JP2007218881A - 形状測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 プローブを昇降させるZ軸駆動部のブレを低減して、表面形状の計測を高精度化することができる形状測定装置を提供すること。
【解決手段】 この形状測定装置では、触針11,21の尖端を測定用治具HDに載置した光学素子OEの光学面に沿って2次元的に移動させることができる。つまり、レーザ干渉計83d,83eを利用して得た載置台82aのXY座標と、レーザ干渉計91bを利用して得た触針11のZ座標とを、制御装置99で対応付けつつ必要な演算処理を行うことにより、光学素子OEの光学面の3次元的な表面形状を測定することができる。
この際、上記形状測定装置100では、昇降機構86に設けた昇降駆動装置86cがリニアモータを備え、昇降部材86bの推力発生位置PPや重心位置GCを基準軸線AX1に対して比較的近くに配置するので、プローブ装置10のZ軸方向に関する昇降運動が滑らかでヒステリシスのない高精度なものとなる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レンズその他の光学素子の表面形状等を測定するための形状測定装置に関するものである。
従来、被測定物として50mm以下のサイズの光学素子、いわゆるマイクロレンズについて3次元形状(立体形状)を測定するための技術として、様々な技術が提案されてきた。例えば、被測定物の表面に対して触針を直接接触させて、その変位量を測定する接触式測定方法がある(特許文献1参照)。また、被測定物の表面にレーザ光線等を入射させて、その反射光を受光することにより表面の凹凸を測定する非接触式測定方法も提案されている(特許文献2参照)。前者の接触式測定方法は、触針を被測定物に直接接触させるので、被測定物の表面物性に依存しない。このため、接触式測定方法は、多様な被測定物に対して正確な計測が可能である。
特開平5−209741号公報 特許3046635号公報
しかし、上記接触式測定方法においては、プローブを鉛直方向に上下させるZ軸駆動部が必要となる。このようなZ軸駆動部は、機械的駆動であることから動作しろが必要であり、駆動方向と垂直な方向すなわちX軸方向又はY軸方向になんらかのブレが生じる。このようなブレは、Z軸駆動部全体のシフトあるいはチルトになるので、測定誤差につながる。
さらに、Z軸駆動部には、プローブを上下動時の駆動の負荷を一定にして保持する第1の機構と、プローブの保持部を昇降させる第2の機構とが通常必要になるが、これらは各々ブレる余地があり、第1及び第2の機構を水平方向に離間させて配置すると、それらに含まれているブレが加算されるため、誤差が拡大してしまう。
そこで、本発明は、プローブを昇降させるZ軸駆動部のブレを低減して、表面形状の計測を高精度化することができる形状測定装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る第1の形状測定装置は、被測定物の表面に当接して所定の軸方向に駆動可能な触針と、触針の所定の軸方向に関する変位量を測定する計測部とを備え、被測定物の所定の軸方向の形状を測定する形状測定装置であって、保持部材によって所定の支持点で支持されて所定の軸方向に平行で所定の支持点を通過する基準軸線に沿って延びる軸支部材と、軸支部材に案内されて、基準軸線に沿って移動する可動部と、軸支部材及び可動部のいずれか一方に設けられた固定子と、軸支部材及び可動部のいずれか他方に設けられた可動子とを含む摺動駆動手段とを有し、基準軸線に対して、摺動駆動手段の推力発生位置と、可動部が移動する際の重心位置とがそれぞれ近接して配置されることを特徴とする。ここで、基準軸線に対して推力発生位置や重心位置が「近接して配置される」とは、推力発生位置や重心位置が厳密に基準軸線上に乗っている場合は勿論のこと、位置非再現性(ヒステリシス)によるブレの影響が生じない範囲で上記基準軸線から多少のずれを以って配置されることを許容する意味であり、好ましくは可動部の軸支部材上での可動距離すなわちストロークに対して1/5程度のずれ範囲内であるのが良い。
上記形状測定装置では、摺動駆動手段の推力発生位置と、可動部が移動する際の重心位置とが基準軸線に対してそれぞれ近接して配置されるので、摺動駆動手段によって駆動される可動部の変位に際してのブレが減少し、可動部の駆動に伴うヒステリシスの発生を抑えることができる。この結果、表面形状の計測を高精度化することができる。
