JP2007234095A - 光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 - Google Patents

光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 Download PDF

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直之 中川
Takashi Daiko
高志 大胡
Takayuki Kizawa
隆行 鬼沢
Itsuro Nakamura
逸郎 中村
Kenji Oishi
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Abstract

【課題】異なる規格に準拠した複数の情報層が形成された光ディスクの、製造コストの上昇を極力抑えることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】(a)で第1の基板21の一方の面に記録層23を形成し、他方の面に記録層20を形成する。(b)で記録層23に反射膜24を積層し、(c)で反射膜24に光透過層25を形成する。(d)で記録層20に反射膜22を積層する。(e)で基板41に記録層40を形成し、(f)で反射膜42を積層する。(g)で第2の反射膜22と反射膜42とを対向させて接着層26で貼り合わせる。(a)〜(d)の工程をa、b、c、dの順で行う第1の一連工程と、(e)、(f)の工程をe、fの順で行う第2の一連工程とは同時または任意の順で行う。(g)の工程は、第1の一連工程と第2の一連工程の後に行う。
【選択図】 図5

Description

本発明は、複数の情報層が形成された光ディスクの製造方法及び製造装置に係り、特に異なる規格に準拠した複数の情報層が形成された光ディスクの製造方法及び製造装置に関する。
光ディスクは記録容量が大きく、非接触で再生できることから、CD(コンパクトディスク)、LD(レーザーディスク)、DVD−ROM(DVD-Read Only Memory)等の再生専用型ディスク、または、CD−R、DVD−R等の追記型ディスク、さらに、CD−RW、DVD−RAM、DVD−RW等の書換型ディスク等に幅広く利用されている。
ところで、現在はDVD-Read Only Memory規格(以下、DVD−ROM規格)に準拠した光ディスク(DVD)が一般的に普及しており、次世代の高密度ディスクであるブルーレイディスク(Blu-ray Disc Read-Only Format)規格(以下、BD−ROM規格)に準拠した光ディスク(BD)がこれから普及していくであろうという状況である。そして、おそらく今後は、DVDとBDが共存する時期がしばらく続くことが予想される。
このような状況においては、ディスクの製造会社は一つの映画等のコンテンツに対して、DVDとBDの2種類のディスクを製造しなければならず、コスト的に非効率的である。また消費者にとっても、例えば、見たい映画のDVDソフトを今購入すべきか、あるいはBDプレーヤを購入し、BDソフトとして発売されるまで待つべきか、というような心理的な迷いを引き起こすことになる。
このような問題は、DVDとBDとを一つにした光ディスクがあれば解決できる。
しかしながら、上述したような光ディスクはDVD−ROM規格とBD−ROM規格のように、複数の異なる規格に準拠させて製造する必要がある。そのため、現在普及しているDVD−ROM規格のみに準拠した光ディスクよりも製造コストが上がってしまう。
そこで本発明は、DVD記録層とBD記録層とを有する光ディスクの製造方法及び製造装置において、DVD−ROM規格およびBD−ROM規格を同時に満たし、製造コストの上昇を極力抑えることのできる光ディスクの製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
上記した課題を解決するために本発明は、次の(a)〜(d)に記載の光ディスクの製造方法及び製造装置を提供するものである。
(a)第1の基板21の一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層23を形成し、前記第1の基板の他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層20を形成する第1の工程と、前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜24を積層する第2の工程と、前記第1の反射膜に光透過層25を形成する第3の工程と、前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜22を積層する第4の工程と、第2の基板41に、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層40を形成する第5の工程と、前記第3の記録層に第3の反射膜42を積層する第6の工程と、前記第2の反射膜と第3の反射膜とを対向させて接着層26で貼り合わせる第7の工程とを含み、前記第1〜第4の工程よりなる第1の一連工程は第1、第2、第3、第4の順で行われ、前記第5、第6の工程よりなる第2の一連工程は第5、第6の順で行われ、前記第1の一連工程と前記第2の一連工程とは、同時または任意の順で行われ、前記第7の工程は、前記第1の一連工程と前記第2の一連工程の後に行われることを特徴とする光ディスク製造方法。
