JP2007234661A - Multipiece wiring board and its inspection method - Google Patents

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公成 藤堂
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multipiece wiring board in which the spread width of a plating layer formed on the multipiece wiring board can be judged easily, and to provide an inspection method of the multipiece wiring board. <P>SOLUTION: The multipiece wiring board 100 has a plurality of wiring board regions 1 and a dummy region 2. A wiring conductor 3 to which a plating layer 4 is applied is formed in the wiring board region 1, at least a pair of identification members 5 for identifying an allowable spread width when the plating layer 4 is applied to the wiring conductor 3 are provided in the dummy region 2, and the identification members 5 are arranged oppositely through a fixed gap. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品を収容するための電子部品収納用パッケージや混成集積回路基板等に用いられる複数の配線基板領域が配列され、配線基板領域にめっきが施される複数個取り配線基板およびその検査方法に関するものである。   The present invention provides a plurality of wiring board regions in which a plurality of wiring board regions used for an electronic component storage package for housing electronic components, a hybrid integrated circuit board, and the like are arranged, and plating is performed on the wiring board region, and It relates to the inspection method.

一般に、半導体素子、弾性表面波素子および圧電振動子等の電子部品搭載用の基板となる配線基板は、配線導体が形成された複数の絶縁層を上下に積層し、その積層体の主面に電子部品の搭載部を設けた構造を有する。このような配線基板は、通常、その1辺の長さが数mm程度と小さく、複数個の配線基板の取り扱いを容易とするために、また配線基板および電子装置の作製を効率よくするために、母基板に配線基板領域が複数縦横に配列形成された、いわゆる複数個取り配線基板の形態で作製されている。   In general, a wiring board that is a substrate for mounting electronic components such as semiconductor elements, surface acoustic wave elements, and piezoelectric vibrators is formed by laminating a plurality of insulating layers on which wiring conductors are formed on the main surface of the laminated body. It has a structure in which an electronic component mounting portion is provided. Such a wiring board is usually as small as a few millimeters on a side, so that it is easy to handle a plurality of wiring boards, and to efficiently manufacture wiring boards and electronic devices. The circuit board is manufactured in the form of a so-called multi-layer wiring board in which a plurality of wiring board regions are arranged in a matrix on the mother board.

複数個取り配線基板は、通常、セラミック焼結体等から成る絶縁層が複数積層されて成り、中央部に四角形状の配線基板領域が縦横に配列形成されているとともに外周部にダミー領域が形成された四角形状の母基板と、配線基板領域に形成された配線導体とを具備する構造を有する。なお、ダミー領域は、複数個取り配線基板の取り扱いを容易とすること等のために設けられている。そして、この複数個取り配線基板が個々の配線基板に分割されることにより複数個の配線基板が形成される。   A multi-layer wiring board is usually formed by laminating a plurality of insulating layers made of a ceramic sintered body, etc., and a rectangular wiring board region is arranged vertically and horizontally at the center and a dummy region is formed at the outer periphery. And a wiring board formed in the wiring board region. The dummy area is provided in order to facilitate handling of a plurality of wiring boards. A plurality of wiring boards are formed by dividing the plurality of wiring boards into individual wiring boards.

また、個々の配線基板の配線導体の露出部分には、ニッケルや金等のめっき層が被着され、電子部品の電極が半田等を介して接続される。   In addition, a plating layer of nickel, gold or the like is deposited on the exposed portion of the wiring conductor of each wiring board, and the electrodes of the electronic component are connected via solder or the like.

このめっき層は、配線導体の露出部分の酸化腐食の防止や、配線導体に電子部品を、はんだ等の接続材を介して接続する際の接続を容易かつ強固なものとすること等のために、配線導体に被着される。このようなめっき層は、通常、複数個取り配線基板をニッケル等のめっき液中に浸漬しながら、配線導体にめっき用の電流を、治具等を介して外部から供給することにより形成される。
特開2002−54000号公報 特開平6−349976号公報
This plating layer is used to prevent oxidative corrosion of the exposed part of the wiring conductor and to make the connection easy and strong when connecting the electronic component to the wiring conductor via a connecting material such as solder. And attached to the wiring conductor. Such a plating layer is usually formed by supplying a current for plating to the wiring conductor from the outside through a jig or the like while dipping a plurality of wiring boards in a plating solution such as nickel. .
JP 2002-54000 A JP-A-6-349976

近時、電子部品の微細化に伴い、複数個取り配線基板にも、各配線基板領域の小型化、配線導体の高密度化が求められ、隣り合う配線導体の間の間隔が狭くなってきている。しかしながら、上記従来の複数個取り配線基板においては、露出している配線導体において、めっき層が被着されるため、配線導体の幅(平面視で、配線導体の長手方向に直交する方向の幅、以下単に線幅ともいう)が太くなる。   In recent years, with the miniaturization of electronic components, the multi-wiring circuit boards are also required to be smaller in the area of each circuit board and higher in density of the wiring conductors, and the distance between adjacent wiring conductors is becoming narrower. Yes. However, in the conventional multi-wiring substrate, since the plating layer is deposited on the exposed wiring conductor, the width of the wiring conductor (the width in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the wiring conductor in plan view) , Hereinafter also simply referred to as line width) becomes thicker.

そして、めっき層が被着することにより線幅が太くなった露出部分において、配線導体同士がめっき層を介して接し、電気的に短絡してしまうという問題が発生するようになってきた。   And in the exposed part where line | wire width became large by having adhered the plating layer, the problem that wiring conductors contacted via a plating layer and electrically short-circuited came to generate | occur | produce.

この問題に対応するため、めっき層のひろがり幅を設定する、すなわち、めっき層のひろがりを、配線導体同士が電気的に短絡しないように設定する必要がでてきた。   In order to cope with this problem, it is necessary to set the spread width of the plating layer, that is, to set the spread of the plating layer so that the wiring conductors are not electrically short-circuited.

この場合、配線導体同士の電気的な短絡は、めっき層により誘発されるので、めっき層の配線導体からのひろがり幅(平面視したときの、配線導体の外縁からめっき層の外縁までの間の長さ)が、設定値内であるか否かを測定することにより、電気的な短絡の有無を検査するという手段が考えられる。   In this case, since the electrical short circuit between the wiring conductors is induced by the plating layer, the spread width from the wiring conductor of the plating layer (between the outer edge of the wiring conductor and the outer edge of the plating layer in plan view) It is conceivable to measure whether or not there is an electrical short by measuring whether or not the length is within a set value.

しかしながら、配線基板上の配線導体のめっき層のひろがり幅が設定値内か否かを測定することは、測定方法も難しく、また測定に時間もかかり、作業性が極端に落ちるという問題があった。   However, it is difficult to measure whether the spread width of the plating layer of the wiring conductor on the wiring board is within the set value, and there is a problem that the measurement method is difficult, takes time, and the workability is extremely reduced. .

本発明は、このような従来の問題点を解決するために完成されたものであり、その目的は、複数個取り配線基板の配線導体上に形成されるめっき層のひろがり幅を簡易に判定できる複数個取り配線基板を提供し、さらには複数個取り配線基板の検査方法を提供することにある。   The present invention has been completed in order to solve such a conventional problem, and the object of the present invention is to easily determine the spread width of a plating layer formed on a wiring conductor of a plurality of wiring boards. It is an object of the present invention to provide a plurality of wiring board, and further to provide an inspection method for a plurality of wiring boards.

