JP2007237807A - Vehicle windowpane and manufacturing method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、列車、自動車等の車両用窓ガラスに関するものである。さらに詳細には、融雪用ヒーター、通信用アンテナ等の導電体が合わせガラスの2枚の板ガラスの間に挟持された、透視性(目視されないこと)に優れていて視界を遮ることのない車両用窓ガラス及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a window glass for vehicles such as trains and automobiles. In more detail, for vehicles that have excellent transparency (not visible) and that do not block the field of view, in which conductors such as a snow melting heater and communication antenna are sandwiched between two glass sheets of laminated glass. It is related with a window glass and its manufacturing method.
寒冷地では、冬季になると、夜間、屋外に駐車した自動車のフロントガラス表面に積雪、結氷が付着しており、これをヒーターにより融雪して除去する防曇ガラスが知られている(例えば特許文献1〜3参照)。
また、車両用窓ガラスの一部に車両用アンテナを取り付けて電波を受信することが行なわれている(例えば特許文献4参照)。
In cold regions, in the winter, snow and icing adhere to the windshield surface of automobiles parked outdoors at night, and anti-fogging glass that melts and removes this with a heater is known (for example, Patent Documents). 1-3).
In addition, a vehicle antenna is attached to a part of a vehicle window glass to receive radio waves (see, for example, Patent Document 4).
特許文献1には、2枚の板ガラスを中間膜により接着した合わせガラスの中間膜に複数の加熱用金属線が配設され、どちらかの板ガラスのほぼ全面に加熱用透明導電膜を形成した車両用防曇ガラスが開示されている。
特許文献2には、2枚の板ガラスのいずれかの表面に設けられた透明導電膜を用いた車両用電熱窓ガラスが開示されている。
また、特許文献3には、導電性皮膜を複数の区域に分割して電圧を調整する車両用電熱窓ガラスが開示されている。
特許文献4には、全面に透明導電膜が形成された車両用窓ガラスの、透明導電膜の一部に切欠き部を設け、その切欠き部に電波を受信するアンテナを備えた車両用アンテナが開示されている。
なお、特許文献5および特許文献6には、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の作製方法として、写真製法により生成された現像銀で細線パターンを形成した後、この現像銀の薄膜の上にメッキすることにより導電性金属パターンを形成する写真銀−メッキ法が開示されている。
In
特許文献1に示された、合わせガラスの中間膜に複数の加熱用金属線を縦方向に方形に埋設する場合に、運転者に対して加熱用金属線の視認性(目視されないこと)を確保するためには、金属線の幅を約60μm以下に細くする必要がある。しかし、このように細くした金属線を埋設するには、金属線を目視できないので作業に困難を伴い、作業性が低いという問題があった。
特許文献2に示された、2枚の板ガラスのいずれかの表面に設けられた透明導電膜からなる電熱窓ガラスでは、ガラス面の局所的な温度上昇を避けるために、電熱窓ガラスの透明電熱膜の抵抗を上辺から下辺に向かって段階的又は連続的に上昇させているが、膜厚みを段階的にあるいは連続的に変化させることが困難であるという問題があった。さらに、透明導電膜の場合、可視光線透過率を高くするには膜厚みを薄くする必要があるが、膜厚みを薄くすると抵抗が高くなりヒーター出力が小さくなるという問題があった。
As shown in
In the electric heating window glass made of a transparent conductive film provided on one surface of two sheet glasses shown in
特許文献3に示された、導電性皮膜を複数の区域に分割して電圧を調整する電熱窓ガラスは、スパッタリングを用いた導電性皮膜のコーティングにより行なわれるものであって、特許文献2と同様に、可視光線透過率を高くするには膜厚みを薄くする必要があるが、膜厚みを薄くすると抵抗が高くなりヒーター出力が小さくなるという問題があった。
特許文献4には、全面に透明導電膜が形成された車両用窓ガラスに、透明導電膜の一部に切欠き部を設け、その切欠き部に電波を受信するアンテナを備えた車両用アンテナが開示されている。しかし、透明導電膜の有る部分と透明導電膜の無い部分では色調が異なるので、切欠き部の寸法をできるだけ小さくする必要があるが、数センチメートル四方の透明導電膜の施されていない切欠き部が生じて、色調の差異から目立ってしまい美観を損なうという問題があった。
The electric window glass shown in
In
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、融雪用ヒーター、通信用アンテナ等の導電体が2枚の合わせガラスに挟持された、透視性(目視されないこと)に優れていて視界をさえぎることのない車両用窓ガラス及びその製造方法を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a conductor such as a snow melting heater and a communication antenna is sandwiched between two laminated glasses, and has excellent transparency (not visible) and has a field of view. It is an object of the present invention to provide a vehicle window glass that is not obstructed and a manufacturing method thereof.
上記の課題を解決するため、本発明は、導電体を配設した車両用窓ガラスにおいて、導電性金属の配線パターンとその上に積層された金属メッキ層とからなる導電体が、前記窓ガラスを構成する第1の板ガラスの片面に転写により貼着され、かつ前記第1の板ガラスと第2の板ガラスとの間に挟持されていることを特徴とする車両用窓ガラスを提供する。
前記導電性金属の配線パターンは、写真製法により生成された現像銀の配線パターンであることが好ましい。
前記金属メッキ層は、前記現像銀の配線パターンの上に接して積層された、無電解銅メッキ層および/または電解銅メッキ層を有することが好ましい。
前記現像銀の配線パターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成されたものであることが好ましい。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a vehicle window glass provided with a conductor, wherein the conductor comprising a conductive metal wiring pattern and a metal plating layer laminated thereon is provided on the window glass. A window glass for a vehicle is provided, which is attached to one side of a first plate glass constituting the sheet by transfer and is sandwiched between the first plate glass and the second plate glass.
The conductive metal wiring pattern is preferably a developed silver wiring pattern produced by a photographic method.