(b)第1の基板21の一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層23を形成し、前記第1の基板の他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層20を形成する第1の工程と、前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜22を積層する第2の工程と、第2の基板41に、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層40を形成する第3の工程と、前記第3の記録層に第3の反射膜42を積層する第4の工程と、前記第2の反射膜と第3の反射膜とを対向させて接着層26で貼り合わせる第5の工程と、前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜24を積層する第6の工程と、前記第1の反射膜に光透過層25を形成する第7の工程とを含み、前記第1、第2の工程よりなる第1の一連工程は第1、第2の順で行われ、前記第3、第4の工程よりなる第2の一連工程は第3、第4の順で行われ、前記第5〜第7の工程よりなる第3の一連工程は第5、第6、第7の順で行われ、前記第1の一連工程と前記第2の一連工程とは、同時または任意の順で行われ、前記第3の一連工程は、前記第1の一連工程と、前記第2の一連工程の後に行われることを特徴とする光ディスク製造方法。
(c)一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層23を有し、他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層20を有する第1の基板21を形成する第1の成型機1と、前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜24を積層する第1の成膜装置17と、前記第1の反射膜に光透過性カバー層25を形成するカバー層形成装置18と、前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜22を積層する第2の成膜装置3と、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層40を有する第2の基板41を形成する第2の成型機2と、前記第3の記録層に第3の反射膜42を積層する第3の成膜装置4と、前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる貼り合わせ装置8,9,10とを備え、前記第1の成型機と第1の成膜装置とカバー層形成装置と第2の成膜装置とをこの順に配置し、前記第2の成型機と第3の成膜装置とをこの順に配置し、前記貼り合わせ装置を前記第2の成膜装置と第3の成膜装置の後に配置したことを特徴とする光ディスク製造装置。
(d)一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層23を有し、他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層20を有する第1の基板21を形成する第1の成型機1と、前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜22を積層する第1の成膜装置3と、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層40を有する第2の基板41を形成する第2の成型機2と、前記第3の記録層に第3の反射膜42を積層する第2の成膜装置4と、前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる貼り合わせ装置8,9,10と、前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜24を積層する第3の成膜装置17と、前記第1の反射膜に光透過性カバー層25を形成するカバー層形成装置18とを備え、前記第1の成型機と第1の成膜装置とをこの順に配置し、前記第2の成型機と第2の成膜装置とをこの順に配置し、前記貼り合わせ装置を前記第1の成膜装置と第2の成膜装置の後に配置し、前記貼り合わせ装置の後に、前記第3の成膜装置とカバー層形成装置とをこの順に配置したことを特徴とする光ディスク製造装置。
本発明の光ディスク製造方法によれば、DVD−ROM規格に準拠した記録層とBD−ROM規格に準拠した記録層とを有する光ディスクの製造コストが、DVD−ROM規格のみに準拠した光ディスクの製造コストより増大することを最小限に抑えることができる。また、本発明の光ディスク製造装置によれば、従来より用いられている製造装置を活用することができるため、新たに追加する装置を少なくでき、製造装置にかかるコストが増大することを最小限に抑えることができる。更に、製造装置のコストを最小限に抑えられることで、光ディスクの製造コストの増大も最小限に抑えられる。