また、本発明の具体的な態様では、上記形状測定装置において、基準軸線が、可動部のうち固定子又は可動子を支持して軸支部材側に対向する面と、軸支部材のうち固定子又は可動子を支持して可動部側に対向する平坦面との間隙に配置される。この場合、基準軸線と固定子又は可動子との距離を確実に短くすることができ、可動部の変位に際してのブレを確実に減少することができる。
また、本発明の別の態様では、基準軸線が、摺動駆動手段の推力発生位置の軌跡から基準軸線に垂直な方向に±10mmの範囲に配置される。
また、本発明のさらに別の態様では、基準軸線が、固定子と可動子との中間位置を基準として、固定子と可動子との間隙の3倍の距離範囲内に配置される。
また、本発明に係る第2の形状測定装置は、被測定物の表面に当接して所定の軸方向に駆動可能な触針と、触針の所定の軸方向に関する変位量を測定する計測部とを備え、被測定物の所定の軸方向の形状を測定する形状測定装置であって、保持部材によって所定の支持点で支持されて所定の軸方向に平行で所定の支持点を通過する基準軸線に沿って延びる軸支部材と、軸支部材に案内されて、基準軸線に沿って移動する可動部と、軸支部材及び可動部のいずれか一方に設けられた固定子と、軸支部材及び可動部のいずれか他方に設けられた可動子とを含み、固定子から可動子に対して非接触で駆動力を与えるリニアモータ型の摺動駆動手段とを有する。
上記形状測定装置では、摺動駆動手段が、固定子から可動子に対して非接触で駆動力を与えるリニアモータ型のものであるので、可動部ひいては触針の移動を滑らかで高精度にすることができ、可動部の駆動に伴う位置の非再現性(ヒステリシス)を抑えることができる。この結果、表面形状の計測を高精度化することができる。
また、本発明の具体的な態様では、上記第1及び第2の形状測定装置において、可動部のうち、固定子と可動子との間隙を介して触針の反対側に、所定の重量を有する調整部材を設ける。この場合、可動部の昇降に際して基準軸線に垂直な軸のまわりに生じるモーメントを抑えることができ、可動部の駆動に際してのヒステリシスを低減することができる。
また、本発明の別の態様では、可動部のうち、固定子と可動子との間隙を介して触針の同一側に、所定の重量を有する調整部材を設ける。この場合、可動部の重心位置の調整が容易になる。
また、本発明のさらに別の態様では、被測定物を載置可能な載置台と、触針に対して所定の軸方向とは異なる方向に移動可能に載置台を保持する移動機構とをさらに備える。この場合、計測部によって触針の変位量を測定しつつ、移動機構によって載置台や被測定物を例えば水平方向に移動させることができ、被測定物の表面形状を簡易確実に計測することができる。
また、本発明のさらに別の態様では、被測定物を載置可能な載置台と、所定の軸方向とは異なる方向に移動可能に保持部材を保持する移動機構とをさらに備える。この場合、計測部によって触針の変位量を測定しつつ、移動機構によって触針を例えば水平方向に移動させることができ、被測定物の表面形状を簡易確実に計測することができる。
また、本発明のさらに別の態様では、可動部が、5mm往復駆動させた際の位置再現性が±30nm以内である。
また、本発明のさらに別の態様では、可動部が、触針によって被測定物の表面についてうねり計測可能な第1の触針部と、触針によって被測定物に形成された微細形状の段差を計測可能な第2の触針部とのいずれかを交換可能に備える。この場合、多様な表面形状の被測定物の計測が可能になる。
また、本発明のさらに別の態様では、第1の触針部が、触針を所定の軸方向に摺動可能に保持し、触針に鉛直方向上方に所定の付勢力を付与しており、触針が、被測定物の表面に当接することによって鉛直方向に変位する。この場合、高精度のうねり計測等が可能になる。
また、本発明のさらに別の態様では、第2の触針部が、カンチレバータイプの変位検出器である。この場合、高精度の段差計測等が可能になる。
〔第1実施形態〕
以下、本発明の第1実施形態に係る形状測定装置を図面を用いて説明する。図1(a)及び1(b)は、形状測定装置の構造を説明する正面図及び側面図である。
この形状測定装置100は、定盤81上に、XYステージ装置82と、Z駆動装置84とを固定した構造を有する。ここで、XYステージ装置82やZ駆動装置84等の動作は、駆動制御部98及び制御装置99によって制御されている。
XYステージ装置82は、制御装置99の制御下で、駆動制御部98に駆動されて動作する。XYステージ装置82は、XYステージ装置82の上部に設けた載置台82a上に着脱可能に固定された測定用治具HDを、XY面内で2次元的に任意の位置に滑らかに移動させることができる。測定用治具HDには、被測定物である光学素子OEが保持されている。なお、測定用治具HDに保持される光学素子OEは、最大寸法が50mm以下のいわゆるマイクロレンズと呼ばれるものである。ここで、最大寸法とは、光学素子OEが円形の輪郭を有する場合その直径を意味し、光学素子OEが矩形の輪郭を有する場合その長辺を意味する。
