JPS62216326A - ギヤツプ位置決め装置 - Google Patents
ギヤツプ位置決め装置Info
- Publication number
- JPS62216326A JPS62216326A JP61058357A JP5835786A JPS62216326A JP S62216326 A JPS62216326 A JP S62216326A JP 61058357 A JP61058357 A JP 61058357A JP 5835786 A JP5835786 A JP 5835786A JP S62216326 A JPS62216326 A JP S62216326A
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- Japan
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- gap
- static pressure
- pressure
- predetermined
- fluid
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Arrangements Characterized By The Use Of Fluids (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明はギャップ位置決め装置に係り、特に対向して設
けられる2面間の間隙調整を高精度に行なうギャップ位
置決め装置に関する。
けられる2面間の間隙調整を高精度に行なうギャップ位
置決め装置に関する。
(従来の技術)
近年の高精度加工機、精密測定機、半導体製造装置等に
おいては、サブミクロン以下の微小な位置決めが必要と
されている。例えば、露光用マスクとウェハ素子とを近
接させて露光する露光装置においては、ウェハ素子にマ
スクパターンを描写する際に、ウェハ素子上面とマスク
面を一定のギャップに高精度に位置決めする必要があっ
た。
おいては、サブミクロン以下の微小な位置決めが必要と
されている。例えば、露光用マスクとウェハ素子とを近
接させて露光する露光装置においては、ウェハ素子にマ
スクパターンを描写する際に、ウェハ素子上面とマスク
面を一定のギャップに高精度に位置決めする必要があっ
た。
このような位置決め装置としては、例えば第5図に示す
ごとき装置が提案されている。(特開昭60−1546
17号公報等に記載)第5図においては、X−Y−Zテ
ーブル23上に装着されたウェハ素子21の上方に露光
用マスク25がマスクホルダー26に固定され、露光用
マスク25の外周に静電容量センサ28が取付けられて
いる。これら静電容量センサ28でウエノ・素子21と
露光用マスク25このギャップを測定した後に、微小駆
動機構27によりウェハ素子21と露光用マスク25が
所定のギャップになるように制御される。
ごとき装置が提案されている。(特開昭60−1546
17号公報等に記載)第5図においては、X−Y−Zテ
ーブル23上に装着されたウェハ素子21の上方に露光
用マスク25がマスクホルダー26に固定され、露光用
マスク25の外周に静電容量センサ28が取付けられて
いる。これら静電容量センサ28でウエノ・素子21と
露光用マスク25このギャップを測定した後に、微小駆
動機構27によりウェハ素子21と露光用マスク25が
所定のギャップになるように制御される。
ところで、半導体の製造には多数の工程があり、ウェハ
素子21の表面状態の変化、特に多種類の膜を形成する
ことにより工程毎にウェハ素子21の表面の誘電率が変
化する。このため、静電容量センサ28の特性(ウェハ
素子21上面と静電容量センサ28間距離と、静電容量
センサ28出力この対応)から工程毎にキヤリプレーシ
璽ンを行なう必要があり、操作が繁雑となり、コストア
ップにもなる問題があった。
素子21の表面状態の変化、特に多種類の膜を形成する
ことにより工程毎にウェハ素子21の表面の誘電率が変
化する。このため、静電容量センサ28の特性(ウェハ
素子21上面と静電容量センサ28間距離と、静電容量
センサ28出力この対応)から工程毎にキヤリプレーシ
璽ンを行なう必要があり、操作が繁雑となり、コストア
ップにもなる問題があった。
また、光の回折を用いて、ギャップを検出する装置もあ
るが、光の有する性質から、測定レンジが小さいという
欠点があり、ウェハ素子の厚さのバラつきによるギャッ
プの変化あるいは、露光用マスク交換の際にギャップを
大きくした時などにギャップ測定は不可能となる。
るが、光の有する性質から、測定レンジが小さいという
欠点があり、ウェハ素子の厚さのバラつきによるギャッ
プの変化あるいは、露光用マスク交換の際にギャップを
