JP2007237295A - 穿孔プロセスパラメータをモニターし穿孔動作を制御するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システム(210、510、610)は、(a)レーザードリルの動作中(105)の単なる破過(262、372、728)のみならず、1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータをモニターするための複数のセンサ(222、226、522、526、532、654)と、(b)必要に応じて、その動作中(105)、レーザードリルを制御するために、前記1つ以上のモニターしたレーザー穿孔プロセス制御パラメータを使用するコントローラ(246)と、を含む。
【選択図】 図4
Description
これらの工作物は、固定又は静止状態で取り付けてもよいし、あるいは移動可能で取り付けてもよい(例えば、移動、シフト、回転、旋回、転換、ピボット回転、連接、移動等)。
本明細書中、データ伝送は、電子的に(有線電子的方法の使用を含む)、無線電子方法又はこれらの組み合わせによって実施すればよい。電子伝送は、多様なローカル電子伝送方法又はリモートの電子伝送方法(例えば、ローカルネットワーク又は広域ネットワーク(LAN又はWAN)の使用による)ベースの伝送方法、インターネットベースの伝送方法、又はウェブベースの伝送方法、ケーブルテレビ又は無線テレコミュニケーションネットワーク、又は他の任意の適切なローカル伝送方法又はリモート伝送方法によって実施できる。
製造システム100のこの実施形態において、動作/ステップ107は、前記穿孔済部品のプロセス内空気流の評価を含み得る。
図9に示すように、システム610は、図4及び図8に示す実施形態と同じレーザー212及び同じ光学的センサ522/526及び音響センサ532を持つが、部品234に取り付けられた第2の音響センサ(参照符号654で示す)を含んでもよい。音響センサ532及び光学的センサ522及び526に加えて、第2の音響センサ654(例えば、第2のマイクロホン)は、穿孔プロセス時の部品234の周波数スペクトル応答を直接測定することができる。図8のシステム610は、ドリル検出時における感度がより高く、部品234内部が内部的に損傷を受けたためさらなる検査が必要である旨を示す確認を提供することができる。各穴が穿孔されている時の部品234の形跡は、システム610によって提供されるこのさらなるセンシング能力によっても変化し得る。システム610の個々の応答及び/又は累積応答も、部品234の品質の別の指針となり得る。システム610によって提供される応答を、部品234の個々の穴品質及び全体空気流品質に相関付けてもよい。
12 翼
14 高圧側
16 吸引側
18 ダブテール
20 プラットフォーム
22 開口又は穴
24 内部
26 末端
30 遠位端
34 先端通路
38 中央通路
42 後縁通路
46 前方内部壁
50 後方内部壁
54 内部表面
58 内部表面
62 内部表面
100 システム
101 鋳造翼形状(ステップ)
102 ステップ101と103の間の矢印
103 ダブテール18を提供するための研削ステップ
104 ステップ103と105の間の矢印
105 レーザー穿孔ステップ
106 ステップ105と107の間の矢印
107 プロセス内空気流を測定するステップ
108 ステップ107と109の間の矢印
109 コーティングステップ
210 図4のモニタリングシステム
212 レーザー
216 望遠鏡
218 鏡
222 光学センサー
226 光学センサー
228 CNCマシン
232 レーザーパルス
234 部品
236 CNC工作機械
238 放射閃光
240 センサー222により収集されたデータ
242 センサー226により収集されたデータ
244 センサ222及び226によって収集されたデータを示す矢印
246 制御ユニット
252 破過閾値
254 初期パルス
256 第2のパルス
258 第3のパルス
260 第4のパルス
262 破過
360 初期パルス
362 第2のパルス
364 第3のパルス
366 第4のパルス
368 第5のパルス
370 破過閾値
372 破過
480 図7の穴A
482 穴Aの入口
484 穴Aの出口
490 図7の穴B/C
492 穴B/Cの入口
494 穴B/Cの出口
496 破片
510 図8のモニタリングシステム
522 光学センサー
526 光学センサー
532 マイクロホン
610 図9のモニタリングシステム
654 第2のマイクロホン
702 光学的第1のパルス
704 音響的第1のパルス
708 光学的第2のパルス
710 音響的第2のパルス
714 光学的第3のパルス
716 音響的第3のパルス
720 光学的第4のパルス
722 音響的第4のパルス
728 破過
730 破過閾値
Claims (10)
- レーザー穿孔動作の間(105)の単なる破過(262、372、728)のみならず、1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータをモニターするための複数のセンサ(222、226、522、526、532、654)を含むシステム(210、510、610)。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記複数のセンサが、少なくとも1つの光学センサ(222、226、522、526)及び少なくとも1つの音響センサ(532、654)を含むシステム(210、510、610)。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータがレーザー穿孔穴(105)の品質を含むシステム。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータが穿孔動作中(105)のレーザーの焦点位置を含むシステム。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータがレーザー穿孔動作の実行効率を含むシステム。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータは、レーザー穿孔動作(105)が金属あるいは非金属材料に達したか否かを含むシステム。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記レーザー穿孔プロセスパラメータは、前記レーザー穿孔動作(105)の間において、検出されたレーザーパルス(260、368、720)の持続時間あるいは振幅が、前回検出されたレーザー・パルス(258、366、714)と比較して変化したか否かを含むシステム。
- 請求項1又は2に記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータは、前記レーザー穿孔動作(105)の間において、レーザードリルのエネルギーレベルが変化したか否かを含むシステム。
- 請求項1から8のいずれかに記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされる前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセスパラメータが、破過を含むシステム。
- 請求項1から9のいずれかに記載のシステム(210、510、610)であって、モニターされた前記1つ以上の適切なレーザー穿孔プロセス制御パラメータを、その動作中(105)のレーザードリルを制御するために使用するコントローラ(246)を更に含むシステム。
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