XYステージ装置82は、下側の駆動手段であるX駆動装置50と、上側の駆動手段であるY駆動装置60とを上下2段に備えてなる。前者のX駆動装置50は、定盤81側に固定された固定側支持部51と、固定側支持部51の上方に配置されて固定側支持部51に対してX軸方向(所定の軸方向とは異なる第1の方向)にスライド移動する可動部52とを備える。また、後者のY駆動装置60は、X駆動装置50の可動部52上に固定された固定側支持部61と、固定側支持部61の上方に配置されて固定側支持部61に対してY軸方向(所定の軸方向とは異なる第2の方向)にスライド移動する可動部62とを備える。
X駆動装置50において、固定側支持部51の中央に設けた溝底部には、リニアモータの固定子であるコイル部51aが固設されている。一方、可動部52の底面の適所には、上記コイル部51aに対向して、リニアモータの可動子であるマグネット部51bが固設されている。固定側支持部51に設けたコイル部51aに駆動制御部98からの電力を供給することにより、マグネット部51bに推力を与えることができ、可動部52をX軸方向の任意の位置に自在かつ精密に移動させることができる。
固定側支持部51上面の適所には、エアスライド吐出口51gが設けられている。エアスライド吐出口51gには、駆動制御部98からの制御された圧縮空気が供給されており、固定側支持部51上面と、可動部52下面との間に制御された薄い空気層が形成される。これにより、固定側支持部51上に可動部52を非接触で支持することができ、リニアモータ51a,51bとの協働によって、可動部52ひいては載置台82aのX軸方向に関する運動が滑らかで高精度になる。なお、リニアモータ51a,51bには、可動部52、Z駆動装置84等を非接触で支持する機能を持たせることもでき、この場合、リニアモータ51a,51bが案内部の機能を一部兼ねることになる。
Y駆動装置60において、固定側支持部61の中央に設けた溝底部には、リニアモータの固定子であるコイル部61aが固設されている。一方、可動部62の底面の適所には、上記コイル部61aに対向して、リニアモータの可動子であるマグネット部61bが固設されている。固定側支持部61に設けたコイル部61aに駆動制御部98からの電力を供給することにより、マグネット部61bに推力を与えることができ、可動部62をY軸方向の任意の位置に自在かつ精密に移動させることができる。
固定側支持部61上面の適所には、エアスライド吐出口61gが設けられている。エアスライド吐出口61gには、駆動制御部98からの制御された圧縮空気が供給されており、固定側支持部61上面と、可動部62下面との間に制御された薄い空気層が形成される。これにより、固定側支持部61上に可動部62を非接触で支持することができ、リニアモータ61a,61bとの協働によって、可動部62ひいては載置台82aのY軸方向に関する運動が滑らかで高精度になる。なお、リニアモータ61a,61bには、可動部62、Z駆動装置84等を非接触で支持する機能を持たせることもでき、この場合、リニアモータ61a,61bが案内部の機能を一部兼ねることになる。
XYステージ装置82上の測定用治具HD、すなわち光学素子OEの位置は、載置台82aに設けたXミラー部材83aと、Yミラー部材83bとを利用して検出される。すなわち、Xミラー部材83aに対向して定盤81上に取り付けたレーザ干渉計83dを利用して載置台82aのX軸方向の位置が分かる。また、Yミラー部材83bに対向して定盤81側に取り付けたレーザ干渉計83eを利用して載置台82aのY軸方向の位置が分かる。
X軸用のレーザ干渉計83dは、レーザ光LLを発生するレーザ光源83fと、図示を省略する干渉用光学系及びセンサを備え、Xミラー部材83aのミラー面で反射されたレーザ光LLの位相変化に基づいてXミラー部材83aのX軸方向の変位量を算出することができるようなっている。つまり、レーザ干渉計83dとXミラー部材83aとは、測定用治具HDのX変位を検出するための補助計測手段となっている。レーザ干渉計83dは、制御装置99の制御下で動作しており、レーザ干渉計83dの計測信号は、リアルタイムで制御装置99に出力され、X駆動装置50の動作が監視される。
Y軸用のレーザ干渉計83eは、レーザ光LLを発生するレーザ光源83gと、図示を省略する干渉用光学系及びセンサを備え、Yミラー部材83bのミラー面で反射されたレーザ光LLの位相変化に基づいてYミラー部材83bのY軸方向の変位量を算出することができるようなっている。つまり、レーザ干渉計83eとYミラー部材83bとは、測定用治具HDのY変位を検出するための補助計測手段となっている。レーザ干渉計83eは、制御装置99の制御下で動作しており、レーザ干渉計83eの計測信号は、リアルタイムで制御装置99に出力され、Y駆動装置60の動作が監視される。
