JP2007227444A - Ic test method, probe guard, test prober, and ic tester - Google Patents

Ic test method, probe guard, test prober, and ic tester Download PDF

Info

Publication number
JP2007227444A
JP2007227444A JP2006043825A JP2006043825A JP2007227444A JP 2007227444 A JP2007227444 A JP 2007227444A JP 2006043825 A JP2006043825 A JP 2006043825A JP 2006043825 A JP2006043825 A JP 2006043825A JP 2007227444 A JP2007227444 A JP 2007227444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
temperature sensor
chip
temperature
probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006043825A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5008877B2 (en
Inventor
Masaharu Shigemi
政晴 重見
Toshio Horii
利夫 堀井
Motoko Ikura
素子 伊倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2006043825A priority Critical patent/JP5008877B2/en
Publication of JP2007227444A publication Critical patent/JP2007227444A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5008877B2 publication Critical patent/JP5008877B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an IC test method by which testing time can be shortened, a probe guard, a test prober, and an IC tester. <P>SOLUTION: Temperature data which is acquired by bringing a temperature sensor probe 15 into contact with the periphery of an IC chip within a plane of a wafer 2 is used to determine test condition beforehand that is not measured yet, and electrical test is conducted to make an accurate judgment of acceptance according to test condition suited to the actual temperature of the IC chip. Thus, the IC test method by which testing time can be shortened, the probe guard, the test prober, and the IC tester, can be realized. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ICテスト方法、プローブカード、検査プローバー、及びICテスト装置に関する。   The present invention relates to an IC test method, a probe card, an inspection prober, and an IC test apparatus.

従来、高温ウエハテストあるいは低温ウエハテストでは、ウエハを検査プローバーのステージ上に搭載し、ステージの温度を制御することでウエハを任意の温度にして、ウエハ内に形成してあるICチップの各電極に電気特性測定用プローブを接触し、電気信号を印加あるいは測定した結果とテスト条件とを比較して、ICチップの合否判定を行っていた。   Conventionally, in a high-temperature wafer test or a low-temperature wafer test, a wafer is mounted on the stage of an inspection prober, and the temperature of the stage is controlled to bring the wafer to an arbitrary temperature. Each electrode of the IC chip formed in the wafer The test of the IC chip was made by comparing the test result with the result of applying or measuring the electrical signal with the probe for measuring the electrical characteristics.

図6は、従来の高温ウエハテストあるいは低温ウエハテストで用いる検査プローバー1とLSIテスタ12との関係を示す概念図であり、図7は、従来のプローブカードの平面図である。   FIG. 6 is a conceptual diagram showing the relationship between the inspection prober 1 and the LSI tester 12 used in the conventional high-temperature wafer test or low-temperature wafer test, and FIG. 7 is a plan view of the conventional probe card.

図4において検査プローバー1にはウエハ2を搭載するステージ13が設けられ、ステージ13の内部には温度センサ14、加熱冷却部5が内蔵されており、それぞれがデータバスケーブル4を介して温度制御コントローラ3に接続されている。   In FIG. 4, the inspection prober 1 is provided with a stage 13 on which a wafer 2 is mounted. A temperature sensor 14 and a heating / cooling unit 5 are built in the stage 13, and temperature control is performed via the data bus cable 4. It is connected to the controller 3.

温度センサ14で検出した温度データは、データバスケーブル4を介して温度コントローラ3に送信され、その温度データを基にデータバスケーブル4を介して加熱冷却部5を制御することにより、ステージ13およびウエハ2を任意の温度に制御している。   The temperature data detected by the temperature sensor 14 is transmitted to the temperature controller 3 via the data bus cable 4, and the heating and cooling unit 5 is controlled via the data bus cable 4 based on the temperature data, whereby the stage 13 and The wafer 2 is controlled to an arbitrary temperature.

更に、ステージ13上には図7に示すような電気特性測定用プローブ7が具備されたプローブカード6が設けられており、プローブカード6は接続リング8およびテストボード9を介してテストヘッド10に接続されている。   Further, a probe card 6 having an electrical characteristic measuring probe 7 as shown in FIG. 7 is provided on the stage 13, and the probe card 6 is connected to the test head 10 via the connection ring 8 and the test board 9. It is connected.

また、テストヘッド10は、データバスケーブル11を介してLSIテスタ12に接続されている。   The test head 10 is connected to the LSI tester 12 via the data bus cable 11.

このLSIテスタ12には、テストプログラムが格納されており、テストプログラムにはテスト条件が格納されている。電気的テスト時には、ステージ13を駆動してウエハ2を矢印P2方向に移動させ、ウエハ2面内のICチップの電極(パッド)を電気特性測定用プローブ7に接触させる。
テストプログラムに格納されたテスト条件を基にテストヘッド10を介してウエハ2−LSIテスタ12間で送信される電気特性測定データとを比較して合否判定を行っている。
The LSI tester 12 stores a test program, and the test program stores test conditions. During the electrical test, the stage 13 is driven to move the wafer 2 in the direction of the arrow P2, and the IC chip electrodes (pads) in the wafer 2 surface are brought into contact with the electrical characteristic measuring probe 7.
Based on the test conditions stored in the test program, pass / fail judgment is performed by comparing with electrical characteristic measurement data transmitted between the wafer 2 and the LSI tester 12 via the test head 10.

しかしながら、温度制御コントローラ3にてステージ13の温度を制御しても、設定温度に対してステージ13の面内では場所による温度ばらつきが生じている。   However, even if the temperature of the stage 13 is controlled by the temperature controller 3, the temperature varies depending on the location within the plane of the stage 13 with respect to the set temperature.

これに対して、電気特性測定を行う際にウエハ面内のICチップの四隅に対し、プローブカードに具備した温度センサプローブを接触させる事により、ICチップの表面温度を測定し、その温度データによりテスト条件を決定する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平7−74218号公報
On the other hand, when the electrical characteristics are measured, the surface temperature of the IC chip is measured by bringing the temperature sensor probe provided in the probe card into contact with the four corners of the IC chip in the wafer surface. A method for determining test conditions is disclosed (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-7-74218

ところで、従来の高温ウエハテストあるいは低温ウエハテストにおいては、温度制御コントローラにてステージ温度を制御しても、ステージの面内では場所による温度のばらつきが生じている。   By the way, in the conventional high-temperature wafer test or low-temperature wafer test, even if the temperature of the stage is controlled by the temperature controller, the temperature varies depending on the place in the plane of the stage.

