JP2007218901A - 圧力センサ - Google Patents

Abstract

【課題】基準面スタンドオフと測定面スタンドオフの間の差を感知するためのチョークドフローオリフィスを有するガスゲージ近接センサを提供する。
【解決手段】現在の近接センサとは異なり、本発明のガスゲージ近接センサは、マスフローコントローラの代わりにチョークドフローオリフィスを使用している。チョークドフローオリフィスを使用することにより、装置コストが低減し、システムの信頼性が改善される。ガス供給源は、ガスを近接センサ内に強制的に供給する。その時点で、質量流量の流速が圧力の変動の影響をほとんど受けなくなる音速状態を達成するために、ガスがチョークドフローオリフィスを通して強制的に供給される。ガスの流れは、チョークドフローオリフィスからセンサ流路システム内に進む。センサ流路システム内の質量流量センサは、制御動作をスタートするために使用することができる測定スタンドオフを検出するために流速を監視する。
【選択図】図１

Description

[0001] 本発明は、ガス供給源と、ガス供給源によりガスが供給されるように配置され、少なくとも１つの測定開口部を含む１つまたは複数の開口部を通してガスを排出するように配置され、そして、少なくとも１つの測定開口部において圧力の測定を行うように配置されているセンサ流路システムとを備える圧力センサに関する。

[0002] 多くの自動化製造プロセスは、製造ツールと加工中の製品または材料面との間の距離の感知を必要とする。半導体リソグラフィのような、ある状況においては、距離をナノメートルに近い精度で測定しなければならない。

[0003] このような精度をもった近接センサの開発に関連する問題は重要なものであり、特にフォトリソグラフィシステムの場合には重要である。フォトリソグラフィの場合には、非貫入性（non-intrusive）であり、かつ非常に短い距離を正確に検出することができる他に、近接センサは、汚染物を導入してはならないし、通常は半導体ウェーハである作業面と接触してはならない。汚染物を導入したり作業面と接触した場合には、半導体の品質を有意に劣化させるか完全にダメ(ruin)にしてしまう可能性がある。

[0004] 非常に短い距離を測定するために、いくつかのタイプの近接センサを使用することができる。近接センサの例としては、キャパシタンスゲージおよび光学式ゲージ等がある。リソグラフィ投影システムで使用した場合、これらの近接センサは重大な欠陥を有する。何故なら、ウェーハ上に堆積している材料の物理的性質が、これらのデバイスの精度に影響を与えるおそれがあるからである。例えば、電荷の濃度に依存するキャパシタンスゲージは、１つのタイプの材料（例えば、金属）が集中している場所では、偽近接度測定値を示すおそれがある。ガリウム・ヒ素（ＧａＡｓ）およびインジウムリン（ＩｎＰ）のような非導電性および／または感光材料からできている新型のウェーハを使用した場合には、他のタイプの問題が発生する。これらの場合には、キャパシタンスゲージおよび光学式ゲージは間違った測定値を示すおそれがある。

[0005] １９９０年９月４日付けのAndrew Baradaの「エアゲージセンサ」（Air Gauge Sensor）という名称の米国特許第４，９５３，３８８号（以後’３８８特許）、および１９８５年１１月５日付けのMichel Deschapeの「空気測定回路」（Pneumatic Gauging Circuit）という名称の米国特許第４，５５０，５９２号（以後’５９２特許）は、エアゲージセンサを使用する近接感知のための他のアプローチを開示している。’３８８特許および’５９２特許は、その全文を参照により本明細書に組み込むものとする。これらのセンサは、測定ノズルと測定面との間の距離を測定するために、基準面および測定面上に空気の流れを放出し、センサ内の背圧の差を測定するための基準ノズルおよび測定ノズルを備えるセンサ流路システムを使用する。

[0006] さらに、その全文を参照により本明細書に組み込むものとする、１９７６年１０月発行のＦＷＰジャーナルの３１〜４２ページ掲載のBurrows,V.R.の「空気測定の原理と応用」（The Principles and Applications of Pneumatic Gauging）が空気測定の原理を記載している。エアゲージセンサは、ウェーハ面の電荷または電気的、光学的および他の物理的性質の濃度の影響を受けない。しかし、現在の半導体製造の場合には、ナノメートル程度の高い精度で近接度を測定しなければならない。しかし、初期のエアゲージセンサは、多くの場合、リソグラフィ投影装置での現在の精度要件に適合しない。

[0007] エアゲージセンサの精度を改善するために行った１つの改善点は、マスフローコントローラへの入力のところでマスフローコントローラおよびガス圧力レギュレータを使用することにより、ガス供給源からの流れを確実に安定させたことである。マスフローコントローラは、熱を発散するので、マスフローコントローラとエアゲージセンサの間に供給チューブを備えるセンサ流路システムから離れたところに装着される。しかし、この供給チューブは容積を有している。供給チューブの容積が大きければ大きいほど、エアゲージセンサの応答は遅くなる。熱を発散するので、マスフローコントローラは、通常、リソグラフィ投影装置のウェーハステージコンパートメントから遠く離れているキャビネット内に位置する。ウェーハステージコンパートメントは、リソグラフィ投影装置のコンパートメントであり、ウェーハがウェーハステージに支持されている状態で、ウェーハが放射線のパターン化されたビームで照射される。

[0008] さらに悪いことには、マスフローコントローラからの質量の流れは、マスフローコントローラの出力側の空気圧により左右される。出力側の空気圧は、測定開口部のところの圧力により左右され、そのためエアゲージセンサの精度が低下する。この欠点を克服する目的で、マスフローコントローラの出力側の圧力を安定させるためにマスフローコントローラの出力側にアキュムレータが設置されている。しかし、そのため、容積がさらに増大し、エアゲージセンサの応答が遅くなる。

[0009] 本発明の１つの目的は、配置の可能性を高めることができる圧力センサを提供することである。

[0010] 本発明は、請求項１に記載の圧力センサを提供する。流れの状態をチョークドフロー状態にするために、ガス供給源およびリストリクタが配置されているので、リストリクタを通る質量の流速は制御され、流れがチョークドフロー状態になる場所の下流のガス圧の変動により影響を受けなくなる。このチョークドフロー状態はリストリクタのところで起こる。センサ流路システムに供給されたガスは制御される。何故なら、リストリクタがセンサ流路システムの上流に位置するからである。このことは、マスフローコントローラがもはや必要ないことを意味する。マスフローコントローラの出力のところの圧力を安定させるためのアキュムレータも同様にもはや必要でなくなる。リストリクタは熱を発散しないので、リストリクタを非常に自由に設置することができる。すなわち、これによって、圧力センサの配置の可能性が高められる。

