)によりだれてしまうことがない利点を有する。
また、本発明に係るエンボス付き離型紙の製造方法によれば、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、光効率が向上し、光反射層を設けない場合よりも、より少ない照射量で経済的にエンボス付き離型紙を製造することができる。
また、本発明の製造方法によれば、より少ない照射量で硬化させるので、硬化する過程でエンボス加工した電離放射線硬化性樹脂層のエンボスが照射時に発生する放射熱(赤外線等の放射熱)によりだれてしまうことがない利点を有する。
図1は本発明のエンボス付き離型紙を示す。
図1に示すように、本発明のエンボス付き離型紙は、少なくとも紙層1、光反射層2及び熱溶融樹脂層3からなり、熱溶融樹脂層3は、電離放射線により硬化反応を起こす未硬化の電離放射線硬化性樹脂からなる。本発明のエンボス付き離型紙は、熱エンボスロールにより未硬化の電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂を溶解し、同時に紙層1も軟化させることにより、エンボスロールの型を立体的に転写させ、エンボス加工後、電離放射線を照射して熱溶融樹脂を硬化させてなるものである。
エンボス付き離型紙は、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、より少ない照射量で製造されたにもかかわらず、耐熱性に優れ、200℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、例えば、ポリ塩化ビニルゾルをエンボス付き離型紙上にコーティングし、210℃で加熱硬化させることを繰り返し行ってもそれによって賦型性が悪くなることはないという利点を有するものである。
図2乃至図5は本発明のエンボス付き離型紙の製造方法に係る製造工程を示す。
先ず図2に示すように、紙層1上に光反射層2を設けたものを用意する。
次いで図3に示すように、光反射層2を設けた紙層1上に未硬化の電離放射線硬化性樹脂3aをコーティングする。
次いで図4に示すように、紙層1/光反射層2/電離放射線硬化性樹脂層3aからなるものを、熱エンボスロールにより未硬化の電離放射線硬化性樹脂3aを溶解し、同時に紙層1も軟化させることにより、エンボスロールの型を立体的に転写させる、
次いで図5に示すように、エンボス加工後、電離放射線4を照射させ、紙層1/光反射層2/熱溶融樹脂層(硬化させた電離放射線硬化性樹脂層)3からなる、
図1に示すようなエンボス付き離型紙を得る。尚、図6は、電離放射線硬化性樹脂層3aを透過し、光反射層2により反射した電離放射線によって、電離放射線硬化性樹脂層3aの表層5の硬化が促進される状態を示す説明図である。
図1に示すようなエンボス付き離型紙を得る。尚、図6は、電離放射線硬化性樹脂層3aを透過し、光反射層2により反射した電離放射線によって、電離放射線硬化性樹脂層3aの表層5の硬化が促進される状態を示す説明図である。
而して本発明において、紙層1としては、クラフト紙、上質紙、模造紙、アート紙、コート紙等を使用することができる。
この紙層1の坪量は80〜200g/m2程度が好ましい。
この紙層1の坪量は80〜200g/m2程度が好ましい。
光反射層2としては、例えばアルミニウム蒸着膜を利用することができる。
電離放射線硬化性樹脂層3aは、例えばエチレン性不飽和結合を有する化合物と光開始剤からなるものである。
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルアミド等の単官能モノマー、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の2官能モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート等の3官能モノマーウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートエチレンアクリルアミド、N,N′−(オキシジメチレン)ビスメタクリルアミド不飽和ポリエステル等のオリゴマー、プレポリマー、又はこれらの一種あるいは二種以上の混合物を用いることができる。
光開始剤として、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイルアルキルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル、4,4−ジクロルベンゾフェノン等を用いることができる。
電離放射線硬化性樹脂3aはリバースコーター、バーコート、ナイフコート、ロールコート、カーテンフローコート、スプレーコート、押出コート等の方法で光反射層2上にコーティングすることができる。
コーティングする電離放射線硬化性樹脂3aの塗布量は0.1g/m2〜50g/m2が適当であり、好ましくは5g/m2〜20/m2である。
本発明の製造方法において、エンボス加工を電離放射線の照射前に行っているのは、硬化後にエンボスを施すのでは硬化した電離放射線硬化性樹脂層が割れてしまうからである。