従ってステージ上に搭載したウエハ面内の各ICチップの温度もばらついており、温度傾斜を持つテストにおいて適切なテスト条件の基にICチップの合否判定ができない。   Therefore, the temperature of each IC chip on the wafer surface mounted on the stage varies, and it is impossible to determine whether the IC chip is acceptable or not based on an appropriate test condition in a test having a temperature gradient.

また、特許文献1記載の技術では、温度センサプローブを直接ICチップに接触させるためIC表面を傷つけ、場合によっては破壊してしまう。接触タイプの温度センサプローブは、正確に温度測定をするため対象物に接触後、温度が安定する一定の時間が必要である。電気特性測定と温度測定を同一ICチップで同時実施すると温度センサプローブの温度安定待ちが必要となる。そのために、テスト条件を決定できずテスト時間が長くなってしまう。   Further, in the technique described in Patent Document 1, since the temperature sensor probe is directly brought into contact with the IC chip, the IC surface is damaged, and in some cases, it is destroyed. The contact-type temperature sensor probe requires a certain time for the temperature to stabilize after contacting the object in order to accurately measure the temperature. If electrical characteristic measurement and temperature measurement are performed simultaneously on the same IC chip, it is necessary to wait for temperature stabilization of the temperature sensor probe. For this reason, the test conditions cannot be determined and the test time becomes long.

そこで、本発明の目的は、テスト時間を短縮することのできるICテスト方法、プローブカード、検査プローバー、及びICテスト装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an IC test method, a probe card, an inspection prober, and an IC test apparatus that can shorten the test time.

上記課題を解決するため、請求項1記載の発明は、ウエハを検査プローバーのステージ上に搭載し、前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブカードのプローブを接触して電気的テストを行う際に、前記ICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うICテスト方法であることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, according to the first aspect of the present invention, an electrical test is performed by mounting a wafer on a stage of an inspection prober and contacting a probe of a probe card to each electrode of an IC chip in the wafer surface. In this case, it is an IC test method in which a test condition of an unmeasured IC chip is determined in advance from temperature data acquired by contacting a temperature sensor probe around the IC chip, and an electrical test is performed.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記温度センサプローブをダイシングラインに接触させて温度測定を行うことを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the temperature measurement is performed by bringing the temperature sensor probe into contact with a dicing line.

請求項3記載の発明は、請求項2記載の発明において、前記ダイシングラインの複数箇所に複数の温度センサプローブを接触させて温度測定を行うことを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the temperature measurement is performed by bringing a plurality of temperature sensor probes into contact with a plurality of locations of the dicing line.

請求項4記載の発明は、請求項1記載の発明において、ウエハ面内を一定領域でブロックに分け、そのブロックによりテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the wafer surface is divided into blocks in a predetermined area, and test conditions are determined in advance by the blocks, and an electrical test is performed.

請求項5記載の発明は、検査プローバー上に搭載されたウエハ面内のICチップの各電極に接触して電気的テストを行うプローブと、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブとを具備したプローブカードであることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a probe for performing an electrical test by contacting each electrode of an IC chip in a wafer surface mounted on an inspection prober, and a temperature data by contacting a dicing line in the wafer surface. It is a probe card provided with the temperature sensor probe for acquiring.

請求項6記載の発明は、請求項5記載の発明において、前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とする。   According to a sixth aspect of the invention, in the fifth aspect of the invention, a plurality of the temperature sensor probes are provided.

請求項7記載の発明は、請求項5または6記載の発明において、前記温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とする。   The invention described in claim 7 is the invention described in claim 5 or 6, wherein the temperature sensor probe is configured as a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact.

請求項8記載の発明は、ウエハを搭載するステージと、前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードとを備えた検査プローバーにおいて、前記プローブカードに設けられ、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、該温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とする。   The invention according to claim 8 is an inspection prober comprising a stage on which a wafer is mounted and a probe card for bringing a probe into contact with each electrode of an IC chip in the wafer surface. A temperature sensor probe for obtaining temperature data by contacting an internal dicing line, and an arithmetic unit for calculating a signal from the temperature sensor probe are provided.

請求項9記載の発明は、請求項8記載の発明において、前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とする。   The invention according to claim 9 is the invention according to claim 8, wherein a plurality of the temperature sensor probes are provided.

請求項10記載の発明は、請求項8または9記載の発明において、前記温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とする。   According to a tenth aspect of the present invention, in the invention according to the eighth or ninth aspect, the temperature sensor probe has a configuration of a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring a temperature by contact.

請求項11記載の発明は、ウエハを搭載するステージ及び前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードを有する検査プローバーと、該検査プローバーからの前記ICチップの信号を解析するICテスターとを備えたICテスト装置において、前記プローブカードに設けられ、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、該温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とする。   According to an eleventh aspect of the present invention, an inspection prober having a stage on which a wafer is mounted and a probe card for bringing a probe into contact with each electrode of an IC chip in the wafer surface, and the signal of the IC chip from the inspection prober are analyzed. In an IC test apparatus including an IC tester, a temperature sensor probe provided on the probe card for contacting the dicing line in the wafer surface to acquire temperature data, and a signal from the temperature sensor probe are calculated. And an arithmetic unit for processing.

請求項12記載の発明は、請求項11記載の発明において、前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とする。   According to a twelfth aspect of the present invention, in the invention according to the eleventh aspect, a plurality of the temperature sensor probes are provided.

請求項13記載の発明は、請求項11または12記載の発明において、前記温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とする。   A thirteenth aspect of the invention is characterized in that, in the invention of the eleventh or twelfth aspect, the temperature sensor probe has a configuration of a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring a temperature by contact.

本発明によれば、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することのできるICテスト方法、プローブカード、及び検査プローバーの提供を実現することができる。   According to the present invention, the test conditions of the unmeasured IC chip are determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and the electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, it is possible to provide an IC test method, a probe card, and an inspection prober that can reduce the test time.