図1は、本発明の一実施形態において製造した光ディスクDの積層構造を示す図である。
光ディスクDは、第1の基板21と第2の基板41とを有する。第1の基板21は、一方の面に第1の記録層23が形成され、第1の記録層23の上には第1の反射膜24、光透過性カバー層(光透過層)25が積層されている。第1の基板21の他方の面には第2の記録層20が形成され、第2の記録層20の上には第2の反射膜22が積層されている。
第2の基板41は、一方の面に第3の記録層40が形成され、第3の記録層40の上には第3の反射膜42が積層されている。第2の基板41の他方の面には、タイトルレーベル面が設けられている。
第2の反射膜22と第3の反射膜42とを対向させ、接着層26で貼り合わせると、図1に示した光ディスクDの積層構造となる。
第2の基板41の一方の面には、第3の記録層40、第3の反射膜42、接着層26、第2の反射膜22、第2の記録層20、第1の基板21、第1の記録層23、第1の反射膜24、光透過性カバー層25の順序で各層が積層形成されている。光透過性カバー層25は、第1の記録層23に記録されている情報を再生する第1の再生用レーザ光L1及び、第2の記録層20及び第3の記録層40に記録されている情報を再生する第2の再生用レーザ光L2の入射面である。
なお本実施形態では、第1の再生用レーザ光L1の波長は360nm〜440nm、第2の再生用レーザ光L2の波長は630nm〜650nmであり、第1の再生用レーザ光L1及び第2の再生用レーザ光L2を総称して、再生用レーザ光Lという。
本実施形態において第1の基板21の厚さは0.5mmで、一方の面に記録する情報に基づいて同心円状またはスパイラル状に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列が記録層23として形成されている。基板21の他方の面には、同心円状またはスパイラル状にDVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列が記録層20として形成されている。
このため第1の基板21の作製方法はいくつかの方法が考えられるが、最も効率よく光ディスクDを製造することができ、また製造コストの増大をできる限り抑えることのできる光ディスク製造方法及び製造装置を検討した。
また、第2の基板41の厚さは0.6mmで、一方の面に、記録する情報に基づいて同心円状またはスパイラル状に、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列(情報ピットパターン)が記録層40として形成されている。
本発明の理解を容易にするため、図2に記録層を2層有するDVDを製造するために従来から用いられている装置である製造装置Mのブロック図を示す。図3に製造装置Mにおいて製造できる2層のDVD(光ディスクD2)の断面図を示す。
射出成型機1において、DVD−ROM規格に準拠した情報ピット列からなる記録層50を有する基板51(L0層基板)を成型し、射出成型機2においてDVD−ROM規格に準拠した情報ピット列からなる記録層55を有する基板56(L1層基板)を成型する。続いて、DVD層成膜装置3の図示せぬ載置台に基板51を載置して反射膜53を形成する。同様に、DVD層成膜装置4の図示せぬ載置台に基板56を載置して反射膜57を形成する。回転テーブル5に配置された基板51及び基板56は、図示せぬ可動アームによって回転テーブル7に搬送される。
搬送された基板56に、滴下装置8によって紫外線(UV)硬化樹脂を滴下し、塗布する。続いて基板51を基板56上に載置して、基板56をUV硬化樹脂が所望の厚みになるようにスピナー9で高速回転させる。そして基板56にUV照射装置10において紫外線を照射し、UV硬化樹脂を硬化させる。従って、基板51と基板56とがUV硬化樹脂が硬化して形成された接着層58によって貼り合わされた光ディスクD2が、滴下装置8とスピナー9とUV照射装置10とからなる貼り合わせ装置によって完成する。光ディスクD2は、クリーニング部11によって表面がクリーニングされて、ストック部12にストックされる。
次に、図1に示した光ディスクDを製造する本発明の一実施形態を述べる。本実施形態では、製造装置Mを利用して光ディスクDを製造する最適な方法を検討した。
図4には、実施例1の製造方法を実現するための製造装置M1のブロック図を示す。図5(a)〜(f)に示すのは、実施例1における光ディスクDの製造工程の概略である。
(実施例1)
まず、図4に示す射出成型機1の固定スタンパ101にDVD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いて、可動スタンパ102にBD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いて、ポリカーボネート等の光ディスク基板材料として用いられる樹脂210を射出成型する。