本発明の複数個取り配線基板は、複数個の配線基板領域とダミー領域を有し、前記配線基板領域に、めっき層が被着される配線導体が形成された複数個取り配線基板であって、前記ダミー領域に、前記めっき層が前記配線導体を被着する際に許容されるひろがり幅を識別するための少なくとも1対の識別用部材を有し、前記識別用部材が、一定の間隙で対向して配置されていることを特徴とするものである。   The multiple-taken wiring board of the present invention is a multiple-taken wiring board having a plurality of wiring board regions and a dummy region, and a wiring conductor on which a plating layer is deposited is formed in the wiring board region. The dummy region has at least one pair of identification members for identifying a spread width allowed when the plating layer deposits the wiring conductor, and the identification member has a constant gap. It is characterized by being arranged facing each other.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記対向する識別用部材の少なくとも一方が、導体パターンであることを特徴とするものである。   The multiple wiring board according to the present invention is preferably characterized in that at least one of the opposing identification members is a conductor pattern.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記一定の間隙が、少なくとも前記許容されるひろがり幅であることを特徴とするものである。   In the multiple wiring board according to the present invention, it is preferable that the predetermined gap is at least the allowable spread width.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記対向する1対の識別用部材が、対向する1対の導体パターンであることを特徴とするものである。   Also, the multiple wiring board of the present invention is preferably characterized in that the pair of opposing identification members is a pair of opposing conductor patterns.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記対向する1対の導体パターンが、枠状の形状における、対向する一辺であることを特徴とするものである。   The multiple wiring substrate of the present invention is preferably characterized in that the pair of opposing conductor patterns are opposing sides in a frame shape.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記対向する1対の導体パターンが、1対の四角形状であることを特徴とするものである。   In the multiple wiring board of the present invention, preferably, the pair of opposing conductor patterns is a pair of quadrangular shapes.

また、本発明の複数個取り配線基板は、前記一定の間隙が、少なくとも前記許容されるひろがり幅2倍の幅であることを特徴とするものである。   In the multiple wiring board according to the present invention, the fixed gap is at least twice the allowable spread width.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記ダミー領域に、前記対向する識別用部材を複数対有していることを特徴とするものである。   In addition, the multiple wiring substrate of the present invention is preferably characterized in that the dummy region has a plurality of pairs of identification members facing each other.

また、本発明の複数個取り配線基板は、好ましくは、前記めっき層が、銅めっき層およびニッケルめっき層の少なくとも一方を含むことを特徴とするものである。   In the multiple wiring substrate of the present invention, preferably, the plating layer includes at least one of a copper plating layer and a nickel plating layer.

また、本発明の複数個取り配線基板の検査方法は、複数個の配線基板領域とダミー領域を有し、前記配線基板領域に配線導体が、前記ダミー領域に、一定の間隔で対向して配置されている少なくとも1対の識別用部材が設けられている複数個取り配線基板上に、前記配線基板領域および導体パターン上に被着しためっき層のひろがり幅を検査する複数個取り配線基板の検査方法であって、前記複数個取り配線基板をめっき液中に浸漬して、前記配線導体の表面にめっき層を形成し、しかる後、前記ダミー領域の、少なくとも1対の識別用部材の間隔におけるめっき度合いを識別することにより、前記配線基板領域のめっき層の可否を判定することを特徴とするものである。   The method of inspecting a plurality of wiring boards according to the present invention includes a plurality of wiring board areas and a dummy area, and wiring conductors are arranged in the wiring board area so as to face the dummy areas at regular intervals. Inspecting a multi-wiring board for inspecting a spread width of a plating layer deposited on the wiring board region and the conductor pattern on a multi-wiring board provided with at least one pair of identification members. In the method, the plurality of wiring boards are immersed in a plating solution to form a plating layer on the surface of the wiring conductor, and then in the gap between at least one pair of identification members in the dummy region. By identifying the degree of plating, it is determined whether or not the plating layer in the wiring board region is acceptable.

本発明の複数個取り配線基板は、ダミー領域に、めっき層が配線導体を被着する際に許容されるひろがり幅を識別するための少なくとも1対の識別用部材を有し、識別用部材が、一定の間隙で対向して配置されていることから、識別用部材の間隙を確認することにより、配線基板領域の配線導体上のめっき層のひろがり幅が、許容範囲内か否かを判断できる。   The multi-piece wiring board of the present invention has at least one pair of identification members for identifying the spread width allowed when the plating layer deposits the wiring conductor in the dummy region, Since it is arranged to face each other with a certain gap, it can be determined whether or not the spread width of the plating layer on the wiring conductor in the wiring board region is within an allowable range by checking the gap of the identification member. .

すなわち、配線基板領域の配線導体にめっき層を被着させる際に、めっき液中で同時に、ダミー領域の識別用部材にもめっき層が被着される。そのため、識別用部材におけるめっき層のひろがり幅を測定することにより、配線導体におけるめっき層のひろがり幅を検知することができる。この場合、めっき層のひろがり幅の分、互いに対向する1対の識別用部材の間の間隙の幅が狭くなるので、所定の間隙の幅を基準にして、容易にめっき層のひろがり幅を測定することができる。そのため、めっき層のひろがり幅が許容される範囲内であるか否かを容易に、かつ確実に検知することができる。したがって、配線基板領域のめっき層のひろがり幅を簡易に判定できる複数個取り配線基板を提供することができる。   That is, when the plating layer is applied to the wiring conductor in the wiring board region, the plating layer is also applied to the identification member in the dummy region simultaneously in the plating solution. Therefore, the spread width of the plating layer in the wiring conductor can be detected by measuring the spread width of the plating layer in the identification member. In this case, since the width of the gap between the pair of identification members facing each other is reduced by the spread width of the plating layer, the spread width of the plating layer is easily measured based on the predetermined gap width. can do. Therefore, it can be easily and reliably detected whether or not the spread width of the plating layer is within the allowable range. Therefore, it is possible to provide a multiple wiring board that can easily determine the spread width of the plating layer in the wiring board region.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、対向する識別用部材の少なくとも一方が、導体パターンであることにより、配線基板領域に形成された配線導体と同じ材料で形成することが可能であり、識別用部材と配線導体に被着されるめっき層の被着条件が同じとなる。そのため、識別用部材と配線導体に被着されるめっき層のひろがり幅をより一層正確とすることができる。また、例えば、めっき層を電解めっき法で被着する場合に、識別用部材に対するめっき層の被着を、配線導体にめっきする場合と同様に行うことができる。したがって、識別用部材(間隙)を確認することにより、配線導体のめっき層のひろがり幅をより正確に判断できる。   Furthermore, the multi-piece wiring board of the present invention can be formed of the same material as the wiring conductor formed in the wiring board region because at least one of the opposing identification members is a conductor pattern. The deposition conditions of the plating layer deposited on the identification member and the wiring conductor are the same. Therefore, the spread width of the plating layer deposited on the identification member and the wiring conductor can be made even more accurate. Further, for example, when the plating layer is deposited by an electrolytic plating method, the plating layer can be deposited on the identification member in the same manner as when the wiring conductor is plated. Therefore, by confirming the identification member (gap), the spread width of the plating layer of the wiring conductor can be determined more accurately.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、一定の間隙が、少なくとも許容されるひろがり幅であることから、めっき層の被着後この間隙の有無により、めっき層のひろがり幅が許容範囲内か否かをより容易に判断できる。   Still further, in the multiple wiring substrate of the present invention, since the constant gap is at least the allowable spread width, the spread width of the plating layer is within the allowable range depending on the presence or absence of this gap after the plating layer is deposited. It can be determined more easily.