Z駆動装置84は、フレーム85上に昇降機構86を固定したものであり、昇降機構86は、フレーム85上部に固定されZ方向に延びる支持軸86aと、支持軸86aに支持されてZ軸方向に移動する昇降部材86bと、昇降部材86bを昇降させる昇降駆動装置86cと、昇降部材86bに一定の上昇力を与えるエアシリンダ86dと、昇降部材86bに支持されて昇降するプローブ装置10とを備える。ここで、支持軸86aは、フレーム85に設けた保持部材85aによって所定の支持点SPで支持されて鉛直のZ方向に延びる軸支部材であり、昇降部材86bは、支持軸86aに案内されてZ方向に移動する可動部である。また、昇降駆動装置86cは、固定された支持軸86aに対して昇降部材86bを精密に昇降させるための摺動駆動手段となっている。
図2は、昇降機構86の拡大側面図である。図示の昇降機構86において、昇降駆動装置86cは、支持軸86a側に固定されたコイル固定子CSと、昇降部材86b側に固定されたマグネット可動子MMとを備えるリニアモータである。これにより、昇降部材86bが支持軸86aに支持されて滑らかに安定して昇降運動する。
ここで、支持軸86aの中心を通る基準軸線AX1は、Z軸に平行に延びており、支持軸86aが保持部材85aによって支持される際の基準となっている支持点SPを通る。この基準軸線AX1は、昇降駆動装置86cを構成するコイル固定子CSの表面と、これに対向するマグネット可動子MMの表面との間を通っている。従って、基準軸線AX1は、コイル固定子CSの背後の平坦面P11と、マグネット可動子MMの背後の平坦面P12との間を通る。結果的に、基準軸線AX1に近接して昇降駆動装置86cの推力発生位置PPが配置され、昇降部材86bの重心位置GCも近接して配置される。ここで、昇降駆動装置86cの推力発生位置PPとは、コイル固定子CSによってマグネット可動子MMに与えられる上昇力や下降力が作用する中心位置であって、マグネット可動子MMや昇降部材86bに伴って昇降する。昇降部材86bは、この推力発生位置PPに付与された推力に応じて昇降するかのように動作する。また、昇降部材86bの重心位置GCついては、この場合、プローブ装置10を含めたものとする。推力発生位置PPと重心位置GCとが鉛直軸すなわちZ軸に沿って並んだ場合、昇降部材86bにモーメントが作用しないので、昇降部材86bひいてはプローブ装置10の姿勢の安定性が高まる。さらに、昇降部材86bは、基準軸線AX1を中心として支持されているので、昇降部材86bの昇降動作は、基準軸線AX1が支点となっていると考えられる。したがって、基準軸線AX1に対して、推力発生位置PPや重心位置GCとが近接して配置されていると、昇降部材86bのブレが少なくなって昇降が滑らかになり、姿勢も安定し易い。よって、図2のように、基準軸線AX1に対して推力発生位置PPと重心位置GCとが略近接して配置される必要はないが、基準軸線AX1から両位置PP,GCまでの距離は、昇降部材86bの上下の可動距離であるストローク対して1/5程度のずれ範囲内であることが好ましい。さらに好ましくは、推力発生位置PPの軌跡が、基準軸線AX1から基準軸線AX1に垂直なY方向又はX方向に±10mm以内の範囲に配置され、これによっても昇降部材86bのブレが少なくなって昇降の安定を確保できる。また、基準軸線AX1は、コイル固定子CS表面とマグネット可動子MM表面とのY方向に関する中間位置(間隙中央)を基準として、コイル固定子CS表面とマグネット可動子MM表面との間隙幅GWの3倍の距離範囲内に配置される。
支持軸86aに支持されて昇降する昇降部材86bは、コイル固定子CS表面とマグネット可動子MM表面との間隙を介してプローブ装置10の反対側に、適当な重量を有する第1の調整部材W1を着脱可能に取り付けている。この場合、重心位置GCを推力発生位置PPに近づける調整が可能になり、マグネット可動子MMの昇降に際して基準軸線AX1に垂直なX軸まわりに生じるモーメントを抑えることができ、マグネット可動子MMすなわち昇降部材86bの昇降に際してのヒステリシスを低減することができる。また、昇降部材86bは、コイル固定子CS表面とマグネット可動子MM表面との間隙を介してプローブ装置10の同一側に、適当な重量を有する第2の調整部材W2を着脱可能に取り付けている。この場合も、マグネット可動子MMの昇降に際して基準軸線AX1に垂直なX軸まわりに生じるモーメントを抑えることができ、マグネット可動子MMの昇降に際してのヒステリシスを低減することができる。なお、第1の調整部材W1や第2の調整部材W2は、交換によって重量を変更することができ、特に装置の前側にある第2の調整部材W2は、オペレータにとってアクセスが容易であり、重心位置GCと推力発生位置PPとのY方向に関する位置ずれの調整に好適である。