本発明に係るICテスト方法の一実施の形態(請求項1)は、ウエハを検査プローバーのステージ上に搭載し、ウエハ面内のICチップの各電極にプローブカードのプローブを接触して電気的テストを行う際に、ICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことを特徴とする。   In an embodiment of the IC test method according to the present invention (claim 1), a wafer is mounted on a stage of an inspection prober, and a probe of a probe card is brought into electrical contact with each electrode of an IC chip in the wafer surface. When performing the test, the test condition of the unmeasured IC chip is determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip, and the electrical test is performed.

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   According to the above configuration, the test conditions of the unmeasured IC chip are determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and the electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, the test time can be shortened.

本発明に係るICテスト方法の他の実施の形態(請求項2)は、上記構成に加え、温度センサプローブをダイシングラインに接触させて温度測定を行うのが好ましい。   In another embodiment (Claim 2) of the IC test method according to the present invention, in addition to the above configuration, it is preferable to perform temperature measurement by bringing a temperature sensor probe into contact with a dicing line.

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップ外のダイシングラインに温度センサプローブを接触することにより、ICチップを損傷することなくICチップの実温度を測定することができる。   According to the above configuration, the actual temperature of the IC chip can be measured without damaging the IC chip by bringing the temperature sensor probe into contact with the dicing line outside the IC chip in the wafer surface.

本発明に係るICテスト方法の他の実施の形態(請求項3)は、上記構成に加え、ダイシングラインの複数箇所に複数の温度センサプローブを接触させて温度測定を行うのが好ましい。   In another embodiment (Claim 3) of the IC test method according to the present invention, in addition to the above configuration, it is preferable to perform temperature measurement by bringing a plurality of temperature sensor probes into contact with a plurality of locations on the dicing line.

上記構成によれば、複数箇所の温度を検知することにより、より正確な温度測定ができる。   According to the said structure, more exact temperature measurement can be performed by detecting the temperature of several places.

本発明に係るICテスト方法の他の実施の形態(請求項4)は、上記構成に加え、ウエハ面内を一定領域でブロックに分け、そのブロックによりテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うのが好ましい。   In another embodiment (Claim 4) of the IC test method according to the present invention, in addition to the above-described configuration, the wafer surface is divided into blocks in a certain area, and test conditions are determined in advance by the blocks, and an electrical test is performed. Is preferably performed.

本発明に係るプローブカードの一実施の形態(請求項5)は、検査プローバー上に搭載されたウエハ面内のICチップの各電極に接触して電気的テストを行うプローブと、ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブとを具備したことを特徴とする。   An embodiment of the probe card according to the present invention (Claim 5) includes a probe for performing an electrical test by contacting each electrode of an IC chip in a wafer surface mounted on an inspection prober, And a temperature sensor probe for acquiring temperature data in contact with the dicing line.

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   According to the above configuration, the test conditions of the unmeasured IC chip are determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and the electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, the test time can be shortened.

本発明に係るプローブカードの他の実施の形態(請求項6)は、上記構成に加え、温度センサプローブを複数個具備するのが好ましい。   In another embodiment (Claim 6) of the probe card according to the present invention, it is preferable to include a plurality of temperature sensor probes in addition to the above-described configuration.

上記構成によれば、温度センサプローブを複数個具備する事で、複数箇所の温度検知が可能である。   According to the said structure, the temperature detection of several places is possible by comprising multiple temperature sensor probes.

本発明に係るプローブカードの他の実施の形態(請求項7)は、上記構成に加え、温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっているのが好ましい。   In another embodiment (Claim 7) of the probe card according to the present invention, in addition to the above configuration, the temperature sensor probe preferably has a configuration of a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact. .

上記構成によれば、接触有効面積に合わせて適切な温度センサプローブを選択することで、ウエハ面内のICチップの損傷を回避することができ、精度よくICチップの実温度を測定することが可能である。   According to the above configuration, by selecting an appropriate temperature sensor probe according to the effective contact area, damage to the IC chip in the wafer surface can be avoided, and the actual temperature of the IC chip can be accurately measured. Is possible.

本発明に係る検査プローバーの一実施の形態(請求項8)は、ウエハを搭載するステージと、前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードとを備えた検査プローバーにおいて、前記プローブカードに設けられ、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、該温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とする。   An embodiment of an inspection prober according to the present invention (Claim 8) is an inspection prober comprising: a stage on which a wafer is mounted; and a probe card for bringing a probe into contact with each electrode of an IC chip in the wafer surface. A temperature sensor probe provided on the probe card for obtaining temperature data by contacting a dicing line in the wafer surface, and an arithmetic unit for processing a signal from the temperature sensor probe. And

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   According to the above configuration, the test conditions of the unmeasured IC chip are determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and the electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, the test time can be shortened.

本発明に係る検査プローバーの他の実施の形態(請求項9)は、上記構成に加え、温度センサプローブを複数個具備するのが好ましい。   In another embodiment (Claim 9) of the inspection prober according to the present invention, it is preferable to include a plurality of temperature sensor probes in addition to the above configuration.

上記構成によれば、温度センサプローブを複数個具備する事で、複数箇所の温度検知が可能である。   According to the said structure, the temperature detection of several places is possible by comprising multiple temperature sensor probes.

本発明に係る検査プローバーの他の実施の形態(請求項10)は、上記構成に加え、温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっているのが好ましい。   In another embodiment of the inspection prober according to the present invention (Claim 10), in addition to the above configuration, the temperature sensor probe preferably has a configuration of a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring a temperature by contact. .

上記構成によれば、接触有効面積に合わせて適切な温度センサプローブを選択することで、ウエハ面内のICチップの損傷を回避することができ、精度よくICチップの実温度を測定することが可能である。   According to the above configuration, by selecting an appropriate temperature sensor probe according to the effective contact area, damage to the IC chip in the wafer surface can be avoided, and the actual temperature of the IC chip can be accurately measured. Is possible.

本発明に係るICテスト装置の一実施形態(請求項11)は、ウエハを搭載するステージ及びウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードを有する検査プローバーと、検査プローバーからのICチップの信号を解析するICテスターとを備えたICテスト装置において、プローブカードに設けられ、ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とする。   An embodiment of an IC test apparatus according to the present invention (Claim 11) includes an inspection prober having a probe card for bringing a probe into contact with a stage on which a wafer is mounted and each electrode of an IC chip within the wafer surface, and an inspection prober. In an IC test apparatus equipped with an IC tester that analyzes an IC chip signal, a temperature sensor probe provided on a probe card for obtaining temperature data by contacting a dicing line in a wafer surface, and a temperature sensor probe And an arithmetic unit that performs arithmetic processing on the above signals.