つまり、間隙が、許容されるひろがり幅と同じである場合には、間隙の有無により、容易にめっき層のひろがり幅が許容範囲内か否かを容易に検知することができる。より具体的には、間隙が確認できる場合には、めっき層のひろがり幅が許容範囲内であると判断でき、間隙が確認できない場合には、めっき層のひろがり幅が許容範囲内でないと判断できる。また、間隙が、許容されるひろがり幅よりも広い場合には、残存する間隙の幅を測定することにより、めっき層のひろがり幅が許容される幅に達しているか否かを容易に検知することができる。   That is, when the gap is the same as the allowable spread width, it is possible to easily detect whether or not the spread width of the plating layer is within the allowable range based on the presence or absence of the gap. More specifically, when the gap can be confirmed, it can be determined that the spreading width of the plating layer is within the allowable range, and when the gap cannot be confirmed, it can be determined that the spreading width of the plating layer is not within the allowable range. . In addition, when the gap is wider than the allowable spread width, it is easy to detect whether the spread width of the plating layer has reached the allowable width by measuring the width of the remaining gap. Can do.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、対向する1対の識別用部材が、対向する1対の導体パターンであることから、1度に2つの導体パターンを用いて、めっき層のひろがり幅を判断することができる。それゆえ、配線導体のめっき層のひろがり幅をより正確に判断できる。なお、この1対の導体パターンは、その端部がつながっていてもよく、その一部が対向していればよい。そのような例としては、枠状等が挙げられる。   Furthermore, in the multiple wiring substrate of the present invention, since the pair of opposing identification members is a pair of opposing conductor patterns, the spread of the plating layer can be achieved using two conductor patterns at a time. The width can be determined. Therefore, the spread width of the plating layer of the wiring conductor can be determined more accurately. It should be noted that the pair of conductor patterns may have ends connected to each other as long as a part thereof is opposed. Examples of such include a frame shape.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、対向する1対の導体パターンが、枠状の形状における、対向する一辺であることから、めっき層は対向する1対の識別用部材のお互いの方向に(内側方向)向かって広がっていくことから、対向する1対の導体パターンの間隙を確認することにより、配線導体に許容される両側のめっき層ひろがり幅を確認できる。   Furthermore, in the multiple wiring substrate of the present invention, since the pair of opposing conductor patterns is one side facing each other in the frame shape, the plating layer is formed between the pair of identification members facing each other. Since it spreads in the direction (inward direction), by confirming the gap between the pair of opposing conductor patterns, it is possible to confirm the plating layer spread width on both sides allowed for the wiring conductor.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、対向する1対の導体パターンが、四角形状であることから、1方向だけのめっき層のひろがりが確認できるだけでなく、異なる2方向のめっき層のひろがりを確認できる。   Furthermore, in the multiple wiring board of the present invention, since the pair of opposing conductor patterns is square, not only can the spreading of the plating layer in one direction be confirmed, but also the plating layers in different two directions can be confirmed. You can check the spread.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、一定の間隙が、少なくとも許容されるひろがり幅2倍の幅である場合には、次のような効果を得ることができる。   Furthermore, the multiple wiring substrate of the present invention can obtain the following effects when the constant gap is at least twice the allowable spread width.

すなわち、対向する識別用部材を、配線導体と同じ材料で識別用部材を形成することが可能であり、識別用部材と配線導体に被着されるめっき層の被着条件が同じとなる。そのため、互いに隣接する2つの配線導体の間で、めっき層が、隣接する配線導体に広がるのと同様な状態を形成できる。したがって、配線導体のめっき層のひろがり幅をより正確に判断できる。   That is, it is possible to form the identification member with the same material as that of the wiring conductor as the opposing identification member, and the deposition conditions of the plating layers deposited on the identification member and the wiring conductor are the same. Therefore, a state similar to the case where the plating layer spreads between the adjacent wiring conductors can be formed between the two adjacent wiring conductors. Therefore, the spread width of the plating layer of the wiring conductor can be determined more accurately.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、ダミー領域に、対向する識別用部材を複数対有していることから、所望する方向のめっき層の確認を容易に行うことができる。   Furthermore, since the multiple wiring substrate of the present invention has a plurality of opposing identification members in the dummy area, the plating layer in the desired direction can be easily confirmed.

また、複数の識別用部材によりめっき層のひろがり幅を確認できるので、めっき層のひろがり幅が識別用部材間でバラついたとしても、複数の識別用部材を確認すること(例えば、各ひろがり幅のうち最大のものを基準にして判断すること)により、配線導体におけるめっき層のひろがり幅が、許容される範囲内か否かを、より正確に判断することができる
またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、めっき層が、銅めっき層およびニッケルめっき層の少なくとも一方を含むことから、配線導体に被着される下地めっき層に対応したものとなる。そのため、配線導体の電気的な特性や信頼性が有効に確保される。したがって、この構成によれば、特性や信頼性が確保された配線導体のめっき層のひろがりをより正確に判断できる。
In addition, since the spread width of the plating layer can be confirmed by a plurality of identification members, even if the spread width of the plating layer varies between the identification members, it is necessary to confirm the plurality of identification members (for example, each spread width) It is possible to more accurately determine whether or not the spread width of the plating layer in the wiring conductor is within an allowable range. Since the plating layer includes at least one of a copper plating layer and a nickel plating layer, the individual wiring board corresponds to the base plating layer to be attached to the wiring conductor. Therefore, the electrical characteristics and reliability of the wiring conductor are effectively ensured. Therefore, according to this configuration, it is possible to more accurately determine the spread of the plating layer of the wiring conductor in which characteristics and reliability are ensured.

本発明の複数個取り配線基板の検査方法は、複数個の配線基板領域とダミー領域を有し、配線基板領域に配線導体が、ダミー領域に、一定の間隔で対向して配置されている少なくとも1対の識別用部材が設けられている複数個取り配線基板上に、配線基板領域および導体パターン上に被着しためっき層のひろがり幅を検査する複数個取り配線基板の検査方法であって、複数個取り配線基板をめっき液中に浸漬して、配線導体の表面にめっき層を形成し、しかる後、ダミー領域の、少なくとも1対の識別用部材の間隔におけるめっき度合いを識別することにより、配線基板領域のめっき層の可否を判定することから、配線基板領域の配線導体のめっき層のひろがり幅を測定することなく、許容されるめっき層のひろがり幅の範囲内か否かを容易に確認できる。   The method for inspecting a multiple wiring board according to the present invention has a plurality of wiring board regions and a dummy region, and wiring conductors are arranged in the wiring substrate region so as to be opposed to the dummy region at regular intervals. A method of inspecting a multi-piece wiring board for inspecting a spread width of a plating layer deposited on a wiring board region and a conductor pattern on a multi-ply wiring board provided with a pair of identification members, By immersing a plurality of wiring boards in a plating solution to form a plating layer on the surface of the wiring conductor, and then identifying the degree of plating in the gap between the at least one pair of identification members in the dummy region, Since it is judged whether or not the plating layer in the wiring board area is acceptable, it is easy to determine whether or not it is within the range of the allowable plating layer spreading width without measuring the spreading width of the wiring conductor plating layer in the wiring board area. It can be confirmed.

したがって、複数個取り配線基板上に形成されるめっき層のひろがり幅を簡易に判定できる複数個取り配線基板の検査方法を提供することができる。   Therefore, it is possible to provide a method for inspecting a multi-chip wiring board that can easily determine the spread width of the plating layer formed on the multi-chip wiring board.

(実施形態1)
まず、請求項1〜請求項3に記載の複数個取り配線基板について図1に基づき説明する。
(Embodiment 1)
First, a multiple wiring board according to claims 1 to 3 will be described with reference to FIG.