The metal plating layer preferably includes an electroless copper plating layer and / or an electrolytic copper plating layer laminated on and in contact with the developed silver wiring pattern.
The developed silver wiring pattern is preferably generated by a positive photographic process or a negative photographic process.
上記の課題を解決するため、本発明は、導電体を配設した車両用窓ガラスの製造方法であって、支持基材の上に写真製法により現像銀の配線パターンを生成する配線パターン生成工程と、前記現像銀の配線パターンの上に導電性の金属メッキ層により導電体を形成するメッキ工程と、前記導電体を、前記窓ガラスを構成する板ガラスの片面に転写する工程と、を含むことを特徴とする車両用窓ガラスの製造方法を提供する。
前記メッキ工程と前記転写工程の前に、前記支持基材の上に形成された前記導電体を、pH11〜13の強アルカリ液に浸漬して導電体と支持基材との密着力を低下させるアルカリ処理工程を含むことが好ましい。
前記現像銀の配線パターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成することが好ましい。
In order to solve the above-described problems, the present invention is a method for manufacturing a window glass for a vehicle in which a conductor is disposed, and a wiring pattern generation step of generating a developed silver wiring pattern by a photographic method on a supporting substrate. And a plating step of forming a conductor with a conductive metal plating layer on the developed silver wiring pattern, and a step of transferring the conductor to one side of a plate glass constituting the window glass. The manufacturing method of the window glass for vehicles characterized by these is provided.
Prior to the plating step and the transfer step, the conductor formed on the support substrate is immersed in a strong alkaline solution having a pH of 11 to 13 to reduce the adhesion between the conductor and the support substrate. It is preferable to include an alkali treatment step.
The developed silver wiring pattern is preferably produced by a positive photographic process or a negative photographic process.
前記導電体の配線回路のパターンがメッシュ状パターンからなり、そのメッシュ状パターンに所定周波数の電磁波が透過するためのスリット(開口)が配設されていることが好ましい。
前記導電体の配線回路のパターンが格子状パターンからなり、その格子状パターンに所定周波数の電磁波が透過するためのスリット(開口)が配設されていることが好ましい。
前記導電体の金属メッキ層は、銅メッキ層及び/又はニッケルメッキ層であることが好ましい。
前記導電体は、観者に視認できない太さである線幅20〜60μmで配設することが好ましい。
前記導電体の金属メッキ層の最表面は、メッキした金属の光沢による光の反射を防ぐために黒化処理することが好ましい。
Preferably, the wiring circuit pattern of the conductor is a mesh pattern, and a slit (opening) for transmitting electromagnetic waves of a predetermined frequency is disposed in the mesh pattern.
Preferably, the wiring circuit pattern of the conductor is a lattice pattern, and slits (openings) for transmitting electromagnetic waves of a predetermined frequency are disposed in the lattice pattern.
The metal plating layer of the conductor is preferably a copper plating layer and / or a nickel plating layer.
The conductor is preferably disposed with a line width of 20 to 60 μm, which is a thickness that cannot be visually recognized by a viewer.
The outermost surface of the metal plating layer of the conductor is preferably blackened to prevent reflection of light due to the gloss of the plated metal.
本発明の車両用窓ガラス及びその製造方法によれば、観者に視認できない太さである20〜60μmの極細からなる導電体を配設しているので視認性(目視されないこと)に優れていて視界をさえぎることのない車両用窓ガラスを提供することができる。 According to the vehicle window glass of the present invention and the method for manufacturing the same, since a conductor having an ultrathinness of 20 to 60 μm, which is a thickness that cannot be visually recognized by a viewer, is provided, the visibility (not visually observed) is excellent. Thus, it is possible to provide a vehicle window glass that does not obstruct the field of view.
本発明は、支持基材上に写真製法により生成した現像銀の配線パターンの上に接して無電解メッキおよび/または電解メッキにより銅メッキ層が積層されているので、支持基材上の金属銀が銅メッキ層に拡散移行する現象により、現像銀の配線パターンと支持基材との密着力が低下して導電体を支持基材から浮かせることができ、導電体を基材から剥離し易くなる。 In the present invention, a copper plating layer is laminated by electroless plating and / or electrolytic plating in contact with a developed silver wiring pattern produced by a photographic process on a supporting substrate. Due to the phenomenon of diffusion transfer to the copper plating layer, the adhesion between the developed silver wiring pattern and the supporting substrate is reduced, and the conductor can be lifted from the supporting substrate, and the conductor is easily peeled off from the substrate. .
また、本発明は、支持基材の上に形成された前記導電体をpH11〜13の強アルカリ液に浸漬して導電体と支持基材との密着力を低下させているので、導電体を支持基材から剥離し易くなる。
このため、本発明では、導電体を支持基材から剥離して合わせガラスを構成する2枚の板ガラスのうちの一方の板ガラスの片面に転写する工程において、支持基材の上に形成された導電体を板ガラスの片面に接着層を介して圧着した後、支持基材との密着力の低下した導電体を剥がして行う転写の作業を円滑に実施することができる。
Moreover, since the said conductor formed on the support base material is immersed in the strong alkaline liquid of pH 11-13, this invention has reduced the adhesive force of a conductor and a support base material, It becomes easy to peel from the support substrate.
For this reason, in this invention, in the process which peels a conductor from a support base material and transfers to the single side | surface of one plate glass of the two plate glasses which comprise a laminated glass, the electroconductivity formed on the support base material After the body is pressure-bonded to one side of the plate glass via the adhesive layer, the transfer work performed by peeling off the conductor having a reduced adhesion to the supporting substrate can be carried out smoothly.