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   According to the above configuration, the test conditions of the unmeasured IC chip are determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and the electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, the test time can be shortened.

本発明に係るICテスト装置の他の実施形態(請求項12)は、上記構成に加え、温度センサプローブを複数個具備するのが好ましい。   Another embodiment (Claim 12) of the IC test apparatus according to the present invention preferably includes a plurality of temperature sensor probes in addition to the above configuration.

上記構成によれば、ウエハ面内のICチップ外のダイシングラインに温度センサプローブを接触することにより、ICチップを損傷することなくICチップの実温度を測定することができる。   According to the above configuration, the actual temperature of the IC chip can be measured without damaging the IC chip by bringing the temperature sensor probe into contact with the dicing line outside the IC chip in the wafer surface.

本発明に係るICテスト装置の他の実施形態(請求項13)は、上記構成に加え、温度センサプローブは、接触により温度測定ができる熱電対あるいはIC温度センサの構成となっているのが好ましい。   In another embodiment (Claim 13) of the IC test apparatus according to the present invention, in addition to the above configuration, the temperature sensor probe preferably has a configuration of a thermocouple or an IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact. .

上記構成によれば、ウエハ面内の複数箇所の温度を検知することにより、より正確な温度測定ができる。   According to the above configuration, more accurate temperature measurement can be performed by detecting temperatures at a plurality of locations in the wafer surface.

すなわち、本発明はウエハ面内のICチップの実温度を測定し適切なテスト条件を選択することができる機構を設け、正確な合否判定ができるものである。
特許文献1記載の発明のように、プローブカードに具備した温度センサプローブをICチップの四隅に接触させることによって、実温度を測定する方法が知られているが、 本発明では、ウエハ面内のICチップ外にて温度測定することにより、ICチップの破損を回避することができる。本発明では、事前にテスト条件を決定する方法によりコスト増大につながるテスト時間の短縮を実現するものである。
In other words, the present invention is provided with a mechanism capable of measuring the actual temperature of the IC chip in the wafer surface and selecting an appropriate test condition, thereby enabling accurate pass / fail judgment.
As in the invention described in Patent Document 1, there is known a method of measuring the actual temperature by bringing the temperature sensor probe provided in the probe card into contact with the four corners of the IC chip. By measuring the temperature outside the IC chip, breakage of the IC chip can be avoided. In the present invention, a test time that leads to an increase in cost is realized by a method for determining test conditions in advance.

なお、上述した実施の形態は、本発明の好適な実施の形態の一例を示すものであり、本発明はそれに限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲内において、種々変形実施が可能である。   The above-described embodiment shows an example of a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. is there.

次に本発明に係る実施例について図1を参照して説明する。
図1は、本発明に係る検査プローバーの一実施例を示す概念図である。
尚、図4に示した従来例と同様の部材には共通の符号を用いた。
図1に示した実施例と図4に示した従来例との相違点は、図4に示した従来技術のウエハテストで用いる検査プローバー1とLSIテスタ12とを、図1に示すように電気特性測定用プローブ7と温度センサプローブ15とを具備したプローブカード6に変更し、その温度センサプローブ15で検知した結果を読み取って演算する演算器16と、その演算器16からデータバスケーブル17を介してLSIテスタ12に接続する温度測定系を追加した点である。
Next, an embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of an inspection prober according to the present invention.
In addition, the same code | symbol was used for the member similar to the prior art example shown in FIG.
The difference between the embodiment shown in FIG. 1 and the conventional example shown in FIG. 4 is that the inspection prober 1 and the LSI tester 12 used in the wafer test of the prior art shown in FIG. 4 are electrically connected as shown in FIG. The probe card 6 having the characteristic measurement probe 7 and the temperature sensor probe 15 is changed to an arithmetic unit 16 that reads and calculates a result detected by the temperature sensor probe 15, and a data bus cable 17 is connected from the arithmetic unit 16. A temperature measurement system connected to the LSI tester 12 is added.

すなわち、図1に示すICテスト装置は、ウエハ2を搭載すると共に鉛直方向(矢印P1方向)に移動可能なステージ13及びウエハ面内のICチップの各電極に電気特性測定用プローブ7を接触させるプローブカード6を有する検査プローバー1と、検査プローバー1からのICチップの信号を解析するICテスタ(LSIテスタ)12とを備えたICテスト装置であって、プローブカード6に設けられ、ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブ15と、温度センサプローブ15からの信号を演算処理する演算器16とを具備した装置である。   That is, in the IC test apparatus shown in FIG. 1, the electrical characteristic measurement probe 7 is brought into contact with the stage 13 on which the wafer 2 is mounted and movable in the vertical direction (arrow P1 direction) and each IC chip electrode in the wafer surface. An IC test apparatus comprising an inspection prober 1 having a probe card 6 and an IC tester (LSI tester) 12 for analyzing an IC chip signal from the inspection prober 1, provided on the probe card 6 and within the wafer surface This is a device comprising a temperature sensor probe 15 for obtaining temperature data by contacting the dicing line, and a computing unit 16 for computing a signal from the temperature sensor probe 15.

このようにICテスト装置を構成することで、ウエハ面内のICチップの実温度を測定し、実温度に対応した適切なテスト条件で正確な合否判定が可能となる。   By configuring the IC test apparatus in this way, it is possible to measure the actual temperature of the IC chip in the wafer surface and perform accurate pass / fail determination under appropriate test conditions corresponding to the actual temperature.

図2は、電気特性測定用プローブ6と温度センサプローブ15を具備した、本発明に係るプローブカード6の一例を示す平面図である。
図3は、電気特性測定時中のICチップA20と温度測定中の未測定ICチップB21とを示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an example of the probe card 6 according to the present invention, which includes the electrical property measuring probe 6 and the temperature sensor probe 15.
FIG. 3 is a plan view showing an IC chip A20 during measurement of electrical characteristics and an unmeasured IC chip B21 during temperature measurement.