図1(a)は、本発明の実施形態1にかかる複数個取り配線基板の一例を示す平面図である。また図1(b)は図1(a)の部分X1の詳細図である。   Fig.1 (a) is a top view which shows an example of the multi-wiring wiring board concerning Embodiment 1 of this invention. FIG. 1B is a detailed view of the portion X1 in FIG.

図1(a)、(b)において、1は配線基板領域、2はダミー領域、3は配線導体、4はめっき層である。これら配線基板領域1、ダミー領域2、配線導体3、めっき層4により、複数個取り配線基板100が基本的に構成される。   1A and 1B, 1 is a wiring board region, 2 is a dummy region, 3 is a wiring conductor, and 4 is a plating layer. The wiring board region 100, the dummy region 2, the wiring conductor 3, and the plating layer 4 basically constitute a plurality of wiring substrates 100.

各配線基板領域1およびダミー領域2は、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス)、窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化珪素質焼結体、炭化珪素質焼結体、ガラスセラミックス焼結体等の電気絶縁材料により形成されている。   Each wiring board region 1 and dummy region 2 are made of an aluminum oxide sintered body (alumina ceramic), an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, a silicon nitride sintered body, a silicon carbide sintered body, and glass. It is made of an electrically insulating material such as a ceramic sintered body.

配線基板領域1は、それぞれが、電子部品(図示せず)を搭載する配線基板(図示せず)の絶縁基体となる領域である。本実施形態において、配線基板領域1は平面視で四角形状であり、それぞれの上面の中央部に電子部品を搭載する搭載部(図示せず)を有している。   Each of the wiring board regions 1 is an area serving as an insulating base of a wiring board (not shown) on which electronic components (not shown) are mounted. In the present embodiment, the wiring board region 1 has a quadrangular shape in plan view, and has a mounting portion (not shown) for mounting electronic components at the center of each upper surface.

電子部品は、半導体集積回路素子や光半導体素子を含む半導体素子、弾性表面波素子、圧電振動子、加速度センサ素子、コンデンサ、抵抗器、インダクタ等の種々の機能素子や受動素子である。   The electronic components are various functional elements such as semiconductor elements including semiconductor integrated circuit elements and optical semiconductor elements, surface acoustic wave elements, piezoelectric vibrators, acceleration sensor elements, capacitors, resistors, inductors, and passive elements.

ダミー領域2は、縦横に配列されている配線基板領域1を取り囲むように形成され、複数個取り配線基板100の取り扱いを容易とすること等の機能を有している。   The dummy area 2 is formed so as to surround the wiring board areas 1 arranged in the vertical and horizontal directions, and has a function of facilitating the handling of the plurality of wiring board 100.

なお、複数個取り配線基板100は、その形状が基本的には四角形状であるが、各角部に丸みがつけてあったり、各辺が直線でなく、いくつかの凹凸が設けられたりしているような、略四角形状のものであってもよいが、好ましくは正方形状もしくは長方形状である。   The multi-wiring board 100 is basically rectangular in shape, but each corner is rounded, or each side is not a straight line and some irregularities are provided. However, it is preferably a square or rectangular shape.

配線基板領域1およびダミー領域2は、例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合、以下のようにして作製される。まず、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の原料粉末に適当な有機バインダ、溶剤を添加混合して泥漿状のセラミックスラリーを作製し、このセラミックスラリーをドクターブレード法やカレンダーロール法等のシート成形技術を採用しシート状となすことによってセラミックグリーンシート(セラミック生シート)を得る。しかる後、セラミックグリーンシートを所定の順に上下に積層して生セラミック成形体と成す。この生セラミック成形体を還元雰囲気中で約1600℃の高温で焼成することによって、複数個取り配線基板100が製作される。   For example, when the wiring board region 1 and the dummy region 2 are made of an aluminum oxide sintered body, they are produced as follows. First, an appropriate organic binder and solvent are added to and mixed with raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, calcium oxide, and magnesium oxide to produce a slurry ceramic slurry. A ceramic green sheet (ceramic green sheet) is obtained by adopting the sheet forming technique of the above and forming a sheet. Thereafter, ceramic green sheets are laminated in the predetermined order in the vertical direction to form a green ceramic molded body. By firing this green ceramic molded body in a reducing atmosphere at a high temperature of about 1600 ° C., a plurality of wiring boards 100 are manufactured.

また複数個取り配線基板100は、その上下主面の少なくとも一方に、配線基板領域1同士の境界および配線基板領域1とダミー領域2との境界に沿って、分割溝7が縦横に形成されている。   Further, the multi-layer wiring substrate 100 has dividing grooves 7 formed vertically and horizontally on the boundary between the wiring substrate regions 1 and the boundary between the wiring substrate region 1 and the dummy region 2 on at least one of the upper and lower main surfaces thereof. Yes.

分割溝7は、複数個取り配線基板100をこれに沿って撓折して個々の配線基板領域1をそれぞれの配線基板に分割する際に曲げ応力を集中させる機能を有している。   The dividing groove 7 has a function of concentrating bending stress when the plurality of wiring board 100 is bent along the dividing board 7 to divide each wiring board region 1 into each wiring board.

分割溝7は、複数個取り配線基板100(配線基板領域1およびダミー領域2)となるグリーンシートの主面に所定の断面形状を有する金属製のブレード(刃)を押圧し、その刃先を所定深さに侵入させることによって形成される。   The dividing groove 7 presses a metal blade (blade) having a predetermined cross-sectional shape against the main surface of a green sheet to be a plurality of wiring boards 100 (wiring board area 1 and dummy area 2), and the cutting edge is predetermined. Formed by penetrating depth.

なお配列された複数の配線基板領域1を個々の配線基板領域1に分割する方法としては、上述のような分割溝7を予め形成しておくという方法に限らず、ダイシング加工等の他の方法を用いてもよい。   The method for dividing the plurality of arranged wiring board regions 1 into the individual wiring board regions 1 is not limited to the method of previously forming the dividing grooves 7 as described above, but other methods such as dicing. May be used.

また、各配線基板領域1は、搭載部の周辺から下面にかけてタングステン、マンガン、銅、銀、金、パラジウム、白金等の金属材料から成る配線導体3を有している。この配線導体3は、例えばタングステンから成る場合、銅粉末に適当な有機バインダ、溶剤等を添加混合して得た金属ペーストを、複数個取り配線基板100の各セラミック絶縁層となるグリーンシートの上面に予めスクリーン印刷法等により所定パターンに印刷塗布しておくことによって形成される。   Each wiring board region 1 has a wiring conductor 3 made of a metal material such as tungsten, manganese, copper, silver, gold, palladium, or platinum from the periphery of the mounting portion to the lower surface. When the wiring conductor 3 is made of, for example, tungsten, a plurality of metal pastes obtained by adding and mixing an appropriate organic binder, solvent, etc. to copper powder are taken, and the upper surface of the green sheet that becomes each ceramic insulating layer of the wiring board 100 It is formed by previously printing and applying a predetermined pattern by a screen printing method or the like.

配線導体3は、搭載部に搭載される電子部品と電気的に接続され、この電子部品の電極を各配線基板領域1の下面側等に導出する導電路として機能する。配線導体3と電子部品の電極との電気的な接続は、例えばボンディングワイヤやはんだ等の導電性接続材(図示せず)を介して行なわれる。   The wiring conductor 3 is electrically connected to an electronic component mounted on the mounting portion, and functions as a conductive path that leads the electrode of the electronic component to the lower surface side of each wiring board region 1 or the like. The electrical connection between the wiring conductor 3 and the electrode of the electronic component is performed via a conductive connecting material (not shown) such as a bonding wire or solder.