図5(a)に示すように、樹脂210が射出成型された基板21の片面には、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる記録層23が形成される。第1の情報ピット列はBD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。基板21の他方の面には、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる記録層20が形成される。第2の情報ピット列はDVD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。
続いて図4に示すBD層成膜装置17において、図5(b)に示すように記録層23に反射膜24を形成する。反射膜24の材料としてはAu、Ag、Alなどの金属やこれらを主成分とする合金が適しているが、再生用レーザ光Lに対し高屈折率で透明な特性を有する誘電体、例えばZnS、TiO2、SiN、GeN、Si、SiC、SiHなども好ましい。
次に図4に示すカバー層形成装置18において、図5(c)に示すように反射膜24の上にBD−ROM規格に基づいた光透過性カバー層25(光透過層)を成膜する。光透過性カバー層25は、100μm±3μmの精度で形成する。光透過性カバー層25は、UV硬化樹脂を用いて、所望のカバー層厚になるよう基板21を高速回転させて成膜した。
なお、フィルム状のポリカーボネート製基板をUV硬化樹脂の接着剤やシート状の粘着接着剤を用いて貼り合せて、光透過性カバー層25としても良い。
基板21から光透過性カバー層25までの厚みは、図1に示した各記録層及び反射膜を積層した光ディスクDの形態で、光ディスクDの最表面である再生用レーザ光Lが照射される光透過性カバー層25から、それぞれの記録層(記録層20、記録層23、記録層40)までの光路長が各種ディスク(DVD、BD)の規格に基づいた値に合致させるために、0.6mm(±30μm)となるように作製する。
このように一方の面にBD−ROM規格に準拠した記録層23と反射膜24と光透過性カバー層25とからなるBD層を形成し、他方の面にDVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる記録層20を形成した基板21は、図3に示す通常の2層のDVD用の基板51、56と同等に扱うことができる。
続けて基板21を図4に示すDVD層成膜装置3の図示せぬ載置台に載置し、図5(d)に示すように、基板21の記録層20に反射膜22を形成する。反射膜22は半透明で、Au、Ag、Alなどの金属やこれらを主成分とする合金を材料として用い、非常に薄い膜厚で形成する。また、Si、SiC、SiHなども用いることができる。具体的な膜厚としては5nm〜13nm程度が好ましい。また、先に述べた金属の他、再生用レーザ光Lに対し高屈折率で透明な特性を有する誘電体、例えばZnS、TiO2、SiN、GeNなども材料として好適である。
なお、DVD−ROM規格に準拠した情報ピット列からなる記録層20と、記録層20上に形成された反射膜22とをDVD層と称し、以降も同様とする。
一方で図4に示す射出成型機2においては、図5(e)に示すように片面にDVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる記録層40を有する基板41を射出成型する。第3の情報ピット列は、DVD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。基板41の厚さはDVD−ROM規格に基づいて0.6mm(±30μm)とする。
次に基板41を図4に示すDVD層成膜装置4の図示せぬ載置台に載置して、図5(f)に示すように記録層40に、信号再生のための反射膜42を形成する。反射膜42は、Al、Ag、Au等のいずれかの金属や、いずれかの金属を主成分とする合金を材料として用い、スパッタリングや蒸着などの真空成膜法によって形成される。なお、本実施形態において主成分とは、最も多く含まれる成分をさす。
ここで、図1に示す光ディスクDにおいて記録層40は、再生用レーザ光Lの入射面となる光透過性カバー層25から見て最も奥に形成された記録層である。このため、反射膜42の膜厚は再生光の透過を考慮することなく、最大の反射率が得られる膜厚とすればよい。従って、通常は50nm以上の膜厚として形成する。
実施例1において、基板21に記録層23と記録層20とを形成し、記録層23上に反射膜24と光透過性カバー層25を形成し、記録層20上に反射膜22を形成する一連の工程(第1の一連工程)と、基板41に記録層40を形成して、反射膜42を形成する一連の工程(第2の一連工程)とはどのような順で行っても良い。ただし、第1の一連工程と第2の一連工程とを同じ時間内で行うと、製造時間の短縮につながり好ましい。
以上のように作製された基板21及び基板41は、図4に示す回転テーブル5に載置され、可動アームによって回転テーブル7に搬送される。搬送された基板41の反射膜42に、滴下装置8がUV硬化樹脂を滴下し、塗布する。続いて基板21の反射膜22が反射膜42と対向するように基板41上に載置し、スピナー9においてスピンコート法でUV硬化樹脂を所望の厚みに形成する。UV硬化樹脂はアクリル系樹脂などを用いる。