未測定ICチップB21では周辺のダイシングライン18に温度センサプローブ15を接触させて表面温度を検知する。検知した結果は必要に応じて演算処理を行いデータバスケーブル17(図1参照)を介してLSIテスタ12に送信する。受信した温度データを基に未測定ICチップB21のテスト条件が決定する。
ICチップA20の電気特性測定終了後、ICチップB21を事前に決定したテスト条件を基に電気特性測定する。同時に上述と同じく未測定ICチップC22の温度を測定、テスト条件を決定する。これを全てのICチップの測定が終了するまで繰り返し実行する。
In the unmeasured IC chip B21, the temperature sensor probe 15 is brought into contact with the peripheral dicing line 18 to detect the surface temperature. The detected result is subjected to arithmetic processing as necessary and transmitted to the LSI tester 12 via the data bus cable 17 (see FIG. 1). Based on the received temperature data, the test condition of the unmeasured IC chip B21 is determined.
After the measurement of the electrical characteristics of the IC chip A20, the electrical characteristics are measured based on the test conditions determined in advance for the IC chip B21. At the same time, as described above, the temperature of the unmeasured IC chip C22 is measured and the test conditions are determined. This is repeated until the measurement of all IC chips is completed.

図3においては電気特性測定ICチップA20の右側ICチップのダイシングラインに、温度センサプローブを接触させているが右側のICチップに限るものではない。 左、上、下、斜め、隣り合わないICチップのダイシングラインに接触させても良い。
ここまでは、温度センサプローブ1本で温度データを取得する実施例の説明である。
In FIG. 3, the temperature sensor probe is brought into contact with the dicing line of the right IC chip of the electrical characteristic measurement IC chip A20, but the invention is not limited to the right IC chip. You may make it contact the dicing line of the IC chip which is not left, upper, lower, diagonal, and adjacent.
Up to this point, the description has been given of the embodiment in which the temperature data is acquired by one temperature sensor probe.

図4は、本発明に係るICテスト装置に用いられるプローブカードの他の実施例を示す平面図である。
図4に示す実施例と図3に示した実施例との相違点は、プローブカード6が複数の温度センサプローブ15を有する点である。
図4に示すように複数箇所のダイシングライン18の温度を検知し、複数ある検知結果を演算処理した平均値を温度データとして取り扱うことで、ウエハ面内のICチップの実温度測定精度を向上させることができる。
FIG. 4 is a plan view showing another embodiment of the probe card used in the IC test apparatus according to the present invention.
The difference between the embodiment shown in FIG. 4 and the embodiment shown in FIG. 3 is that the probe card 6 has a plurality of temperature sensor probes 15.
As shown in FIG. 4, the temperature of a plurality of dicing lines 18 is detected, and an average value obtained by calculating a plurality of detection results is handled as temperature data, thereby improving the actual temperature measurement accuracy of the IC chip on the wafer surface. be able to.

また、ICのチップサイズが小さい場合(例えば1辺が1mm以下のICチップなど)は、近傍のチップ間の温度差が非常に小さくなるため、一定の領域を同一温度として1ブロックと扱うこともできる。
一例として、1mm角のチップの場合で説明する。
10mm角を1ブロックとすると、そのブロック内にはICチップ100個が入る。この100個は個々に温度測定せず、同一の温度データから得たテスト条件を適応する。この方法はICチップ2個以上を同時に測定する場合に有効である。
In addition, when the chip size of the IC is small (for example, an IC chip having one side of 1 mm or less), the temperature difference between neighboring chips becomes very small, so a certain area can be treated as one block with the same temperature. it can.
As an example, a 1 mm square chip will be described.
Assuming that a 10 mm square is one block, 100 IC chips are placed in the block. These 100 pieces are not individually measured for temperature, and test conditions obtained from the same temperature data are applied. This method is effective when simultaneously measuring two or more IC chips.

図5は、ICチップA20およびICチップA’23を同時に電気特性を測定する場合の平面図である。
図5に示した実施例と図3に示した実施例との相違点は、ウエハ面内を一定領域でブロックに分け、そのブロックによりテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行う点である。
ICチップA20及びICチップA’23の一定領域としての2チップ分を1ブロックとして扱う。
ICチップA20及びICチップA’23の電気特性測定をする間に、温度センサプローブ15で 未測定ICチップB24及びICチップB’25のデータを取得し、1つのテスト条件を適応する。
温度センサプローブは前述のように複数でもよいが、2チップに対して最終的に1つの温度データを算出し、テスト条件を決定する。ICチップB24及びICチップB’25は算出された1つのデータに基づき、同一のテスト条件でテストされる。これにより、温度測定の回数削減ができ、かつ同時測定を異なるテスト条件で実施する煩雑さをなくすことができる。
FIG. 5 is a plan view when the electrical characteristics of the IC chip A20 and the IC chip A′23 are measured simultaneously.
The difference between the embodiment shown in FIG. 5 and the embodiment shown in FIG. 3 is that the wafer surface is divided into blocks in a certain area, test conditions are determined in advance by the blocks, and an electrical test is performed. is there.
Two chips as fixed areas of the IC chip A20 and the IC chip A'23 are handled as one block.
While measuring the electrical characteristics of the IC chip A20 and the IC chip A′23, the temperature sensor probe 15 acquires data of the unmeasured IC chip B24 and the IC chip B′25, and applies one test condition.
Although a plurality of temperature sensor probes may be used as described above, one temperature data is finally calculated for two chips to determine a test condition. The IC chip B24 and the IC chip B′25 are tested under the same test conditions based on the calculated one data. Thereby, the frequency | count of temperature measurement can be reduced and the complexity which implements simultaneous measurement on different test conditions can be eliminated.

図5に示す実施例においては右側ICチップのダイシングライン18に、温度センサプローブ15を接触させているが右側のICチップに限るものではない。
左、上、下、斜め、同時測定ICチップ間、隣り合わないICチップのダイシングラインに接触させても良い。
In the embodiment shown in FIG. 5, the temperature sensor probe 15 is brought into contact with the dicing line 18 of the right IC chip, but it is not limited to the right IC chip.
You may make it contact the dicing line of the IC chip which is not adjacent to the left, the upper, the lower, the diagonal, between the simultaneous measurement IC chips.