[0011] 添付の図面を参照しながら、本発明のさらなる実施形態、機能および利点、および本発明の種々の実施形態の構造および動作について以下に詳細に説明する。

[0012] 添付の図面を参照しながら、本発明について説明する。図面中、類似の参照番号は同一または機能的に類似している要素を示す。

[0017] 以下に特定の用途のための例示としての実施形態を参照しながら本発明について説明するが、本発明はこの実施形態に限定されないことを理解されたい。当業者であれば、本明細書を読むことにより、本発明の範囲内の他の修正、用途および実施形態、および本発明が非常に役に立つ他の分野に気が付くであろう。

[0018] ２００２年１２月１９日付けのGajdeczko他の「高分解能ガスゲージ近接センサ」（High Resolution Gas Gauge Proximity Sensor）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１０／３２２，７６８号（以後’７６８特許出願）は、初期のエア・ゲージ近接センサの精度制限のいくつかを克服する高精度のガスゲージ近接スイッチを記載している。精度制限が克服されたのは、ガスの流れの中の乱流を低減し、それにより精度を向上するために多孔性バッファを導入したからである。その全文を参照により本明細書に組み込むものとする、’７６８特許出願は、高精度のガスゲージ近接センサを記載している。

[0019] ２００３年８月２５日付けのJoseph Lyonsの「高分解能ガスゲージ近接センサ」（High Resolution Gas Gauge Proximity Sensor）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１０／６４６，７２０号（以後’７２０特許出願）は、さらに精度を向上し、測定動作中、測定面上の不感度エリアをなくすために、特種ノズルを使用している近接センサを記載している。’７２０特許出願の全文は、参照により本明細書に組み込むものとする。

[0020] 外部の音響干渉も、ガスゲージ近接センサに影響を与えるおそれがある。２００４年５月２７日付けのEbert他の「変調ガスの流れによるガスゲージ近接センサ」（Gas Gauge Proximity Sensor with a Modulated Gas Flow）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１０／８５４，４２９号（以後’４２９特許出願）は、最小の音響干渉エネルギーを含む変調周波数でガスの流れを変調し、それにより測定精度を改善するガスゲージ近接センサを記載している。’４２９特許出願の全文は、参照により本明細書に組み込むものとする。

[0021] ’７６８、’７２０および’４２９特許出願が開示しているセンサは高い精度を有しているが、この精度は測定ノズルおよび基準ノズルの近くの局所的な環境状態の変化により影響を受けるおそれがある。ある環境においては、ノズルが多くの場合相互に非常に近接していても、環境状態の僅かな変動によりセンサの精度が影響を受けるおそれがある。２００４年４月２８日付けのCarter他の「高分解能ガスゲージ近接センサ」（High Resolution Gas Gauge Proximity Sensor）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１０／８３３，２４９号（以後’２４９特許出願）は、測定ノズルおよび基準ノズルの両端の環境の違いを低減するチャンバを含むガスゲージ近接センサを記載している。’２４９特許出願の全文は、参照により本明細書に組み込むものとする。

[0022] 類似の問題が、近接センサの測定流路から排出されるガスまたは液体の流れと交差するガスまたは液体の直交流と関連している。より詳細に説明すると、例えば、パージ・ガスが、毎秒数メートル程度の速度の局所的直交風を含んでいる場合がある。直交風または直交流は、ゲージを不安定にしたり、ふらつかせたりして、近接センサ内に校正できない誤差を生じさせる。２００４年１２月７日付けのHerman Vogelの「流れのカーテンを含む近接センサ・ノズル・シュラウド」（Proximity Sensor Nozzle Shroud with Flow Curtain）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１１／００５，２４６号（以後’２４６特許出願）は、直交風への影響を低減するためにノズルの周囲にシュラウドを含む近接センサを記載している。’２４６特許出願の全文は、参照により本明細書に組み込むものとする。

[0023] 近接センサは、非侵襲性のものでなければならない。近接センサと作業面とが接触すると、半導体の品質または他の作業面の品質を有意に劣化させたり、全くダメにしてしまうおそれがある。しかし、最大レベルの精度を確保するためには、多くの場合、測定ノズルを作業面に非常に接近させなければならない。ある環境の場合には、もっと高いレベルの精度が必要になるので、ウェーハステージまたは他の作業プラットフォームの運動は、近接センサを作業面に近づけたり、それから遠ざけたりするほうが望ましい場合がでてくる。そのため、上下に運動する場合に、近接センサ・ヘッドの機械的安定性に関連する不正確のもう１つの原因が生じる。センサ・ヘッドを延長すると、不安定になり、それにより近接センサの精度が低下するおそれがある。２００４年１２月２０日付けのPeter Kocherspergerの「機構の不安定を自己補償する近接センサ」（Proximity Sensor with Self Compensation for Mechanism Instability）という名称の同時係属、共通所有の米国特許出願第１１／０１５，６５２号（以後’６５２特許出願）は、近接センサの精度に対する近接センサ・ヘッドのズレの影響を低減するための自己補償機構を含む引っ込ませることができる近接センサを開示している。’６５２特許出願の全文は、参照により本明細書に組み込むものとする。

[0024] 図１は、ガスゲージ近接センサ１００を示す図である。ガスゲージ近接センサ１００は、本発明を使用することにより改善することができる近接センサの１つのタイプであり、本発明の範囲を制限するものではない。ガスゲージ近接センサ１００は、ガス圧力レギュレータ１０５、マスフローコントローラ１０６、中央流路１１２、測定流路１１６、基準流路１１８、測定流路リストリクタ１２０、基準流路リストリクタ１２２、測定プローブ１２８、基準プローブ１３０、ブリッジ流路１３６および質量流量センサ１３８を含む。ガス供給源１０２は、ガスゲージ近接センサ１００に所望の圧力でガスを注入する。

[0025] 中央流路１１２は、ガス供給源１０２をガス圧力レギュレータ１０５およびマスフローコントローラ１０６に接続していて、分岐部１１４のところまで延びる。ガス圧力レギュレータ１０５およびマスフローコントローラ１０６は、ガスゲージ近接センサ１００内の流速を一定に維持する。