以下、最良の形態に基づいて本発明の車両用窓ガラスについて詳しく説明する。
図1は、本発明の車両用窓ガラスの一例を概略的に示す正面図である。図2は、本発明の車両用窓ガラスの他の例を概略的に示す正面図である。図3は、本発明の車両用窓ガラスの構成の一例を示す模式的断面図である。図4は、導電体が支持基材上に設けられた積層体の一例を示す模式的断面図である。図5(a)は支持基材上に設けられた導電体を板ガラスに転写する様子を説明する模式的断面図であり、図5(b)は導電体から支持基材を剥離する様子を説明する模式的断面図である。
なお、図1および図2では、図面を簡略にするため、導電体領域2の回路配線パターンを導電体領域2の一部分のみに図示したが、実際の車両用窓ガラスでは回路配線パターンは導電体領域2全体に設けられるものである。
The vehicle window glass of the present invention will be described in detail below based on the best mode.
FIG. 1 is a front view schematically showing an example of a vehicle window glass of the present invention. FIG. 2 is a front view schematically showing another example of the vehicle window glass of the present invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the vehicle window glass of the present invention. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate in which a conductor is provided on a support base material. FIG. 5A is a schematic cross-sectional view illustrating a state in which a conductor provided on a supporting base material is transferred to a plate glass, and FIG. 5B illustrates a state in which the supporting base material is peeled from the conductor. It is typical sectional drawing to do.
In FIG. 1 and FIG. 2, the circuit wiring pattern of the
図1に示す車両用窓ガラス10は、合わせガラスからなる窓ガラス1の一方の板ガラスの片面に導電体領域2が施され、導電体領域2の上下両端が上部バスバー(母線)3および下部バスバー(母線)4をとおして2つのリード線5、6に接続されたものである。この例では、導電体領域2の回路配線パターンは、メッシュ状パターンである。
前記メッシュ状パターンに所定周波数の電磁波が透過するためのスリット(開口)が配設されていることが好ましい(図示は省略)。
A
It is preferable that a slit (opening) for transmitting electromagnetic waves of a predetermined frequency is disposed in the mesh pattern (not shown).
図2に示す車両用窓ガラス20は、図1と同様に、合わせガラスからなる窓ガラス1の一方の板ガラスの片面に導電体領域2が施され、導電体領域2の上下両端がそれぞれ上部バスバー(母線)3および下部バスバー(母線)4をとおして2つのリード線5、6に接続されたものである。この例では、導電体領域2の回路配線パターンは、上下のバスバー3、4間を上下方向に接続する細線が複数、左右に並んだ格子状パターンである。
前記メッシュ状パターンに所定周波数の電磁波が透過するためのスリット(開口)が配設されていることが好ましい(図示は省略)。
As in FIG. 1, the
It is preferable that a slit (opening) for transmitting electromagnetic waves of a predetermined frequency is disposed in the mesh pattern (not shown).
これらの車両用窓ガラス10、20は、図3の断面図に示すように、合わせガラス11を構成する2枚の板ガラス12、16間に導電体(回路配線パターン)14が挟持された構造を有する。すなわち、屋外側に配置される第1の板ガラス12の片面(内側の面)に接着剤層13により導電体14が取り付けられ、さらに透明樹脂層15を挟んで、室内側に配置される第2の板ガラス16が貼り合わされている。導電体14は、導電性金属の配線パターン17とその上に積層された金属メッキ層18a、18bとからなる。
As shown in the sectional view of FIG. 3, these
(金属配線パターンの製造方法)
本発明の車両用窓ガラスの製造方法においては、異なる2つの銀塩写真現像法(ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法)のうちいずれかの方法を用いて支持基材の上に写真製法により現像銀からなる配線パターン17の薄膜を生成し、この現像銀の配線パターンの上に、メッキにより導電性の金属層18a,18bを積層して導電体14を形成し、その導電体を板ガラス12に転写するものである。
(Metal wiring pattern manufacturing method)
In the method for producing a window glass for a vehicle according to the present invention, a supporting base material is used by using any one of two different silver salt photographic development methods (positive photographic method-plating method, negative photographic method-plating method). A thin film of developed
本発明に使用される銀塩写真現像法の1つの方法は、古くから知られる通常のいわゆる銀塩写真フィルムを用いて行う方法(ネガ型写真製法)であって、例えば、特許文献5に記載された方法、すなわち、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び/又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法である。 One of the silver salt photographic development methods used in the present invention is a method (negative type photographic production method) performed using a conventional so-called silver salt photographic film that has been known for a long time. A silver salt-containing layer containing a silver salt provided on a support is exposed and developed to form a metallic silver part and a light-transmitting part, and the metallic silver part This is a method of forming a conductive metal part in which conductive metal particles are supported on the metal silver part by physical development and / or plating.
本発明に使用される銀塩写真現像法のもう1つの方法(ポジ型写真製法)は、特許文献6に記載された方法、すなわち、銀塩写真現像法を応用し、ハロゲン化銀を可溶性銀錯塩形成剤で溶解して可溶性銀錯塩にし、同時にハイドロキノン等の還元剤(現像主薬)で還元して現像核上に任意の配線パターンの金属銀を析出させる方法である。
Another silver salt photographic developing method (positive type photographic method) used in the present invention is a method described in
以下、ポジ型写真製法−メッキ法とネガ型写真製法−メッキ法では、説明が重複するので、上述のポジ型写真−メッキ法を主体として、写真製法により生成した現像銀で配線パターンを形成する方法を説明する。本発明においては、ネガ型写真製法−メッキ法による場合についても基本的には、ポジ型写真製法−メッキ法に準じて実施することができる。
すなわち、本発明には、ポジ型写真製法とネガ型写真製法とのいずれでも適用できる。
Hereinafter, since the description overlaps in the positive type photographic method-plating method and the negative type photographic method-plating method, a wiring pattern is formed with developed silver generated by the photographic method, mainly using the positive type photo-plating method described above. A method will be described. In the present invention, the negative photographic method-plating method can be basically carried out according to the positive photographic method-plating method.