つまり、配線導体3のうち搭載部に電子部品の電極(図示せず)を半田やボンディングワイヤ等の導電性接続材(図示せず)を介して電気的に接続するとともに、配線導体3のうち搭載部外の表面に導出された部分を、半田等を介して外部の電気回路に電気的に接続することにより、電子部品の電極が外部の電気回路と電気的に接続される。   That is, an electrode (not shown) of an electronic component is electrically connected to a mounting portion of the wiring conductor 3 via a conductive connecting material (not shown) such as solder or a bonding wire. By electrically connecting a portion led out to the surface outside the mounting portion to an external electric circuit via solder or the like, the electrode of the electronic component is electrically connected to the external electric circuit.

配線導体3は、例えば、配線基板としての小型化や、搭載される電子部品の高機能化や高集積化等に対応するために、隣接間隔が50μm〜100μm程度と、高密度に形成される。なお、配線導体3は、配線基板領域1の上面以外の表面やの内部に延在させてもよい。さらに、配線導体3の露出表面には、めっき層4が被着される。   The wiring conductor 3 is formed with a high density of, for example, about 50 μm to 100 μm in order to cope with downsizing as a wiring board, high functionality and high integration of mounted electronic components, and the like. . Note that the wiring conductor 3 may extend to the inside of the surface other than the upper surface of the wiring board region 1. Further, the plating layer 4 is deposited on the exposed surface of the wiring conductor 3.

めっき層4は、配線導体3の酸化腐食を防止したり、半田等の接続材の接続を容易かつ確実なものとしたりする機能をなす。めっき層4は、ニッケルや金、銅、コバルト、白金、パラジウム等の金属またはその合金から成り、また、例えばニッケル−リン等、ニッケル−ホウ素等の金属以外の成分を含有する金属または合金も含むものである。   The plating layer 4 functions to prevent oxidative corrosion of the wiring conductor 3 and to make connection of a connecting material such as solder easy and reliable. The plating layer 4 is made of a metal such as nickel, gold, copper, cobalt, platinum, or palladium, or an alloy thereof, and also includes a metal or alloy that contains a component other than a metal, such as nickel-phosphorus, nickel-boron. It is a waste.

めっき層4は、電解めっき法や無電解めっき法等のめっき法により被着、形成することができる。   The plating layer 4 can be deposited and formed by a plating method such as an electrolytic plating method or an electroless plating method.

例えば、硫酸ニッケルを主なニッケルの供給源として含み、これに塩化ニッケルやホウ酸等を添加した電解ニッケルめっき液(いわゆるワット浴)に複数個取り配線基板100を、めっき用治具(図示せず)等で保持して浸漬し、治具等を介して配線導体3にめっき用の電流を外部の電源から供給することにより、配線導体3の露出部分にニッケルめっき層が被着される。   For example, a plurality of wiring boards 100 are taken in an electrolytic nickel plating solution (so-called Watt bath) containing nickel sulfate as a main nickel supply source and nickel chloride, boric acid or the like added thereto, and a plating jig (not shown). And the like, and a plating current is supplied to the wiring conductor 3 from an external power source via a jig or the like, so that a nickel plating layer is deposited on the exposed portion of the wiring conductor 3.

また、銅めっき層であれば、銅の供給源としての硫酸銅および還元剤としてのホルマリンを主成分として含有し、これに錯化剤やpH調整剤等が添加されてなる無電解銅めっき液に複数個取り配線基板100を所定時間浸漬することにより、配線導体3の露出部分に被着される。   Moreover, if it is a copper plating layer, the electroless copper plating solution which contains copper sulfate as a copper supply source and formalin as a reducing agent as a main component, and a complexing agent, a pH adjusting agent, etc. are added to this. A plurality of wiring substrates 100 are dipped in a predetermined time, so that they are attached to the exposed portions of the wiring conductor 3.

また、金めっき層であれば、シアン化金化合物にクエン酸カリウム等の有機酸(塩)類やリン酸カリウム等のリン酸塩類等の添加物を添加した電解金めっき浴に複数個取り配線基板100を浸漬し、めっき用治具等を介して配線導体3に所定のめっき用の電流を供給することにより配線導体3の露出部分に被着される。   For gold plating layers, multiple wiring is provided in an electrolytic gold plating bath in which an additive such as an organic acid (salt) such as potassium citrate or a phosphate such as potassium phosphate is added to a gold cyanide compound. The substrate 100 is dipped and applied to the exposed portion of the wiring conductor 3 by supplying a predetermined plating current to the wiring conductor 3 via a plating jig or the like.

なお、配線導体3上のめっき層4の厚さは、導電性接合材の接続強度の確保等を考慮して、3μm以上が好ましい。3μm以下だと半田等の導電性接続材にて電子部品を接続する際や、配線基板を外部回路基板等に接続すれ際に、半田等の導電性接続材にめっき層4が溶融したりして、配線導体3と導電性接続材が十分な強度で接続できない。この場合、例えば、厚さ2μm以上のニッケルめっき層や銅めっき層と、厚さ1μm以上の金めっき層とを順次被着させる。ニッケルめっき層や銅めっき層は、導電性接合材と接合し、導電性接合材を配線導体3に強固に接合させる機能を有する。金めっき層は、導電性接合材の接続性をさらに向上させるとともに、ニッケルめっき層や銅めっき層の酸化腐食を抑制する機能を有する。   The thickness of the plating layer 4 on the wiring conductor 3 is preferably 3 μm or more in consideration of securing the connection strength of the conductive bonding material. If the thickness is 3 μm or less, the plating layer 4 may melt into the conductive connection material such as solder when connecting the electronic component with the conductive connection material such as solder or when connecting the wiring board to the external circuit board or the like. Thus, the wiring conductor 3 and the conductive connecting material cannot be connected with sufficient strength. In this case, for example, a nickel plating layer or a copper plating layer having a thickness of 2 μm or more and a gold plating layer having a thickness of 1 μm or more are sequentially deposited. The nickel plating layer and the copper plating layer are bonded to the conductive bonding material and have a function of firmly bonding the conductive bonding material to the wiring conductor 3. The gold plating layer has a function of further improving the connectivity of the conductive bonding material and suppressing oxidative corrosion of the nickel plating layer and the copper plating layer.

このような厚みのめっき層4を、めっきのひろがり幅の設定なしに被着させると、上記のように隣接間隔が狭い配線導体3の間で、めっき層4が被着した部分において、配線導体3同士が電気的に短絡する可能性がある。   When the plating layer 4 having such a thickness is deposited without setting the spreading width of the plating, the wiring conductor is formed in the portion where the plating layer 4 is deposited between the wiring conductors 3 having a narrow adjacent interval as described above. There is a possibility that the three are electrically short-circuited.

それゆえ、本発明の複数個取り配線基板100は、ダミー領域2に、めっき層4が配線導体2を被着する際に許容されるひろがり幅を識別するための少なくとも1対の識別用部材5を有し、識別用部材5が、一定の間隙で対向して配置されている。   Therefore, the multiple wiring substrate 100 of the present invention has at least one pair of identification members 5 for identifying the spread width allowed when the plating layer 4 deposits the wiring conductor 2 on the dummy region 2. And the identification member 5 is arranged to face each other with a certain gap.