昇降機構86は、以上の構造により、昇降部材86bを5mm往復駆動させた際の位置再現性を±30nm以内とすることができる。
なお、昇降駆動装置86cにおいて、コイル固定子CS及びマグネット可動子MMの位置は入れ替え可能である。つまり、昇降部材86bにコイル固定子CSを取り付け、支持軸86aにマグネット可動子MMを取り付けることもできる。ただし、昇降部材86bにマグネット可動子MMを設ける方が、昇降部材86bの動作を妨げない構成が簡単な点で有利である。
プローブ装置10は、触針11を含む第1の触針部(支持装置)であり、触針11によって光学素子OE表面についてうねり計測を可能にする。プローブ装置10は、触針11の昇降運動を許容する軸受部89aを備える。軸受部89aは、空気を利用した静圧軸受けになっており、触針11は、昇降部材86bに非接触で支持されてZ軸に平行な可動軸AX2に沿って滑らかに昇降運動するとともに、所定の浮上力を与えられる。さらに、触針11は、バネ92によって上方に引っ張られている。結果的に、触針11は、自重よりも極めて軽い状態で光学素子OE表面と接触するようになっている。また、昇降駆動装置86cは、プローブ装置10に内蔵した差動センサ(不図示)の検出結果に基づいてフィードバックをかけつつ昇降部材86bとともにプローブ装置10を昇降させる。これにより、触針11の先端に一定の低負荷を掛けた状態で触針11を広範囲に亘って昇降させることができる。なお、触針11の中心を通る可動軸AX2は、支持軸86aの中心を通る基準軸線AX1と平行に配置されている。
図1に戻って、プローブ装置10に設けた触針11の上下位置は、触針11の上端に設けられて触針11とともに昇降するZミラー部材91aと、フレーム85側に固定されたレーザ干渉計91bとを利用して検出される。レーザ干渉計91bは、レーザ光LL’を発生するレーザ光源91gと、図示を省略する干渉用光学系及びセンサを備え、Zミラー部材91aのミラー面で反射されたレーザ光LL’の位相変化に基づいてZミラー部材91aのZ軸方向の変位量を算出することができるようなっている。つまり、レーザ干渉計91bとZミラー部材91aとは、触針11のZ軸方向の変位量を検出するための変位計測手段又は計測部となっている。レーザ干渉計91bは、制御装置99の制御下で動作しており、レーザ干渉計91bからの計測信号は、リアルタイムで制御装置99に出力される。
プローブ装置10は、交換可能になっている。図3は、昇降部材86bに別のプローブ装置10’を取り付けた状態を示す側面図である。このプローブ装置10’は、触針21を含む第2の触針部(支持装置)であり、触針21によって光学素子OEに形成された微細形状の段差の計測を可能にする。このプローブ装置10’は、カンチレバータイプの装置であり、Y方向に延びる可撓性の弾性変形部21と、この弾性変形部21の先端に固定された触針21とを含む。弾性変形部21は、先端にZ方向の応力を受けた場合、触針21の昇降を許容する。ここで、弾性変形部21の先端部上面には、Zミラー部材91aが形成されており、図1に示すプローブ装置10の場合と同様に、触針21のZ軸方向の変位量を測定するために利用される。
以上説明した形状測定装置100では、触針11,21下部の尖端が光学素子OEの表面に対して一定の負荷がかかるようにした状態で触針11,21を昇降させつつ、XYステージ装置82を適宜動作させて測定用治具HDを載置した光学素子OEをXY面内で2次元的に走査するように移動させる。これにより、触針11,21の尖端を測定用治具HDに載置した光学素子OEの光学面に沿って2次元的に移動させることができる。つまり、レーザ干渉計83d,83eを利用して得た載置台82aのXY座標と、レーザ干渉計91bを利用して得た触針11のZ座標とを、制御装置99で対応付けつつ必要な演算処理を行うことにより、光学素子OEの光学面の3次元的な表面形状を測定することができる。
この際、上記形状測定装置100では、昇降機構86に設けた昇降駆動装置86cがリニアモータを備え、昇降部材86bの推力発生位置PPや重心位置GCを基準軸線AX1に対して比較的近くに配置するので、プローブ装置10のZ軸方向に関する昇降運動が滑らかでヒステリシスのない高精度なものとなる。