UV照射装置10において基板21側から紫外線を照射し、UV硬化樹脂を硬化させて基板21と基板41とが貼り合わせられると、図5(g)に示すような光ディスクDとなる。本実施形態の製造装置において、滴下装置8とスピナー9とUV照射装置10とを貼り合わせ装置とする。
最後に光ディスクDは、クリーニング部11によって表面がクリーニングされて、ストック部12にストックされる。
実施例1の製造方法は、基板21の第1の記録層23上に第1の反射膜24と光透過性カバー層25とを形成したBD層を初めに製造し、続く工程で基板21の第2の記録層20上に第2の反射膜22を形成してなるDVD層と、基板41の第3の記録層40上に第3の反射膜42を形成してなるDVD層とをそれぞれ製造して貼り合わせる光ディスクDの製造方法である。
従って、BD層が形成された基板21は、図3に示す通常の2層のDVD(光ディスクD2)用の基板51、56と同等に扱うことができるため、続くDVD層の製造工程を光ディスクD2の製造工程と同様に、製造装置Mを利用して容易に行える。
また製造装置M1は、図4に示したように製造装置MにBD層成膜装置17及びカバー層形成装置18を追加するだけよく、BD層成膜装置17とカバー層形成装置18とを成膜や成型などに関わる他の装置を介在させずに、対にして設置できる。BD層成膜装置17とカバー層形成装置18を対にせず離して設置することは、コストの上昇に繋がるため好ましくない。更に、BD層成膜装置17とカバー層形成装置18を対にして設置できることで、微小なゴミや塵、気泡などの混入によるディフェクトの発生を防ぐことができる。
(実施例2)
図6に、実施例2の製造方法を実現するための製造装置M2のブロック図を示す。図7(a)〜(f)に実施例2における光ディスクDの製造工程を示す。なお、成膜材料及び膜厚、基板の厚みなどの条件は、実施例1と同じとし、詳述しない。
まず、図6に示す射出成型機1の固定スタンパ101にDVD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いて、可動スタンパ102にBD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いて、ポリカーボネート等の光ディスク基板材料として用いられる樹脂210を射出成型する。
図7(a)に示すように、樹脂210が射出成型された基板21の片面には、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる記録層23が形成される。第1の情報ピット列はBD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。基板21の他方の面には、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる記録層20が形成される。第2の情報ピット列はDVD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。
次に、基板21を図6に示すDVD層成膜装置3の図示せぬ載置台に載置し、図7(b)に示すように、基板21の記録層20に反射膜22を形成する。
一方、図6に示す射出成型機2においては、図7(c)に示すように片面にDVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる記録層40を有する基板41を射出成型する。第3の情報ピット列は、DVD−ROM規格に準拠して記録された情報を示す。基板41の厚さはDVD−ROM規格に基づいて0.6mm(±30μm)とする。
続いて、基板41を図6に示すDVD層成膜装置4の図示せぬ載置台に載置して、図7(d)に示すように記録層40に、信号再生のための反射膜42を形成する。
実施例2において、基板21に記録層23と記録層20とを形成し、記録層20上に反射膜22を形成する一連の工程(第1の一連工程)と、基板41に記録層40を形成して、反射膜42を形成する一連の工程(第2の一連工程)とはどのような順で行っても良い。ただし、第1の一連工程と第2の一連工程とを同じ時間内で行うと、製造時間の短縮につながり好ましい。
以上のように作製された基板21及び基板41は、図6に示す回転テーブル5に載置され、可動アームによって回転テーブル7に搬送される。搬送された基板41の反射膜42に、滴下装置8がUV硬化樹脂を滴下し、塗布する。続いて基板21の反射膜22が反射膜42と対向するように基板41上に載置し、スピナー9においてスピンコート法でUV硬化樹脂を所望の厚みに形成する。
UV照射装置10において基板41に紫外線を照射し、UV硬化樹脂を硬化させて基板21と基板41とを図7(e)に示すように貼り合わせた後、BD層成膜装置17の図示せぬ載置台に貼り合わせた基板を載置する。
続いて、図6に示すBD層成膜装置17において、図7(f)に示すように記録層23に反射膜24を形成する。最後にカバー層形成装置18において、図7(g)に示すように反射膜24の上にBD−ROM規格に基づいた光透過性カバー層25が形成されて、光ディスクDとなる。