大きくした時などにギャップ測定は不可能となる。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したごとく、静電容量型のセンサーでギャップ測定
を行なう場合には、製造工程毎にキヤリプレーシ冒ンを
行なわなければならず、また光の回折を用いるものにお
いては、測定レンジが小さく、ギャップが大きいと測定
不能と、なる問題が生じていた。
を行なう場合には、製造工程毎にキヤリプレーシ冒ンを
行なわなければならず、また光の回折を用いるものにお
いては、測定レンジが小さく、ギャップが大きいと測定
不能と、なる問題が生じていた。
そこで本発明は、2面間のギャップの大きさに無関係で
、2面の表面状態の変化の影響を受けないギャップ位置
決め装置を提供する。
、2面の表面状態の変化の影響を受けないギャップ位置
決め装置を提供する。
(問題点を解決するための手段)
本発明のギャップ位置決め装置においては、対向して設
けられる2面間のギャップを検出して位置決めを行なう
ギャップ位置決め装置において、2面間のギャップに所
定供給圧力の圧力流体を供給する静圧軸受機構と、この
静圧軸受機構による2面間の静圧力を検出する力検出手
段または、圧力流体の流量を測定する流量測定手段と、
力検出手段または流量測定手段によって得られる情報に
対応して2面間のギャップを調整するための駆動機構と
を具備する構成としている。
けられる2面間のギャップを検出して位置決めを行なう
ギャップ位置決め装置において、2面間のギャップに所
定供給圧力の圧力流体を供給する静圧軸受機構と、この
静圧軸受機構による2面間の静圧力を検出する力検出手
段または、圧力流体の流量を測定する流量測定手段と、
力検出手段または流量測定手段によって得られる情報に
対応して2面間のギャップを調整するための駆動機構と
を具備する構成としている。
(作用)
本発明のギャップ位置決め装置において、ギを噴射し、
2面間のギャップを変化させる。その際に2面間のギャ
ップ変動に伴って変化する2面間の静圧力または噴出す
る圧力流体の流量を測定し、予め求めておいた所定ギャ
ップ時の静圧力または圧力流体の流量と比較して一致す
るまで2面間のギャップを調整する。この一致した2面
間のギャップに位置決めすることにより所定のギャップ
とすることができるものである。
2面間のギャップを変化させる。その際に2面間のギャ
ップ変動に伴って変化する2面間の静圧力または噴出す
る圧力流体の流量を測定し、予め求めておいた所定ギャ
ップ時の静圧力または圧力流体の流量と比較して一致す
るまで2面間のギャップを調整する。この一致した2面
間のギャップに位置決めすることにより所定のギャップ
とすることができるものである。
(実施例)
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する0
第1図は、本発明のギャップ位置決め装置の第一の実施
例を示す概略構成図を示している。
例を示す概略構成図を示している。
第1図においては、ウェハ素子1はウェハ素子支持台2
に固定されており、このウェハ素子支持台2はXY軸駆
動テーブル3(図中水平方向に移動可能)及びZ軸駆動
テーブル4(図中上下方向に移動可能)により支持され
ており、これら駆動テーブル3,4は図示せぬ駆動モー
タにより移動させられる。
に固定されており、このウェハ素子支持台2はXY軸駆
動テーブル3(図中水平方向に移動可能)及びZ軸駆動
テーブル4(図中上下方向に移動可能)により支持され
ており、これら駆動テーブル3,4は図示せぬ駆動モー
タにより移動させられる。
また露光用マスク5は、マスクホルダー6に固定されて
マスクホルダー6の外周面は露光用マスク5面と同一平
面上に保たれている。マスクホルダー6には、ウェハ素
子1に対向してノズル9から圧力流体を噴射する静圧軸
受機構10が設けられている。そして、マスクホルダー
6は、例えば圧電素子等から構成される微小駆動機構7
と例えばロードセル等から成る力検出針8に支持されて
いる。
マスクホルダー6の外周面は露光用マスク5面と同一平
面上に保たれている。マスクホルダー6には、ウェハ素
子1に対向してノズル9から圧力流体を噴射する静圧軸
受機構10が設けられている。そして、マスクホルダー
6は、例えば圧電素子等から構成される微小駆動機構7
と例えばロードセル等から成る力検出針8に支持されて
いる。
このような構成のギャップ位置決め装置におい°C、ウ
ェハ素子1と露光用マスク5を所定のギャツブに位置決
めするには次の手順で行なう。
ェハ素子1と露光用マスク5を所定のギャツブに位置決
めするには次の手順で行なう。
まず、ノズル9から所定供給圧力の流体を噴射したとき
の所定ギャップ値に対する力検出計8の静圧力を予め求
めておき、所定入力設定を行なう。