That is, the present invention can be applied to either a positive photographic process or a negative photographic process.
(ポジ型写真製法−メッキ法:物理現像核)
現像銀の配線パターンが形成される透明基材(図4,図5に示す支持基材S)には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。透明基材としては、特に限定されるものではないが、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂等からなるプラスチックフィルム(単層または複合フィルム)が挙げられる。
(Positive photographic process-plating method: physical development nucleus)
The transparent base material (support base material S shown in FIGS. 4 and 5) on which the developed silver wiring pattern is formed is preferably provided with a physical development nucleus layer in advance. The transparent substrate is not particularly limited. For example, polyester resin such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), diacetate resin, triacetate resin, acrylic resin, polycarbonate resin, triacetyl cellulose, Examples thereof include a plastic film (single layer or composite film) made of polystyrene, polyolefin, polyurethane resin, polyvinyl chloride, polyimide resin, polyamide resin or the like.
物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子(粒子サイズは1〜数十nm程度)が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で1平方メートル当たり0.1〜10mg程度が適当である。 As the physical development nuclei, fine particles (having a particle size of about 1 to several tens of nm) made of heavy metals or sulfides thereof are used. Examples thereof include colloids such as gold and silver, metal sulfides obtained by mixing water-soluble salts such as palladium and zinc and sulfides, and the like. The fine particle layer of these physical development nuclei can be provided on the transparent substrate by a vacuum deposition method, a cathode sputtering method, a coating method or the like. From the viewpoint of production efficiency, a coating method is preferably used. The content of physical development nuclei in the physical development nuclei layer is suitably about 0.1 to 10 mg per square meter in solid content.
透明基材には、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。 An adhesive layer of a polymer latex layer such as vinylidene chloride or polyurethane can be provided on the transparent substrate, and an intermediate layer made of a hydrophilic binder such as gelatin is provided between the adhesive layer and the physical development nucleus layer. You can also.
物理現像核層には、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して10〜300質量%程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。 The physical development nucleus layer preferably contains a hydrophilic binder. The amount of the hydrophilic binder is preferably about 10 to 300% by mass with respect to the physical development nucleus. As the hydrophilic binder, gelatin, gum arabic, cellulose, albumin, casein, sodium alginate, various starches, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, a copolymer of acrylamide and vinyl imidazole, and the like can be used. The physical development nucleus layer may also contain a hydrophilic binder crosslinking agent.
物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。 The physical development nucleus layer and the intermediate layer can be applied by an application method such as dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, spray coating, and the like. In the present invention, the physical development nucleus layer is preferably provided as a continuous and uniform layer by the above-described coating method.
本発明において、物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、透明基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。 In the present invention, the supply of silver halide for precipitating metallic silver on the physical development nucleus layer is performed by a method in which the physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer are integrally provided in this order on a transparent substrate, or by another method. There is a method of supplying a soluble silver complex salt from a silver halide emulsion layer provided on a substrate such as paper or a plastic resin film. From the viewpoint of cost and production efficiency, the former physical development nucleus layer and the silver halide emulsion layer are preferably provided integrally.
(ネガ型写真製法−メッキ法:ハロゲン化銀乳剤)
本発明において、ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を80モル%以上含有するのが好ましく、特に90モル%以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。
(Negative photographic process-plating method: silver halide emulsion)
In the present invention, the silver halide emulsion can be produced according to a general method for producing a silver halide emulsion of a silver halide photographic light-sensitive material. The silver halide emulsion is usually prepared by mixing and ripening an aqueous silver nitrate solution, an aqueous halogen solution of sodium chloride or sodium bromide in the presence of gelatin.
The silver halide composition of the silver halide emulsion layer used in the present invention preferably contains 80 mol% or more of silver chloride, and more preferably 90 mol% or more is silver chloride. The conductivity of the physically developed silver formed by increasing the silver chloride content is improved.
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。合わせガラスの内部に配設される導電体領域を作製するための1つの方法として、例えば網目状などの細線パターンの物理現像銀の形成が挙げられる。この場合、ハロゲン化銀乳剤層は細線パターン状に露光されるが、露光方法として、細線パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して紫外光で露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の紫外光を用いた密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、450nm以下の発振波長の持つレーザー光、例えば400〜430nmに発振波長を有する青色半導体レーザー(バイオレットレーザーダイオードとも云う)を用いることによって、明室下(明るいイエロー蛍光灯下)でも取り扱いが可能となる。 The silver halide emulsion layer used in the present invention is sensitive to various light sources. As one method for producing a conductor region disposed inside a laminated glass, for example, formation of physically developed silver having a fine line pattern such as a mesh shape can be mentioned. In this case, the silver halide emulsion layer is exposed in the form of a fine line pattern. As an exposure method, a method in which a transparent original having a fine line pattern and the silver halide emulsion layer are in close contact with each other and exposed with ultraviolet light, or various laser beams are used. Scanning exposure method. The former contact exposure using ultraviolet light is possible even if the silver halide has relatively low photosensitivity, but in the case of scanning exposure using laser light, relatively high photosensitivity is required. Therefore, when the latter exposure method is used, the silver halide may be subjected to chemical sensitization or spectral sensitization with a sensitizing dye in order to increase the sensitivity of the silver halide. Chemical sensitization includes metal sensitization using a gold compound or silver compound, sulfur sensitization using a sulfur compound, or a combination thereof. Gold-sulfur sensitization using a gold compound and a sulfur compound in combination is preferable. In the exposure method using the laser beam described above, a laser beam having an oscillation wavelength of 450 nm or less, for example, a blue semiconductor laser (also referred to as a violet laser diode) having an oscillation wavelength of 400 to 430 nm is used. It can be handled even under a yellow fluorescent lamp.