最後に光ディスクDは、クリーニング部11によって表面がクリーニングされて、ストック部12にストックされる。
実施例2の製造方法は、基板21及び基板41にDVD層をそれぞれ製造し、貼り合わせたあとの工程で、基板21の他方の面にBD層を製造する光ディスクDの製造方法である。実施例2において、カバー層25は基板21と基板41とを貼り合わせた後に成膜されるため、カバー層を形成することによって基板21及び基板41が受ける反りの影響を小さくできる。
また製造装置M2は、図6に示したように製造装置MにBD層成膜装置17及びカバー層形成装置18を追加するだけよく、BD層成膜装置17とカバー層形成装置18とを他の装置を介在させずに対にして設置できる。
以上の実施例1及び実施例2で説明した本実施形態の射出成型機1において、固定スタンパ101にDVD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いて、可動スタンパ102にBD−ROM規格に基づいた凹凸パターンを有するスタンパを用いた。このようなスタンパの設定は、基板21の成型における精度を安定させることができる。
なお、実施例1及び実施例2で説明した本実施形態の製造方法においては、基板21と基板41との貼り合わせ工程で基板41の反射膜42にUV硬化樹脂を塗布し、基板21を基板41上に載置し、基板21側から紫外線照射を行ったが、貼り合わせ工程はこれに限られるものではない。
本実施形態の製造方法によって製造された光ディスクDの各記録層(記録層20、記録層23、記録層40)に記録されている情報は、青色もしくは赤色の半導体レーザによって読み取られる。従って、読み取りが良好に行えるように、製造工程における微小なゴミや塵、気泡などの混入によるディフェクトの発生を防ぐ必要がある。
通常DVDの製造工程は、製造装置MのようなDVD製造機を温度や湿度が一定の条件において稼働させて行われるため、全行程は密閉空間で、一続きで行われる。そのため、ディフェクトの原因となる浮遊物は極めて少ない。しかしながら本実施形態では、BD−ROM規格に準拠した記録層23の形成も必要であるため、微小なゴミなどの混入を防ぐために記録層に一時的にカバーをかけて保護する工程を製造工程に含むことも考えられる。
実施例1及び実施例2の製造方法によれば、BD層の形成をDVD層の形成の前工程または後工程としているため、DVDの製造工程を一続きで行うことができ、効率がよい。更に、記録層を保護する工程を最も少ない回数とすることができ、効率的な製造工程とすることが可能である。
また、実施例1及び実施例2のいずれの製造方法も、図2に示すDVD製造装置MにBD層成膜装置17とカバー層形成装置18とを加えることで実現できるため、新たな設備の導入が最小限でよく、設備投資も小さく抑えられる。従って製造コストの上昇も小さく抑えることができる。
更に、BD層成膜装置17とカバー層形成装置18を対にして設置できることから、微小なゴミや塵、気泡などの混入によるディフェクトの発生を防ぐことができる。
なお本実施形態では、2層のDVD記録層と単層のBD記録層とを有する光ディスクDの製造方法について詳述したが、単層のDVD記録層と単層のBD記録層とを有する光ディスクについても同様の製造方法で製造できる。この場合には、基板41をダミー板(ミラー板)に置き換えて、実施例1及び実施例2の製造方法を実施すればよい。
本発明の一実施形態において製造した光ディスクDの積層構造を示す図である。 本発明の一実施形態において用いた製造装置Mのブロック図である。 製造装置Mにおいて製造できる光ディスクD2の断面図である。 実施例1の製造方法を実現するための製造装置M1のブロック図である。 実施例1における光ディスクDの製造工程の概略図である。 実施例2の製造方法を実現するための製造装置M2のブロック図である。 実施例2における光ディスクDの製造工程の概略図である。
符号の説明
1 射出成型機(第1の成型機)
17 BD層成膜装置
18 カバー層形成装置
2 射出成型機(第2の成型機)
3 DVD成膜装置
4 DVD成膜装置
5 回転テーブル
7 回転テーブル
8 滴下装置(貼り合わせ装置)
9 スピナー(貼り合わせ装置)
10 UV照射装置(貼り合わせ装置)

Claims (4)

  1. 第1の基板の一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層を形成し、前記第1の基板の他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層を形成する第1の工程と、
    前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜を積層する第2の工程と、
    前記第1の反射膜に光透過層を形成する第3の工程と、
    前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜を積層する第4の工程と、