図4は、実際の形状測定装置100に組み込まれた昇降機構86についてZ軸駆動時のヒステリシスを測定したグラフである。図4(a)は、実施例の昇降機構86において、昇降部材86bの重心位置GCが基準軸線AX1上にある場合のヒステリシスを示し、。図4(b)は、比較例の昇降機構86において、昇降部材86bの重心位置GCが基準軸線AX1から10mmずれている場合のヒステリシスを示す。実施例のグラフの場合、Y方向の変位は往復で一致してヒステリシスが殆ど存在しないが、実施例のグラフの場合、Y方向の変位は往復で大きくずれ顕著なヒステリシスが存在する。なお、グラフにおいて、Z位置の変化に伴ってうねりのようなY変位が生じているが、これは、測定ミラーの撓みである。
〔第2実施形態〕
以下、第2実施形態の形状測定装置について説明する。図5(a)及び5(b)は、第2実施形態の形状測定装置の構造を説明する正面図及び側面図である。なお、第2実施形態の形状測定装置は、第1実施形態の形状測定装置を一部変更したものであり、共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。また、特に説明しない部分は、第1実施形態の形状測定装置と同様であるものとする。
この形状測定装置200は、定盤81上に、XYステージ装置182と、載置台183とを固定した構造を有する。なお、形状測定装置200は、図1の駆動制御部98や制御装置99に相当するものを有しているが、ここでは説明を省略する。
ここで、XYステージ装置182は、図1に示す第1実施形態のXYステージ装置82と同様の構造を有し、固定側支持部51及び可動部52を有するX駆動装置50と、固定側支持部61及び可動部62を有するY駆動装置60とを備える。ただし、XYステージ装置182は、載置台183でなくZ駆動装置184を支持しており、Z駆動装置184の荷重に耐えられるよう、図1のXYステージ装置82よりも大型になっている。XYステージ装置182に支持されたZ駆動装置184は、XY面内で2次元的に任意の位置に滑らかに移動させることができる。Z駆動装置184は、図1に示す第1実施形態のZ駆動装置84と同様の構造を有し、フレーム85と昇降機構86とを備える。昇降機構86は、プローブ装置10を滑らかに昇降させるためのものであり、支持軸86aと、昇降部材86bと、昇降駆動装置86cと、エアシリンダ86dとを備えて構成される。
なお、XYステージ装置182に付随して、図1に示す第1実施形態のXミラー部材83a及びレーザ干渉計83dを含むX変位の補助計測手段と、Yミラー部材83b及びレーザ干渉計83eを含むY変位の補助計測手段が存在し、Z駆動装置184すなわちプローブ装置10のXY座標を計測することができるが、ここでは図示を省略している。また、Z駆動装置184に付随して、図1に示すZミラー部材91a及びレーザ干渉計91bを含むZ変位用の計測部が存在し、プローブ装置10に設けた触針11のZ座標を計測することができるが、ここではZミラー部材91aのみを図示している。
一方、載置台183は、定盤81に固定されているだけであり、XY面内で2次元的に移動することはない。この載置台183上には、光学素子OEを保持した測定用治具HDが着脱可能に固定されている。
本実施例においても、昇降機構86に設けた昇降駆動装置86cは、リニアモータとしてコイル固定子CSとマグネット可動子MMとを備える。ここで、支持軸86aの中心を通る基準軸線AX1は、Z軸に平行に延びており、支持軸86aが保持部材85aによって支持される際の基準となっている支持点SPを通る。基準軸線AX1に対するコイル固定子CSやマグネット可動子MMの配置、基準軸線AX1に対する昇降駆動装置86cの推力発生位置、昇降部材86bの重心位置等についても、第1実施形態の場合と同様になっている。そして、昇降部材86bは、基準軸線AX1を挟むように一対の調整部材W1,W2を着脱可能に取り付けている。以上により、昇降部材86bの滑らかでガタの少ない昇降が可能になり、触針11の3次元的変位が正確に計測され、光学素子OEの形状測定精度を高めることができる。
(a)(b)は、本発明の第1実施形態に係る形状測定装置の側面図及び側面図である。 図1の形状測定装置に組み込まれる昇降機構の拡大側面図である。 (a)(b)は、図1の形状測定装置の変形例を説明する側面図及び拡大側面図である。 (a)は、実施例の昇降機構のヒステリシスを示すグラフであり、(b)は、比較例の昇降機構ヒステリシスを示すグラフである。 (a)(b)は、第2実施形態に係る形状測定装置の側面図及び側面図である。
符号の説明