本発明において、物理現像核層が設けられる透明基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。 In the present invention, an arbitrary position on the transparent substrate on which the physical development nucleus layer is provided, for example, an adhesive layer, an intermediate layer, a physical development nucleus layer or a silver halide emulsion layer, or a backing layer provided with a support interposed therebetween A dye or pigment for preventing halation or irradiation may be contained.
(ポジ型写真製法−メッキ法:露光・現像)
物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて細線パターンを作製する場合は、任意の細線パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、任意の細線パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下においてアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像(DTR現像)が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して細線パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、細線パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。
(Positive photographic process-plating method: exposure and development)
When producing a fine line pattern using a photosensitive material in which a silver halide emulsion layer is coated directly on the physical development nucleus layer or via an intermediate layer, a transparent original having an arbitrary fine line pattern and the photosensitive material described above are used. Exposure with close contact, or after scanning exposure of the above-mentioned photosensitive material with a laser beam output device with a digital image of an arbitrary fine line pattern, and processing in an alkaline solution in the presence of a soluble silver complexing agent and a reducing agent. Silver complex diffusion transfer development (DTR development) occurs, the silver halide in the unexposed area is dissolved to form a silver complex salt, which is reduced on the physical development nuclei to deposit metal silver to form a finely patterned physical development silver thin film. Obtainable. The exposed portion is chemically developed in the silver halide emulsion layer to become blackened silver. After development, the silver halide emulsion layer and intermediate layer, or the protective layer provided as necessary, are washed away with water, and a physically developed silver thin film having a fine line pattern is exposed on the surface.
DTR現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。 After DTR development, the silver halide emulsion layer or the like provided on the physical development nucleus layer may be removed by washing with water or transferring and peeling to a release paper or the like. There are two methods for removing the water washing: a method of removing hot water using a scrubbing roller or the like while jetting it with a nozzle or the like, and a method of removing hot water by jetting with a nozzle or the like.
一方、物理現像核層が塗布された透明基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された透明基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した細線パターンの物理現像銀薄膜が得られる。 On the other hand, when the soluble silver complex salt is supplied from a silver halide emulsion layer provided on a substrate different from the transparent substrate on which the physical development nucleus layer is coated, the silver halide emulsion layer is exposed as described above. After that, a transparent substrate coated with a physical development nucleus layer and another photosensitive material coated with a silver halide emulsion layer are superposed in an alkaline solution in the presence of a soluble silver complexing agent and a reducing agent. After several tens of seconds to several minutes after taking out from the alkaline solution, the both are removed to obtain a physically developed silver thin film having a fine line pattern deposited on the physical development nuclei.
次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。 Next, a soluble silver complex salt forming agent, a reducing agent, and an alkali solution necessary for silver complex diffusion transfer development will be described. The soluble silver complex salt forming agent is a compound that dissolves silver halide to form a soluble silver complex salt, and the reducing agent is a compound that reduces this soluble silver complex salt to precipitate metallic silver on physical development nuclei. These actions are performed in an alkaline solution.
本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、T.H.ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス4版の474〜475項(1977年)に記載されている化合物等が挙げられる。 Examples of the soluble silver complex forming agent used in the present invention include sodium thiosulfate, thiosulfate such as ammonium thiosulfate, thiocyanate such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, alkanolamine, sodium sulfite, and potassium bisulfite. Sulfites such as T. H. Examples include the compounds described in 474-475 (1977) of James The Theory of the Photographic Process 4th edition.
前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等の3−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。 As the reducing agent, a developing agent known in the field of photographic development can be used. For example, hydroquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, polyhydroxybenzenes such as chlorohydroquinone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl- Examples include 3-pyrazolidones such as 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, paraphenylenediamine, and the like.
上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に透明基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。 The above-mentioned soluble silver complex salt forming agent and reducing agent may be applied to the transparent substrate together with the physical development nucleus layer, added to the silver halide emulsion layer, or contained in the alkaline solution. It may be allowed to be contained, and may be further contained in a plurality of positions, but is preferably contained at least in the alkaline liquid.
アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液1リットル当たり、0.1〜5モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液1リットル当たり0.05〜1モルの範囲で用いるのが適当である。 The content of the soluble silver complex salt forming agent in the alkaline solution is suitably used in the range of 0.1 to 5 mol per liter of the developer, and the reducing agent is 0.05 to 1 per liter of the developer. It is suitable to use in the molar range.
アルカリ液のpHは10以上が好ましく、更に11〜14の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた透明基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を1平方メートル当たり40〜120ml程度塗布するものである。 The pH of the alkaline solution is preferably 10 or more, and more preferably in the range of 11-14. Application of the alkaline solution for silver complex diffusion transfer development may be an immersion method or a coating method. The immersion method is, for example, transporting while immersing a transparent substrate provided with a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in an alkaline solution stored in a large amount in a tank. For example, about 40 to 120 ml of an alkaline solution per square meter is applied on the silver halide emulsion layer.
(金属配線パターンの寸法)
前述したように、導電線を用いた車両用窓ガラスにおいては、太さが例えば40〜100μm程度の導電線が配設されたものがある。本発明のように金属配線パターンを形成したものにおいても、細線幅を小さくすれば観者から視認されなくなる。特に、線幅を約60μm以下にすれば、目視が困難になるが導電性は低くなる。逆に細線幅を大きくすると、観者から視認され易くなるが導電性は高くなる。
本発明の車両用窓ガラスの導電体としては、観者に視認できない太さである線幅20〜60μmの導電体を配設するのが好ましい。導電体の配線間隔は、全光線透過率を高めるために、0.15〜5mmであることが好ましい。
(Dimensions of metal wiring pattern)
As described above, some vehicle window glasses using conductive wires are provided with conductive wires having a thickness of, for example, about 40 to 100 μm. Even in the case where the metal wiring pattern is formed as in the present invention, it is not visually recognized by the viewer if the thin line width is reduced. In particular, when the line width is about 60 μm or less, visual observation becomes difficult, but the conductivity becomes low. On the other hand, when the thin line width is increased, it becomes easier for a viewer to visually recognize, but the conductivity increases.