このような識別用部材5を備えることから、識別用部材5の間隙を確認することにより、配線基板領域1の配線導体3上のめっき層4のひろがり幅が、許容範囲内か否かを判断できる。   Since such an identification member 5 is provided, it is determined whether or not the spread width of the plating layer 4 on the wiring conductor 3 in the wiring board region 1 is within an allowable range by checking the gap between the identification members 5. it can.

すなわち、配線基板領域1の配線導体3にめっき層4を被着させる際に、めっき液中で同時に、ダミー領域2の識別用部材5にもめっき層4が被着される。そのため、識別用部材5におけるめっき層4のひろがり幅を測定することにより、配線導体3におけるめっき層4のひろがり幅を検知することができる。この場合、めっき層4のひろがり幅の分、互いに対向する1対の識別用部材5の間の間隙の幅が狭くなるので、所定の間隙の幅を基準にして、容易にめっき層4のひろがり幅を測定することができる。そのため、めっき層4のひろがり幅が許容される範囲内であるか否かを容易に、かつ確実に検知することができる。したがって、めっき層4のひろがり幅を簡易に判定できる複数個取り配線基板100を提供することができる。   That is, when depositing the plating layer 4 on the wiring conductor 3 in the wiring board region 1, the plating layer 4 is also deposited on the identification member 5 in the dummy region 2 at the same time in the plating solution. Therefore, the spreading width of the plating layer 4 in the wiring conductor 3 can be detected by measuring the spreading width of the plating layer 4 in the identification member 5. In this case, since the width of the gap between the pair of identification members 5 facing each other is reduced by the spread width of the plating layer 4, the spread of the plating layer 4 can be easily made based on the predetermined gap width. The width can be measured. Therefore, it can be easily and reliably detected whether or not the spread width of the plating layer 4 is within an allowable range. Accordingly, it is possible to provide a multiple-wiring board 100 that can easily determine the spreading width of the plating layer 4.

このような識別用部材5は、例えば、タングステン、マンガン、銅、銀、金、パラジウム、白金等の金属材料や、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス)、窒化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化珪素質焼結体、炭化珪素質焼結体、ガラスセラミックス焼結体等のセラミック材料等により形成される。   Such an identification member 5 is, for example, a metal material such as tungsten, manganese, copper, silver, gold, palladium, platinum, aluminum oxide sintered body (alumina ceramic), aluminum nitride sintered body, mullite quality. It is formed of a ceramic material such as a sintered body, a silicon nitride sintered body, a silicon carbide sintered body, and a glass ceramic sintered body.

識別用部材5は、例えば、タングステンからなる場合であれば、配線導体3を形成するのと同様の金属ペーストを、配線基板領域1を形成するセラミックグリーンシートの表面に、所定パターンで印刷しておくことにより形成することができる。   For example, if the identification member 5 is made of tungsten, the same metal paste as that for forming the wiring conductor 3 is printed on the surface of the ceramic green sheet forming the wiring board region 1 in a predetermined pattern. Can be formed.

また、本発明の複数個取り配線基板100は、対向する識別用部材5の少なくとも一方が、導体パターンであることにより、配線基板領域1に形成された配線導体3と同じ材料で形成することが可能であり、識別用部材5と配線導体3に被着されるめっき層4の被着条件が同じとなる。そのため、識別用部材5と配線導体3に被着されるめっき層4のひろがり幅をより一層正確とすることができる。また、例えば、めっき層4が電解めっき法で被着される場合に、識別用部材5に対するめっき層4の被着を、配線導体3にめっきするのと同様に行うことができる。   Further, the multi-piece wiring board 100 of the present invention can be formed of the same material as the wiring conductor 3 formed in the wiring board region 1 because at least one of the opposing identification members 5 is a conductor pattern. It is possible, and the deposition conditions of the plating member 4 deposited on the identification member 5 and the wiring conductor 3 are the same. Therefore, the spread width of the plating layer 4 deposited on the identification member 5 and the wiring conductor 3 can be made more accurate. Further, for example, when the plating layer 4 is deposited by an electrolytic plating method, the plating layer 4 can be deposited on the identification member 5 in the same manner as when the wiring conductor 3 is plated.

したがって、識別用部材5(間隙)を確認することにより、配線導体3に被着されるめっき層4のひろがり幅をより正確に判断できる。   Accordingly, by confirming the identification member 5 (gap), the spread width of the plating layer 4 deposited on the wiring conductor 3 can be determined more accurately.

なお、識別用部材5に電解めっき法でめっき層4を被着させる場合には、例えば、識別用部材5を接続用の導体(図示せず)を介して配線導体3と電気的に接続しておいて、識別用部材5にもめっき用の電流が供給されるようにしておく。接続用の導体は、例えば、配線基板領域1やダミー領域2の内部等に、配線導体3と同様の材料および方法で形成することができる。   When the plating layer 4 is deposited on the identification member 5 by electrolytic plating, for example, the identification member 5 is electrically connected to the wiring conductor 3 via a connection conductor (not shown). In this case, a current for plating is also supplied to the identification member 5. The connecting conductor can be formed, for example, in the wiring board region 1 and the dummy region 2 with the same material and method as the wiring conductor 3.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板100は、一定の間隙が、少なくとも許容されるひろがり幅であることあるから、めっき層4の被着後この間隙の有無により、めっき層のひろがりが許容範囲内か否かを、より容易に判断できる。   Furthermore, in the multiple wiring substrate 100 of the present invention, since a certain gap is at least an allowable spread width, the spread of the plating layer is allowed depending on the presence or absence of the gap after the plating layer 4 is deposited. Whether it is within the range can be determined more easily.

つまり、間隙が、許容されるひろがり幅と同じである場合には、間隙の有無により、容易にめっき層4のひろがり幅が許容範囲内か否かを容易に検知することができる。より具体的には、間隙が確認できる場合には、めっき層4のひろがり幅が許容範囲内であると判断でき、間隙が確認できない場合には、めっき層4のひろがり幅が許容範囲内でないと判断できる。また、間隙が、許容されるひろがり幅よりも広い場合には、残存する間隙の幅を測定することにより、めっき層4のひろがり幅が許容される幅に達しているか否かを容易に検知することができる。   That is, when the gap is the same as the allowable spread width, whether or not the spread width of the plating layer 4 is within the allowable range can be easily detected based on the presence or absence of the gap. More specifically, when the gap can be confirmed, it can be determined that the spread width of the plating layer 4 is within the allowable range, and when the gap cannot be confirmed, the spread width of the plating layer 4 is not within the allowable range. I can judge. When the gap is wider than the allowable spread width, it is easily detected whether or not the spread width of the plating layer 4 has reached the allowable width by measuring the width of the remaining gap. be able to.

(実施形態2)
次に請求項5に記載の複数個取り配線基板100について図2に基づいて説明する。
(Embodiment 2)
Next, a multiple wiring substrate 100 according to claim 5 will be described with reference to FIG.

図2(a)は、本発明の実施形態2にかかる複数個取り配線基板100の一例を示す平面図である。また図2(b)は図2(a)の部分X2の詳細図である。なお、先に述べた実施形態1と共通する構成については同一の参照符を付し、重複する説明を省略するものとする。   FIG. 2A is a plan view showing an example of the multiple wiring substrate 100 according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 2B is a detailed view of a portion X2 in FIG. In addition, about the structure which is common in Embodiment 1 described previously, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description shall be abbreviate | omitted.