また、図5に示す実施例では温度センサプローブ1本で温度データを取得する例を示しているが、上述と同じく複数箇所のダイシングラインの温度を検知し、複数ある検知結果を演算処理した平均値を温度データとして取り扱うことで、ICチップの実温度測定精度が向上できる。   Further, in the embodiment shown in FIG. 5, the temperature data is acquired by using one temperature sensor probe. However, the average of the temperature of a plurality of dicing lines detected as described above, and a plurality of detection results is calculated. By treating the value as temperature data, the actual temperature measurement accuracy of the IC chip can be improved.

ウエハ表面温度の測定に使用する温度センサプローブとしては、精度において非接触型温度センサよりも 接触型温度センサの方が優れており、また接触有効面積が小さく安価で容易に入手可能な熱電対あるいはIC温度センサの構成にすることが望ましい。 また、確実にICチップ外の接触有効面積に接触させるには、その接触有効面積に合わせて適切な種類 およびサイズの温度センサプローブを選定することが有効である。
例えば、接触有効面積が1mm2以下の場合は熱電対、1mm2以上の場合は熱電対あるいはIC温度センサを選択することが望ましい。
これにより、ICチップを損傷することなく、精度良くICチップの実温度を測定することができる。
As a temperature sensor probe used for measuring the wafer surface temperature, the contact type temperature sensor is superior to the non-contact type temperature sensor in terms of accuracy, and a thermocouple or an easily available thermocouple with a small effective contact area. It is desirable to have an IC temperature sensor configuration. In order to ensure contact with the effective contact area outside the IC chip, it is effective to select a temperature sensor probe of an appropriate type and size according to the effective contact area.
For example, it is desirable to select a thermocouple when the effective contact area is 1 mm 2 or less, and a thermocouple or an IC temperature sensor when it is 1 mm 2 or more.
Thereby, the actual temperature of the IC chip can be accurately measured without damaging the IC chip.

〔効果の説明〕
請求項1においては、ウエハ面内のICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができる。
[Explanation of effects]
According to the first aspect of the present invention, it is possible to make an accurate pass / fail judgment based on test conditions adapted to the actual temperature of the IC chip in the wafer surface.

請求項2においては、ウエハ面内のICチップ外のダイシングラインに温度センサプローブを接触することによりICチップを損傷することなくICチップの実温度を測定することができる。   According to the second aspect of the present invention, the actual temperature of the IC chip can be measured without damaging the IC chip by bringing the temperature sensor probe into contact with the dicing line outside the IC chip in the wafer surface.

請求項3においては、ウエハ面内の複数箇所の温度を検知することにより、より正確な温度測定ができる。   According to the third aspect of the present invention, more accurate temperature measurement can be performed by detecting temperatures at a plurality of locations in the wafer surface.

請求項4においては、ウエハ面内を一定領域にブロック分けすることで請求項1のICテスト方法を簡易化することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, the IC test method of the first aspect can be simplified by dividing the wafer surface into blocks.

請求項5においては、温度センサプローブを確実にダイシングラインへ接触することで、温度測定が可能である。   According to the fifth aspect of the present invention, the temperature can be measured by reliably contacting the temperature sensor probe to the dicing line.

請求項6においては、温度センサプローブを複数個具備する事で、複数箇所の温度検知が可能である。   According to the sixth aspect, by providing a plurality of temperature sensor probes, it is possible to detect the temperature at a plurality of locations.

請求項7においては、接触有効面積に合わせて適切な温度センサプローブを選択することで、ICチップの損傷を回避することができ、精度よくICチップの実温度を測定することが可能である。   According to the seventh aspect, by selecting an appropriate temperature sensor probe according to the effective contact area, it is possible to avoid damage to the IC chip and to accurately measure the actual temperature of the IC chip.

請求項8においては、ICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   In claim 8, the actual temperature of the IC chip is determined by preliminarily determining the test conditions of the unmeasured IC chip from the temperature data obtained by contacting the temperature sensor probe around the IC chip and performing an electrical test. The test time can be shortened because accurate pass / fail judgment can be made under the test conditions adapted to the above.

請求項9においては、プローブカードが温度センサプローブを複数個具備する事で、複数箇所の温度検知が可能である。   According to the ninth aspect of the present invention, the probe card includes a plurality of temperature sensor probes, so that temperature detection at a plurality of locations is possible.

請求項10においては、接触有効面積に合わせて適切な温度センサプローブを選択することで、ICチップの損傷を回避することができ、精度よくICチップの実温度を測定することが可能である。   According to the tenth aspect, by selecting an appropriate temperature sensor probe according to the effective contact area, it is possible to avoid damage to the IC chip and to accurately measure the actual temperature of the IC chip.

請求項11においては、ウエハ面内のICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから、未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことにより、ICチップの実温度に適応したテスト条件による正確な合否判定ができるので、テスト時間を短縮することができる。   According to the eleventh aspect, the test condition of the unmeasured IC chip is determined in advance from the temperature data acquired by contacting the temperature sensor probe around the IC chip in the wafer surface, and an electrical test is performed. Since it is possible to make an accurate pass / fail determination under test conditions adapted to the actual temperature of the chip, the test time can be shortened.

請求項12においては、ウエハ面内のICチップ外のダイシングラインに温度センサプローブを接触することにより、ICチップを損傷することなくICチップの実温度を測定することができる。   According to the twelfth aspect, the actual temperature of the IC chip can be measured without damaging the IC chip by bringing the temperature sensor probe into contact with the dicing line outside the IC chip in the wafer surface.

請求項13においては、ウエハ面内の複数箇所の温度を検知することにより、より正確な温度測定ができる。   According to the thirteenth aspect, more accurate temperature measurement can be performed by detecting temperatures at a plurality of locations in the wafer surface.

本発明は、ICテスト方法、プローブカード、検査プローバー、及びICテスト装置に利用できる。   The present invention can be used for an IC test method, a probe card, an inspection prober, and an IC test apparatus.