As a conductor of the window glass for a vehicle of the present invention, it is preferable to dispose a conductor having a line width of 20 to 60 μm, which is a thickness that cannot be visually recognized by a viewer. The wiring interval of the conductor is preferably 0.15 to 5 mm in order to increase the total light transmittance.
(配線パターンの金属銀へのメッキ)
支持基材Sの上に写真製法により現像銀層17からなる配線パターンを生成した後、その現像銀の配線パターンの上に導電性の金属メッキを行なう工程において、導電体のメッキ厚みは所望とする導電性の特性により任意に変えることができるが、0.5〜15μm、好ましくは2〜12μmの範囲である。
(Plating of wiring pattern on metallic silver)
In the step of forming a wiring pattern made of the
(メッキ方法)
本発明においては、細線パターンの現像銀層をメッキする方法は、次による。
支持基材Sの片面に、写真製法により生成された現像銀17の細線パターンを形成し、当該現像銀層17の上に、導電性金属18a,18bを1層または複数層メッキする。
細線パターンの物理現像銀のメッキは、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能であるが、支持基材上に回路配線パターンを作製するにあたり、支持基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を設けたロール状の長尺ウェブに、少なくとも細線パターンの露光、現像処理およびメッキ処理という一連の処理を施すことができる観点からも、無電解メッキあるいはそれに電解メッキを組み合わせた方法が好ましい。
(Plating method)
In the present invention, the method of plating the developed silver layer having a fine line pattern is as follows.
A thin line pattern of
The fine line pattern of physically developed silver can be plated by any of electroless plating, electrolytic plating, or a combination of both. However, when creating a circuit wiring pattern on a supporting substrate, From the viewpoint that a roll-like long web provided with a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer can be subjected to at least a series of treatments such as exposure of a fine line pattern, development treatment and plating treatment. A method in which electrolytic plating is combined with it is preferable.
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、半田、あるいは銅/ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「表面処理技術総覧;(株)技術資料センター、1987年12月21日初版、281〜422頁」等の文献を参照することができる。
支持基材の片面に、写真製法により生成された現像銀層の細線パターンを形成し、当該現像銀層の上に、銅(Cu)および/またはニッケル(Ni)をメッキする。メッキが容易で、かつ導電性に優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コスト等の理由により、銅および/またはニッケルを用いることが好ましい。
本形態例では、屋外側の板ガラス12の片面に導電体14を転写により金属メッキ層18b側で貼着しているので、黒化処理したメッキ層18bを屋外側に配置することができる。
In the present invention, the metal plating method can be performed by a known method. For example, the electrolytic plating method is a conventionally known method such as copper, nickel, silver, gold, solder, or a multilayer or composite system of copper / nickel. For these, reference can be made to documents such as “Surface Treatment Technology Overview; Technical Data Center, Inc., December 21, 1987, first edition, pages 281 to 422”.
A thin line pattern of a developed silver layer generated by a photographic method is formed on one side of the supporting substrate, and copper (Cu) and / or nickel (Ni) is plated on the developed silver layer. It is preferable to use copper and / or nickel for reasons such as easy plating, excellent electrical conductivity, plating on a thick film, and low cost.
In this embodiment, the
(無電解銅メッキ)
無電解銅メッキ液としては、金属銅(Cu)の濃度として0.5〜10g/リットルが好ましく、さらに好ましくは2〜3g/リットルの濃度である。
メッキ処理液の温度としては、30〜80℃が好ましく、さらに好ましくは40〜50℃である。メッキ処理液の温度が30℃より低いと銅のメッキ析出速度が遅くなり、80℃以上になると、エネルギー費用が嵩むことから好ましくない。
メッキ厚みは0.01〜1μmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.2μmである。また、無電解銅メッキ液は、公知のメッキ液であればどのような液であっても問題はない。
(Electroless copper plating)
The electroless copper plating solution preferably has a metal copper (Cu) concentration of 0.5 to 10 g / liter, more preferably 2 to 3 g / liter.
As temperature of a plating process liquid, 30-80 degreeC is preferable, More preferably, it is 40-50 degreeC. If the temperature of the plating solution is lower than 30 ° C., the copper deposition rate is slow, and if it is 80 ° C. or higher, the energy cost increases, which is not preferable.
The plating thickness is preferably 0.01 to 1 μm, and more preferably 0.05 to 0.2 μm. Further, the electroless copper plating solution may be any solution as long as it is a known plating solution.
(電解銅メッキ)
電解銅メッキの場合は、硫酸銅、青化銅、ピロリン酸銅など、どのようなメッキ液でも良いが、その中でも硫酸銅がコスト面から見て好ましい。これらの電解銅メッキ液において、銅(Cu)の濃度は、それぞれ適当な濃度に設定すればよい。
硫酸銅メッキ浴を用いる場合、硫酸濃度が20〜400g/リットルが好ましく、さらに好ましくは70〜300g/リットルである。硫酸濃度が20g/リットルより低いと、メッキ液が不安定となり、300g/リットルより高いとメッキ粒子に異常が生じるから好ましくない。
メッキ処理温度としては、10〜60℃が好ましく、さらに好ましくは20〜40℃である。メッキ処理液の温度が、10℃より低いとメッキ時間が長く掛かりコストアップとなり、60℃より高いとメッキ外観が悪くなる。
電解メッキの電流密度としては、0.05〜20A/cm2が好ましく、さらに好ましくは0.5〜8A/cm2である。電解メッキの電流密度が0.05A/cm2より低いと、メッキ時間が長くなりコストアップとなる。また、電解メッキの電流密度が20A/cm2より高いと、メッキ皮膜の外観が悪くなるから好ましくない。
(Electrolytic copper plating)
In the case of electrolytic copper plating, any plating solution such as copper sulfate, copper cyanide, and copper pyrophosphate may be used, but copper sulfate is preferable from the viewpoint of cost. In these electrolytic copper plating solutions, the concentration of copper (Cu) may be set to an appropriate concentration.