本発明の複数個取り配線基板100は、対向する1対の識別用部材5が、対向する1対の導体パターンが、枠状の形状における、対向する一辺であることから、めっき層4は対向する1対の識別用部材5のお互いの方向に(内側方向)向かって広がっていく。それゆえ、対向する1対の識別用部材5の間隙を確認することにより、配線導体3に許容される両側のめっき層のひろがりを確認できる。   In the multiple wiring substrate 100 according to the present invention, the pair of opposing identification members 5 is such that the opposing pair of conductor patterns is one side facing each other in a frame-like shape. The pair of discriminating members 5 spreading toward each other (inward direction). Therefore, by confirming the gap between the pair of identification members 5 facing each other, the spread of the plated layers on both sides allowed for the wiring conductor 3 can be confirmed.

(実施形態3)
次に請求項6に記載の複数個取り配線基板100について図3に基づいて説明する。
(Embodiment 3)
Next, a multiple wiring substrate 100 according to claim 6 will be described with reference to FIG.

図3(a)は、本発明の実施形態3にかかる複数個取り配線基板100の一例を示す平面図である。また図3(b)は図3(a)の部分X3の詳細図である。   FIG. 3A is a plan view showing an example of the multiple wiring substrate 100 according to Embodiment 3 of the present invention. FIG. 3B is a detailed view of a portion X3 in FIG.

なお、先に述べた実施形態1と共通する構成については同一の参照符を付し、重複する説明を省略するものとする。 In addition, about the structure which is common in Embodiment 1 described previously, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description shall be abbreviate | omitted.

本発明の複数個取り配線基板100は、対向する識別用部材5が、四角形状であることから、一方向だけのめっき層4のひろがりが確認できるだけでなく、違う2方向のめっき層4のひろがりを確認できる。   In the multiple wiring substrate 100 of the present invention, since the opposing identification member 5 has a quadrangular shape, not only the spreading of the plating layer 4 in only one direction can be confirmed, but also the spreading of the plating layer 4 in different two directions. Can be confirmed.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板100は、対向する識別用部材5が導体パターンであって、かつ一定の間隙が、少なくとも許容されるひろがり幅2倍の幅であることから、配線導体3のめっき層4が配線導体3の外方向に広がるのと同様な状態を形成でき、配線導体3のめっき層4のひろがりをより正確に判断できる。   Furthermore, the multi-wiring board 100 of the present invention has a wiring conductor since the opposing identification member 5 is a conductor pattern and a certain gap is at least twice the allowable spread width. Thus, it is possible to form a state similar to that in which the third plating layer 4 spreads outward of the wiring conductor 3 and to more accurately determine the spread of the plating layer 4 of the wiring conductor 3.

またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、ダミー領域に、対向する識別用部材を複数対有していることから、所望する方向のめっき層の確認を容易に行うことができる。   Furthermore, since the multiple wiring substrate of the present invention has a plurality of opposing identification members in the dummy area, the plating layer in the desired direction can be easily confirmed.

また、複数の識別用部材によりめっき層のひろがり幅を確認できるので、めっき層のひろがり幅が識別用部材間でバラついたとしても、複数の識別用部材を確認すること(例えば、各ひろがり幅のうち最大のものを基準にして判断すること)により、配線導体におけるめっき層のひろがり幅が、許容される範囲内か否かを、より正確に判断することができる
またさらに、本発明の複数個取り配線基板は、めっき層が、銅めっき層およびニッケルめっき層の少なくとも一方を含むことから、配線導体に被着される下地めっき層に対応したものとなる。そのため、配線導体の電気的な特性や信頼性が有効に確保される。したがって、この構成によれば、特性や信頼性が確保された配線導体のめっき層のひろがりをより正確に判断できる。
In addition, since the spread width of the plating layer can be confirmed by a plurality of identification members, even if the spread width of the plating layer varies between the identification members, it is necessary to confirm the plurality of identification members (for example, each spread width) It is possible to more accurately determine whether or not the spread width of the plating layer in the wiring conductor is within an allowable range. Since the plating layer includes at least one of a copper plating layer and a nickel plating layer, the individual wiring board corresponds to the base plating layer to be attached to the wiring conductor. Therefore, the electrical characteristics and reliability of the wiring conductor are effectively ensured. Therefore, according to this configuration, it is possible to more accurately determine the spread of the plating layer of the wiring conductor in which characteristics and reliability are ensured.

本発明の複数個取り配線基板の検査方法は、複数個の配線基板領域1とダミー領域2を有し、配線基板領域1に配線導体3が、ダミー領域2に、一定の間隔で対向して配置されている少なくとも1対の識別用部材5が設けられている複数個取り配線基板100上に、配線基板領域1および導体パターン上に被着しためっき層4のひろがり幅を検査する複数個取り配線基板1の検査方法であって、複数個取り配線基板1をめっき液中に浸漬して、配線導体3の表面にめっき層4を形成し、しかる後、ダミー領域2の、少なくとも1対の識別用部材5の間隔におけるめっき度合いを識別することにより、配線基板領域1のめっき層4の可否を判定するというものである。   The method for inspecting a multi-layer wiring board according to the present invention has a plurality of wiring board regions 1 and a dummy region 2, and a wiring conductor 3 is opposed to the dummy region 2 at a certain interval. A plurality of samples for inspecting the spread width of the plating layer 4 deposited on the wiring substrate region 1 and the conductor pattern on the plurality of wiring substrates 100 provided with at least one pair of identification members 5 arranged. A method for inspecting a wiring board 1, wherein a plurality of wiring boards 1 are immersed in a plating solution to form a plating layer 4 on the surface of the wiring conductor 3, and then at least one pair of dummy regions 2 is formed. By identifying the degree of plating in the interval between the identification members 5, it is determined whether or not the plating layer 4 in the wiring board region 1 is acceptable.

なお、上記検査方法の説明は、図1〜図3に示すような複数個取り配線基板100を例として行い、検査方法を手順に沿って示す図面は省略している。各符号は、図1〜図3から引用したものである。   The above description of the inspection method is performed using a plurality of wiring boards 100 as shown in FIGS. 1 to 3 as an example, and drawings showing the inspection method along the procedure are omitted. Each code | symbol is quoted from FIGS. 1-3.

このような検査方法としたことから、配線基板領域1の配線導体3のめっき層4のひろがり幅を測定することなく、許容されるめっき層4の範囲内か否かを容易に確認できる。   Since it was set as such an inspection method, it can be easily confirmed whether it is in the range of the allowable plating layer 4 without measuring the spread width of the plating layer 4 of the wiring conductor 3 in the wiring board region 1.

したがって、複数個取り配線基板100上に形成されるめっき層4のひろがり幅を簡易に判定できる複数個取り配線基板の検査方法を提供することができる。   Therefore, it is possible to provide a method for inspecting a multi-chip wiring board that can easily determine the spread width of the plating layer 4 formed on the multi-chip wiring board 100.

なお、複数個の配線基板領域1とダミー領域2を有し、配線基板領域1に配線導体3が、ダミー領域2に、一定の間隔で対向して配置されている少なくとも1対の識別用部材5が設けられている複数個取り配線基板100は、上述した製造方法により製造することができる。   It should be noted that at least one pair of identification members having a plurality of wiring board regions 1 and dummy regions 2, wherein the wiring conductors 3 are disposed in the wiring substrate region 1 and are opposed to the dummy region 2 at a predetermined interval. The multiple wiring substrate 100 provided with 5 can be manufactured by the manufacturing method described above.

また、ダミー領域2の、少なくとも1対の識別用部材5の間隔におけるめっき度合いの識別は、例えば、目視(双眼顕微鏡等を用いる場合を含む)や画像認識装置による外観検査等の際に、識別用部材5の間隙を検査しその幅を確認することにより行なうことができる。   Further, the degree of plating in the interval between the at least one pair of identification members 5 in the dummy region 2 is identified, for example, in visual inspection (including a case where a binocular microscope or the like is used) or an appearance inspection using an image recognition apparatus. This can be done by inspecting the gap of the working member 5 and confirming its width.