10…プローブ装置、 11,21…触針、 50…X駆動装置、 60…Y駆動装置、 81…定盤、 82…ステージ装置、 82a…載置台、 84…Z駆動装置、 85a…保持部材、 86…昇降機構、 86a…支持軸、 86b…昇降部材、 86c…昇降駆動装置、 86d…エアシリンダ、 89a…軸受部、 91a…ミラー部材、 91b…レーザ干渉計、 92…バネ、 98…駆動制御部、 99…制御装置、 AX1…基準軸線、 AX2…可動軸、 CS…コイル固定子、 GC…重心位置、 HD…測定用治具、 MM…マグネット可動子、 OE…光学素子、 PP…推力発生位置、 SP…支持点、 W1,W2…調整部材

Claims (13)

  1. 被測定物の表面に当接して所定の軸方向に駆動可能な触針と、前記触針の前記所定の軸方向に関する変位量を測定する計測部とを備え、前記被測定物の前記所定の軸方向の形状を測定する形状測定装置であって、
    保持部材によって所定の支持点で支持されて前記所定の軸方向に平行で前記所定の支持点を通過する基準軸線に沿って延びる軸支部材と、
    前記軸支部材に案内されて、前記基準軸線に沿って移動する可動部と、
    前記軸支部材及び前記可動部のいずれか一方に設けられた固定子と、前記軸支部材及び前記可動部のいずれか他方に設けられた可動子とを含む摺動駆動手段とを有し、
    前記基準軸線に対して、前記摺動駆動手段の推力発生位置と、前記可動部が移動する際の重心位置とがそれぞれ近接して配置されることを特徴とする形状測定装置。
  2. 前記基準軸線は、前記可動部のうち前記固定子又は前記可動子を支持して前記軸支部材側に対向する面と、前記軸支部材のうち前記固定子又は前記可動子を支持して前記可動部側に対向する面との間隙に配置されることを特徴とする請求項1記載の形状測定装置。
  3. 前記基準軸線は、前記摺動駆動手段の推力発生位置の軌跡から前記基準軸線に垂直な方向に±10mmの範囲に配置されることを特徴とする請求項1及び請求項2のいずれか一項記載の形状測定装置。
  4. 前記基準軸線は、前記固定子と前記可動子との中間位置を基準として、前記固定子と前記可動子との間隙の3倍の距離範囲内に配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項記載の形状測定装置。
  5. 被測定物の表面に当接して所定の軸方向に駆動可能な触針と、前記触針の前記所定の軸方向に関する変位量を測定する計測部とを備え、前記被測定物の前記所定の軸方向の形状を測定する形状測定装置であって、
    保持部材によって所定の支持点で支持されて前記所定の軸方向に平行で前記所定の支持点を通過する基準軸線に沿って延びる軸支部材と、
    前記軸支部材に案内されて、前記基準軸線に沿って移動する可動部と、
    前記軸支部材及び前記可動部のいずれか一方に設けられた固定子と、前記軸支部材及び前記可動部のいずれか他方に設けられた可動子とを含み、前記固定子から前記可動子に対して非接触で駆動力を与えるリニアモータ型の摺動駆動手段とを有することを特徴とする形状測定装置。
  6. 前記可動部のうち、前記固定子と前記可動子との間隙を介して前記触針の反対側に、所定の重量を有する調整部材を設けることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項記載の形状測定装置。
  7. 前記可動部のうち、前記固定子と前記可動子との間隙を介して前記触針の同一側に、所定の重量を有する調整部材を設けることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項記載の形状測定装置。
  8. 前記被測定物を載置可能な載置台と、前記触針に対して前記所定の軸方向とは異なる方向に移動可能に前記載置台を保持する移動機構とをさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか記載の形状測定装置。
  9. 前記被測定物を載置可能な載置台と、前記所定の軸方向とは異なる方向に移動可能に前記保持部材を保持する移動機構とをさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか記載の形状測定装置。
  10. 前記可動部は、5mm往復駆動させた際の位置再現性が±30nm以内であることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか一項記載の形状測定装置。
  11. 前記可動部は、前記触針によって前記被測定物の表面についてうねり計測可能な第1の触針部と、前記触針によって前記被測定物に形成された微細形状の段差を計測可能な第2の触針部とのいずれかを交換可能に備えることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか一項記載の形状測定装置。