本発明に係る検査プローバーの一実施例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows one Example of the test | inspection prober which concerns on this invention. 電気特性測定用プローブ6と温度センサプローブ15を具備した、本発明に係るプローブカード6の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the probe card 6 which comprised the probe 6 for an electrical property measurement, and the temperature sensor probe 15 based on this invention. 電気特性測定時中のICチップA20と温度測定中の未測定ICチップB21とを示す平面図である。It is a top view which shows IC chip A20 in the time of an electrical property measurement, and unmeasured IC chip B21 in temperature measurement. 本発明に係るICテスト装置に用いられるプローブカードの他の実施例を示す平面図である。It is a top view which shows the other Example of the probe card used for the IC test apparatus which concerns on this invention. ICチップA20およびICチップA’23を同時に電気特性を測定する場合の平面図である。It is a top view in the case of measuring electrical characteristics of IC chip A20 and IC chip A'23 simultaneously. 従来の高温ウエハテストあるいは低温ウエハテストで用いる検査プローバー1とLSIテスタ12との関係を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the relationship between the inspection prober 1 and LSI tester 12 which are used by the conventional high temperature wafer test or low temperature wafer test. 従来のプローブカードの平面図である。It is a top view of the conventional probe card.

符号の説明Explanation of symbols

1 検査プローバー
2 ウエハ
3 温度制御コントローラ
4、11、17 データバスケーブル
5 ヒーター及び冷却部
6 プローブカード
7 電気特性測定用プローブ
8 接続リング
9 テストボード
10 テストヘッド
12 LSIテスタ
13 ステージ
14 温度センサ
15 温度センサプローブ
16 演算器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection prober 2 Wafer 3 Temperature controller 4, 11, 17 Data bus cable 5 Heater and cooling part 6 Probe card 7 Probe for electrical property measurement 8 Connection ring 9 Test board 10 Test head 12 LSI tester 13 Stage 14 Temperature sensor 15 Temperature Sensor probe 16 Calculator

Claims (13)

ウエハを検査プローバーのステージ上に搭載し、前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブカードのプローブを接触して電気的テストを行う際に、前記ICチップの周辺に温度センサプローブを接触して取得した温度データから未測定ICチップのテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことを特徴とするICテスト方法。   When a wafer is mounted on an inspection prober stage and an electrical test is performed by contacting a probe of a probe card to each electrode of the IC chip within the wafer surface, a temperature sensor probe is brought into contact with the periphery of the IC chip. An IC test method characterized in that a test condition for an unmeasured IC chip is determined in advance from the temperature data acquired in this manner and an electrical test is performed. 請求項1記載のICテスト方法において、
前記温度センサプローブをダイシングラインに接触させて温度測定を行うことを特徴とするICテスト方法。
The IC test method according to claim 1, wherein
An IC test method, wherein the temperature is measured by bringing the temperature sensor probe into contact with a dicing line.
請求項2記載のICテスト方法において、
前記ダイシングラインの複数箇所に複数の温度センサプローブを接触させて温度測定を行うことを特徴とするICテスト方法。
The IC test method according to claim 2, wherein
An IC test method, wherein temperature measurement is performed by bringing a plurality of temperature sensor probes into contact with a plurality of locations on the dicing line.
請求項1記載のICテスト方法において、
ウエハ面内を一定領域でブロックに分け、そのブロックによりテスト条件を事前に決定し、電気的テストを行うことを特徴とするICテスト方法。
The IC test method according to claim 1, wherein
An IC test method characterized in that a wafer surface is divided into blocks in a predetermined area, test conditions are determined in advance based on the blocks, and an electrical test is performed.
検査プローバー上に搭載されたウエハ面内のICチップの各電極に接触して電気的テストを行うプローブと、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブとを具備したことを特徴とするプローブカード。   A probe for performing an electrical test by contacting each electrode of an IC chip in a wafer surface mounted on an inspection prober, and a temperature sensor probe for obtaining temperature data by contacting a dicing line in the wafer surface; A probe card comprising: 請求項5記載のプローブカードにおいて、
前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とするプローブカード。
The probe card according to claim 5, wherein
A probe card comprising a plurality of the temperature sensor probes.
請求項5または6記載のプローブカードにおいて、
前記温度センサプローブは、接触により温度測定が出来る熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とするプローブカード。
The probe card according to claim 5 or 6,
The probe card according to claim 1, wherein the temperature sensor probe is a thermocouple or IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact.
ウエハを搭載するステージと、前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードとを備えた検査プローバーにおいて、
前記プローブカードに設けられ、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、該温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とする検査プローバー。
In an inspection prober comprising a stage for mounting a wafer, and a probe card for bringing a probe into contact with each electrode of an IC chip in the wafer surface,
A temperature sensor probe provided on the probe card for obtaining temperature data by contacting a dicing line in the wafer surface, and an arithmetic unit for processing a signal from the temperature sensor probe. Inspection prober.
請求項8記載の検査プローバーにおいて、
前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とする検査プローバー。
The inspection prober according to claim 8.
An inspection prober comprising a plurality of the temperature sensor probes.
請求項8または9記載の検査プローバーにおいて、
前記温度センサプローブは、接触により温度測定が出来る熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とする検査プローバー。
The inspection prober according to claim 8 or 9,
The inspection prober according to claim 1, wherein the temperature sensor probe is configured as a thermocouple or IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact.
ウエハを搭載するステージ及び前記ウエハ面内のICチップの各電極にプローブを接触させるプローブカードを有する検査プローバーと、該検査プローバーからの前記ICチップの信号を解析するICテスターとを備えたICテスト装置において、
前記プローブカードに設けられ、前記ウエハ面内のダイシングラインに接触して温度データを取得するための温度センサプローブと、該温度センサプローブからの信号を演算処理する演算器とを具備したことを特徴とするICテスト装置。
An IC test comprising an inspection prober having a stage on which a wafer is mounted, a probe card for bringing a probe into contact with each electrode of the IC chip in the wafer surface, and an IC tester for analyzing the signal of the IC chip from the inspection prober In the device
A temperature sensor probe provided on the probe card for obtaining temperature data by contacting a dicing line in the wafer surface, and an arithmetic unit for processing a signal from the temperature sensor probe. IC test equipment.
請求項11記載のICテスト装置において、
前記温度センサプローブを複数個具備したことを特徴とするICテスト装置。
The IC test apparatus according to claim 11, wherein
An IC test apparatus comprising a plurality of the temperature sensor probes.
請求項11または12記載のICテスト装置において、
前記温度センサプローブは、接触により温度測定が出来る熱電対あるいはIC温度センサの構成となっていることを特徴とするICテスト装置。
The IC test apparatus according to claim 11 or 12,
2. The IC test apparatus according to claim 1, wherein the temperature sensor probe is configured as a thermocouple or IC temperature sensor capable of measuring temperature by contact.
JP2006043825A 2006-02-21 2006-02-21 IC test method Expired - Fee Related JP5008877B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006043825A JP5008877B2 (en) 2006-02-21 2006-02-21 IC test method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006043825A JP5008877B2 (en) 2006-02-21 2006-02-21 IC test method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007227444A true JP2007227444A (en) 2007-09-06
JP5008877B2 JP5008877B2 (en) 2012-08-22