具体的には、例えば、一対の識別用部材5を導体パターンで形成するとともに、間隙の幅を、許容されるひろがり幅の2倍としておき、複数個取り配線基板100にめっきを施し、配線導体2および識別用部材5にめっき層4を被着させる。そして、目視や画像認識装置により、間隙が残存しているか否かを確認することにより、ひろがり幅が許容される範囲内か否かを確認する。   Specifically, for example, a pair of identification members 5 are formed in a conductor pattern, and the width of the gap is set to be twice the permissible spreading width, and a plurality of wiring boards 100 are plated to form a wiring conductor. 2 and the identification member 5 are made to adhere the plating layer 4. Then, it is confirmed whether or not the spread width is within an allowable range by checking whether or not the gap remains by visual observation or an image recognition device.

この場合、めっき度合いの識別は、ダミー領域2には他に配線導体3等の導体が露出している部位が少ない(または無い)ことや、ニッケル、金等のめっき層とダミー領域2を形成するセラミック材料等との間の色調、明度(光の反射率)の差が大きいこと等から、容易に行ない得る。   In this case, in order to identify the degree of plating, there are few (or no) other portions where the conductors such as the wiring conductors 3 are exposed in the dummy region 2, or a plating layer of nickel, gold, etc. and the dummy region 2 are formed. This can be easily performed because of a large difference in color tone and brightness (light reflectance) between the ceramic material and the like.

なお、本発明は上述した実施形態1、2、3に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。   The present invention is not limited to the first, second, and third embodiments described above, and various modifications and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上述した実施形態3において、対向する識別用部材5の、四角形状を長方形とすることにより、めっき層4が被着されるめっき工程において、複数個取り配線基板100がめっき浴の中で揺動される2つ直角方向に合わせて、長方形の識別部材5の辺方向を形成することにより、揺動方向に起きるめっき層4のひろがりが、より正確に確認できる。   For example, in Embodiment 3 described above, by making the quadrangular shape of the opposing identification member 5 a rectangular shape, in the plating process in which the plating layer 4 is deposited, the plurality of wiring substrate 100 is placed in the plating bath. By forming the side direction of the rectangular identification member 5 in accordance with the two perpendicular directions to be swung, the spread of the plating layer 4 occurring in the swinging direction can be confirmed more accurately.

(a)、(b)は本発明の実施形態1にかかる配線基板の一例を示す平面図およびで部分X1の詳細図である。(A), (b) is the top view which shows an example of the wiring board concerning Embodiment 1 of this invention, and the detail drawing of the part X1. (a)、(b)は本発明の実施形態2にかかる配線基板の一例を示す平面図およびで部分X2の詳細図である。(A), (b) is the top view which shows an example of the wiring board concerning Embodiment 2 of this invention, and the detail drawing of the part X2. (a)、(b)は本発明の実施形態3にかかる配線基板の一例を示す平面図およびで部分X2の詳細図である。(A), (b) is the top view which shows an example of the wiring board concerning Embodiment 3 of this invention, and the detail drawing of the part X2.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・配線基板領域
2・・・ダミー領域
3・・・配線導体
4・・・めっき層
5・・・識別用部材
7・・・分割溝
100・・・複数個取り配線基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wiring board area | region 2 ... Dummy area | region 3 ... Wiring conductor 4 ... Plating layer 5 ... Identification member 7 ... Dividing groove 100 ... Plural picking wiring board

Claims (10)

複数個の配線基板領域とダミー領域を有し、前記配線基板領域に、めっき層が被着される配線導体が形成された複数個取り配線基板であって、
前記ダミー領域に、前記めっき層が前記配線導体を被着する際に許容されるひろがり幅を識別するための少なくとも1対の識別用部材を有し、前記識別用部材が、一定の間隙で対向して配置されていることを特徴とする複数個取り配線基板。
A plurality of wiring board regions having a plurality of wiring board regions and dummy regions, wherein a wiring conductor to which a plating layer is deposited is formed in the wiring substrate region;
The dummy region has at least one pair of identification members for identifying a spread width allowed when the plating layer deposits the wiring conductor, and the identification members are opposed to each other with a certain gap. A plurality of wiring boards, characterized in that they are arranged in the same manner.
前記対向する識別用部材の少なくとも一方が、導体パターンであることを特徴とする請求項1に記載の複数個取り配線基板。 2. The multiple wiring substrate according to claim 1, wherein at least one of the opposing identification members is a conductor pattern. 前記一定の間隙が、少なくとも前記許容されるひろがり幅であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の複数個取り配線基板。 3. The multiple wiring substrate according to claim 1, wherein the certain gap is at least the allowable spread width. 前記対向する1対の識別用部材が、対向する1対の導体パターンであることを特徴とする請求項1に記載の複数個取り配線基板。 2. The multiple wiring substrate according to claim 1, wherein the pair of identification members facing each other is a pair of conductor patterns facing each other. 前記対向する1対の導体パターンが、枠状の形状における、対向する一辺であることを特徴とする請求項4に記載の複数個取り配線基板。 5. The multiple wiring substrate according to claim 4, wherein the pair of opposing conductor patterns is one side facing each other in a frame shape. 前記対向する1対の導体パターンが、1対の四角形状であることを特徴とする請求項4に記載の複数個取り配線基板。 5. The multiple wiring substrate according to claim 4, wherein the pair of opposing conductor patterns is a pair of quadrangular shapes. 前記一定の間隙が、少なくとも前記許容されるひろがり幅2倍の幅であることを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかに記載の複数個取り配線基板。 7. The multiple wiring substrate according to claim 4, wherein the predetermined gap is at least twice the allowable spread width. 前記ダミー領域に、前記対向する識別用部材を複数対有していることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載の複数個取り配線基板。 The multi-piece wiring board according to claim 1, wherein the dummy region has a plurality of pairs of identification members facing each other. 前記めっき層が、銅めっき層およびニッケルめっき層の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれかに記載の複数個取り配線基板。 9. The multiple wiring substrate according to claim 1, wherein the plating layer includes at least one of a copper plating layer and a nickel plating layer. 複数個の配線基板領域とダミー領域を有し、前記配線基板領域に配線導体が、前記ダミー領域に、一定の間隔で対向して配置されている少なくとも1対の識別用部材が設けられている複数個取り配線基板上に、前記配線基板領域および導体パターン上に被着しためっき層のひろがり幅を検査する複数個取り配線基板の検査方法であって、前記複数個取り配線基板をめっき液中に浸漬して、前記配線導体の表面にめっき層を形成し、しかる後、前記ダミー領域の、少なくとも1対の識別用部材の間隔におけるめっき度合いを識別することにより、前記配線基板領域のめっき層の可否を判定することを特徴とする複数個取り配線基板の検査方法。 There are provided a plurality of wiring board regions and a dummy region, and a wiring conductor is provided in the wiring board region, and at least one pair of identification members is provided in the dummy region so as to face each other at a predetermined interval. A method for inspecting a multi-cavity wiring board for inspecting a spread width of a plating layer deposited on the wiring board area and the conductor pattern on a multi-cavity wiring board, wherein the multi-cavity wiring board is placed in a plating solution. So as to form a plating layer on the surface of the wiring conductor, and then identify the degree of plating in the gap between the at least one pair of identification members in the dummy region, thereby forming the plating layer in the wiring substrate region. A method for inspecting a multi-circuit board, characterized by determining whether or not it is possible.
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