エンボス加工は、エンボスロールで転写する方法が一般的であるが、他にベルト法、金型模様のプレス法等も適用可能である。
次に本発明の製造方法において電離放射線を照射する紫外線照射装置として、高圧水銀紫外線ランプ、水晶水銀灯、紫外線硬化炭素アーク等を適用でき、また電子線照射装置としては、50〜2000KeVのエネルギーを有するものが適当である。
本発明の製造方法によれば適度の離型性を有し、且つ耐熱性、耐侯性、耐薬品性、耐摩耗性等の点で優れたエンボス付き離型紙を製造することができる。
また、より少ない照射量で硬化させる方法によっているので硬化する過程でエンボス加工した電離放射線硬化性樹脂層のエンボスが照射時に発生する放射熱(赤外線等の放射熱)による熱によりだれてしまうことがない利点を有する。
基材としてアルミニウム蒸着を施したアルミ蒸着紙(坪量:125g)を用い、このアルミ蒸着紙に、熱溶融タイプの電離放射線により硬化する樹脂として、トリメチロールプロパントリアクリレート100重量部に反応開始剤として光開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュア907)2重量部を混合したものを、リバースコーターにより約21g/m2塗工することにより、エンボス前の離型基材を作製した。その後、エンボス機(由利ロール製)の80℃に加熱された熱エンボスロールによりエンボス加工を行った。その後、160w/cmの高圧水銀紫外線ランプ2灯を用い、積算光量400mJで表面の樹脂を硬化させ、エンボス付き離型紙を作製した。
[比較例]
基材として通常の紙(坪量:125g/m2)を用いた以外は実施例1と同様にしてエンボス付き離型紙を作製した
基材として通常の紙(坪量:125g/m2)を用いた以外は実施例1と同様にしてエンボス付き離型紙を作製した
実施例及び比較例のエンボス付き離型紙の電離放射線硬化性樹脂の硬化性について、温度230℃のオーブン内に3分間放置前後の賦型性の変化ががあるかどうかを3次元粗さ測定機を用い、縦方向及び横方向のエンボス表面十点平均粗さ(Rz)を測定し、各測定値の、エンボスロールの(縦)十点平均粗さ(Rz)=56.3及び(横)十点平均粗さ(Rz)=58.9との比率を計算して賦型率を求め、比較した。その結果を表1に示す。
表1に示すように、実施例においてはオーブン放置前後で殆ど賦型率の変化が見られなかった。それに対し比較例ではオーブン放置後賦型性が悪くなり、耐熱性が劣り、硬化性が十分ではないことが分かった。
本発明のエンボス付き離型紙は、特に合成皮革の製造に利用することができる。
1 紙層
2 光反射層
3a 未硬化の電離放射線硬化性樹脂層
3 熱溶融樹脂層(硬化された電離放射線硬化性樹脂層)
4 電離放射線
5 電離放射線硬化性樹脂層の硬化した中下層部分
2 光反射層
3a 未硬化の電離放射線硬化性樹脂層
3 熱溶融樹脂層(硬化された電離放射線硬化性樹脂層)
4 電離放射線
5 電離放射線硬化性樹脂層の硬化した中下層部分
Claims (2)
- 少なくとも紙層/熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。
- 紙層上に光反射層を設け、その上に電離放射線により硬化反応を起こす電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂層を設け、次いで熱エンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工した熱溶融樹脂層に電離放射線を照射し、そのとき前記光反射層により電離放射線を反射させて熱溶融樹脂層を硬化させることを特徴とするエンボス付き離型紙の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006082858A JP2007253527A (ja) | 2006-03-24 | 2006-03-24 | エンボス付き離型紙及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006082858A JP2007253527A (ja) | 2006-03-24 | 2006-03-24 | エンボス付き離型紙及びその製造方法 |
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JP (1) | JP2007253527A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010258259A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Dainippon Printing Co Ltd | ナノインプリント転写用基板およびナノインプリント転写方法 |
-
2006
- 2006-03-24 JP JP2006082858A patent/JP2007253527A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
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