[0026] ガスは、流路１１２に取り付けられているアキュムレータ１０８によりマスフローコントローラ１０６から流路１１２内に押し出される。アキュムレータ１０８は、マスフローコントローラの出力のところのガス圧を安定させるために流路１１２に取り付けられている。それは、マスフローコントローラの出力が出口のところのガス圧により左右されるからである。ある状況の場合には、この図には図示していないバッファをマスフローコントローラ１０６と分岐部１１４との間に設置することができる。バッファはガス供給源１０２が導入したガスの乱流を低減する。バッファ１１０の詳細については、’２４９特許出願を参照されたい。マスフローコントローラ１０６を出てから、ガスは中央流路１１２を通って分岐部１１４に供給される。中央流路１１２は分岐部１１４のところまで延び、測定流路１１６および基準流路１１８に分岐する。マスフローコントローラ１０６は、望ましくない空力騒音の発生を最小限度に低減する目的で、システムを通して層状で圧縮できない流体の流れを供給するために十分低い速度でガスを注入する。同様に、マスフローコントローラ１０６により確立された層状の流れ特性を維持するために、システムの幾何学的な形状を適当な大きさにすることができる。

[0027] マスフローコントローラ１０６のようなマスフローコントローラは高価であり、多くの場合、特に出力のところでの圧力の変動への依存性が低いものであることが指定されている場合には数千ドル以上する。マスフローコントローラ１０６は熱を発散するので、ガスゲージ近接センサ１００の他の構成要素から離して装着される。柔軟な供給チューブが、マスフローコントローラ１０６を分岐部１１４に結合している。供給チューブは漏洩を起こし易い。漏洩は多くの場合、小規模のものであり、通常、他のタイプのシステムに影響を与えないが、漏洩がガスゲージ近接センサの性能に有意な影響を与える場合がある。さらに、チューブの容積は、コンデンサのような働きをする。ガスゲージ近接センサの周囲の局所的圧力が変化すると、そこを通る流れが変化し、チューブの容積の容量的機能のために流れが安定するまでに数秒かかる。マスフローコントローラの出力のところのガス圧を安定させるために、アキュムレータを追加した場合には、この影響はさらに大きくなる。

[0028] ブリッジ流路１３６は、測定流路１１６と基準流路１１８との間を結合している。ブリッジ流路１３６は、分岐部１２４のところで測定流路１１６に接続している。ブリッジ流路１３６は、分岐部１２６のところで基準流路１１８に接続している。一例を挙げて説明すると、分岐部１１４と分岐部１２４の間の距離と、分岐部１１４と分岐部１２６の間の距離は等しい。

[0029] ガスは、ガスゲージ近接センサ１００内のすべての流路を通して流れることができる。流路１１２、１１６、１１８および１３６は、コンジット（チューブ、パイプ等）、またはガスを含むことができ、センサ１００を通してガスを案内することができる任意の他のタイプの構造から形成することができる。好適には、流路は、例えば、局所的な乱流または不安定な流れを生じることにより、空力騒音を生じるおそれがある鋭角の屈曲部、凹凸または不必要な障害物を有していないことが好ましい。測定流路１１６および基準流路１１８の全体の長さは同じであってもよいし、または他の例のように同じでなくてもよい。

[0030] 基準流路１１８は基準ノズル１３０まで延びる。同様に、測定流路１１６は測定ノズル１２８まで延びる。基準ノズル１３０は、基準面１３４の上に位置する。測定ノズル１２８は、測定面１３２の上に位置する。フォトリソグラフィの場合には、測定面１３２は、多くの場合、半導体ウェーハ、ウェーハを支持するステージ、フラットパネルディスプレイ、プリントヘッド、マイクロまたはナノ流体デバイス等である。基準面１３４は、平坦な金属プレートであってもよいが、これに限定されない。ガス供給源１０２により注入されたガスは、各ノズル１２８、１３０から排出され、測定面１３２および基準面１３４に入射する。すでに説明したように、ノズルと対応する測定面または基準面との間の距離は、スタンドオフ（standoff）と呼ばれる。

[0031] 測定流路リストリクタ１２０および基準流路リストリクタ１２２は、流路内の乱流を低減する働きをし、抵抗素子として動作する。他の実施形態の場合には、オリフィスのような他のタイプの抵抗素子を使用することができる。しかし、オリフィスは乱流を低減しない。

[0032] 基準ノズル１３０は、既知の基準スタンドオフ１４２を隔てて固定基準面１３４の上に位置する。測定ノズル１２８は、未知の測定スタンドオフ１４０を隔てて測定面１３２の上に位置する。既知の基準スタンドオフ１４２は、最適なスタンドオフを表す所望する一定の値にセットされる。このような配置により、測定ノズル１２８の上流の背圧は未知の測定スタンドオフ１４０の関数になり、基準ノズル１３０の上流の背圧は既知の基準スタンドオフ１４２の関数になる。スタンドオフ１４０および１４２が等しい場合には、構成が対称的になり、ブリッジがバランスする。それ故、ブリッジ流路１３６を通してガスが流れなくなる。一方、測定スタンドオフ１４０および基準スタンドオフ１４２が異なっている場合には、測定流路１１６と基準流路１１８の間の圧力差により質量流量センサ１３８を通してガスが流れる。

[0033] 質量流量センサ１３８は、ブリッジ流路１３６に沿って位置するが、好適にはこの流路の中央に位置することが好ましい。質量流量センサ１３８は、測定流路１１６と基準流路１１８の間の圧力差によるガスの流れを感知する。これらの圧力差は、測定面１３２の垂直位置の変化によるものである。対称的なブリッジの場合、測定スタンドオフ１４０および基準スタンドオフ１４２が等しい場合には、表面１３２、１３４と比較した場合の両方のノズル１２８、１３０に対するスタンドオフは同じである。質量流量センサ１３８は、質量の流れを検出しない。何故なら、測定流路と基準流路との間には圧力差がないからである。測定スタンドオフ１４０と基準スタンドオフ１４２の間に違いがあると、測定流路１１６と基準流路１１８内の圧力に差ができる。非対称な配置の場合には、適当なオフセットを導入することができる。

[0034] 質量流量センサ１３８は、圧力差または圧力の不均衡によるガスの流れを感知する。圧力差ができるとガスが流れるが、その速度は測定スタンドオフ１４０の一意の関数である。すなわち、ガスゲージ１００内への流速が一定であると仮定した場合、測定流路１１６と基準流路１１８内のガス圧の差は、スタンドオフ１４０および１４２の大きさの間の差の関数である。基準スタンドオフ１４２を既知のスタンドオフにセットすると、測定流路１１６と基準流路１１８内のガス圧の差は、測定スタンドオフ１４０（すなわち、測定面１３２と測定ノズル１２８の間の未知のスタンドオフ）の大きさの関数である。

[0035] 質量流量センサ１３８は、ブリッジ流路１３６を通るどちらの方向のガスの流れも検出する。ブリッジの構成により、流路１１６、１１８の間に圧力差ができた場合だけ、ブリッジ流路１３６を通してガスが流れる。圧力が不均衡である場合には、質量流量センサ１３８は、結果としてのガスの流れを検出し、適当な制御機能をスタートすることができる。質量流量センサ１３８は、視覚表示、音響表示、コンピュータ制御システムまたは他の信号手段により感知した流れを表示することができる。別の方法としては、質量流量センサの代わりに、差圧センサを使用することもできる。差圧センサは、測定スタンドオフと基準スタンドオフの間の差の関数である２つの流路間の圧力差を測定する。

[0036] 近接センサ１００は、本発明によるノズルを有するデバイスの一例である。本発明は、近接センサ１００と一緒の使用だけに限定されない。それどころか、本発明は、例えば、’３８８および’５９２特許および’７６８、’７２０、’４２９、’２４９、’２８６および’６５２特許出願に開示されている近接センサのような他のタイプの近接センサを改善するために使用することができる。

[0037] 図２は、本発明の一実施形態による近接センサ２００の図面である。近接センサ２００と近接センサ１００の間の違いは、マスフローコントローラ１０６の代わりに、ガス供給源２０２からガスを受け取り、以下にさらに詳細に説明するセンサ流路システムの上流に位置するチョークドフローオリフィス２０７を使用していることである。ガス供給源２０２は、チョークドフローオリフィス２０７内に制御された圧力でガスを供給するガス圧力レギュレータ２０５を備える。センサ流路システムは、測定流路２１６と、基準流路２１８と、測定流路リストリクタ２２０と、基準流路リストリクタ２２２と、測定プローブ２２８と、基準プローブ２３０と、ブリッジ流路２３６と、質量流量センサ２３８とを備える。測定流路２１６および基準流路２１８は、分岐部２１４のところで結合している。

[0038] 中央流路２１２は、ガス供給源２０２をガス圧力レギュレータ２０５およびチョークドフローオリフィス２０７に接続していて、次に分岐部２１４まで延びる。ガス圧力レギュレータ２０５およびチョークドフローオリフィス２０７は、以下に説明するように、ガスゲージ近接センサ２００内の質量の流速を一定に維持する。ガスは、チョークドフローオリフィス２０７から流路２１２内に押し出される。ある状況の場合には、この図に図示していないバッファをチョークドフローオリフィス２０７と分岐部２１４の間に設置することができる。チョークドフローオリフィス２０７を出てから、ガスは中央流路２１２を通って分岐部２１４に流れる。

[0039] チョークドフローオリフィスを通るガスが音速になると、ガス内にチョークドフロー状態ができる。図３のチョークドフローオリフィスを通るガスの流れの中には、上流の圧力Ｐ_１に対する下流の圧力Ｐ_２の比が約０．５２８以下になると音速状態が生じる。音速状態になると、チョークドフローオリフィス２０７から出るガスの速度は、約０．５２８以下のすべての圧力比の場合に速度が一定になる。その結果、チョークドフローオリフィス２０７を使用すると、少量の漏洩の場合に起こる小さな圧力降下の影響を受けなくなり、圧力センサの流路構造を通るガスの流れが一定になる。

[0040] すでに説明したように、オリフィス内の速度は、チョークドフロー状態における圧力の変動の影響を受けない。さらに、チョークドフローの場合、チョークドフローオリフィス２０７を通る質量流量は、チョークドフローオリフィスの下流の圧力差により影響を受けなくなる。それ故、質量流量も、同時に測定プローブ２２８および基準プローブ２３０の両方のところの圧力変動、いわゆる共通モード圧力変動の影響を受けなくなる。チョークドフロー状態は、最悪の共通モード圧力変動を推定することによって確立され、十分高い圧力でチョークドフローオリフィスにガスを供給する。最悪の場合の共通モード圧力変動は、リストリクタのすぐ下流の最大予想ガス圧力に対応する。これが、チョークドフローオリフィスに供給するガスの圧力のしきい値を決定する。以下に説明するように、本発明の一実施形態の場合には、チョークドフローオリフィスにガスを供給するためにガス圧力レギュレータを使用している。好ましい実施形態の場合には、規制された圧力はしきい値以上の一定の圧力である。

[0041] ウェーハの近接度を検出するために、近接センサ２００をリソグラフィ装置内に設置した場合には、共通モード圧力変動が頻繁に起こる場合がある。例えば、このような変動は、リソグラフィ装置が設置されているクリーンルームの圧力の変化により起こる場合がある。このような圧力の変化が起こるおそれがあるのは、このようなクリーンルームの圧力が周囲圧力よりも高く維持されているからである。このような圧力に維持するのは、クリーンルーム内にゴミが絶対入らないようにするためである。オペレータがクリーンルームに入るためにドアを開ける度に圧力が降下する。また、リソグラフィ装置は、ウェーハテーブルのような高速で移動する部材を備える。ウェーハテーブルは、ウェーハを測定する際に、およびウェーハを照射する際にウェーハを支持するデバイスである。これらのウェーハテーブルは、高速で移動した場合、先頭波を発生し、先頭波は圧力の変化に対応する。

[0042] 共通モード圧力変動に敏感なのは望ましくない。何故なら、敏感だと測定の精度が低くなるからである。近接センサの測定値の精度は、基準流路２１８を通る質量流量の安定性に依存する。それは、基準流路２１８を通る一定の質量流量に対する質量流量センサ２３８を通る質量流量の関数として圧力差を表示するように、質量流量センサ２３８が校正されているからである。ブリッジ流路２３６を通して質量が流れていて、両方とも（等しい圧力差で）共通モード圧力変動のために変化する測定流路２１６および基準流路２１８を通して質量が流れている場合には、質量流量センサ２３８は、ブリッジ流路２３６を通る質量流量の変化を検出する。次に、このセンサは、ブリッジ流路２３６を通る質量流量の変化を、測定流路２１６および基準流路２１８両方を通る一定の空気の流れにおいて、測定プローブ２３８および基準プローブ２３０の間のもっと大きな圧力差によるものであると誤って解釈する。それ故、このセンサの測定値の精度は低くなる。ブリッジ流路を通る質量流量は変化する。何故なら、分岐部２２６から基準ノズル２３０への圧力プロファイルは直線的ではなく、分岐部２２４から測定ノズル２２８への圧力プロファイルも直線的ではないからである。

[0043] 圧力センサ１００のマスフローコントローラ１０６は熱を発散するが、本発明の圧力センサからなるチョークドフローオリフィスは熱を発散しないので、このオリフィスは分岐部２１４から離れた位置に設置する必要はない。このオリフィスの有利な使用法については後で説明する。

[0044] リソグラフィ装置においては、ウェーハは露光ステーションのところで放射ビームに露光される。その前に測定ステーションのところでウェーハのいくつかの面が測定される。このような面とは、ウェーハを支持しているウェーハステージに対するウェーハの位置、ウェーハ上の整合マークの位置、およびウェーハの厚さである。現在のリソグラフィ装置においては、露光ステーションおよび測定ステーションは別々になっているが、以前のリソグラフィ装置の場合は、これらのステーションは一体となっていた。

[0045] 一実施形態においては、ウェーハ（または他の基板）は基板ステージにより支持されている。基板ステージの位置は、連続的に測定および制御され、必要な場合には、位置決め手段により変化する。基板ステージは、基板の１つの側面を実際に支持するテーブルを備える。圧力センサ（ガスゲージ近接センサ）は、すでに説明したように、ウェーハの位置を追跡しつつ、ガスゲージ近接センサの下でウェーハをスキャンしながら、圧力センサへのウェーハの近接度を測定するために、測定ステーションで使用することができる。ウェーハステージの位置を比較し、それによりウェーハをスキャンに沿った複数の位置でガスゲージ近接センサへのウェーハの近接度と比較することにより、ウェーハの厚さのマップが作成される。その結果、基板ステージに対する圧力センサの位置に関する所定の情報が使用される。

[0046] しかし、リソグラフィ装置は、非常に精度が高いが温度の変化に敏感な多くのデバイスを備えているので、非常に高い基準の温度制御が適用される。そのため、測定ステーションにおいては、しきい値を超える量の熱を発散するデバイスは使用できない。

[0047] 従来技術の近接センサのマスフローコントローラ１０６は、測定ステーションのところで使用することができないデバイスである。それ故、マスフローコントローラは、例えば、特殊な温度制御キャビネット内のような、測定ステーションから離れた位置に設置される。温度制御キャビネット内での熱の発散は別々に制御されるために、残りの機械の性能に影響を与えない。マスフローコントローラ１０６から測定流路１１６および基準流路１１８までガスを案内するために、長い中央流路１１２が使用される。その長さは数メートルになる場合がある。

[0048] 本発明の圧力センサからなるチョークドフローオリフィス２０７は、マスフローコントローラ１０６ほど多くの熱を発散しないので、このオリフィスを、測定開口部２２８および基準開口部２３０（または分岐部２１４、または測定流路２１６および基準流路２１８）から遠く離して設置する必要はない。

[0049] チョークドフローオリフィス２０７を自由に設置することができるので、チョークドフローオリフィスと測定プローブ２２８および基準プローブ２３０との間の空間はできるだけ小さくなるように選択される。そうするのは、空間が広ければ広いほど、近接センサ２００の周波数応答が遅くなるからである。チョークドフローオリフィス２０７とリストリクタ２２０および２２２との間の空間は、チョークドフローオリフィスと測定プローブ２２８および基準プローブ２３０との間の空間の一部である。ある実施形態の場合には、リストリクタ２０７であるチョークドフローオリフィスは、センサ流路システムの入口（分岐部２１４および下流の圧力センサの一部）の近くまたは入口のところに設置される。リソグラフィ装置に対して、入口近くまたは入口に設置するということは、リストリクタ２０７が基板ステージコンパートメント内に位置することを意味する。すなわち、パターン形成された断面を含むビームで基板を照射しながら、基板を支持するための少なくとも１つの基板ステージを備えるように配置されているリソグラフィ装置のコンパートメント内に位置することを意味する。基板ステージコンパートメントは、通常非常に近くの温度コントローラの下に位置するリソグラフィ装置内のエリアである。そうするのは、このコンパートメントは、通常、基板ステージの位置を追跡する干渉計を備えているからである。干渉計は温度の変化に敏感である。

[0050] チョークドフローオリフィスを入口の近くまたは入口のところに設置すると、中央流路２１２の空間が遥かに小さくなる、すなわち、圧力センサ１００の中央流路１１２の空間より数段小さくなる。それ故、圧力センサ２００は、近接センサ１００より遥かに速く局所的な圧力の変化に応答する。その頂面上では、近接センサ１００のところで説明したようなアキュムレータを圧力センサ２００で使用しない。このようなアキュムレータは容積を大きくし、それにより高い周波数の応答を遅くするので、この近接センサ２００は近接センサ１００より優れた周波数応答を有する。

[0051] ガス供給源２０２とチョークドフローオリフィス２０７の間には、チョークドフローオリフィス２０７にガス加圧ガスが供給される出力（図示せず）を有するガス圧力レギュレータ２０５が位置する。ガス圧力レギュレータ２０５は、ガス供給源２０２がガス圧力レギュレータ２０５に供給するガスのガス圧とは無関係に、その出力（図示せず）のところで一定の圧力でガスを供給する。このことは、ガス供給源２０２とガス圧力レギュレータ２０５の間に漏洩があった場合でも、ガス圧力レギュレータ２０５は一定の圧力でガスを供給することを意味する。チョークドフローオリフィス２０７は、ガス圧力レギュレータ２０５が供給するガスを受け取る入力（図示せず）を有する。ガス圧力レギュレータ２０５の出力は、チョークドフローオリフィス２０７の入力と結合している。チョークドフロー状態により制御された質量流量はチョークドフロー状態の上流の圧力の変動に左右されるが、この実施形態の圧力センサはこの圧力の変動に左右されない。何故なら、チョークドフロー状態の上流の圧力の変動は、ガス圧力レギュレータ２０５により制御されるからである。

[0052] 例えば、ガス供給源２０２が供給するガスの圧力が、圧力センサの使用目的に対して十分安定している他の実施形態の場合には、ガスはガス圧力レギュレータを有する圧力センサを通さないでチョークドフローオリフィスに供給される。

[0053] 一実施形態の場合には、圧力センサ２００は、リストリクタ（２０７）に供給されたガスの温度を制御するように配置されている温度コントローラ（図示せず）を備える。これにより、チョークドフローオリフィス２０７の下流の質量流量がさらに安定する。何故なら、チョークドフローオリフィス２０７を通る質量流量は、チョークドフローオリフィスの上流のガスの温度にわずかに依存するからである。

[0054] チョークドフローオリフィス２０７のようなチョークドフローオリフィスは、特殊コントローラを製造している会社から入手することができる。例えば、コネチカット州トランブル所在のO’Keefe Control社は、使用することができる一体型ワイヤ・スクリーンを有するサファイア・オリフィスを販売している。

[0055] チョークドフローオリフィス２０７の後の近接センサ２００のアーキテクチャは、近接センサ１００のアーキテクチャと同じである。もちろん、中央流路２１２が、中央流路１１２より遥かに小さい空間を有しているという違いはある。チョークドフローオリフィス２０７の後のアーキテクチャの一部は、感知流路システムであると見なすことができる。以下に説明する感知流路システムは、近接センサを形成するためにガス供給源およびチョークドフローオリフィスと一緒に使用することができる感知流路システムの一例である。例えば、’３８８および’５９２特許および’７６８、’７２０、’４２９、’２４９、’２４６および’６５２特許出願が開示している感知流路システムのような他の感知流路システムも使用することができる。完全を期するために近接センサ２００の他のアーキテクチャについても記述する。

[0056] 中央流路２１２は分岐部２１４のところまで延び、測定流路２１６および基準流路２１８に分岐する。チョークドフローオリフィス２０７は、望ましくない空力騒音の発生を最小限度に低減する目的で、システム全体に層状で圧縮できない流体の流れを供給するために、十分低い速度でガスを注入する。同様に、チョークドフローオリフィス２０７により確立された層状の流れ特性を維持するために、システムの幾何学的な形状を適当な大きさにすることができる。

[0057] ブリッジ流路２３６は、測定流路２１６と基準流路２１８との間を結合している。ブリッジ流路２３６は、分岐部２２４のところで測定流路２１６に接続している。ブリッジ流路２３６は、分岐部２２６のところで基準流路２１８に接続している。一例を挙げて説明すると、分岐部２１４と分岐部２２４の間の距離と、分岐部２１４と分岐部２２６の間の距離は等しい。流路２１６および２１８は、それぞれ流路リストリクタ２２０および２２２を含む。これらリストリクタについては以下に詳細に説明する。

[0058] ガスは、ガスゲージ近接センサ２００内のすべての流路を通して流れることができる。流路２１２、２１６、２１８および２３６は、コンジット（チューブ、パイプ等）、またはガスを含むことができ、センサ２００を通してガスを案内することができる任意の他のタイプの構造から形成することができる。好適には、流路は、例えば、局所的な乱流または不安定な流れを生じることにより、空力騒音を生じるおそれがある鋭角の屈曲部、凹凸または不必要な障害物を有していないことが望ましい。測定流路２１６および基準流路２１８の全体の長さは同じであってもよいし、または他の例のように同じでなくてもよい。

[0059] 基準流路２１８は基準ノズル２３０まで延びる。同様に、測定流路２１６は測定ノズル２２８まで延びる。基準ノズル２３０は、基準面２３４の上に位置する。測定ノズル２２８は、測定面２３２の上に位置する。フォトリソグラフィの場合には、測定面２３２は、多くの場合、半導体ウェーハ、ウェーハを支持しているステージ、フラットパネルディスプレイ、プリントヘッド、マイクロまたはナノ流体デバイス等である。基準面２３４は、平坦な金属プレートであってもよいが、これに限定されない。ガス供給源２０２により注入されたガスは、各ノズル２２８、２３０から排出され、測定面２３２および基準面２３４に入射する。すでに説明したように、ノズルと対応する測定面または基準面の間の距離はスタンドオフと呼ばれる。

[0060] 測定流路リストリクタ２２０および基準流路リストリクタ２２２は、流路内の乱流を低減する働きをし、抵抗素子として動作する。他の実施形態の場合には、オリフィスのような他のタイプの抵抗素子を使用することができる。しかし、オリフィスは乱流を低減しない。

[0061] 一実施形態の場合には、基準ノズル２３０は、既知の基準スタンドオフ２４２を隔てて固定基準面２３４の上に位置する。測定ノズル２２８は、未知の測定スタンドオフ２４０を隔てて測定面２３２の上に位置する。既知の基準スタンドオフ２４２は、最適なスタンドオフを表す所望する一定の値にセットされる。このような配置により、測定ノズル２２８の上流の背圧は、未知の測定スタンドオフ２４０の関数になり、基準ノズル２３０の上流の背圧は、既知の基準スタンドオフ２４２の関数になる。スタンドオフ２４０および２４２が等しい場合には、構成が対称的になり、ブリッジがバランスする。それ故、ブリッジ流路２３６を通してガスが流れなくなる。一方、測定スタンドオフ２４０および基準スタンドオフ２４２が異なっている場合には、測定流路２１６および基準流路２１８の間の結果としての圧力差により、質量流量センサ２３８を通してガスが流れる。

[0062] 質量流量センサ２３８は、ブリッジ流路２３６に沿って位置するが、好適にはこの流路の中央に位置することが好ましい。質量流量センサ２３８は、測定流路２１６と基準流路２１８の間の圧力差によるガスの流れを感知する。これらの圧力差は、測定面２３２の垂直位置の変化によるものである。対称的なブリッジの場合、測定スタンドオフ２４０および基準スタンドオフ２４２が等しい場合には、表面２３２、２３４と比較した場合の両方のノズル２２８、２３０に対するスタンドオフは同じである。質量流量センサ２３８は、質量の流れを検出しない。何故なら、測定流路と基準流路との間には圧力差がないからである。測定スタンドオフ２４０と基準スタンドオフ２４２の間に違いがあると、測定流路２１６と基準流路２１８内の圧力に差ができる。非対称な配置の場合には、適当なオフセットを導入することができる。

[0063] 質量流量センサ２３８は、圧力差または圧力の不均衡によるガスの流れを感知する。圧力差ができるとガスが流れるが、その速度は測定スタンドオフ２４０の一意の関数である。すなわち、ガスゲージ２００内への流速が一定であると仮定した場合、測定流路２１６と基準流路２１８内のガス圧の差は、スタンドオフ２４０および２４２の大きさの間の差の関数である。基準スタンドオフ２４２を既知のスタンドオフにセットすると、測定流路２１６と基準流路２１８のガス圧の差は、測定スタンドオフ２４０（すなわち、測定面２３２と測定ノズル２２８の間の未知のスタンドオフ）の長さの関数である。

[0064] 質量流量センサ２３８は、ブリッジ流路２３６を通してどちらの方向のガスの流れも検出する。ブリッジの構成により、流路２１６、２１８の間に圧力差ができた場合だけ、ブリッジ流路２３６を通してガスが流れる。圧力が不均衡である場合には、質量流量センサ２３８は、結果としてのガスの流れを検出し、適当な制御機能をスタートすることができる。質量流量センサ２３８は、視覚表示、音響表示により感知した流れを表示することができる。別の方法としては、質量流量センサの代わりに、差圧センサを使用することもできる。差圧センサは、測定スタンドオフと基準スタンドオフの間の差の関数である２つの流路間の圧力差を測定する。

[0065] 近接センサ２００は、本発明によるノズルを有するデバイスの一例である。本発明は、近接センサ２００と一緒の使用だけに限定されない。それどころか、例えば、’３８８および’５９２特許および’７６８、’７２０、’４２９、’２４９、’２８６および’６５２特許出願が開示している近接センサのような他のタイプの近接センサを改善するために、マスフローコントローラの代わりにチョークドフローオリフィスを使用することができる。

[0066] 図４は、非常に短い距離を検出し、制御動作を行うためにガスの流れを使用するための方法４００のフローチャートである。便宜上、ガスゲージ近接センサ２００を参照しながら方法４００について説明する。しかし、方法４００は必ずしもセンサ２００の構造により制限を受けないし、異なる構造のセンサにより実施することができる。

[0067] このプロセスは、ステップ４１０からスタートする。ステップ４１０において、オペレータまたは機械装置は、基準面の上方に基準プローブを置く。例えば、オペレータまたは機械装置は、既知の基準スタンドオフ２１４を隔てて基準面２３４上方に基準プローブ２３０を置く。別の方法としては、基準スタンドオフをセンサ組立体内、すなわちセンサ組立体の内部に配置することができる。基準スタンドオフは、通常一定に維持される特定の値に予め調整される。

[0068] ステップ４２０において、オペレータまたは機械装置は、測定面上方に測定プローブを置く。例えば、オペレータまたは機械装置は、測定ギャップ２４０を形成するために測定面２３２上方に測定プローブ２２８を位置させる。

[0069] ステップ４３０において、ガスがセンサ内に注入される。例えば、測定ガスは、一定の質量流速でガスゲージ近接センサ２００内に注入される。

[0070] ステップ４４０において、ガスがチョークドフローオリフィスを通して強制的に供給される。例えば、ガスは音速状態を達成するためにチョークドフローオリフィス２０７を通して強制的に供給することができ、その点でチョークドフローオリフィスを流れる質量流量が圧力差にほとんど依存しなくなる。センサ内への一定のガスの流速が維持される。例えば、チョークドフローオリフィス２０７は、一定のガスの流速を維持する。

[0071] ステップ４５０において、ガスの流れは、測定流路と基準流路との間で分配される。例えば、ガスゲージ近接センサ２００は、測定流路２１６と基準流路２１８との間で測定ガスの流れを均等に分配する。

[0072] ステップ４６０において、測定流路および基準流路内のガスの流れが、流路の断面を横切って均等に制限される。測定流路リストリクタ２２０および基準流路リストリクタ２２２は、空力騒音を低減し、ガスゲージ近接センサ２００内で抵抗素子として機能するためにガスの流れを制限する。

[0073] ステップ４７０において、ガスは基準および測定プローブから強制的に排出される。例えば、ガスゲージ近接センサ２００は、測定プローブ２２８および基準プローブ２３０からガスを強制的に排出する。ステップ４８０において、基準流路および測定流路を接続しているブリッジ流路を通してガスの流れが監視される。ステップ４９０において、基準流路と測定流路の間の圧力差に基づいて制御動作が行われる。例えば、質量流量センサ２３８は、測定流路２１６および基準流路２１８の間の質量流量の流速を監視する。この質量流量の流速に基づいて、質量流量センサ２３８は制御動作をスタートする。このような制御動作は、感知した質量流量を表示するステップ、感知した質量流量を表示するメッセージを送信するステップ、または質量流量または質量流量の固定基準値が感知されなくなるまで、基準面に対する測定面の位置を変更するサーボ制御動作をスタートするステップを含むことができる。ステップ４９５において、この方法４００は終了する。

[0074] 今まで本発明の種々の実施形態について説明してきたが、これら実施形態は単に例示としてのものであって、本発明を制限するものではないことを理解されたい。当業者であれば、本発明の精神および範囲から逸脱することなしに、形状および詳細を種々に変更することができることを理解することができるであろう。すでに説明したように、圧力センサは、ガス圧力レギュレータ２０５を備えていても備えていなくてもよい。また圧力センサは、１つまたはいくつかの測定流路を備えることができる。ガスをリストリクタ（２０７）から受け取り、そのガスをリストリクタからブリッジ（２３６）を有する１つまたは複数のコンジットの１つまたは複数のブリッジ分岐部（２２４）に案内するように配置されていて、１つまたは複数のブリッジ分岐部の上流に１つまたは複数の他の制限素子（２２０）を備える１つまたは複数のコンジット（２１６）を使用することができる。さらに、または別の方法としては、圧力センサは、基準流路２１８のようないくつかの基準流路を備えることができる。また基準流路を使用しなくてもよい。本発明は、例えば空気の使用に限定されない。代わりに本発明はガス圧センサにも適用される。

[0075] 指定の機能およびその関係の性能を示す方法ステップにより本発明を説明してきた。本明細書においては、説明の便宜上これらの方法ステップの境界を曖昧にしか定義していない。指定の機能およびその関係が正しく行える限り他の境界を定義することができる。それ故、このような任意の他の境界は、本発明の範囲および精神内に含まれる。それ故、本発明の範囲は上記の例示としての実施形態のどれかにより制限されるものではなく、添付の特許請求の範囲およびその等価物によってだけ定義すべきものである。

[0076] 詳細な説明は、特許請求の範囲を解釈するために主として使用すべきものである。概要および要約は、本発明者が考えた本発明の１つまたは複数のしかしすべてではない例示としての実施形態を記載しているが、特許請求の範囲を制限するためのものではない。

[0013] 近接センサを示す図である。 [0014] 本発明の一実施形態によるチョークドフローオリフィスを有するガス近接センサを示す図である。 [0015] チョークドフローオリフィスを示す図である。 [0016] 本発明の一実施形態によるチョークドフローオリフィスを有するガスゲージ近接センサを使用して非常に短い距離を検出するための方法のフローチャートである。

Claims (16)

1. ガス供給源（２０２）と、
   前記ガス供給源によりガスが供給されるように配置され、少なくとも１つの測定開口部（２２８）を含む１つまたは複数の開口部（２２８，２３０）を通してガスを排出するように配置され、そして、前記少なくとも１つの測定開口部において圧力の測定を行うように配置されているセンサ流路システム（２１２，２１４，２１６，２１８，２３６）と、を備える圧力センサであって、
   前記センサ流路システムの上流に位置し、前記ガス供給源（２０２）からガスを受けるように配置されているリストリクタ（２０７）を備え、
   前記ガス供給源（２０２）および前記リストリクタ（２０７）が、前記センサ流路システム内に流入するガスのチョークドフロー状態を得るように配置されている、
   ことを特徴とする圧力センサ。
2. 前記リストリクタ（２０７）がチョークドフローオリフィスを備える、
   ことを特徴とする、
   請求項１に記載の圧力センサ。
3. 前記リストリクタ（２０７）が前記センサ流路システムの入口の近くに位置し、
   前記入口が前記ガス供給源からガスを受けるように配置されている、
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の圧力センサ。
4. 前記リストリクタ（２０７）が前記センサ流路システムの前記入口のところに位置する、
   ことを特徴とする請求項３に記載の圧力センサ。
5. 前記ガス供給源（２０２）および前記リストリクタ（２０７）が、前記リストリクタのすぐ上流のガス圧と、前記リストリクタのすぐ下流の最大予想ガス圧に対応するしきい値と少なくとも同じである前記リストリクタのすぐ下流のガス圧との間の比を維持するように配置される、
   ことを特徴とする前記請求項のいずれか１項に記載の圧力センサ。
6. 前記ガス供給源が、調節された圧力で前記リストリクタにガスを供給するように配置されている圧力レギュレータ（２０５）を備える、
   ことを特徴とする前記請求項のいずれか１項に記載の圧力センサ。
7. 前記１つまたは複数の開口部が少なくとも１つの基準開口部（２３０）を備え、
   前記センサ流路システムが、前記少なくとも１つの測定開口部（２２８）と前記少なくとも１つの基準開口部（２３０）との間の圧力差を測定するように配置される、
   ことを特徴とする前記請求項のいずれか１項に記載の圧力センサ。
8. 前記センサ流路システムが、
   前記少なくとも１つの測定開口部（２２８）を備える測定ブランチ（２１６，２２０，２２８）と、
   前記少なくとも１つの基準開口部（２３０）を備える基準ブランチ（２１８，２２２，２３０）と、
   前記測定ブランチと前記基準ブランチとの間にあって、前記測定開口部および前記基準開口部の上流における前記少なくとも１つの測定開口部と前記少なくとも１つの基準開口部との間の圧力差を測定するように配置されているブリッジ（２３６，２３８）と、
   を備えることを特徴とする請求項７に記載の圧力センサ。
9. 前記ブリッジ（２３６，２３８）の上流に位置し、前記測定ブランチ（２１６，２２２，２２８）および前記基準ブランチ（２１８，２２０，２３０）の両方に、前記リストリクタ（２０７）を通して供給されたガスが送られるように配置されている分岐部（２１４）を備える、
   ことを特徴とする請求項８に記載の圧力センサ。
10. 前記リストリクタ（２０７）からガスを受ける１つまたは複数のコンジット（２１６，２１８）を備え、
    前記１つまたは複数のコンジットは、ガスを前記リストリクタから、前記１つまたは複数のコンジット（２１６，２１８）の前記ブリッジ（２３６，２３８）の１つまたは複数のブリッジ分岐部（２２４，２２６）に案内するように配置され、かつ、前記１つまたは複数のブリッジ分岐部の上流に１つまたは複数の他の制限素子（２２０，２２２）を備える、
    ことを特徴とする請求項８または９に記載の圧力センサ。
11. 前記１つまたは複数の他の制限素子が多孔性バッファからなる、
    ことを特徴とする請求項１０に記載の圧力センサ。
12. 前記リストリクタ（２０７）が受けたガスの温度を制御するように配置されている温度コントローラを備える、
    ことを特徴とする前記請求項のいずれか１項に記載の圧力センサ。
13. 前記請求項のいずれか１項に記載の圧力センサを備え、かつ、断面にパターンを有する放射ビームに基板を露光するための露光ステーションを備える、
    リソグラフィ装置。
14. 前記基板を露光する前に前記基板の１つまたは複数の面を測定するための測定ステーションを備え、
    前記センサ流路システムおよび前記リストリクタが、前記リソグラフィ装置の前記測定ステーションのところに配置される、
    ことを特徴とする請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記リソグラフィ装置が、前記少なくとも１つの測定開口部（２２８）および前記基板に相対位置を与えるように配置されており、それにより、前記少なくとも１つの測定開口部から排出されたガスが前記基板に当たる、
    ことを特徴とする請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
16. 前記リストリクタ（２０７）および前記センサ流路システムが、前記基板をパターン化された断面を有するビームで照射しながら、前記基板を支持するための少なくとも１つの基板ステージを有するように配置されている前記リソグラフィ装置の基板ステージコンパートメント内に位置する、
    ことを特徴とする請求項１３から１５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。