    第2の基板に、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層を形成する第5の工程と、
    前記第3の記録層に第3の反射膜を積層する第6の工程と、
    前記第2の反射膜と第3の反射膜とを対向させて接着層で貼り合わせる第7の工程とを含み、
    前記第1〜第4の工程よりなる第1の一連工程は第1、第2、第3、第4の順で行われ、
    前記第5、第6の工程よりなる第2の一連工程は第5、第6の順で行われ、
    前記第1の一連工程と前記第2の一連工程とは、同時または任意の順で行われ、
    前記第7の工程は、前記第1の一連工程と前記第2の一連工程の後に行われることを特徴とする光ディスク製造方法。
  2. 第1の基板の一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層を形成し、前記第1の基板の他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層を形成する第1の工程と、
    前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜を積層する第2の工程と、
    第2の基板に、DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層を形成する第3の工程と、
    前記第3の記録層に第3の反射膜を積層する第4の工程と、
    前記第2の反射膜と第3の反射膜とを対向させて接着層で貼り合わせる第5の工程と、
    前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜を積層する第6の工程と、
    前記第1の反射膜に光透過層を形成する第7の工程とを含み、
    前記第1、第2の工程よりなる第1の一連工程は第1、第2の順で行われ、
    前記第3、第4の工程よりなる第2の一連工程は第3、第4の順で行われ、
    前記第5〜第7の工程よりなる第3の一連工程は第5、第6、第7の順で行われ、
    前記第1の一連工程と前記第2の一連工程とは、同時または任意の順で行われ、
    前記第3の一連工程は、前記第1の一連工程と、前記第2の一連工程の後に行われることを特徴とする光ディスク製造方法。
  3. 一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層を有し、他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層を有する第1の基板を形成する第1の成型機と、
    前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜を積層する第1の成膜装置と、
    前記第1の反射膜に光透過性カバー層を形成するカバー層形成装置と、
    前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜を積層する第2の成膜装置と、
    DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層を有する第2の基板を形成する第2の成型機と、
    前記第3の記録層に第3の反射膜を積層する第3の成膜装置と、
    前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる貼り合わせ装置とを備え、
    前記第1の成型機と第1の成膜装置とカバー層形成装置と第2の成膜装置とを この順に配置し、
    前記第2の成型機と第3の成膜装置とをこの順に配置し、
    前記貼り合わせ装置を前記第2の成膜装置と第3の成膜装置の後に配置したこ とを特徴とする光ディスク製造装置。
  4. 一方の面に、BD−ROM規格に準拠した第1の情報ピット列からなる第1の記録層を有し、他方の面に、DVD−ROM規格に準拠した第2の情報ピット列からなる第2の記録層を有する第1の基板を形成する第1の成型機と、
    前記第2の記録層に半透過性の第2の反射膜を積層する第1の成膜装置と、
    DVD−ROM規格に準拠した第3の情報ピット列からなる第3の記録層を有する第2の基板を形成する第2の成型機と、
    前記第3の記録層に第3の反射膜を積層する第2の成膜装置と、
    前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる貼り合わせ装置と、
    前記第1の記録層に半透過性の第1の反射膜を積層する第3の成膜装置と、
    前記第1の反射膜に光透過性カバー層を形成するカバー層形成装置とを備え、
    前記第1の成型機と第1の成膜装置とをこの順に配置し、
    前記第2の成型機と第2の成膜装置とをこの順に配置し、
    前記貼り合わせ装置を前記第1の成膜装置と第2の成膜装置の後に配置し、
    前記貼り合わせ装置の後に、前記第3の成膜装置とカバー層形成装置とをこの 順に配置したことを特徴とする光ディスク製造装置。

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