の所定ギャップ値に対する力検出計8の静圧力を予め求
めておき、所定入力設定を行なう。
そして、圧力室14から実際にノズル9を経て常に所定
の供給圧カ一定の流体をウェハ素子1面へ噴射する。ウ
ェハ素子1をZ軸駆動テーブル4によって上下移動し、
ウェハ素子1と露光用マスク5のギャップを変化させて
静圧力を変化させる。
の供給圧カ一定の流体をウェハ素子1面へ噴射する。ウ
ェハ素子1をZ軸駆動テーブル4によって上下移動し、
ウェハ素子1と露光用マスク5のギャップを変化させて
静圧力を変化させる。
その際にマスクホルダー6の静圧面とウェハ素子1この
間で生じる静圧力を力検出計8により検知し、所定入力
設定を行なった静圧力と完全に一致するように微小駆動
機構7を駆動してウエノ・素子1と露光用マスク5のギ
ャップを微調整する。
間で生じる静圧力を力検出計8により検知し、所定入力
設定を行なった静圧力と完全に一致するように微小駆動
機構7を駆動してウエノ・素子1と露光用マスク5のギ
ャップを微調整する。
このようにすることによって、ウェハ素子1の表面状態
に影響されずにギャップ位置決めが精度良く行なえると
ともに測定レンジを広くすることもできる。
に影響されずにギャップ位置決めが精度良く行なえると
ともに測定レンジを広くすることもできる。
次に第2図を用いて本発明の第2の実施例を説明するが
、第1図と同一部分若しくは相当する部分には同一符号
を付し、その説明は省略する。
、第1図と同一部分若しくは相当する部分には同一符号
を付し、その説明は省略する。
第2の実施例においては、静圧力を測定する代りにノズ
ル9から噴射する流体の流量を測定するようにしたもの
である。つまり、ノズル9に連通している圧力室14か
ら所定供給圧力の流体を案内する供給路12の途中に例
えばオリフィス等の流量測定器13を設けたものである
。
ル9から噴射する流体の流量を測定するようにしたもの
である。つまり、ノズル9に連通している圧力室14か
ら所定供給圧力の流体を案内する供給路12の途中に例
えばオリフィス等の流量測定器13を設けたものである
。
ここでノズル9から噴射する流体の流量は、ノズル9の
径に比べて所定ギャップが20〜30(μ専〕と小さい
ために、ノズル9の径によっては決定されず、ウェハ素
子1と露光用マスク5のギャップによって決定されるよ
うになる。
径に比べて所定ギャップが20〜30(μ専〕と小さい
ために、ノズル9の径によっては決定されず、ウェハ素
子1と露光用マスク5のギャップによって決定されるよ
うになる。
そこでまず、ノズル9から所定供給圧力の流体を噴射し
たときの所定ギャップ値に対する流量を流量測定器13
によって予め求めておき、所定入力設定を行なう。そし
て、圧力室14から供給路12を経てノズル9から供給
圧カ一定の流体をウェハ素子1面へ噴射する。ウェハ素
子1をZ軸駆動テーブル4によって上下移動し、ウェハ
素子1と露光用マスク5のギャップを変化させてノズル
9から噴射する流量を変化させる。
たときの所定ギャップ値に対する流量を流量測定器13
によって予め求めておき、所定入力設定を行なう。そし
て、圧力室14から供給路12を経てノズル9から供給
圧カ一定の流体をウェハ素子1面へ噴射する。ウェハ素
子1をZ軸駆動テーブル4によって上下移動し、ウェハ
素子1と露光用マスク5のギャップを変化させてノズル
9から噴射する流量を変化させる。
その際に供給路12の途中に設けた流量測定器13によ
って流量を測定し、予め求めて所定入力設定を行なった
流量と完全に一致するように微小駆動機構7を駆動して
ウェハ素子1と露光用マスク5のギャップを微調整する
ことによっ”Cギャップ位置決めが達成できる。
って流量を測定し、予め求めて所定入力設定を行なった
流量と完全に一致するように微小駆動機構7を駆動して
ウェハ素子1と露光用マスク5のギャップを微調整する
ことによっ”Cギャップ位置決めが達成できる。
さらに、第1の実施例及び第2の実施例ともに、ノズル
9の先端に、ノズル9よりも広い開口面積を有するエア
ポケット11を設けてもよく、このエアポケット11を
設けることにより静圧軸受機構10の剛性が高くカリ、
振動等の外乱の生じた場合でも位置決めの精度を良好に
保つことができる0 また、前述の静圧軸受機構10.力検出計8若しくは流
量測定器13、微小駆動機構7を各々3組以上設けるこ
とによってウェハ素子1と露光用マスク5の平行度を測
定でき、微小駆動機構7を各々駆動することによりウェ
ハ素子1と露光用マスク5を平行かつ精度よくギャップ
位置決めできる0 また、X線露光を行なう場合には、静圧軸受機構10に
用いる作動流体としてHeガスを使用するとよい。
9の先端に、ノズル9よりも広い開口面積を有するエア
ポケット11を設けてもよく、このエアポケット11を
設けることにより静圧軸受機構10の剛性が高くカリ、