Family

ID=38549001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006043825A Expired - Fee Related JP5008877B2 (en) 2006-02-21 2006-02-21 IC test method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5008877B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014089105A (en) * 2012-10-30 2014-05-15 Mitsubishi Electric Corp Evaluation device and method of evaluating semiconductor element
US9599663B2 (en) 2013-03-08 2017-03-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Probing method, probe card for performing the method, and probing apparatus including the probe card
CN108507705A (en) * 2018-07-04 2018-09-07 上海捷策创电子科技有限公司 A kind of chip temperature measuring equipment
KR20200083244A (en) * 2018-12-28 2020-07-08 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Temperature measurement member, inspection apparatus, and temperature measurement method
CN116295933A (en) * 2023-05-15 2023-06-23 上海泽丰半导体科技有限公司 Probe card temperature measurement system and temperature measurement method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5776852A (en) * 1980-10-30 1982-05-14 Nec Corp Card for probe
JPH04115545A (en) * 1990-09-05 1992-04-16 Mitsubishi Electric Corp Probe card
JPH06349909A (en) * 1993-06-14 1994-12-22 Hitachi Ltd Probe inspection device
JPH0774218A (en) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Corp Test method of ic and its probe card
JPH11126807A (en) * 1997-10-23 1999-05-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for inspecting semiconductor integrated circuit
JPH11145218A (en) * 1997-11-07 1999-05-28 Nec Corp High and low temperature prober and wafer measuring method
JP2003273176A (en) * 2002-03-14 2003-09-26 Seiko Epson Corp Inspection device, inspection method and inspection program
JP2004356597A (en) * 2003-05-30 2004-12-16 Sharp Corp Inspection method of semiconductor chip, and probe card used for the same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5776852A (en) * 1980-10-30 1982-05-14 Nec Corp Card for probe
JPH04115545A (en) * 1990-09-05 1992-04-16 Mitsubishi Electric Corp Probe card
JPH06349909A (en) * 1993-06-14 1994-12-22 Hitachi Ltd Probe inspection device
JPH0774218A (en) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Corp Test method of ic and its probe card
JPH11126807A (en) * 1997-10-23 1999-05-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for inspecting semiconductor integrated circuit
JPH11145218A (en) * 1997-11-07 1999-05-28 Nec Corp High and low temperature prober and wafer measuring method
JP2003273176A (en) * 2002-03-14 2003-09-26 Seiko Epson Corp Inspection device, inspection method and inspection program
JP2004356597A (en) * 2003-05-30 2004-12-16 Sharp Corp Inspection method of semiconductor chip, and probe card used for the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014089105A (en) * 2012-10-30 2014-05-15 Mitsubishi Electric Corp Evaluation device and method of evaluating semiconductor element
US9599663B2 (en) 2013-03-08 2017-03-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Probing method, probe card for performing the method, and probing apparatus including the probe card
CN108507705A (en) * 2018-07-04 2018-09-07 上海捷策创电子科技有限公司 A kind of chip temperature measuring equipment
KR20200083244A (en) * 2018-12-28 2020-07-08 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Temperature measurement member, inspection apparatus, and temperature measurement method
US11293814B2 (en) 2018-12-28 2022-04-05 Tokyo Electron Limited Temperature measurement member, inspection apparatus, and temperature measurement method
KR102411561B1 (en) * 2018-12-28 2022-06-21 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Temperature measurement member, inspection apparatus, and temperature measurement method
CN116295933A (en) * 2023-05-15 2023-06-23 上海泽丰半导体科技有限公司 Probe card temperature measurement system and temperature measurement method
CN116295933B (en) * 2023-05-15 2023-08-08 上海泽丰半导体科技有限公司 Probe card temperature measurement system and temperature measurement method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5008877B2 (en) 2012-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7183783B2 (en) Method and apparatus for pad aligned multiprobe wafer testing
JP5008877B2 (en) IC test method
JP2006038599A (en) Contact resistance measuring method, contact resistance measuring device and semiconductor wafer
US9442156B2 (en) Alignment support device and alignment support method for probe device
JP2007189229A (en) Method for verifying abnormal probe card
JP2008071999A (en) Semiconductor device, inspection method therefor, and inspection method for inspecting apparatus of semiconductor device
US7187164B2 (en) Apparatus for calibrating a probe station
JP2008108930A (en) Inspection method of semiconductor device and probe card
JPH04207047A (en) Inspection apparatus
JPH0774218A (en) Test method of ic and its probe card
JP6157270B2 (en) Probe apparatus and probe method
JP2004342676A (en) Method and device for inspecting semiconductor wafer
JP2001141789A (en) Semiconductor and good/defective product identification device for the same
KR20080024002A (en) Wafer testing apparatus and method for processing thereof
TWI745829B (en) Semiconductor device and detecting method of needle mark offset
KR100787742B1 (en) Probe card cognition apparatus and probe card cognition method using the same
JP3995800B2 (en) Inspection method of semiconductor device
KR100615086B1 (en) Semiconductor wafer chip inspection system and method there of
JP2007157955A (en) Probe card, and measuring method and inspection apparatus using same
KR100797318B1 (en) Contact resistance measurement device and process for probe card needle
KR0127639B1 (en) Probing test method and apparatus
JP2007214392A (en) Semiconductor wafer and wafer-probing method
KR100265854B1 (en) A device and a method for estimating electrical characteristic of wafer
JPH0346246A (en) Inspecting device
CN113284815A (en) Semiconductor device and method for detecting pin mark offset

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090116

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110803

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120529

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120530

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150608

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees