JP2007227289A - Electrooptic device, method of manufacturing same and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、バンクで囲まれた画素領域に発光層などの薄膜を形成した構成の電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置を搭載した電子機器に関する。 The present invention relates to an electro-optical device having a structure in which a thin film such as a light-emitting layer is formed in a pixel region surrounded by a bank, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus equipped with the electro-optical device.
従来、電気光学装置である有機EL表示装置に用いられる有機EL(Electro Luminescence)素子は、バンクで仕切られた画素領域のそれぞれへ、インクジェットヘッドから有機EL材料を含むインク(溶液)を液滴状態で吐出するインクジェット方式によって、発光層を形成していた。その際、インクジェットヘッドは、画素領域へインクを複数回に分けて吐出し、各画素領域の発光層が均一な膜厚となるように配慮されていた。さらに、複数回のインク吐出において、吐出したインクを次のインクの吐出前に乾燥させることや、吐出する液滴の大きさ、インクの組成、インクの濃度などを変えることなどにより、発光層の膜厚が不均一になることを抑制していた。正孔輸送層も、インクジェットヘッドによって、同様に形成していた(たとえば特許文献1)。 2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL (Electro Luminescence) element used in an organic EL display device that is an electro-optical device is a droplet state of ink (solution) containing an organic EL material from an inkjet head to each of pixel regions partitioned by banks. The light emitting layer was formed by the ink jet method that is discharged in the above. At that time, the ink jet head discharges the ink to the pixel region in a plurality of times, and consideration is given to the light emitting layer in each pixel region having a uniform film thickness. Furthermore, in a plurality of times of ink ejection, the ejected ink is dried before the next ink ejection, or the size of the ejected droplet, the composition of the ink, the ink concentration, etc. The film thickness was prevented from becoming non-uniform. The hole transport layer was similarly formed by an inkjet head (for example, Patent Document 1).
図5は、従来の一般的な有機EL表示装置を示す断面図である。有機EL表示装置100は、ガラス基板101と、ガラス基板101の一方の表面上に形成された複数のスイッチング素子102と、スイッチング素子102を覆うように形成された絶縁層103と、絶縁層103上に形成されスイッチング素子102と導通している複数の画素電極104と、複数の画素電極104の間に形成された無機バンク105aおよび有機バンク105bからなるバンク105と、画素電極104上に形成された正孔輸送層106と、正孔輸送層106上に形成された発光層107と、発光層107およびバンク105を覆うように設けられた対向電極108と、を有する。さらに、対向電極108に対向して封止基板109が配置され、対向電極108と封止基板109との間に不活性ガス110が封入されている。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional general organic EL display device. The organic
このような構成において、バンク105で仕切られた画素領域111へ赤、青、緑の発光層107をインクジェット方式によって形成すれば、カラー表示が可能な有機EL表示装置100となる。この場合、バンク105の側壁面105cは、画素電極104に対して直角または画素領域111の外側方向へ傾斜した鈍角をなしている。また、側壁面105cは、親インク性に形成されており、画素領域111に塗布されたインクは、側壁面105cにまで濡れ広がり、画素領域111の全域に行き渡る。なお、画素電極104、バンク105、正孔輸送層106、発光層107、対向電極108によって構成された部分が、有機EL素子112に該当し、ガラス基板101、スイッチング素子102、絶縁層103によって、EL基板113が構成されている。
In such a configuration, when the red, blue, and green
しかし、従来の技術では、バンク105の親インク性により、インクがバンク105の側壁面105cを表面張力によって濡れ広がってしまい、画素領域111のバンク105の近傍では、インクが引き寄せられてインク表面が曲状をなす。そのため、バンク105の近傍のインク厚と画素領域111の中央部のインク厚とが異なるという現象が生じていた。この現象において、インクジェットヘッドから複数回吐出するそれぞれの回のインク量を少なくして、膜厚を薄く形成するほど、バンク105の近傍のインク厚と画素領域111の中央部のインク厚との厚みの差を少なくできるが、厚み差を解消するまでには至っていない。このため、厳密には、画素領域111内のインク厚が不均一となり、画素領域111の発光層107から均一な発光がなされないという課題が残っていた。
However, according to the conventional technique, due to the affinity of the
本発明は、上記課題を解決するために、画素領域から均一な発光が可能である電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。 In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus that can emit light uniformly from a pixel region.
本発明の電気光学装置は、基板の表面に形成されたバンクと、バンクにより規定された画素領域と、を有し、画素領域のバンク表面側の開口径は、画素領域の基板側のバンクの開口径よりも小さく、また、バンクの側壁面は、画素領域内の基板に平行な面の面積が基板の側から規定の高さ方向へかけて順次小さくなるような傾斜を有していることを特徴とする。 The electro-optical device of the present invention includes a bank formed on the surface of the substrate, and a pixel region defined by the bank, and the opening diameter on the bank surface side of the pixel region is equal to that of the bank on the substrate side of the pixel region. It is smaller than the opening diameter, and the side wall surface of the bank has an inclination so that the area of the surface parallel to the substrate in the pixel region becomes gradually smaller from the substrate side toward the specified height direction. It is characterized by.
この電気光学装置によれば、画素領域の大きさを規定するバンクの側壁面が基板に対して鋭角をなして画素領域の内側方向に傾斜している。つまり、側壁面の傾斜は、いわゆる逆テーパーの形状となっている。電気光学装置では、通常、側壁面に囲まれた画素領域へ、所定の溶液が塗布される。塗布された溶液は、基板と逆テーパーの側壁面とがなす鋭角の部分へ、溶液が毛細管現象によって引き込まれて画素領域の全域に広がって行く。この時、上部から見ると、バンク表面側の開口径より逆テーパーの側壁面側のエリアにおいて、溶液と側壁部の影響による膜厚の曲状部が生じる。しかし、画素領域による表示は、曲状部がおさまった画素領域の中央部から側壁面近傍までの平滑な面であるバンク表面側の開口径を使う為、曲状部の影響を受けない。これにより、画素領域のバンク表面側の開口径に塗布された溶液による膜は、基板に対して均一な膜厚を有しており、従って、この溶液の膜を乾燥させれば、基板の表面にほぼ均一な厚さの機能膜を形成することが可能である。たとえば、機能膜が通過した光を着色して透過させるタイプの電気光学装置であれば、着色の濃淡の無い透過光が得られ、機能膜が所定の色を発光するタイプの電気光学装置であれば、明るさの強弱の無い発光色の光が得られる。 According to this electro-optical device, the side wall surface of the bank that defines the size of the pixel region is inclined toward the inner side of the pixel region at an acute angle with respect to the substrate. That is, the inclination of the side wall surface has a so-called reverse taper shape. In an electro-optical device, a predetermined solution is usually applied to a pixel region surrounded by a side wall surface. The applied solution is drawn into the acute angle portion formed by the substrate and the side wall surface of the reverse taper by the capillary phenomenon and spreads over the entire pixel region. At this time, when viewed from above, a curved portion having a film thickness due to the influence of the solution and the side wall portion is generated in the area on the side wall surface side of the reverse taper from the opening diameter on the bank surface side. However, the display by the pixel region is not affected by the curved portion because it uses the opening diameter on the bank surface side, which is a smooth surface from the central portion of the pixel region where the curved portion is subsided to the vicinity of the side wall surface. Thereby, the film of the solution applied to the opening diameter on the bank surface side of the pixel region has a uniform film thickness with respect to the substrate. Therefore, if this solution film is dried, the surface of the substrate It is possible to form a functional film having a substantially uniform thickness. For example, if the electro-optical device is of a type that transmits and transmits light that has passed through the functional film, the electro-optical device may be of a type that can obtain transmitted light that is not colored and the functional film emits a predetermined color. In this case, light of emission color having no brightness level can be obtained.
この場合、側壁面の傾斜は、画素領域を囲むいずれの位置においても基板に対して略均一であることが好ましい。 In this case, the inclination of the side wall surface is preferably substantially uniform with respect to the substrate at any position surrounding the pixel region.
この構成によれば、側壁面の逆テーパーである傾斜が画素領域を囲んでいる全周域でほぼ同一角度である。このような側壁面で囲まれた画素領域へ塗布された溶液は、基板と側壁面とがなす鋭角の部分へ毛細管現象によって引き込まれる力が、いずれの方向においても均一となる。さらに、溶液の側壁面に対する曲状部も全周域において均一になり、毛細管現象による均一な引き込み力と相まって、画素領域の中央部から側壁面近傍までの溶液の表面がよりいっそう平滑な面となる。このような溶液の膜を形成可能であるため、着色の濃淡の無い透過光や強弱の無い発光色の光を有する電気光学装置の提供が可能である。 According to this configuration, the inclination that is the reverse taper of the side wall surface is substantially the same angle in the entire peripheral region surrounding the pixel region. In the solution applied to the pixel region surrounded by such a side wall surface, the force drawn by the capillary phenomenon to the acute angle portion formed by the substrate and the side wall surface becomes uniform in any direction. Furthermore, the curved portion with respect to the side wall surface of the solution is also uniform in the entire peripheral region, and coupled with the uniform pulling force due to capillary action, the surface of the solution from the central portion of the pixel region to the vicinity of the side wall surface becomes a smoother surface. Become. Since a film of such a solution can be formed, it is possible to provide an electro-optical device having transmitted light with no colored shading and light with a luminescent color without intensity.
また、画素領域は、発光層と正孔輸送層との積層を有し、また、少なくともバンクの側壁面は親液性を有することが好ましい。 The pixel region preferably includes a stack of a light emitting layer and a hole transport layer, and at least the side wall surface of the bank is preferably lyophilic.
この構成によれば、発光層と正孔輸送層とを有する複数の画素領域がそれぞれ発光することにより、所定の表示をすることが可能である。また、画素領域から発光層が自発光するため、外部光が不要であり、外部光の影響を受け難い表示が可能である。さらに、少なくともバンクの側壁部は親液性を有しているため、発光層と正孔輸送層を形成する溶液がバンクへ引き寄せられ、バンクに囲まれた画素領域の全域に広がり易くなる。 According to this configuration, a predetermined display can be performed by emitting light from each of the plurality of pixel regions having the light emitting layer and the hole transport layer. In addition, since the light-emitting layer emits light from the pixel region, external light is unnecessary and display that is not easily affected by external light is possible. Furthermore, since at least the side wall of the bank is lyophilic, the solution that forms the light emitting layer and the hole transport layer is attracted to the bank and easily spreads over the entire pixel region surrounded by the bank.
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に画素領域を規定するためのバンクを形成するための材料としてのネガレジストを形成する工程と、バンクとなる領域が露光されるようにマスク合わせをする工程と、ネガレジストを露光する工程と、ネガレジストを現像液により現像する工程と、を有し、ネガレジストを露光する条件は、ネガレジストの表面近傍よりもネガレジストの基板近傍の方が現像液で現像されやすい条件であることを特徴とする。 The method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes a step of forming a negative resist as a material for forming a bank for defining a pixel region on a substrate, and a mask alignment so that the region to be the bank is exposed. A step of exposing the negative resist, and a step of developing the negative resist with a developer. The conditions for exposing the negative resist are closer to the substrate of the negative resist than to the vicinity of the surface of the negative resist. Is characterized by being easily developed with a developer.
この電気光学装置の製造方法によれば、ネガレジストの表面近傍よりもネガレジストの基板近傍の方が現像液で現像されやすいように構成してあるため、表面側よりも基板側がより多く現像される。従って、バンクの側壁面を規定するネガレジストの面は、テ―パ―状に形成される。この方法によれば、現像するだけで、容易にテーパー形状を有するバンクが形成可能である。 According to this method of manufacturing an electro-optical device, the substrate side of the negative resist is more easily developed with the developer than the surface of the negative resist, so that the substrate side is developed more than the surface side. The Accordingly, the negative resist surface defining the bank side wall surface is formed in a taper shape. According to this method, it is possible to easily form a bank having a tapered shape only by development.
この場合、画素領域のバンク表面側の開口径は、画素領域の基板側のバンクの開口径よりも小さくなるように形成し、バンクの側壁面は、画素領域内の基板に平行な面の面積が基板の側から規定の高さ方向へかけて順次小さくなるような傾斜を有するように形成することが好ましい。 In this case, the opening diameter on the bank surface side of the pixel region is formed so as to be smaller than the opening diameter of the bank on the substrate side of the pixel region, and the side wall surface of the bank is an area of a plane parallel to the substrate in the pixel region. Is preferably formed so as to have a slope that gradually decreases from the substrate side toward the specified height direction.
この方法によれば、画素領域の大きさを規定するバンクの側壁面が基板に対して鋭角をなして画素領域の内側方向に傾斜しており、いわゆる逆テーパーの形状である。電気光学装置では、側壁面に囲まれた画素領域へ所定の溶液が塗布され、基板と逆テーパーの側壁面とがなす鋭角の部分へ、溶液が毛細管現象によって引き込まれて、画素領域の全域に広がって行く。この場合、上部から見るとバンク表面側の開口径より逆テーパーの側壁面のエリアにおいて、溶液と側壁部の影響による膜厚の曲状部が生じる。しかし、画素領域による表示は、曲状部がおさまった画素領域の中央部から側壁面近傍までの平滑な面であるバンク表面側の開口径を使う為、曲状部の影響を受けることがなく、均一な表示を提供可能である。 According to this method, the side wall surface of the bank that defines the size of the pixel region is inclined toward the inner side of the pixel region at an acute angle with respect to the substrate, and has a so-called reverse taper shape. In the electro-optical device, a predetermined solution is applied to the pixel region surrounded by the side wall surface, and the solution is drawn into the acute angle portion formed by the substrate and the side wall surface of the reverse taper by a capillary phenomenon, so that the entire region of the pixel region is drawn. Spread out. In this case, when viewed from above, a curved portion having a film thickness due to the influence of the solution and the side wall portion is generated in the area of the side wall surface having a reverse taper than the opening diameter on the bank surface side. However, since the display by the pixel area uses the opening diameter on the bank surface side which is a smooth surface from the center of the pixel area where the curved part is subsided to the vicinity of the side wall surface, it is not affected by the curved part. Can provide a uniform display.
以下、本発明の電気光学装置を具体化した実施形態について図面に従って説明する。実施形態では、電気光学装置として、カラーの表示が可能な有機EL(Electro Luminescence)表示装置を例にして説明する。
(実施形態)
Hereinafter, embodiments of the electro-optical device according to the invention will be described with reference to the drawings. In the embodiment, an organic EL (Electro Luminescence) display device capable of color display will be described as an example of the electro-optical device.
(Embodiment)
図1は、本発明の有機EL表示装置の基板構造を示す断面図である。図1の一部の符号において、図5に示す従来の有機EL表示装置と共通する部分は、同一の符号を割り振ってある。また、図1は、本発明のポイントとなる有機EL素子部を主に描いてある。図1に示すように、有機EL表示装置1は、EL基板(基板)113の表面に形成された複数の画素電極104と、複数の画素電極104の間に形成された無機バンク5aおよび無機バンク5aに重ねて形成された有機バンク5bからなるバンク5と、を有する。バンク5は、画素電極104のそれぞれを取り囲むように形成されており、バンク5によって囲まれた領域が画素領域7である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a substrate structure of an organic EL display device of the present invention. In the part of the reference numerals in FIG. 1, the same reference numerals are assigned to the parts common to the conventional organic EL display device shown in FIG. Further, FIG. 1 mainly shows an organic EL element portion which is a point of the present invention. As shown in FIG. 1, the organic
そして、有機EL表示装置1は、画素領域7の画素電極104に重ねて形成された正孔輸送層2と、正孔輸送層2の上に重ねて形成された発光層3と、発光層3およびバンク5の有機バンク5bの両方を覆うように設けられた対向電極4と、を有する。さらに、対向電極4に対向する位置に封止基板109が配置され、対向電極4と封止基板109との間に、発光層3および正孔輸送層2の発光機能が水分等の吸着によって劣化することを防ぐために、不活性ガス110が封入されている。
The organic
なお、画素電極104、バンク5、正孔輸送層2、発光層3、対向電極4によって構成された部分が、有機EL素子6である。また、EL基板113は、詳細には、図5に示すように、ガラス基板101と、ガラス基板101の一方の表面上に形成された複数のスイッチング素子102と、スイッチング素子102を覆うように形成されたSiO2の絶縁層103と、を有し、スイッチング素子102がEL基板113の絶縁層103上に形成された画素電極104と導通している。
Note that a portion constituted by the
このような構成の有機EL表示装置1において、画素電極104は、ITO(Indium Tin Oxide)によって形成された陽極となる透明電極であり、対向電極4は、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、カルシウム(Ca)、マグネシウム(Mg)、リチューム(Li)などの金属で形成される陰極であり、ここでは、Ca/Alを用いてCaを20nm、Alを150nmの厚みに形成した。これら画素電極104および対向電極4は、共に蒸着法にて、形成した。封止基板109には、ガラス基板を用いた。
In the organic
画素電極104の間に形成される無機バンク5aは、TiO2、SiO2などを用いて、40nmの厚みに形成される。有機EL表示装置1では、TiO2をEL基板113および画素電極104の上に蒸着法で形成し、正孔輸送層2を形成する画素電極104の部分のみエッチングにて除去して設けた。バンク5の厚み(高さ)は、有機バンク5bと合わせて2μmに形成した。
The
この有機バンク5bの側壁面5cは、EL基板113に対して鋭角をなし、いわゆる逆テーパーの形状で画素領域7の内側方向へ傾斜している。つまり、画素領域7内において、EL基板113の側に位置する正孔輸送層2のEL基板113に平行な面積よりも、正孔輸送層2の上に積層された発光層3のEL基板113に平行な面積が小さくなっている。有機バンク5bの形成については、図3を参照して後述する。
The
また、有機EL表示装置1の各画素領域7は、正孔輸送層2および発光層3により、赤、緑、青のいずれかの色を発光可能な構成である。そのために、正孔輸送層2の構成材料(正孔輸送材料)として、この場合、いずれの画素領域7においても、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンを用い、90nmの厚さに形成した。発光層3の構成材料(有機EL材料)は、赤色を発光する画素領域7へ、励起すると赤色に発光するシアノポリフェニレンビニレンを用い、緑色を発光する画素領域7へ、励起すると緑色に発光するポリフェニレンビニレンを用い、青色を発光する画素領域7へ、励起すると青色に発光するポリアルキルフェニレンとポリフェニレンビニレンとの混合材料を用い、それぞれ40nmの厚さに形成した。
Each
画素領域7に形成した画素電極104、正孔輸送層2、発光層3および対向電極4において、画素電極104が陽極、対向電極4が陰極となるように、スイッチング素子102によって電荷を付与すると、陽極側の正孔輸送層2から正孔が発光層3へ注入され、陰極側から電子が発光層3へ注入される。発光層3では、注入された正孔と電子とが結合し、結合する際に生じる結合エネルギーによって、発光層3の有機分子が励起して赤、緑、青のいずれかの色を発光する。発光された光は、エッチングにて無機バンク5aが除去され画素電極104に形成された発光領域8よりEL基板113を透過して、有機EL表示装置1から放射される。この場合、発光される光は、正孔輸送層2および発光層3が均一な厚みであるほど、色の濃淡、明るさの強弱のない均一なものとなる。
In the
従って、これら発光の主体となる正孔輸送層2および発光層3は、構成材料を含む溶液を、インクジェット装置のインクジェットヘッドから画素領域7へ吐出し、吐出後に乾燥して形成されることが望ましい。インクジェット装置は、溶液を微細な液滴状態にしてインクジェットノズルから吐出し、画素領域7のいかなる形状にも合わせて、均一に溶液を配置することが可能である。そのため、一旦、画素領域7およびバンク5へ溶液を塗布しておいて、不要な部分を除去する場合のように、溶液を無駄に消費することがなく、高価な溶液の効率的な使用を図れる。インクジェット装置による正孔輸送層2および発光層3の形成について、本発明の逆テーパーの側壁面5cを有するバンク5と、非逆テーパーの側壁面105cを有するバンク105との場合を比較して、次に説明する。
Therefore, it is desirable that the
図2(a)は、逆テーパーのバンクにおける溶液の膜形成を示す断面図である。図2(b)は、非逆テーパーのバンクにおける溶液の膜形成を示す断面図である。図2(a)に示すように、有機バンク5bは、逆テーパー面の側壁面5cと封止面5dとを有しており、側壁面5cには、親液性の処理が施され、封止面5dには、撥液処理が施されている。図2(a)は、インクジェット装置10によって、バンク5の側壁面5cに囲まれた画素領域7に正孔輸送層2が形成される場合である。正孔輸送層2は、無機バンク5aがエッチングにて除去された画素電極104の開口部(基板側のバンクの開口径)20へ均一に形成しなくてはならない。ここで、開口部20は、発光領域8の大きさを規定する。
FIG. 2A is a cross-sectional view showing film formation of a solution in a reverse taper bank. FIG. 2B is a cross-sectional view showing the film formation of the solution in the non-inverted taper bank. As shown in FIG. 2A, the
正孔輸送層2の形成は、まず、インクジェット装置10のインクジェットヘッド11を画素領域7の位置へ移動させ、インクジェットヘッド11から、正孔輸送層2を形成する溶液の微細な液滴12を吐出する。吐出された液滴12は、無機バンク5aおよび画素電極104の開口部20に着弾して、着弾後、画素領域7の全域へ広がっていく。側壁面5cに到達した溶液(液滴)は、側壁面5cと無機バンク5aとで鋭角状に形成されているバンク基部14の方向へ、毛細管現象による引込力15によって引き込まれる。そのため、溶液は、充填し難い画素領域7の側壁面5cの近傍へも容易に広がって充填し、画素領域7の全域へ正孔輸送層2を充填可能である。
The
また、溶液が親液性の側壁面5cに沿って濡れるため、溶液の側壁面5cとの接触部が表面張力により曲状になり、接触部では、厚みが厚くなる。しかし、側壁面5cが逆テーパーであるため、無機バンク5a上のバンク基部14から開口部20までの距離が、逆テーパーではない側壁面105cの場合に比して長く設定でき、その長さ分だけさらに、曲状部が開口部20へかかることを防止可能となる。そして、毛細管現象により、溶液が側壁面5cの方向へ引き込まれることで、画素領域7に溶液が十分に充填され、開口部20の中央部における溶液の表面13が安定した平滑な面になる。即ち、開口部20に形成される正孔輸送層2が、均一な厚みとなる。
In addition, since the solution is wetted along the lyophilic
このように、逆テーパーの側壁面5cに囲まれた画素領域7へ、正孔輸送層2を形成する溶液の液滴を吐出して、正孔輸送層2を形成することにより、均一な厚みの正孔輸送層2が得られる。インクジェット装置10による溶液の吐出を複数回に分けて、一回で吐出する溶液の量を少なくすれば、曲状部の影響を少なくして、より均一な厚みの正孔輸送層2が得られる。同様にして、正孔輸送層2に積層して、発光層3を均一に形成することが可能である。開口部20において、正孔輸送層2および発光層3が均一な厚みに形成されているため、開口部20から放射される光は、色の濃淡、明るさの強弱のないものである。これら正孔輸送層2および発光層3の各部分の厚みは、プラスマイナス5%以内の誤差で形成可能であった。
Thus, the
参考として、バンク5の側壁面5cが逆テーパー形状でない場合について、簡単に説明する。図2(b)に示すバンク105は、図5に示した有機EL表示装置100のものである。図2(a)を参照して説明したのと同様に、まず、インクジェットヘッド11から正孔輸送層106を形成する溶液の液滴12を、画素領域111へ吐出する。吐出された液滴12は、画素電極104の開口部115に着弾して、着弾後、画素領域111の全域へ広がっていき、親液性の側壁面105cに沿って濡れるため、側壁面105cとの接触部が表面張力により曲状になる。この時、側壁面105cは、図2(a)で説明した側壁面5cのような逆テーパーではないため、逆テーパーである場合に比して、表面張力による側壁面105cへの濡れ広がりが大きく、それに伴って曲状部の曲率が大きくなる。その結果、開口部115における溶液の表面16も曲状になり易く、平滑な溶液の表面16が得られ難い。
As a reference, the case where the
この傾向は、インクジェット装置10による溶液の吐出を複数回に分けて、一回で吐出する溶液の量を少なくしても、曲状部の影響を排除することができず、均一な厚みの正孔輸送層106を得ることは困難である。同様に、正孔輸送層106に積層して形成する、発光層107も、均一に形成することが困難である。従って、開口部115から放射される光は、色の濃淡、明るさの強弱が生じた不均一なものになり易い。
This tendency is caused by dividing the discharge of the solution by the
次に、逆テーパーの側壁面5cを有する有機バンク5bの形成方法について説明する。本実施形態では、有機バンク5bをフォトリソグラフィ法を用いて形成する。図3は、逆テーパーのバンクの形成工程を示す断面図であって、図3(a)は、逆テーパーのバンクの形成工程におけるネガレジストの形成を示す断面図である。また、図3(b)は、逆テーパーのバンクの露光工程を示す断面図、図3(c)は、逆テーパーのバンクの現像工程を示す断面図である。この側壁面5cを有する有機バンク5bは、EL基板113の表面に画素電極104および無機バンク5aを形成した後に、無機バンク5aに重ねて形成される。
Next, a method of forming the
側壁面5cを有する有機バンク5bの形成は、まず、図3(a)に示すように、画素電極104および無機バンク5aに積層するようにネガレジスト21をスピンコートによって塗布して、オーブン炉等で焼成する(ネガレジストを形成する工程)。ここでは、ネガレジスト21として、プロピレングリコールおよびモノエチルエーテルアセテートを有する東京応化工業社製TELR−N101PMを用いた。
The
次に、図3(b)に示すように、ネガレジスト21を覆うようにガラスマスク(マスク)22をセットし、ネガレジスト21に対して紫外線を露光する(露光する工程)。ガラスマスク22は、遮光部22aと透過部22bとを有し、遮光部22aでは露光光が遮られ、透過部22bでは露光光が透過する。ネガレジスト21は、紫外線が露光される透過部22bにおいて、架橋反応が起こり、重合して硬化する。これがネガレジスト21の露光部23である。一方、紫外線が露光されない遮断部22aにおいては、架橋反応が起こらない。ネガレジスト21は、後述する現像液による現像で溶解するが、露光によって硬化した露光部23は、現像によって溶解されない。つまり、露光部23が、有機バンク5bとなる。なお、露光前に、ネガレジスト21の有機バンク5bが形成される部分へガラスマスク22の透過部22bが位置するように、ガラスマスク22のアライメントを調整しておくことが必要である(マスク合わせをする工程)。
Next, as shown in FIG. 3B, a glass mask (mask) 22 is set so as to cover the negative resist 21, and the negative resist 21 is exposed to ultraviolet rays (exposure step). The
このとき、ネガレジスト21の露光部23の形状が、いわゆる逆テーパ形状となるように露光条件を設定する。露光部23の形状を逆テーパ形状にするには、露光される部分のネガレジスト21のガラスマスク22側を、当該ネガレジスト21が十分に架橋する程度の露光量となるようにし、無機バンク5aの側では、ネガレジスト21の架橋度がある程度低くなるようにする。つまり、透過部22bの近傍のネガレジスト21は、EL基板113と平行な方向の幅全域が露光されて、露光部23となるが、ネガレジスト21の無機バンク5aの側に近い部分ほど、露光されにくく架橋度が下がる。さらに、露光部23の無機バンク5aの側において、透過部22bの中央部より遮光部22aの非露光部に近いほど、露光される量が減少し架橋度が下がる。つまり、露光部23の概形状は、ガラスマスク22の透過部22bの部分を底辺とし、無機バンク5aの側を頂点方向とする略逆三角形をなしている。
At this time, the exposure conditions are set so that the shape of the
所定の露光部23が得られた後、図3(c)に示すように、露光されていないネガレジスト21を現像して除去する(現像する工程)。現像液としては、東京応化工業社製NMD−Wアルカリ現像液を用いた。これで、ネガレジスト21による逆テーパーの側壁面5cを有する有機バンク5bの形状が形成される。この状態では、バンク5としての硬度および強度が十分ではないため、さらに、ネガレジスト21の露光(ポスト露光)と本焼成とを行い、硬度的にも強度的にもバンク5として用いることのできる有機バンク5bが得られる。
After the
このようにして形成された逆テーパーの側壁面5cを有するバンク5によって、画素領域7が形成され、画素領域7に正孔輸送層2および発光層3を形成する溶液がインクジェット装置10でそれぞれ形成される。その際、逆テーパーの側壁面5cによって生じる毛細管現象により、正孔輸送層2または発光層3を形成する溶液が側壁面5cへ引き寄せられ、画素領域7の全域へ均一に配置されることが可能である。そのため、溶液が充填し難いバンク5の角形状のような部分へも、容易に溶液を配置可能であり、画素領域7の形状を制約する必要がない。
A
具体的に説明すると、図4(a)は、逆テーパーのバンクにおける画素領域の形状を示す平面図であり、この平面図は、図1に示す画素領域7を封止基板109の方向から見たものである。図4(a)に示すバンク5は、図1に示すように、側壁面5cが逆テーパーの形状であり、画素領域7の角形状のコーナー部分へも溶液が充填し易く、バンク5に囲まれた画素領域7の形状は、ほとんど制約が不要である。従って、図4(a)に示すように、画素領域7の形状は、開口部20が最大となるようにコーナー部Rを極めて小さくすることが可能である。それに伴って、開口部20も大きく設定でき、この画素領域7を有する有機EL表示装置1は、発光領域8から放射する光量が多く、明るい表示のものである。
Specifically, FIG. 4A is a plan view showing the shape of a pixel region in a reverse-tapered bank. This plan view shows the
一方、図4(b)は、非逆テーパーのバンクにおける画素領域の形状を示す平面図である。この平面図は、図5に示す画素領域111を封止基板109の方向から見たものである。図4(b)に示すバンク105は、図5に示すように、側壁面105cが非逆テーパーの形状であり、側壁面105cの近傍へ溶液が充填し難く、溶液の厚みも不均一なものになり易い。従って、バンク105に囲まれた画素領域111の形状は、できるだけ丸形状が望ましい。少なくとも、図4(b)に示すように、画素領域111のコーナー部Rを十分に丸くする必要がある。このような配慮によって、画素領域111に溶液を充填することが可能である。この場合、コーナー部Rを大きく丸めた画素領域111の形状にするほど、画素領域111の面積は小さくなり、それに伴って、開口部115も小さくなってしまう。この画素領域111を有する有機EL表示装置100は、開口部115の小さいことと、正孔輸送層106および発光層107の厚さが不均一なために発光も不均一となることにより、発光領域114から放射する光量が少なく、表示の暗いものになってしまう。
On the other hand, FIG. 4B is a plan view showing the shape of the pixel region in the non-inverse tapered bank. In this plan view, the
そのため、画素領域111を有する有機EL表示装置100において、同様な明るさの表示をしようとすると、正孔輸送層106および発光層107へ過大な電荷を印加して、例えば120%の負荷を付与して発光させる必要がある。この場合には、発光寿命が短いなどの弊害が生じる。本発明の逆テーパーの側壁面5cで形成された画素領域7を有する有機EL表示装置1においては、正孔輸送層2および発光層3の厚さが均一なことと、負荷のない電荷の印加で所定の発光が可能なことにより、発光部の均一な発光を行うことができ、トータルの発光効率が良く、また発光寿命も長いという利点がある。
Therefore, in the organic
以上本発明の一実施形態について説明した。以下に、実施形態の効果をまとめて記載する。 The embodiment of the present invention has been described above. Below, the effect of embodiment is described collectively.
(1)有機EL表示装置1のバンク5は、側壁面5cが逆テーパーであるため、側壁面5cに対する溶液の曲状の濡れ量が少なくなり、また、充填しにくい側壁面5cへ、溶液を毛細管現象によって引き込む力と相まって、画素領域7の全域に溶液を均一な厚みで形成可能である。これにより、この溶液の膜を乾燥させれば、均一な厚さの正孔輸送層2または発光層3を形成することが可能で、有機EL表示装置1は、色の濃淡および明るさの強弱の無い発光が可能である。
(1) Since the
(2)インクジェット装置10によって、溶液を画素領域7へ吐出することにより、画素領域7の全域へ溶液の均一な塗布が可能であり、逆テーパーの側壁面5cを有するバンク5の作用による吐出された溶液の表面13の平滑化と合わせて、より均一な厚みの正孔輸送層2または発光層3を形成することが可能である。
(2) By discharging the solution to the
(3)有機バンク5bは、ネガレジスト21を塗布、露光、現像、焼成して形成することにより、逆テーパーの側壁面5cを有する有機バンク5bが、従来の非逆テーパーのバンク105とほぼ同様な工程で容易に形成可能である。
(3) The
(4)有機バンク5bの側壁面5cが逆テーパーを有しており、溶液を毛細管現象によって充填し難い角形状の部分へも、容易に充填可能であり、画素領域7を制約の無い自由な形状に形成することが可能となる。そのため、開口部20を可能な限り大きく設定でき、発光領域8から光量の多い明るい発光が可能である。
(4) The
(5)有機EL表示装置1は、開口部20における正孔輸送層2および発光層3の厚さが全域で均一であり、開口部20の全域から均一な発光が可能である。正孔輸送層2および発光層3の厚さが不均一で暗い発光の場合、正孔輸送層2および発光層3へ電荷の負荷を増やし明るい発光を得るなどの処置をするが、有機EL表示装置1では、過負荷のない電荷の印加で所定の発光が可能で、発光部の均一発光ができ、トータル発光効率が良く、また発光寿命も長い利点を有する。
(5) In the organic
(6)有機バンク5bの側壁面5cには、親液性の処理が施され、封止面5dには、撥液処理が施されている。従って、インクジェット装置10によって、液滴12が封止面5dにかかって吐出されても、封止面5dの撥液性により、液滴12が留まらずに画素領域7へ確実に塗布される。液滴12としてインクジェット装置10から吐出される溶液を、画素領域7以外へ無駄に配置することがなく、高価な溶液の有効利用が可能である。
(6) The
また、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、次に挙げる変形例のような形態であっても、実施形態と同様な効果が得られる。 Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the same effects as those of the embodiment can be obtained even in the form of the following modification.
(変形例1)画素領域7は、有機EL表示装置1の正孔輸送層2および発光層3による発光機能を有する構成に限らず、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタのような発光機能を有しないフィルタ層の形成されたものであっても良い。フィルタ層の開口部が大きく設定可能で、光の透過率の良い明るいフィルタ層が得られる。
(Modification 1) The
(変形例2)画素領域7にEL基板113側から画素電極104、正孔輸送層2、発光層3、対向電極4の順に形成する構成に限定されず、画素電極104を反射電極にする構成や、封止基板109側から画素電極104、正孔輸送層2、発光層3、対向電極4の順に形成する構成により封止基板109の方向へ発光しても良い。組み込まれる装置に柔軟に対応可能な有機EL表示装置1を提供可能である。
(Modification 2) The
(変形例3)正孔輸送層2および発光層3を構成する材料は、実施形態に記載の構成材料に限定されない。例えば、他の一例として、赤色を発光する画素領域7へ、正孔輸送層2として1,1−ビス−シクロヘキサンを用い、発光層3として、励起すると赤色に発光する2−13,4−ジヒドロキシフェニル−3,5,7−トリヒドロキシ−1−ベンゾビリリウムパークロレートを用いる。緑色を発光する画素領域7へは、正孔輸送層2として1,1−ビス−シクロヘキサンを用い、発光層3として、励起すると緑色に発光する2,3,6,7−テトラヒドロ−11オキソ−1H,5,11H−ペンゾピラノ−キノリジン−10−カルボン酸を用いる。そして、青色を発光する画素領域7へは、正孔輸送層2として8−ヒドロキシキノリノールアルミニウムを用い、発光層3として、励起すると青色に発光する2,3,6,7−テトラヒドロ−9−メチル−11−オキソ−1H,5H,11H−ベンゾピラノ−キノリジンを用いても良い。なお、構成材料は、この一例に限定されるものではない。
(Modification 3) The material which comprises the positive
(変形例4)バンク5は、無機バンク5aと有機バンク5bとの構成に限定されるものではなく、逆テーパーを有する有機バンク5bのみの構成や、逆テーパーを有する無機バンク5aのみの構成であっても良い。
(Modification 4) The
(変形例5)正孔輸送層2および発光層3は、溶液をインクジェット装置10によって吐出することが最も効果的であるが、溶液をディスペンサーなどで塗布しても良い。
(Modification 5) The
画素領域7が必要時にのみ発光する有機EL表示装置は、液晶表示装置のように表示しない画素領域を含めて、常に、全画素領域を光源で照射する必要がなく、たいへん省エネルギーなものである。本発明の逆テーパーのバンクを備えた有機EL表示装置は、より明るく発色の良好な表示が可能であり、携帯電話、電子辞書、デジタルカメラ、電子時計などの電子機器の表示部に最適で、応用範囲の広いものである。
An organic EL display device that emits light only when the
1…電気光学装置としての有機EL表示装置、2…正孔輸送層、3…発光層、4…対向電極、5…バンク、5c…側壁面、6…有機EL素子、7…画素領域、8…発光領域、11…インクジェットヘッド、12…液滴、13…溶液の表面、14…バンク基部、15…引込力、20…基板側のバンクの開口径としての開口部、21…ネガレジスト、22…ガラスマスク、23…硬化部、101…ガラス基板、102…スイッチング素子、103…絶縁層、104…画素電極、105…バンク、106…正孔輸送層、107…発光層、108…対向電極、109…封止基板、110…不活性ガス、111…画素領域、113…基板としてのEL基板、114…発光領域、115…開口部。
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記バンクにより規定された画素領域と、を有し、
前記画素領域の前記バンク表面側の開口径は、前記画素領域の前記基板側の前記バンクの開口径よりも小さいことを特徴とする電気光学装置。 A bank formed on the surface of the substrate;
A pixel region defined by the bank,
An electro-optical device, wherein an opening diameter of the pixel area on the bank surface side is smaller than an opening diameter of the bank on the substrate side of the pixel area.
前記バンクの側壁面は、前記画素領域内の前記基板に平行な面の面積が前記基板の側から前記規定の高さ方向へかけて順次小さくなるような傾斜を有していることを特徴とする電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1,
A side wall surface of the bank has an inclination such that an area of a surface parallel to the substrate in the pixel region is gradually reduced from the substrate side toward the specified height direction. An electro-optical device.
前記側壁面の前記傾斜は、前記画素領域を囲むいずれの位置においても前記基板に対して略均一であることを特徴とする電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 2,
The electro-optical device according to claim 1, wherein the inclination of the side wall surface is substantially uniform with respect to the substrate at any position surrounding the pixel region.
前記画素領域は、発光層と正孔輸送層との積層を有することを特徴とする電気光学装置。 The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3,
The electro-optical device, wherein the pixel region has a stack of a light emitting layer and a hole transport layer.
少なくとも前記バンクの前記側壁面は親液性を有することを特徴とする電気光学装置。 The electro-optical device according to any one of claims 2 to 4,
At least the side wall surface of the bank is lyophilic.
前記バンクとなる領域が露光されるようにマスク合わせをする工程と、
前記ネガレジストを露光する工程と、
前記ネガレジストを現像液により現像する工程と、を有し、
前記ネガレジストを露光する条件は、前記ネガレジストの表面近傍よりも前記ネガレジストの基板近傍の方が前記現像液で現像されやすい条件であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 Forming a negative resist as a material for forming a bank for defining a pixel region on a substrate;
Aligning the mask so that the area to be the bank is exposed;
Exposing the negative resist;
Developing the negative resist with a developer,
The method for manufacturing an electro-optical device is characterized in that the negative resist exposure condition is such that the vicinity of the negative resist substrate is more easily developed with the developer than the vicinity of the negative resist surface.
前記画素領域の前記バンク表面側の開口径は、前記画素領域の前記基板側の前記バンクの開口径よりも小さくなるように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 7,
An electro-optical device manufacturing method, wherein an opening diameter of the pixel area on the bank surface side is smaller than an opening diameter of the bank on the substrate side of the pixel area.
前記バンクの側壁面は、前記画素領域内の前記基板に平行な面の面積が前記基板の側から前記規定の高さ方向へかけて順次小さくなるような傾斜を有するように形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 7,
A side wall surface of the bank is formed so as to have an inclination such that an area of a plane parallel to the substrate in the pixel region gradually decreases from the substrate side toward the specified height direction. A method for manufacturing an electro-optical device.
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011070681A1 (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | パイオニア株式会社 | Organic el panel and method for manufacturing same |
WO2012002268A1 (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 住友化学株式会社 | Display device and production method for same |
KR101193196B1 (en) * | 2010-07-07 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Organic light emitting display apparatus and the manufacturing method thereof |
JP2012216324A (en) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Toppan Printing Co Ltd | Organic el element and method for manufacturing the same |
KR20130143602A (en) | 2010-12-16 | 2013-12-31 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Display device |
WO2014196402A1 (en) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 住友化学株式会社 | Display device |
CN105552101A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-04 | 三星显示有限公司 | Organic light-emitting display apparatus |
US9502480B2 (en) | 2015-02-24 | 2016-11-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
CN107706317A (en) * | 2017-09-26 | 2018-02-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of preparation method of oled display substrate |
JP2019032939A (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-28 | キヤノン株式会社 | Display unit and method of manufacturing the same, and electronic equipment |
KR20190078925A (en) * | 2017-12-27 | 2019-07-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | Electroluminescent Display Device |
CN112289955A (en) * | 2020-10-29 | 2021-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate, preparation method thereof and display device |
-
2006
- 2006-02-27 JP JP2006049742A patent/JP2007227289A/en not_active Withdrawn
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011070681A1 (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | パイオニア株式会社 | Organic el panel and method for manufacturing same |
CN102612858A (en) * | 2009-12-11 | 2012-07-25 | 日本先锋公司 | Organic el panel and method for manufacturing same |
WO2012002268A1 (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 住友化学株式会社 | Display device and production method for same |
JP2012014856A (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Display device |
KR101193196B1 (en) * | 2010-07-07 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | Organic light emitting display apparatus and the manufacturing method thereof |
US8487301B2 (en) | 2010-07-07 | 2013-07-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
US8716058B2 (en) | 2010-07-07 | 2014-05-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
KR20130143602A (en) | 2010-12-16 | 2013-12-31 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Display device |
JP2012216324A (en) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Toppan Printing Co Ltd | Organic el element and method for manufacturing the same |
KR20160016800A (en) | 2013-06-03 | 2016-02-15 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Display device |
KR102229324B1 (en) | 2013-06-03 | 2021-03-19 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Display device |
CN105265024A (en) * | 2013-06-03 | 2016-01-20 | 住友化学株式会社 | Display device |
WO2014196402A1 (en) * | 2013-06-03 | 2014-12-11 | 住友化学株式会社 | Display device |
TWI603469B (en) * | 2013-06-03 | 2017-10-21 | 住友化學股份有限公司 | Display device |
JP2014235885A (en) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 住友化学株式会社 | Display device |
CN105552101A (en) * | 2014-10-22 | 2016-05-04 | 三星显示有限公司 | Organic light-emitting display apparatus |
CN105552101B (en) * | 2014-10-22 | 2020-12-22 | 三星显示有限公司 | Organic light emitting display device |
US9502480B2 (en) | 2015-02-24 | 2016-11-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting display device and method of manufacturing the same |
JP6993809B2 (en) | 2017-08-04 | 2022-01-14 | キヤノン株式会社 | Display devices and their manufacturing methods and electronic devices |
JP2019032939A (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-28 | キヤノン株式会社 | Display unit and method of manufacturing the same, and electronic equipment |
US10985225B2 (en) | 2017-09-26 | 2021-04-20 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Organic light-emitting diode display substrate and method for manufacturing the same |
CN107706317A (en) * | 2017-09-26 | 2018-02-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | A kind of preparation method of oled display substrate |
KR20190078925A (en) * | 2017-12-27 | 2019-07-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | Electroluminescent Display Device |
KR102456458B1 (en) * | 2017-12-27 | 2022-10-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | Electroluminescent Display Device |
CN112289955A (en) * | 2020-10-29 | 2021-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate, preparation method thereof and display device |
CN112289955B (en) * | 2020-10-29 | 2024-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate, preparation method thereof and display device |
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