振動等の外乱の生じた場合でも位置決めの精度を良好に
保つことができる0 また、前述の静圧軸受機構10.力検出計8若しくは流
量測定器13、微小駆動機構7を各々3組以上設けるこ
とによってウェハ素子1と露光用マスク5の平行度を測
定でき、微小駆動機構7を各々駆動することによりウェ
ハ素子1と露光用マスク5を平行かつ精度よくギャップ
位置決めできる0 また、X線露光を行なう場合には、静圧軸受機構10に
用いる作動流体としてHeガスを使用するとよい。
なお、本発明のギャップ位置決め装置は露光用マスクと
ウェハ素子のギャップ位置決めに限定して用いられるも
のではなく、2面間のギャップを測定して位置決めする
ものには発明の要旨を逸脱しない範囲で全てに適用でき
るものである。
ウェハ素子のギャップ位置決めに限定して用いられるも
のではなく、2面間のギャップを測定して位置決めする
ものには発明の要旨を逸脱しない範囲で全てに適用でき
るものである。
以上詳述してきたように本発明によれば、対向する2面
間のギャップ位置決めを対向する2面の表面状態に影響
されずに精度良く行なうことができるとともに測定レン
ジも広げることができる。
間のギャップ位置決めを対向する2面の表面状態に影響
されずに精度良く行なうことができるとともに測定レン
ジも広げることができる。
第1図は、本発明のギャップ位置決め装置の第1の実施
例を示す概略構成図、第2図は、本発明の第2の実施例
を示す概略構成図、第3図は、従来のギャップ位置決め
装置を示す概略構成図である。 1・・・ウェハ素子 5・・・露光用マスク7・・・
微小駆動機構 8・・・力検出針(力検出手段)9・・
・ノズル 10・・・静圧軸受機構13・・・流
量測定器(流量測定手段)代理人 弁理士 則 近 憲
佑 同 竹 花 喜久男 aη
例を示す概略構成図、第2図は、本発明の第2の実施例
を示す概略構成図、第3図は、従来のギャップ位置決め
装置を示す概略構成図である。 1・・・ウェハ素子 5・・・露光用マスク7・・・
微小駆動機構 8・・・力検出針(力検出手段)9・・
・ノズル 10・・・静圧軸受機構13・・・流
量測定器(流量測定手段)代理人 弁理士 則 近 憲
佑 同 竹 花 喜久男 aη
Claims (2)
- (1)対向して設けられる2面間のギャップを検出して
位置決めを行なうギャップ位置決め装置において、 前記2面間のギャップに圧力流体を供給する静圧軸受機
構と、この静圧軸受機構による前記2面間の静圧力を検
出する力検出手段と、この力検出手段によって得られる
情報に対応して前記2面間のギャップを調整するための
駆動機構を具備したことを特徴とするギャップ位置決め
装置。 - (2)対向して設けられる2面間のギャップを検出して
位置決めを行なうギャップ位置決め装置において、 前記2面間のギャップに圧力流体を供給する静圧軸受機
構と、前記圧力流体の流量を測定する流量測定手段と、
この流量測定手段によって得られる情報に対応して前記
2面間のギャップを調整するための駆動機構を具備した
ことを特徴とするギャップ位置決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61058357A JPS62216326A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | ギヤツプ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61058357A JPS62216326A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | ギヤツプ位置決め装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62216326A true JPS62216326A (ja) | 1987-09-22 |
Family
ID=13082065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61058357A Pending JPS62216326A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | ギヤツプ位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62216326A (ja) |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61058357A patent/JPS62216326A/ja active Pending
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