When using a copper sulfate plating bath, the sulfuric acid concentration is preferably 20 to 400 g / liter, more preferably 70 to 300 g / liter. If the sulfuric acid concentration is lower than 20 g / liter, the plating solution becomes unstable, and if it is higher than 300 g / liter, abnormalities occur in the plating particles.
The plating temperature is preferably 10 to 60 ° C, more preferably 20 to 40 ° C. If the temperature of the plating solution is lower than 10 ° C., the plating time will be longer and the cost will be increased.
The current density of electrolytic plating is preferably 0.05 to 20 A / cm 2 , more preferably 0.5 to 8 A / cm 2 . When the current density of electrolytic plating is lower than 0.05 A / cm 2 , the plating time becomes longer and the cost increases. Moreover, if the current density of electrolytic plating is higher than 20 A / cm 2 , the appearance of the plating film is deteriorated, which is not preferable.
(電解ニッケルメッキ)
電解ニッケルメッキを行う場合には、ニッケルメッキ処理液として、ワット浴(硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸)、スルファミン酸ニッケル浴(スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸)その他、どのようなメッキ浴でもよい。
(Electrolytic nickel plating)
When performing electrolytic nickel plating, any plating bath such as watt bath (nickel sulfate, nickel chloride, boric acid), nickel sulfamate bath (nickel sulfamate, nickel chloride, boric acid), etc. But you can.
(黒化処理)
メッキ層の最表面(図3ではメッキ層18bの表面)は、メッキした金属の光沢による光の反射を防ぐために黒化処理することが好ましい。ニッケルメッキ表面の黒化処理の方法として、黒化処理皮膜の種類および用いる黒化処理液の配合について特に制限はないが、好ましい一例として、黒ニッケルを使用する場合、当該黒化処理液の硫酸濃度は、10〜50g/リットルで行うのが好ましく、さらに好ましくは20〜40g/リットルである。硫酸ニッケルの濃度が10g/リットルより低いと、メッキ析出が遅くなりコストアップとなり、50g/リットルより高いと黒化処理の仕上げ色が安定しないから好ましくない。
(Blackening treatment)
The outermost surface of the plating layer (the surface of the
(支持基材のアルカリ処理)
支持基材の上に写真製法により生成された現像銀の配線パターンを作製する工程の後、前記現像銀の配線パターンの上に導電性の金属メッキを行い、導電体(回路配線パターン)を形成するが、後の導電体を、車両用窓ガラスを構成する板ガラスの片面に転写する工程に当たって、導電体を基材から剥離し易くするために、導電体14の形成された基材S(図4参照)を、アルカリ処理する。
アルカリ処理は、導電体の形成された支持基材を、pH11〜13の強アルカリ液(例えば水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液)に浸漬して行なう。このアルカリ処理により、導電体14と支持基材Sとの密着力を低下させて、導電体14を支持基材Sから剥離し易くする。導電体14が形成された支持基材Sをアルカリ処理した後は、中和処理、水洗浄等により、支持基材Sに付着している余分な薬液を充分に洗浄除去した後、水切り、乾燥を行う。
(Alkali treatment of support substrate)
After the step of producing a developed silver wiring pattern generated by a photographic method on a support substrate, conductive metal plating is performed on the developed silver wiring pattern to form a conductor (circuit wiring pattern). However, in the process of transferring the subsequent conductor to one side of the plate glass constituting the vehicle window glass, the base material S on which the
The alkali treatment is performed by immersing the support substrate on which the conductor is formed in a strong alkaline solution (for example, sodium hydroxide aqueous solution or potassium hydroxide aqueous solution) having a pH of 11 to 13. By this alkali treatment, the adhesive force between the
(車両用窓ガラスの製造方法)
本発明では、異なる2つの銀塩写真現像法(ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法)のうち、いずれかの方法を用いて、支持基材Sの上に写真製法により生成された現像銀からなる配線パターンの薄膜17を形成し、この配線パターンの上に、メッキにより金属層18a、18bを積層して形成された導電体14が用いられる。
この支持基材Sの上に形成された写真製法−メッキ法による導電体14が、板ガラス12の片面に転写されて、車両用窓ガラスの配線を形成する。
なお、本発明の車両用窓ガラスの製造方法においては、ロール状の支持基材フィルムの上に導電体を製造しておき、需要に応じて、このロール状の支持基材フィルムから合わせガラスに、導電体を転写して車両用窓ガラスを製造することもできる。
(Vehicle window glass manufacturing method)
In the present invention, any one of two different silver salt photographic development methods (positive type photographic method-plating method, negative type photographic method-plating method) is used on the supporting substrate S by a photographic method. The
The
In addition, in the manufacturing method of the window glass for vehicles of this invention, the conductor is manufactured on the roll-shaped support base film, and this roll-shaped support base film is laminated to laminated glass according to demand. The window glass for a vehicle can also be manufactured by transferring a conductor.
図1〜図3に示す車両用窓ガラスの製造方法は特に限定されないが、例えば、以下に示す方法を用いることができる。なお、製造工程中または工程後に、接着剤層を保護するため、任意に剥離紙を積層してもよい。 Although the manufacturing method of the window glass for vehicles shown in FIGS. 1-3 is not specifically limited, For example, the method shown below can be used. In addition, in order to protect an adhesive bond layer during a manufacturing process or after a process, you may laminate | stack release paper arbitrarily.
(1)図4に示すように、支持基材Sの上に形成された、写真製法により生成された現像銀層17とその上に積層されたメッキ層18a,18bであって、好ましくは銅メッキ層18a(無電解銅メッキおよび/または電解銅メッキによる)および/またはニッケルメッキ層18bとからなる金属の配線パターンによる導電体14を準備する。
なお、支持基材Sの上に形成された導電体14を、pH11〜13の強アルカリ液に浸漬して導電体14と支持基材Sとの密着力を低下させ、導電体14を支持基材Sから剥離し易くさせておくのが好ましい。
(2)第1の板ガラス12の片面に接着剤層13を設ける。その接着剤層13の上に、図5(a)に示すように支持基材S上の導電体14を貼り合わせて圧着した後、図5(b)に示すように支持基材Sを剥がして導電体14を接着剤層13の上に転写し、この導電体14により車両用窓ガラス1の導電体14を形成する。
(3)第1の板ガラス12の上に転写された導電体14の窪みに、透明樹脂を埋め込み平滑化して、透明樹脂層15を形成する。
(4)透明樹脂層15の上に、さらに第2の板ガラス16を積層して、本形態例の車両用窓ガラス11を得る(図3参照)。
(1) As shown in FIG. 4, a
The
(2) The
(3) The
(4) A
上記の導電体14を板ガラス12に転写するに際しては、導電体14を板ガラス12に確実に転写するため、当該板ガラス12の片面に接着剤層13を設けているが、この接着剤層13に用いる接着剤としては、適当な接着力を有する粘着剤、あるいは光線、電離放射線、熱等で硬化する硬化型の接着剤を用いるができる。本発明では、接着後に硬化して形状が安定する点から、アクリル系等の熱硬化型接着剤が特に好ましい。
When transferring the
本形態例の車両用窓ガラスによれば、合わせガラスのいずれかの板ガラスの内側の面に転写して固着させた、観者に視認できない太さである20〜60μmの極細の導電体を配設しているので、透視性(目視されないこと)に優れていて、視界をさえぎることが無い。 According to the window glass for a vehicle of this embodiment, an ultra fine conductor having a thickness of 20 to 60 μm, which is not visible to the viewer, is transferred and fixed to the inner surface of any one of the laminated glass. Because it is installed, it has excellent transparency (not visible) and does not obstruct the field of view.
本発明では、支持基材の上に形成された、写真製法により生成した現像銀のメッシュパターンの上に接して無電解メッキおよび/または電解メッキにより銅メッキ層が積層されているので、支持基材上の金属銀が銅メッキ層に拡散移行する現象により、現像銀の金属配線パターンと支持基材との密着力が低下して導電体が支持基材から浮いてしまい、導電体を支持基材から剥離し易くなる。 In the present invention, since the copper plating layer is laminated by electroless plating and / or electrolytic plating in contact with the developed silver mesh pattern formed by the photographic method formed on the supporting base, Due to the phenomenon that the metallic silver on the material diffuses and migrates to the copper plating layer, the adhesion between the developed silver metal wiring pattern and the supporting substrate is reduced, and the conductor floats from the supporting substrate. It becomes easy to peel from the material.
また、本発明では、支持基材の上に形成された前記導電体を、pH11〜13の強アルカリ液に浸漬して導電体と支持基材との密着力を低下させているので、導電体を支持基材から剥離し易くなる。
このため、本発明では、導電体を支持基材から剥離して、車両用窓ガラスを構成する合わせガラスに転写する工程において、支持基材の上に形成された導電体を、車両用窓ガラスを構成する合わせガラスに接着層を介して圧着した後、支持基材との密着力の低下した導電体を剥がして転写する作業が円滑にできる。
Moreover, in this invention, since the said conductor formed on the support base material is immersed in the strong alkaline liquid of pH 11-13, the adhesive force of a conductor and a support base material is reduced, Therefore Conductor Is easily peeled off from the support substrate.
For this reason, in the present invention, in the step of peeling the conductor from the support base material and transferring it to the laminated glass constituting the vehicle window glass, the conductor formed on the support base material is replaced with the vehicle window glass. After the pressure-bonding to the laminated glass that constitutes, through the adhesive layer, the work of peeling and transferring the conductor whose adhesion with the supporting base material has been reduced can be smoothly performed.
本発明は、融雪用ヒーター、通信用アンテナ等の導電体が合わせガラスを構成する2枚の板ガラスに挟持された、透視性(目視されないこと)に優れていて視界をさえぎることのない車両用窓ガラスに利用することができる。 The present invention is a vehicle window in which a conductor such as a snow melting heater and a communication antenna is sandwiched between two glass plates constituting laminated glass, and has excellent transparency (not visible) and does not obstruct the view. Can be used for glass.
S…支持基材、1…窓ガラス(フロントガラス)、2…導電体領域、3…上部バスバー(母線)、4…下部バスバー(母線)、5…上部バスバーに接続されたリード線、6…下部バスバーに接続されたリード線、10…車両用窓ガラス、11…合わせガラス、12…第1の板ガラス、13…接着剤層、14…導電体(回路配線パターン)、15…透明樹脂層、16…第2の板ガラス、17…現像銀層(現像銀の配線パターン)、18a…第1の金属メッキ層(銅メッキ層)、18b…第2の金属メッキ層(ニッケルメッキ層)、20…車両用窓ガラス。 DESCRIPTION OF SYMBOLS S ... Support base material, 1 ... Window glass (front glass), 2 ... Conductor area | region, 3 ... Upper bus bar (bus), 4 ... Lower bus bar (bus), 5 ... Lead wire connected to upper bus bar, 6 ... Lead wires connected to the lower bus bar, 10 ... window glass for vehicle, 11 ... laminated glass, 12 ... first plate glass, 13 ... adhesive layer, 14 ... conductor (circuit wiring pattern), 15 ... transparent resin layer, 16 ... second plate glass, 17 ... developed silver layer (development silver wiring pattern), 18a ... first metal plating layer (copper plating layer), 18b ... second metal plating layer (nickel plating layer), 20 ... Vehicle window glass.
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