  12. 前記第1の触針部は、前記触針を前記所定の軸方向に摺動可能に保持し、前記触針に鉛直方向上方に所定の付勢力を付与しており、前記触針は、前記被測定物の表面に当接することによって鉛直方向に変位することを特徴とする請求項11記載の形状測定装置。
  13. 前記第2の触針部は、カンチレバータイプの変位検出器であることを特徴とする請求項11記載の形状測定装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112729066A (zh) * 2019-10-28 2021-04-30 松下知识产权经营株式会社 测定用探测器以及形状测定装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119402A (ja) * 1983-11-30 1985-06-26 Fujitsu Ltd 触覚装置
JPS62140002A (ja) * 1985-12-13 1987-06-23 Sumitomo Metal Ind Ltd 表面粗さ測定方法及び装置
JPH0498114A (ja) * 1990-08-17 1992-03-30 Toshiba Corp 変位測定装置
JPH0743108A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Mitsutoyo Corp 光学式変位計
JPH07318305A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Mitsutoyo Corp タッチ信号プローブ
JPH0996518A (ja) * 1995-09-29 1997-04-08 Canon Inc 触針式プローブ
JPH10141942A (ja) * 1996-11-08 1998-05-29 Ricoh Co Ltd 形状測定装置
JP2005134332A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Ricoh Co Ltd 形状測定装置
JP2005181233A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 測定用プローブ及び光学式測定装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119402A (ja) * 1983-11-30 1985-06-26 Fujitsu Ltd 触覚装置
JPS62140002A (ja) * 1985-12-13 1987-06-23 Sumitomo Metal Ind Ltd 表面粗さ測定方法及び装置
JPH0498114A (ja) * 1990-08-17 1992-03-30 Toshiba Corp 変位測定装置
JPH0743108A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Mitsutoyo Corp 光学式変位計
JPH07318305A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Mitsutoyo Corp タッチ信号プローブ
JPH0996518A (ja) * 1995-09-29 1997-04-08 Canon Inc 触針式プローブ
JPH10141942A (ja) * 1996-11-08 1998-05-29 Ricoh Co Ltd 形状測定装置
JP2005134332A (ja) * 2003-10-31 2005-05-26 Ricoh Co Ltd 形状測定装置
JP2005181233A (ja) * 2003-12-24 2005-07-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 測定用プローブ及び光学式測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112729066A (zh) * 2019-10-28 2021-04-30 松下知识产权经营株式会社 测定用探测器以及形状测定装置
CN112729066B (zh) * 2019-10-28 2024-04-12 松下知识产权经营株式会社 测定用探测器以及形状测定装置

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